JPH06203385A - 光記録のパルストレイン条件及び熱遮断条件決定方法、 同決定装置、光記録方法及び光記録装置 - Google Patents
光記録のパルストレイン条件及び熱遮断条件決定方法、 同決定装置、光記録方法及び光記録装置Info
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- JPH06203385A JPH06203385A JP5232634A JP23263493A JPH06203385A JP H06203385 A JPH06203385 A JP H06203385A JP 5232634 A JP5232634 A JP 5232634A JP 23263493 A JP23263493 A JP 23263493A JP H06203385 A JPH06203385 A JP H06203385A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】パルストレイン方式において、「マークの後エ
ッジ位置の、記録データパターン依存性」が最小になる
ようにPW2を設定したとき、PW2を最小にする。 【構成】レーザビームを出射する光源2と、前記レーザ
ビームを光記録媒体Dに照射する照射手段5と、媒体D
上の前記レーザビームの照射位置を変化させる移動手段
6と、マークを形成すべく、光記録媒体に照射するレー
ザビーム強度を、媒体D面の温度がある一定温度となる
プレヒート状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度
PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低
い強度PLTに立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度
PW2との間で強度変調させる変調手段1と、媒体D面上
に照射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポッ
ト中心位置での温度を、TW1経過時とPW2を維持する時
間TW2経過時とで等しくするように、PW2、PLT及びT
W2のうちの少なくとも1つを制御する制御手段とを備え
る。
ッジ位置の、記録データパターン依存性」が最小になる
ようにPW2を設定したとき、PW2を最小にする。 【構成】レーザビームを出射する光源2と、前記レーザ
ビームを光記録媒体Dに照射する照射手段5と、媒体D
上の前記レーザビームの照射位置を変化させる移動手段
6と、マークを形成すべく、光記録媒体に照射するレー
ザビーム強度を、媒体D面の温度がある一定温度となる
プレヒート状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度
PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低
い強度PLTに立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度
PW2との間で強度変調させる変調手段1と、媒体D面上
に照射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポッ
ト中心位置での温度を、TW1経過時とPW2を維持する時
間TW2経過時とで等しくするように、PW2、PLT及びT
W2のうちの少なくとも1つを制御する制御手段とを備え
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録のパルストレイ
ン条件及び熱遮断条件決定方法、同決定装置、光記録方
法及び光記録装置に関する。
ン条件及び熱遮断条件決定方法、同決定装置、光記録方
法及び光記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】光記録は、現在、レーザビームの熱的性
質が専ら利用されて記録が成されており、記録媒体(光
ディスク)としては、(1)一度だけ記録可能なライト
ワンス型光ディスク(孔開けタイプ)、例えば薄い金属
膜もしくはサーメット膜を記録層とする光ディスク、
(2)記録、再生、消去が繰り返し何度でも可能な光デ
ィスク、例えば磁性薄膜を記録層とする光磁気ディス
ク、結晶相と非晶質相との間で相変化する金属膜もしく
はサーメット膜を記録層とする相変化光ディスクなどが
挙げられる。
質が専ら利用されて記録が成されており、記録媒体(光
ディスク)としては、(1)一度だけ記録可能なライト
ワンス型光ディスク(孔開けタイプ)、例えば薄い金属
膜もしくはサーメット膜を記録層とする光ディスク、
(2)記録、再生、消去が繰り返し何度でも可能な光デ
ィスク、例えば磁性薄膜を記録層とする光磁気ディス
ク、結晶相と非晶質相との間で相変化する金属膜もしく
はサーメット膜を記録層とする相変化光ディスクなどが
挙げられる。
【0003】光ディスクには、これから情報を記録する
トラックが渦巻き状又は同心円状に何万本も形成されて
いる。このトラック上に0と1に相当する2種の情報単
位が形成され、情報が記録される。実際には、トラック
それ自身(つまり、地の部分)が0又は1の一方に相当
する第1情報単位を示し、トラック上に点々と又は島状
に0又は1の他方に相当する第2情報単位(最近、これ
をマークと呼ぶ)が形成される。この場合、マークの有
無、マーク間隔、マークの長さ、マーク形成開始位置
(つまり、マークの前エッジ位置)、マーク形成終了位
置(つまり、マークの後エッジ位置)等が情報を表す。
特にマークのエッジ位置が情報を表す方法はマーク長記
録と呼ばれる。
トラックが渦巻き状又は同心円状に何万本も形成されて
いる。このトラック上に0と1に相当する2種の情報単
位が形成され、情報が記録される。実際には、トラック
それ自身(つまり、地の部分)が0又は1の一方に相当
する第1情報単位を示し、トラック上に点々と又は島状
に0又は1の他方に相当する第2情報単位(最近、これ
をマークと呼ぶ)が形成される。この場合、マークの有
無、マーク間隔、マークの長さ、マーク形成開始位置
(つまり、マークの前エッジ位置)、マーク形成終了位
置(つまり、マークの後エッジ位置)等が情報を表す。
特にマークのエッジ位置が情報を表す方法はマーク長記
録と呼ばれる。
【0004】光記録装置は、主として、レーザビーム光
源、該光源からレーザビームを光ディスクに照射する照
射光学系、レーザビーム強度を記録すべき情報に従い変
調する変調手段、並びに光ディスクの回転手段からな
る。光磁気記録装置の場合には、更にビームの照射位置
にバイアス磁界を印加する磁気手段が付加される。光記
録はレーザビームの熱的性質を専ら利用する(ヒートモ
ード)ので、原理的には、レーザビーム強度を相対的に
高い第1レベルと相対的に低い基底レベル(第2レベ
ル)との間でパルス変調すればよく、第1レベルのと
き、マークが形成され、第2レベルのとき、マークは形
成されない。つまり、1つのパルスで1つのマークが形
成される。第2レベルはマークを形成しないので、第2
レベルはゼロでもよい。しかし、マークを形成したいと
き、言い換えれば、マークの前エッジを形成したいと
き、形成直前のディスク温度状態を、常に積極的に一定
温度状態に保っておくことが好ましい。そうしないと、
前エッジ位置が形成直前の温度状態に依存して変動する
ことになる。変動は、高密度で記録しようとすると、障
害となる。そこで、光ディスクを所定の温度Θpre に余
熱してプレヒート状態にしておくことが好ましく、第2
レベルはこのプレヒート状態(温度Θpre )を保つ強度
Ppre とすることが一般的である。温度Θpre は、マー
ク形成直前のディスクの温度が、ビームのピーク温度位
置又はスポット中心位置で記録する情報(データ)パタ
ーンによらず一定の温度であり、Ppre は以下の式で示
される。
源、該光源からレーザビームを光ディスクに照射する照
射光学系、レーザビーム強度を記録すべき情報に従い変
調する変調手段、並びに光ディスクの回転手段からな
る。光磁気記録装置の場合には、更にビームの照射位置
にバイアス磁界を印加する磁気手段が付加される。光記
録はレーザビームの熱的性質を専ら利用する(ヒートモ
ード)ので、原理的には、レーザビーム強度を相対的に
高い第1レベルと相対的に低い基底レベル(第2レベ
ル)との間でパルス変調すればよく、第1レベルのと
き、マークが形成され、第2レベルのとき、マークは形
成されない。つまり、1つのパルスで1つのマークが形
成される。第2レベルはマークを形成しないので、第2
レベルはゼロでもよい。しかし、マークを形成したいと
き、言い換えれば、マークの前エッジを形成したいと
き、形成直前のディスク温度状態を、常に積極的に一定
温度状態に保っておくことが好ましい。そうしないと、
前エッジ位置が形成直前の温度状態に依存して変動する
ことになる。変動は、高密度で記録しようとすると、障
害となる。そこで、光ディスクを所定の温度Θpre に余
熱してプレヒート状態にしておくことが好ましく、第2
レベルはこのプレヒート状態(温度Θpre )を保つ強度
Ppre とすることが一般的である。温度Θpre は、マー
ク形成直前のディスクの温度が、ビームのピーク温度位
置又はスポット中心位置で記録する情報(データ)パタ
ーンによらず一定の温度であり、Ppre は以下の式で示
される。
【0005】 Θpre =A×Ppre ×{1−exp(−∞/τ)}+ΘA ・・・式(3) 但し、A(℃/mW)は、当該ディスクとスポットと記
録線速度によって決定されるレーザビーム強度の熱効率
であり、ΘA (℃)はビームを全く照射していない状態
でのディスク温度である。マークの形成方法の第1は、
単純に1つのパルスで1つのマークを形成する方法であ
る。図11は、この第1の方法で1つのマークを形成す
る場合のレーザビーム強度の波形図である。図11に示
すように、マーク形成を開始すべくレーザビーム強度を
基底レベル(第2レベル)Ppre から立ち上げ、立ち上
げた強度(第1レベル)PW1を半値幅で時間TW1維持し
た後、Ppre に立ち下げるパルス波形となる。この場合
には、マーク長が長くなったとき、熱蓄積による弊害が
でる。その弊害とは、マーク形成を終了すべくレーザビ
ーム強度をPpre に立ち下げても、それまでの熱蓄積が
あるので、媒体温度がマーク形成開始温度以下になかな
か下がらない。そのため、マーク長さが不用意に長くな
ってしまったり、マークの幅が不用意に太くなることで
ある。この弊害を「マーク形成の終了位置、つまりマー
クの後エッジ位置の、記録データパターン依存性」と言
う。この依存性は、高密度記録にとって障害になり、デ
ータの弁別性を低下させる。
録線速度によって決定されるレーザビーム強度の熱効率
であり、ΘA (℃)はビームを全く照射していない状態
でのディスク温度である。マークの形成方法の第1は、
単純に1つのパルスで1つのマークを形成する方法であ
る。図11は、この第1の方法で1つのマークを形成す
る場合のレーザビーム強度の波形図である。図11に示
すように、マーク形成を開始すべくレーザビーム強度を
基底レベル(第2レベル)Ppre から立ち上げ、立ち上
げた強度(第1レベル)PW1を半値幅で時間TW1維持し
た後、Ppre に立ち下げるパルス波形となる。この場合
には、マーク長が長くなったとき、熱蓄積による弊害が
でる。その弊害とは、マーク形成を終了すべくレーザビ
ーム強度をPpre に立ち下げても、それまでの熱蓄積が
あるので、媒体温度がマーク形成開始温度以下になかな
か下がらない。そのため、マーク長さが不用意に長くな
ってしまったり、マークの幅が不用意に太くなることで
ある。この弊害を「マーク形成の終了位置、つまりマー
クの後エッジ位置の、記録データパターン依存性」と言
う。この依存性は、高密度記録にとって障害になり、デ
ータの弁別性を低下させる。
【0006】マーク形成方法の第2は、この問題を幾分
か解決するものである。図12は、この第2の方法で1
つのマークを形成する場合のレーザビーム強度の波形図
である。図12に示すように、マークを形成すべく、光
記録媒体に照射するレーザビーム強度を、Ppre からP
pre より高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持
した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLTと
PLTより高い強度PW2との間で強度変調させるのであ
る。PW2を維持する時間はTW2、PLTとPW2との間で強
度変調させる際の変調周期はTp である。この方式は、
本来1つのパルスであるべき波形(図11参照)が、先
頭の小パルスと1又は2以上の後続の小パルスとからな
る波形となっており、パルストレイン(pulse train )
方式と呼ばれる。この場合には、マーク形成中の光ディ
スクのレーザビーム照射位置の温度は、一般に、高い温
度付近で上下に変動する。
か解決するものである。図12は、この第2の方法で1
つのマークを形成する場合のレーザビーム強度の波形図
である。図12に示すように、マークを形成すべく、光
記録媒体に照射するレーザビーム強度を、Ppre からP
pre より高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持
した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLTと
PLTより高い強度PW2との間で強度変調させるのであ
る。PW2を維持する時間はTW2、PLTとPW2との間で強
度変調させる際の変調周期はTp である。この方式は、
本来1つのパルスであるべき波形(図11参照)が、先
頭の小パルスと1又は2以上の後続の小パルスとからな
る波形となっており、パルストレイン(pulse train )
方式と呼ばれる。この場合には、マーク形成中の光ディ
スクのレーザビーム照射位置の温度は、一般に、高い温
度付近で上下に変動する。
【0007】パルストレイン方式において、前記各値
は、パルストレイン条件と呼ばれている。この条件は、
従来、光ディスクによらず一定に決められており、欧州
コンピュータ製造業者連合(EUROPEAN COMPUTER MANUFA
CTURERS ASSOCIATION :ECMAとす) の規格書 ECMA /TC
31/92/36文書の第87頁(図13参照)によると、例え
ば、PLTはプレヒート状態(温度Θpre )を保つ強度P
pre と等しく、TW2は書き込みクロック周期Tの2分の
1と決められている。PW2は、予め決定しておいた最適
なPW1とPpre を用いて、ランダムパターンを記録し、
「マークの後エッジ位置の、記録データパターン依存
性」が最小になる値として決められた。
は、パルストレイン条件と呼ばれている。この条件は、
従来、光ディスクによらず一定に決められており、欧州
コンピュータ製造業者連合(EUROPEAN COMPUTER MANUFA
CTURERS ASSOCIATION :ECMAとす) の規格書 ECMA /TC
31/92/36文書の第87頁(図13参照)によると、例え
ば、PLTはプレヒート状態(温度Θpre )を保つ強度P
pre と等しく、TW2は書き込みクロック周期Tの2分の
1と決められている。PW2は、予め決定しておいた最適
なPW1とPpre を用いて、ランダムパターンを記録し、
「マークの後エッジ位置の、記録データパターン依存
性」が最小になる値として決められた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】パルストレイン条件が
固定された従来技術では、「マークの後エッジ位置の、
記録データパターン依存性」が最小になる値としてPW2
を設定すると、使用する光ディスクによっては、PW2の
値が非常に大きくなってしまうことがある。そのため、
レーザ光源に過大な負担がかかり、劣化を著しく早める
ことになると言う問題点が発生した。
固定された従来技術では、「マークの後エッジ位置の、
記録データパターン依存性」が最小になる値としてPW2
を設定すると、使用する光ディスクによっては、PW2の
値が非常に大きくなってしまうことがある。そのため、
レーザ光源に過大な負担がかかり、劣化を著しく早める
ことになると言う問題点が発生した。
【0009】本発明の目的は、この問題点を解決するこ
とにある。
とにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らの研究によれ
ば、前記問題点の原因が、光ディスクによらず固定され
たパルストレイン条件にあり、そのため、光ディスクに
よっては最適なパルストレイン条件が適用されていない
ことを突き止めた。本発明者らは、更に研究を進めた結
果、光ディスクごとに熱時定数τが異なり、τを考慮し
て最適なパルストレイン条件を決定する方法、決定装置
を発明した。また、決定されたパルストレイン条件を用
いて、光記録する方法、光記録装置等も発明した。
ば、前記問題点の原因が、光ディスクによらず固定され
たパルストレイン条件にあり、そのため、光ディスクに
よっては最適なパルストレイン条件が適用されていない
ことを突き止めた。本発明者らは、更に研究を進めた結
果、光ディスクごとに熱時定数τが異なり、τを考慮し
て最適なパルストレイン条件を決定する方法、決定装置
を発明した。また、決定されたパルストレイン条件を用
いて、光記録する方法、光記録装置等も発明した。
【0011】他方、高密度記録の場合、次のマークの開
始位置が、前のマークの終了位置に依存して変動してし
まう問題があった。このことを「マーク形成の開始位
置、つまりマークの前エッジ位置の、記録データパター
ン依存性」と言う。この問題を解決するため、マーク形
成を終了すべくレーザビーム強度を立ち下げるとき、一
旦、Ppre より低いPLBに下げて、時間Toff 後Ppre
に立ち上げる光記録方式が提案された。図9、図10
は、この方式で1つのマークを形成する場合のレーザビ
ーム強度の波形図である。図9は1つのパルスで1つマ
ークを形成する場合であり、図10はパルストレイン方
式でマークを形成する場合である。この方式では、前の
マーク長さがどんなであっても、次のマーク形成は所定
の位置から開始される。つまり、次のマークにとって
は、前のマークからの熱的影響が遮断されている訳であ
る。このように熱的影響が遮断される条件のことを「熱
遮断条件」と呼び、これはPpre とPLBとToff で示さ
れる。
始位置が、前のマークの終了位置に依存して変動してし
まう問題があった。このことを「マーク形成の開始位
置、つまりマークの前エッジ位置の、記録データパター
ン依存性」と言う。この問題を解決するため、マーク形
成を終了すべくレーザビーム強度を立ち下げるとき、一
旦、Ppre より低いPLBに下げて、時間Toff 後Ppre
に立ち上げる光記録方式が提案された。図9、図10
は、この方式で1つのマークを形成する場合のレーザビ
ーム強度の波形図である。図9は1つのパルスで1つマ
ークを形成する場合であり、図10はパルストレイン方
式でマークを形成する場合である。この方式では、前の
マーク長さがどんなであっても、次のマーク形成は所定
の位置から開始される。つまり、次のマークにとって
は、前のマークからの熱的影響が遮断されている訳であ
る。このように熱的影響が遮断される条件のことを「熱
遮断条件」と呼び、これはPpre とPLBとToff で示さ
れる。
【0012】レーザビーム強度がPW1又はPW2から低下
し、PLBを経てPpre になったとき、光ディスクの温度
はマーク形成が可能な高い温度(以下、Θtop とする)
から降温し、やがてプレヒート状態の温度Θpre で一定
になる。この場合に降温プロフィールは2通りある。第
1は、Θtop から単調に低下してΘpre に達し、そのま
ま横ばい(一定)となる降温プロフィールである。第2
は、Θtop から低下し、一旦、Θpre 以下になり、今度
は昇温を始めてΘpre に達し、そのまま横ばい(一定)
となる降温プロフィールである。いずれにせよ、光ディ
スクの温度がΘpre で一定になっていないと、次のマー
ク形成の開始位置、つまりマークの前エッジ位置が所望
の通りにならない。いずれの場合にも、Θtop から低下
しΘpre で一定になるまでの時間をTtcと呼ぶ。
し、PLBを経てPpre になったとき、光ディスクの温度
はマーク形成が可能な高い温度(以下、Θtop とする)
から降温し、やがてプレヒート状態の温度Θpre で一定
になる。この場合に降温プロフィールは2通りある。第
1は、Θtop から単調に低下してΘpre に達し、そのま
ま横ばい(一定)となる降温プロフィールである。第2
は、Θtop から低下し、一旦、Θpre 以下になり、今度
は昇温を始めてΘpre に達し、そのまま横ばい(一定)
となる降温プロフィールである。いずれにせよ、光ディ
スクの温度がΘpre で一定になっていないと、次のマー
ク形成の開始位置、つまりマークの前エッジ位置が所望
の通りにならない。いずれの場合にも、Θtop から低下
しΘpre で一定になるまでの時間をTtcと呼ぶ。
【0013】記録密度を高めるべく、Ttc時間過ぎる前
に次のマークを形成させると、マークの前エッジ位置が
記録データパターン依存性を持ってしまい、データ弁別
性が低下する。そこで、Ttc時間過ぎた後、次のマーク
を形成させることになるが、このTtcが長いと次のマー
クとの間隔を長くせざるをえないので、記録密度が粗く
なる。
に次のマークを形成させると、マークの前エッジ位置が
記録データパターン依存性を持ってしまい、データ弁別
性が低下する。そこで、Ttc時間過ぎた後、次のマーク
を形成させることになるが、このTtcが長いと次のマー
クとの間隔を長くせざるをえないので、記録密度が粗く
なる。
【0014】このTtcを短くする条件が熱遮断条件であ
るとも言える。図14は、パルストレイン及び熱遮断方
式でマークを形成した場合の、各時刻のレーザビームの
スポット中心の温度又は各時刻のピーク温度のグラフで
ある。熱遮断が足りないと、図14に一点鎖線で示す降
温プロフィールが得られ、長いTtcがもたらされる。ま
た、熱遮断が過ぎると図14に二点鎖線で示す降温プロ
フィールが得られ、同じく長いTtcがもたらされる。最
適な熱遮断条件では、図14に実線で示す降温プロフィ
ールが得られ、最短のTtcがもたらされる。 パルスト
レイン方式で記録を行う場合、マークの書き始め、すな
わちマークの前エッジを形成するときに、形成直前のデ
ィスク温度状態を常に積極的に一定に保っておく必要が
あり、その方法として、上記熱遮断方式は非常に有効で
ある。従って、パルストレイン方式は、熱遮断方式と合
わせて使用することが望ましい。
るとも言える。図14は、パルストレイン及び熱遮断方
式でマークを形成した場合の、各時刻のレーザビームの
スポット中心の温度又は各時刻のピーク温度のグラフで
ある。熱遮断が足りないと、図14に一点鎖線で示す降
温プロフィールが得られ、長いTtcがもたらされる。ま
た、熱遮断が過ぎると図14に二点鎖線で示す降温プロ
フィールが得られ、同じく長いTtcがもたらされる。最
適な熱遮断条件では、図14に実線で示す降温プロフィ
ールが得られ、最短のTtcがもたらされる。 パルスト
レイン方式で記録を行う場合、マークの書き始め、すな
わちマークの前エッジを形成するときに、形成直前のデ
ィスク温度状態を常に積極的に一定に保っておく必要が
あり、その方法として、上記熱遮断方式は非常に有効で
ある。従って、パルストレイン方式は、熱遮断方式と合
わせて使用することが望ましい。
【0015】なお、式(2)におけるPLBをゼロにした
熱遮断条件のとき、図14に示したTtcが、絶対値とし
て最小になる。従って、PLBはゼロとすることが好まし
い。また、Toff は、書き込みクロック周期(write cl
ock period)Tのm/n倍(m,nは自然数)又はそれ
に近い値とすることが好ましい。即ち、本発明は、第1
に、「光記録媒体に照射するレーザビーム強度を、前記
媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート状態を保
つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち上げ、P
W1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLTに立ち下
げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間で強度変
調させて前記光記録媒体にマークを形成する光記録方法
であって、 PW2、PLT及びPW2を維持する時間TW2の
うちの少なくとも1つを制御することにより、前記媒体
面上に照射されたレーザビームのピーク温度位置又はス
ポット中心位置での温度を、TW1経過時とTW2経過時と
で等しくすることを特徴とする光記録方法(請求項
1)」を提供する。
熱遮断条件のとき、図14に示したTtcが、絶対値とし
て最小になる。従って、PLBはゼロとすることが好まし
い。また、Toff は、書き込みクロック周期(write cl
ock period)Tのm/n倍(m,nは自然数)又はそれ
に近い値とすることが好ましい。即ち、本発明は、第1
に、「光記録媒体に照射するレーザビーム強度を、前記
媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート状態を保
つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち上げ、P
W1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLTに立ち下
げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間で強度変
調させて前記光記録媒体にマークを形成する光記録方法
であって、 PW2、PLT及びPW2を維持する時間TW2の
うちの少なくとも1つを制御することにより、前記媒体
面上に照射されたレーザビームのピーク温度位置又はス
ポット中心位置での温度を、TW1経過時とTW2経過時と
で等しくすることを特徴とする光記録方法(請求項
1)」を提供する。
【0016】また、本発明は、第2に、「光記録媒体に
照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度がある
一定温度となるプレヒート状態を保つ強度PpreからPp
reより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持し
た後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLTとP
LTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光記録
媒体にマークを形成する光記録方法であって、 前記各
値を下記式(1)を満足する組合せとして求めることを
特徴とする光記録方法(請求項2)」を提供する。 (PW1-Ppre)×{1-exp(-TW1/τ)}×{1-exp(-Tp /τ)} =(PLT-Ppre)×{1-exp(-Tp /τ)}+(PW2-PLT)×{1-exp(-TW2/τ)} ・・・・・式(1) (τ;前記光記録媒体の熱時定数、TW2;PW2を維持す
る時間、Tp ;PLTとPW2との間で強度変調させる際の
変調周期)また、本発明は、第3に、「光記録媒体に照
射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度がある一
定温度となるプレヒート状態を保つ強度PpreからPpre
より高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持した
後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLTとPLT
より高い強度PW2との間で強度変調させて前記光記録媒
体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度PLBに
立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録方法で
あって、 PW2、PLT及びPW2を維持する時間TW2のう
ちの少なくとも1つを制御することにより、前記媒体面
上に照射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポ
ット中心位置での温度を、TW1経過時とTW2経過時とで
等しくし、 かつ、Ppre、Toff及びPLBのうちの少な
くとも1つを制御することにより、次のマークを形成す
べく再度PW1に立ち上げるまでの時間内に前記プレヒー
ト状態とすることを特徴とする光記録方法(請求項
3)」を提供する。
照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度がある
一定温度となるプレヒート状態を保つ強度PpreからPp
reより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持し
た後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLTとP
LTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光記録
媒体にマークを形成する光記録方法であって、 前記各
値を下記式(1)を満足する組合せとして求めることを
特徴とする光記録方法(請求項2)」を提供する。 (PW1-Ppre)×{1-exp(-TW1/τ)}×{1-exp(-Tp /τ)} =(PLT-Ppre)×{1-exp(-Tp /τ)}+(PW2-PLT)×{1-exp(-TW2/τ)} ・・・・・式(1) (τ;前記光記録媒体の熱時定数、TW2;PW2を維持す
る時間、Tp ;PLTとPW2との間で強度変調させる際の
変調周期)また、本発明は、第3に、「光記録媒体に照
射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度がある一
定温度となるプレヒート状態を保つ強度PpreからPpre
より高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持した
後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLTとPLT
より高い強度PW2との間で強度変調させて前記光記録媒
体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度PLBに
立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録方法で
あって、 PW2、PLT及びPW2を維持する時間TW2のう
ちの少なくとも1つを制御することにより、前記媒体面
上に照射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポ
ット中心位置での温度を、TW1経過時とTW2経過時とで
等しくし、 かつ、Ppre、Toff及びPLBのうちの少な
くとも1つを制御することにより、次のマークを形成す
べく再度PW1に立ち上げるまでの時間内に前記プレヒー
ト状態とすることを特徴とする光記録方法(請求項
3)」を提供する。
【0017】また、本発明は、第4に、「光記録媒体に
照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度がある
一定温度となるプレヒート状態を保つ強度PpreからPp
reより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持し
た後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLTとP
LTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光記録
媒体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度PLB
に立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録方法
であって、 前記各値を式(1)及び下記式(2)を満
足する組合せとして求めることを特徴とする光記録方法
(請求項4)」を提供する。 Toff=τ×ln[{(PW1-PLB)-(PW1-Ppre)×exp(-TW1/τ)}÷(Ppre-PLB)] ・・・・・式(2) (τ;前記光記録媒体の熱時定数) また、本発明は、第5に、「前記光記録媒体は熱応答特
性が指数関数で近似できることを特徴とする請求項1又
は請求項3記載の光記録方法(請求項5)」を提供す
る。
照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度がある
一定温度となるプレヒート状態を保つ強度PpreからPp
reより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持し
た後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLTとP
LTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光記録
媒体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度PLB
に立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録方法
であって、 前記各値を式(1)及び下記式(2)を満
足する組合せとして求めることを特徴とする光記録方法
(請求項4)」を提供する。 Toff=τ×ln[{(PW1-PLB)-(PW1-Ppre)×exp(-TW1/τ)}÷(Ppre-PLB)] ・・・・・式(2) (τ;前記光記録媒体の熱時定数) また、本発明は、第5に、「前記光記録媒体は熱応答特
性が指数関数で近似できることを特徴とする請求項1又
は請求項3記載の光記録方法(請求項5)」を提供す
る。
【0018】また、本発明は、第6に、「前記強度PLT
を、前記強度Ppreと等しくしたことを特徴とする請求
項1から請求項5のいずれかに記載の光記録方法(請求
項6)」を提供する。また、本発明は、第7に、「前記
強度PLTを、前記強度Ppreより大きくしたことを特徴
とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の光記録
方法(請求項7)」を提供する。
を、前記強度Ppreと等しくしたことを特徴とする請求
項1から請求項5のいずれかに記載の光記録方法(請求
項6)」を提供する。また、本発明は、第7に、「前記
強度PLTを、前記強度Ppreより大きくしたことを特徴
とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の光記録
方法(請求項7)」を提供する。
【0019】また、本発明は、第8に、「PLTとPLTよ
り高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期T
p を書き込みクロック周期Tと等しくしたことを特徴と
する請求項1から請求項7のいずれかに記載の光記録方
法(請求項8)」を提供する。また、本発明は、第9
に、「PW2を維持する時間TW2を、PLTとPLTより高い
強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期Tp のm
/n(m,nは自然数、m<n)としたことを特徴とす
る請求項1から請求項8のいずれかに記載の光記録方法
(請求項9)」を提供する。
り高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期T
p を書き込みクロック周期Tと等しくしたことを特徴と
する請求項1から請求項7のいずれかに記載の光記録方
法(請求項8)」を提供する。また、本発明は、第9
に、「PW2を維持する時間TW2を、PLTとPLTより高い
強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期Tp のm
/n(m,nは自然数、m<n)としたことを特徴とす
る請求項1から請求項8のいずれかに記載の光記録方法
(請求項9)」を提供する。
【0020】また、本発明は、第10に、「前記強度P
W2を前記強度PW1と等しくしたことを特徴とする請求項
1から請求項9のいずれかに記載の光記録方法(請求項
10)」を提供する。また、本発明は、第11に、「前
記強度PW2を前記強度PW1より小さくしたことを特徴と
する請求項1から請求項9のいずれかに記載の光記録方
法(請求項11)」を提供する。
W2を前記強度PW1と等しくしたことを特徴とする請求項
1から請求項9のいずれかに記載の光記録方法(請求項
10)」を提供する。また、本発明は、第11に、「前
記強度PW2を前記強度PW1より小さくしたことを特徴と
する請求項1から請求項9のいずれかに記載の光記録方
法(請求項11)」を提供する。
【0021】また、本発明は、第12に、「前記強度P
LB をゼロとしたことを特徴とする請求項3又は請求項
4又は請求項5記載の光記録方法(請求項12)」を提
供する。また、本発明は、第13に、「前記時間Toff
を、書き込みクロック周期Tのm/n倍(m,nは自然
数)又はそれに近い値とすることを特徴とする請求項3
又は請求項4又は請求項5又は請求項12記載の光記録
方法(請求項13)」を提供する。
LB をゼロとしたことを特徴とする請求項3又は請求項
4又は請求項5記載の光記録方法(請求項12)」を提
供する。また、本発明は、第13に、「前記時間Toff
を、書き込みクロック周期Tのm/n倍(m,nは自然
数)又はそれに近い値とすることを特徴とする請求項3
又は請求項4又は請求項5又は請求項12記載の光記録
方法(請求項13)」を提供する。
【0022】また、本発明は、第14に、「レーザビー
ムを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体
に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザ
ビームの照射位置を変化させる移動手段と、 マークを
形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させる変調手段と、 前記媒体面上に照射さ
れたレーザビームのピーク温度位置又はスポット中心位
置での温度を、TW1経過時とPW2を維持する時間TW2経
過時とで等しくするように、PW2、PLT及びTW2のうち
の少なくとも1つを制御する制御手段とを備えたことを
特徴とする光記録装置(請求項14)」を提供する。
ムを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体
に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザ
ビームの照射位置を変化させる移動手段と、 マークを
形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させる変調手段と、 前記媒体面上に照射さ
れたレーザビームのピーク温度位置又はスポット中心位
置での温度を、TW1経過時とPW2を維持する時間TW2経
過時とで等しくするように、PW2、PLT及びTW2のうち
の少なくとも1つを制御する制御手段とを備えたことを
特徴とする光記録装置(請求項14)」を提供する。
【0023】また、本発明は、第15に、「レーザビー
ムを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体
に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザ
ビームの照射位置を変化させる移動手段と、 マークを
形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させる変調手段と、 前記各値を式(1)を
満足する組合せとして求める条件決定手段とを備えたこ
とを特徴とする光記録装置(請求項15)」を提供す
る。
ムを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体
に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザ
ビームの照射位置を変化させる移動手段と、 マークを
形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させる変調手段と、 前記各値を式(1)を
満足する組合せとして求める条件決定手段とを備えたこ
とを特徴とする光記録装置(請求項15)」を提供す
る。
【0024】また、本発明は、第16に、「レーザビー
ムを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体
に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザ
ビームの照射位置を変化させる移動手段と、 マークを
形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させる第1の変調手段と、 前記光記録媒体
にマークを形成した後、Ppreより低い強度PLBに立ち
下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる第2の変調手段
と、 前記媒体面上に照射されたレーザビームのピーク
温度位置又はスポット中心位置での温度を、TW1経過時
とPW2を維持する時間TW2経過時とで等しくするよう
に、PW2、PLT及びTW2のうちの少なくとも1つを制御
する第1の制御手段と、 次のマークを形成すべく再度
PW1に立ち上げるまでの時間内に前記プレヒート状態と
なるように、Ppre、Toff及びPLBのうちの少なくとも
1つを制御する第2の制御手段とを備えたことを特徴と
する光記録装置(請求項16)」を提供する。
ムを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体
に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザ
ビームの照射位置を変化させる移動手段と、 マークを
形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させる第1の変調手段と、 前記光記録媒体
にマークを形成した後、Ppreより低い強度PLBに立ち
下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる第2の変調手段
と、 前記媒体面上に照射されたレーザビームのピーク
温度位置又はスポット中心位置での温度を、TW1経過時
とPW2を維持する時間TW2経過時とで等しくするよう
に、PW2、PLT及びTW2のうちの少なくとも1つを制御
する第1の制御手段と、 次のマークを形成すべく再度
PW1に立ち上げるまでの時間内に前記プレヒート状態と
なるように、Ppre、Toff及びPLBのうちの少なくとも
1つを制御する第2の制御手段とを備えたことを特徴と
する光記録装置(請求項16)」を提供する。
【0025】また、本発明は、第17に、「レーザビー
ムを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体
に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザ
ビームの照射位置を変化させる移動手段と、 マークを
形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させる第1の変調手段と、 前記光記録媒体
にマークを形成した後、Ppreより低い強度PLBに立ち
下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる第2の変調手段
と、 前記各値を式(1)及び式(2)を満足する組合
せとして求める条件決定手段とを備えたことを特徴とす
る光記録装置(請求項17)」を提供する。
ムを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体
に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザ
ビームの照射位置を変化させる移動手段と、 マークを
形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させる第1の変調手段と、 前記光記録媒体
にマークを形成した後、Ppreより低い強度PLBに立ち
下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる第2の変調手段
と、 前記各値を式(1)及び式(2)を満足する組合
せとして求める条件決定手段とを備えたことを特徴とす
る光記録装置(請求項17)」を提供する。
【0026】また、本発明は、第18に、「前記強度P
LTを、前記強度Ppreと等しくしたことを特徴とする請
求項14から17のいずれかに記載の光記録装置(請求
項18)」を提供する。また、本発明は、第19に、
「前記強度PLTを、前記強度Ppreより大きくしたこと
を特徴とする請求項14から請求項17のいずれかに記
載の光記録装置(請求項19)」を提供する。
LTを、前記強度Ppreと等しくしたことを特徴とする請
求項14から17のいずれかに記載の光記録装置(請求
項18)」を提供する。また、本発明は、第19に、
「前記強度PLTを、前記強度Ppreより大きくしたこと
を特徴とする請求項14から請求項17のいずれかに記
載の光記録装置(請求項19)」を提供する。
【0027】また、本発明は、第20に、「PLTとPLT
より高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期
Tp を書き込みクロック周期Tと等しくしたことを特徴
とする請求項14から請求項19のいずれかに記載の光
記録装置(請求項20)」を提供する。また、本発明
は、第21に、「PW2を維持する時間TW2を、PLTとP
LTより高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周
期Tp のm/n倍(m,nは自然数、m<n)としたこ
とを特徴とする請求項14から請求項20のいずれかに
記載の光記録装置(請求項21)」を提供する。
より高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期
Tp を書き込みクロック周期Tと等しくしたことを特徴
とする請求項14から請求項19のいずれかに記載の光
記録装置(請求項20)」を提供する。また、本発明
は、第21に、「PW2を維持する時間TW2を、PLTとP
LTより高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周
期Tp のm/n倍(m,nは自然数、m<n)としたこ
とを特徴とする請求項14から請求項20のいずれかに
記載の光記録装置(請求項21)」を提供する。
【0028】また、本発明は、第22に、「前記強度P
W2を前記強度PW1と等しくしたことを特徴とする請求項
14から21のいずれかに記載の光記録装置(請求項2
2)」を提供する。また、本発明は、第23に、「前記
強度PW2を前記強度PW1より小さくしたことを特徴とす
る請求項14から21のいずれかに記載の光記録装置
(請求項23)」を提供する。
W2を前記強度PW1と等しくしたことを特徴とする請求項
14から21のいずれかに記載の光記録装置(請求項2
2)」を提供する。また、本発明は、第23に、「前記
強度PW2を前記強度PW1より小さくしたことを特徴とす
る請求項14から21のいずれかに記載の光記録装置
(請求項23)」を提供する。
【0029】また、本発明は、第24に、「前記強度P
LB をゼロとしたことを特徴とする請求項16又は請求
項17記載の光記録装置(請求項24)」を提供する。
また、本発明は、第25に、「前記時間Toffを、書き
込みクロック周期Tのm/n倍(m,nは自然数)又は
それに近い値とすることを特徴とする請求項16又は請
求項17又は請求項24記載の光記録装置(請求項2
5)」を提供する。
LB をゼロとしたことを特徴とする請求項16又は請求
項17記載の光記録装置(請求項24)」を提供する。
また、本発明は、第25に、「前記時間Toffを、書き
込みクロック周期Tのm/n倍(m,nは自然数)又は
それに近い値とすることを特徴とする請求項16又は請
求項17又は請求項24記載の光記録装置(請求項2
5)」を提供する。
【0030】また、本発明は、第26に、「光記録媒体
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成する光記録方法の条件を決定す
る方法であって、 前記媒体面上に照射されたレーザビ
ームのピーク温度位置又はスポット中心位置での温度
が、TW1経過時とPW2を維持する時間TW2経過時とで等
しくなるような、PW2、PLT及びTW2の組み合わせを求
めることを特徴とする光記録のパルストレイン条件決定
方法(請求項26)」を提供する。
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成する光記録方法の条件を決定す
る方法であって、 前記媒体面上に照射されたレーザビ
ームのピーク温度位置又はスポット中心位置での温度
が、TW1経過時とPW2を維持する時間TW2経過時とで等
しくなるような、PW2、PLT及びTW2の組み合わせを求
めることを特徴とする光記録のパルストレイン条件決定
方法(請求項26)」を提供する。
【0031】また、本発明は、第27に、「光記録媒体
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成する光記録方法の条件を決定す
る方法であって、 前記各値を式(1)を満足する組合
せとして求めることを特徴とする光記録のパルストレイ
ン条件決定方法(請求項27)」を提供する。
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成する光記録方法の条件を決定す
る方法であって、 前記各値を式(1)を満足する組合
せとして求めることを特徴とする光記録のパルストレイ
ン条件決定方法(請求項27)」を提供する。
【0032】また、本発明は、第28に、「光記録媒体
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度
PLBに立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録
方法の条件を決定する方法であって、 前記媒体面上に
照射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポット
中心位置での温度が、TW1経過時とPW2を維持する時間
TW2経過時とで等しくなるような、PW2、PLT及びTW2
の組み合わせを求め、 かつ次のマークを形成すべく再
度PW1に立ち上げるまでの時間内に前記プレヒート状態
となるような、Ppre、Toff及びPLBの組み合わせを求
めることを特徴とする光記録のパルストレイン条件及び
熱遮断条件決定方法(請求項28)」を提供する。
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度
PLBに立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録
方法の条件を決定する方法であって、 前記媒体面上に
照射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポット
中心位置での温度が、TW1経過時とPW2を維持する時間
TW2経過時とで等しくなるような、PW2、PLT及びTW2
の組み合わせを求め、 かつ次のマークを形成すべく再
度PW1に立ち上げるまでの時間内に前記プレヒート状態
となるような、Ppre、Toff及びPLBの組み合わせを求
めることを特徴とする光記録のパルストレイン条件及び
熱遮断条件決定方法(請求項28)」を提供する。
【0033】また、本発明は、第29に、「光記録媒体
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度
PLBに立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録
方法の条件を決定する方法であって、 前記各値を式
(1)及び式(2)を満足する組合せとして求めること
を特徴とする光記録のパルストレイン条件及び熱遮断条
件決定方法(請求項29)」を提供する。
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度
PLBに立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録
方法の条件を決定する方法であって、 前記各値を式
(1)及び式(2)を満足する組合せとして求めること
を特徴とする光記録のパルストレイン条件及び熱遮断条
件決定方法(請求項29)」を提供する。
【0034】また、本発明は、第30に、「前記強度P
LTを、前記強度Ppreと等しく設定することを特徴とす
る請求項26から請求項29のいずれかに記載の光記録
のパルストレイン条件決定方法(請求項30)」を提供
する。また、本発明は、第31に、「前記強度PLTを、
前記強度Ppreより大きく設定することを特徴とする請
求項26から請求項29のいずれかに記載の光記録のパ
ルストレイン条件決定方法(請求項31)」を提供す
る。
LTを、前記強度Ppreと等しく設定することを特徴とす
る請求項26から請求項29のいずれかに記載の光記録
のパルストレイン条件決定方法(請求項30)」を提供
する。また、本発明は、第31に、「前記強度PLTを、
前記強度Ppreより大きく設定することを特徴とする請
求項26から請求項29のいずれかに記載の光記録のパ
ルストレイン条件決定方法(請求項31)」を提供す
る。
【0035】また、本発明は、第32に、「PLTとPLT
より高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期
Tp を書き込みクロック周期Tと等しくしたことを特徴
とする請求項26から請求項31のいずれかに記載の光
記録のパルストレイン条件決定方法(請求項32)」を
提供する。また、本発明は、第33に、「PW2を維持す
る時間TW2を、PLTとPLTより高い強度PW2との間で強
度変調させる際の変調周期Tp のm/n倍(m,nは自
然数、m<n)としたことを特徴とする請求項26から
請求項32のいずれかに記載の光記録のパルストレイン
条件決定方法(請求項33)」を提供する。
より高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期
Tp を書き込みクロック周期Tと等しくしたことを特徴
とする請求項26から請求項31のいずれかに記載の光
記録のパルストレイン条件決定方法(請求項32)」を
提供する。また、本発明は、第33に、「PW2を維持す
る時間TW2を、PLTとPLTより高い強度PW2との間で強
度変調させる際の変調周期Tp のm/n倍(m,nは自
然数、m<n)としたことを特徴とする請求項26から
請求項32のいずれかに記載の光記録のパルストレイン
条件決定方法(請求項33)」を提供する。
【0036】また、本発明は、第34に、「前記強度P
W2を前記強度PW1と等しく設定することを特徴とする請
求項26から請求項33のいずれかに記載の光記録のパ
ルストレイン条件決定方法(請求項34)」を提供す
る。また、本発明は、第35に、「前記強度PW2を前記
強度PW1より小さく設定することを特徴とする請求項2
6から請求項33のいずれかに記載の光記録のパルスト
レイン条件決定方法(請求項35)」を提供する。
W2を前記強度PW1と等しく設定することを特徴とする請
求項26から請求項33のいずれかに記載の光記録のパ
ルストレイン条件決定方法(請求項34)」を提供す
る。また、本発明は、第35に、「前記強度PW2を前記
強度PW1より小さく設定することを特徴とする請求項2
6から請求項33のいずれかに記載の光記録のパルスト
レイン条件決定方法(請求項35)」を提供する。
【0037】また、本発明は、第36に、「前記強度P
LB をゼロとしたことを特徴とする請求項28又は請求
項29記載の光記録の熱遮断条件決定方法(請求項3
6)」を提供する。また、本発明は、第37に、「前記
時間Toffを、書き込みクロック周期Tのm/n倍
(m,nは自然数)又はそれに近い値とすることを特徴
とする請求項28又は請求項29又は請求項36記載の
光記録の熱遮断条件決定方法(請求項37)」を提供す
る。
LB をゼロとしたことを特徴とする請求項28又は請求
項29記載の光記録の熱遮断条件決定方法(請求項3
6)」を提供する。また、本発明は、第37に、「前記
時間Toffを、書き込みクロック周期Tのm/n倍
(m,nは自然数)又はそれに近い値とすることを特徴
とする請求項28又は請求項29又は請求項36記載の
光記録の熱遮断条件決定方法(請求項37)」を提供す
る。
【0038】また、本発明は、第38に、「光記録媒体
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成する光記録方法の条件を決定す
る装置であって、 前記媒体面上に照射されたレーザビ
ームのピーク温度位置又はスポット中心位置での温度
が、TW1経過時とPW2を維持する時間TW2経過時とで等
しくなるような、PW2、PLT及びTW2の組み合わせを求
める演算部と、 前記演算部で求められた値を出力する
出力部とを備えたことを特徴とする光記録のパルストレ
イン条件決定装置(請求項38)」を提供する。
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成する光記録方法の条件を決定す
る装置であって、 前記媒体面上に照射されたレーザビ
ームのピーク温度位置又はスポット中心位置での温度
が、TW1経過時とPW2を維持する時間TW2経過時とで等
しくなるような、PW2、PLT及びTW2の組み合わせを求
める演算部と、 前記演算部で求められた値を出力する
出力部とを備えたことを特徴とする光記録のパルストレ
イン条件決定装置(請求項38)」を提供する。
【0039】また、本発明は、第39に、「光記録媒体
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成する光記録方法の条件を決定す
る装置であって、 前記各値を式(1)を満足する組合
せとして求める演算部と、 前記演算部で算出された値
を出力する出力部とを備えたことを特徴とする光記録の
パルストレイン条件決定装置(請求項39)」を提供す
る。
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成する光記録方法の条件を決定す
る装置であって、 前記各値を式(1)を満足する組合
せとして求める演算部と、 前記演算部で算出された値
を出力する出力部とを備えたことを特徴とする光記録の
パルストレイン条件決定装置(請求項39)」を提供す
る。
【0040】また、本発明は、第40に、「光記録媒体
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度
PLBに立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録
方法の条件を決定する装置であって、 前記媒体面上に
照射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポット
中心位置での温度が、TW1経過時とPW2を維持する時間
TW2経過時とで等しくなるような、PW2、PLT及びTW2
の組み合わせを求める第1演算部と、 次のマークを形
成すべく再度PW1に立ち上げるまでの時間内に前記プレ
ヒート状態となるような、Ppre、Toff及びPLBの組み
合わせを求める第2演算部と、 前記演算部で求められ
た値を出力する出力部とを備えたことを特徴とする光記
録のパルストレイン条件及び熱遮断条件決定装置(請求
項40)」を提供する。
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度
PLBに立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録
方法の条件を決定する装置であって、 前記媒体面上に
照射されたレーザビームのピーク温度位置又はスポット
中心位置での温度が、TW1経過時とPW2を維持する時間
TW2経過時とで等しくなるような、PW2、PLT及びTW2
の組み合わせを求める第1演算部と、 次のマークを形
成すべく再度PW1に立ち上げるまでの時間内に前記プレ
ヒート状態となるような、Ppre、Toff及びPLBの組み
合わせを求める第2演算部と、 前記演算部で求められ
た値を出力する出力部とを備えたことを特徴とする光記
録のパルストレイン条件及び熱遮断条件決定装置(請求
項40)」を提供する。
【0041】また、本発明は、第41に、「光記録媒体
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度
PLBに立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録
方法の条件を決定する装置であって、 前記各値を式
(1)及び式(2)を満足する組合せとして求める演算
部と、 前記演算部で算出された値を出力する出力部と
を備えたことを特徴とする光記録のパルストレイン条件
及び熱遮断条件決定装置(請求項41)」を提供する。
に照射するレーザビーム強度を、前記媒体面の温度があ
る一定温度となるプレヒート状態を保つ強度Ppreから
Ppreより高い強度PW1へ立ち上げ、PW1を時間TW1維
持した後PW1より低い強度PLTに立ち下げ、その後PLT
とPLTより高い強度PW2との間で強度変調させて前記光
記録媒体にマークを形成し、その後Ppreより低い強度
PLBに立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる光記録
方法の条件を決定する装置であって、 前記各値を式
(1)及び式(2)を満足する組合せとして求める演算
部と、 前記演算部で算出された値を出力する出力部と
を備えたことを特徴とする光記録のパルストレイン条件
及び熱遮断条件決定装置(請求項41)」を提供する。
【0042】また、本発明は、第42に、「前記強度P
LTを、前記強度Ppreと等しく設定することを特徴とす
る請求項38から請求項41のいずれかに記載の光記録
のパルストレイン条件決定装置(請求項42)」を提供
する。また、本発明は、第43に、「前記強度PLTを、
前記強度Ppreより大きく設定することを特徴とする請
求項38から請求項41のいずれかに記載の光記録のパ
ルストレイン条件決定装置(請求項43)」を提供す
る。
LTを、前記強度Ppreと等しく設定することを特徴とす
る請求項38から請求項41のいずれかに記載の光記録
のパルストレイン条件決定装置(請求項42)」を提供
する。また、本発明は、第43に、「前記強度PLTを、
前記強度Ppreより大きく設定することを特徴とする請
求項38から請求項41のいずれかに記載の光記録のパ
ルストレイン条件決定装置(請求項43)」を提供す
る。
【0043】また、本発明は、第44に、「PLTとPLT
より高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期
Tp を書き込みクロック周期Tと等しくしたことを特徴
とする請求項38から請求項43のいずれかに記載の光
記録のパルストレイン条件決定装置(請求項44)」を
提供する。また、本発明は、第45に、「PW2を維持す
る時間TW2を、PLTとPLTより高い強度PW2との間で強
度変調させる際の変調周期Tp のm/n倍(m,nは自
然数、m<n)としたことを特徴とする請求項38から
請求項44のいずれかに記載の光記録のパルストレイン
条件決定装置(請求項45)」を提供する。
より高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期
Tp を書き込みクロック周期Tと等しくしたことを特徴
とする請求項38から請求項43のいずれかに記載の光
記録のパルストレイン条件決定装置(請求項44)」を
提供する。また、本発明は、第45に、「PW2を維持す
る時間TW2を、PLTとPLTより高い強度PW2との間で強
度変調させる際の変調周期Tp のm/n倍(m,nは自
然数、m<n)としたことを特徴とする請求項38から
請求項44のいずれかに記載の光記録のパルストレイン
条件決定装置(請求項45)」を提供する。
【0044】また、本発明は、第46に、「前記強度P
W2を前記強度PW1と等しく設定することを特徴とする請
求項38から請求項45のいずれかに記載の光記録のパ
ルストレイン条件決定装置(請求項46)」を提供す
る。また、本発明は、第47に、「前記強度PW2を前記
強度PW1より小さく設定することを特徴とする請求項3
8から請求項45のいずれかに記載の光記録のパルスト
レイン条件決定装置(請求項47)」を提供する。
W2を前記強度PW1と等しく設定することを特徴とする請
求項38から請求項45のいずれかに記載の光記録のパ
ルストレイン条件決定装置(請求項46)」を提供す
る。また、本発明は、第47に、「前記強度PW2を前記
強度PW1より小さく設定することを特徴とする請求項3
8から請求項45のいずれかに記載の光記録のパルスト
レイン条件決定装置(請求項47)」を提供する。
【0045】また、本発明は、第48に、「前記強度P
LB をゼロとしたことを特徴とする請求項40又は請求
項41記載の光記録の熱遮断条件決定装置(請求項4
8)」を提供する。また、本発明は、第49に、「前記
時間Toffを、書き込みクロック周期Tのm/n倍
(m,nは自然数)又はそれに近い値とすることを特徴
とする請求項40又は請求項41又は請求項48記載の
光記録の熱遮断条件決定装置(請求項49)」を提供す
る。
LB をゼロとしたことを特徴とする請求項40又は請求
項41記載の光記録の熱遮断条件決定装置(請求項4
8)」を提供する。また、本発明は、第49に、「前記
時間Toffを、書き込みクロック周期Tのm/n倍
(m,nは自然数)又はそれに近い値とすることを特徴
とする請求項40又は請求項41又は請求項48記載の
光記録の熱遮断条件決定装置(請求項49)」を提供す
る。
【0046】
【作用】まず、熱時定数τについて説明する。図3は、
記録すべきデータ信号のパターン(波形)の一例(図3
(1))、そのときのレーザビームの発光及び消光を示す
チャート(光源へ入力する電力のチャート)(図3
(2))、そのときのディスクの温度プロフィール(昇温
プロフィール)(図3(3))、及び形成されるマークの
関係を示す説明図(図3(4))である。
記録すべきデータ信号のパターン(波形)の一例(図3
(1))、そのときのレーザビームの発光及び消光を示す
チャート(光源へ入力する電力のチャート)(図3
(2))、そのときのディスクの温度プロフィール(昇温
プロフィール)(図3(3))、及び形成されるマークの
関係を示す説明図(図3(4))である。
【0047】光ディスクに対し、記録用レーザビーム
(パルス)を用いて光記録を行なう場合、熱拡散の立場
から光ディスクを見ると、断熱的ディスクと熱拡散的デ
ィスクの2種存在する。レーザビームをデータ信号(図
3(1))に従い、図3(2) に示すように、消光から発光
へとステップ関数的(矩形波のように)に立ち上げると
する。断熱的ディスクは、熱拡散的ディスクに比べて熱
がこもり易いため、レーザビームの単位強度当たりの昇
温[℃/mW]、すなわち、式(3)に於けるAが大き
い。つまり、同一の強度で長時間照射した場合、温度が
飽和するレベルは、断熱的ディスクの方が高い。
(パルス)を用いて光記録を行なう場合、熱拡散の立場
から光ディスクを見ると、断熱的ディスクと熱拡散的デ
ィスクの2種存在する。レーザビームをデータ信号(図
3(1))に従い、図3(2) に示すように、消光から発光
へとステップ関数的(矩形波のように)に立ち上げると
する。断熱的ディスクは、熱拡散的ディスクに比べて熱
がこもり易いため、レーザビームの単位強度当たりの昇
温[℃/mW]、すなわち、式(3)に於けるAが大き
い。つまり、同一の強度で長時間照射した場合、温度が
飽和するレベルは、断熱的ディスクの方が高い。
【0048】一方、断熱的ディスクは、昇温プロフィー
ル又は温度プロフィール〔instantaneous (elevated) t
emperature profile 〕が飽和に達するまでの所要時間
が、熱拡散的ディスクに比べて長い。図4は、温度が飽
和に達するまでの所要時間(tsat )を示す温度プロフ
ィールのグラフである。すなわち、断熱的ディスクは、
図4におけるtsatが、熱拡散的ディスクに比べて長
い。このことは、土瓶は鉄瓶よりも熱し難く冷め難いと
考えれば、分かりやすい。熱時定数τは、このtsat に
対応する。すなわち、tsat の長いディスクはτが大き
いといえる。
ル又は温度プロフィール〔instantaneous (elevated) t
emperature profile 〕が飽和に達するまでの所要時間
が、熱拡散的ディスクに比べて長い。図4は、温度が飽
和に達するまでの所要時間(tsat )を示す温度プロフ
ィールのグラフである。すなわち、断熱的ディスクは、
図4におけるtsatが、熱拡散的ディスクに比べて長
い。このことは、土瓶は鉄瓶よりも熱し難く冷め難いと
考えれば、分かりやすい。熱時定数τは、このtsat に
対応する。すなわち、tsat の長いディスクはτが大き
いといえる。
【0049】本発明者の一人は、鋭意研究の結果、先に
光ディスクそれ自体を測定することによって、ディスク
の熱時定数を測定する方法を発明した。次にこの測定方
法を説明する。 <熱時定数の測定方法>被測定物である光ディスクと、
測定ツール(測定手段)である光ディスク評価用の光記
録/再生装置(以下、評価用ドライブとも言う)を用意
する。レーザビームは、N.A.= 0.55 、波長= 830 nm
であり、立ち上がり時間と立ち下がり時間は共に約 5ns
ecである。評価用ドライブに光ディスクをセットし、デ
ィスクのトラックが測定線速度(V=11.3 m/sec )
となるようにディスクを回転させる。次に評価用ドライ
ブのレーザビームのスポットをトラック上にサーボオン
させる。つまり、フォーカシングとトラッキングのサー
ボ装置を作動させる。そして、レーザビームをパルス変
調する。レーザビームの照射によりディスクの温度は上
昇するが、パルス変調は、各パルスの加熱による熱が干
渉し合わないと見なせるに十分な時間間隔が開くような
デュティ・サイクル(duty cycle)とする。そして、様
々なパルス時間長(pulse dulation time ;以下、P.D.
T.と略す)を持つパルスをディスクに照射し、各P.D.T.
毎の「ディスクに記録を行うことのできる最小パワー
(Pth )」を求める。
光ディスクそれ自体を測定することによって、ディスク
の熱時定数を測定する方法を発明した。次にこの測定方
法を説明する。 <熱時定数の測定方法>被測定物である光ディスクと、
測定ツール(測定手段)である光ディスク評価用の光記
録/再生装置(以下、評価用ドライブとも言う)を用意
する。レーザビームは、N.A.= 0.55 、波長= 830 nm
であり、立ち上がり時間と立ち下がり時間は共に約 5ns
ecである。評価用ドライブに光ディスクをセットし、デ
ィスクのトラックが測定線速度(V=11.3 m/sec )
となるようにディスクを回転させる。次に評価用ドライ
ブのレーザビームのスポットをトラック上にサーボオン
させる。つまり、フォーカシングとトラッキングのサー
ボ装置を作動させる。そして、レーザビームをパルス変
調する。レーザビームの照射によりディスクの温度は上
昇するが、パルス変調は、各パルスの加熱による熱が干
渉し合わないと見なせるに十分な時間間隔が開くような
デュティ・サイクル(duty cycle)とする。そして、様
々なパルス時間長(pulse dulation time ;以下、P.D.
T.と略す)を持つパルスをディスクに照射し、各P.D.T.
毎の「ディスクに記録を行うことのできる最小パワー
(Pth )」を求める。
【0050】図5は、パルス時間長(P.D.T.)を説明す
る波形図である。時間P.D.Tの間、「ディスクに記録を
行うことのできる最小パワー(Pth )」でレーザビー
ムのパルスをディスクに照射することを示している。図
6は、Pth を縦軸、P.D.T.を横軸にデータをプロット
したグラフである。図6に示すように、Pth はP.D.T.
が長くなるにつれて低下し、ある一定のレベルP0に収
束する。
る波形図である。時間P.D.Tの間、「ディスクに記録を
行うことのできる最小パワー(Pth )」でレーザビー
ムのパルスをディスクに照射することを示している。図
6は、Pth を縦軸、P.D.T.を横軸にデータをプロット
したグラフである。図6に示すように、Pth はP.D.T.
が長くなるにつれて低下し、ある一定のレベルP0に収
束する。
【0051】次に、図7に示す如くに、Pth をP0で規
格化した値の逆数、すなわち、P0/Pth を縦軸、P.D.
T.を横軸にデータをプロットする。これは、レーザビー
ムをディスクに照射した場合の、昇温時の熱応答関数の
グラフを表す。また、図8に示す如くに、縦軸に1−P
0/Pth をとれば、レーザビームをOFFした時の、降
温時の熱応答関数のグラフを表す。図8の熱応答関数が
指数関数 exp(−t/τ)に近似できるとき、前記τは測
定した光ディスクの、測定した線速度(V)での、測定
したレーザビームによる昇温降温の熱時定数を表す。
格化した値の逆数、すなわち、P0/Pth を縦軸、P.D.
T.を横軸にデータをプロットする。これは、レーザビー
ムをディスクに照射した場合の、昇温時の熱応答関数の
グラフを表す。また、図8に示す如くに、縦軸に1−P
0/Pth をとれば、レーザビームをOFFした時の、降
温時の熱応答関数のグラフを表す。図8の熱応答関数が
指数関数 exp(−t/τ)に近似できるとき、前記τは測
定した光ディスクの、測定した線速度(V)での、測定
したレーザビームによる昇温降温の熱時定数を表す。
【0052】従来の固定されたパルストレイン条件で
は、「マークの後エッジ位置の、記録データパターン依
存性」を最小にすることが難しい。また、使用する光デ
ィスクによっては、PW2の値が非常に大きくなってしま
う。しかし、本発明に従いτを式(1)に代入して求め
られたパルストレイン条件を用いれば、その依存性が最
小になるし、最小にするPW2の値を小さくすることがで
きる。このことは本発明者らが初めて見いだした。前記
依存性が小さくなると、高密度記録が正確に行なうこと
ができ、データの弁別性が良好となる。作成の容易さか
ら、PLTとPLTより高い強度PW2との間で強度変調させ
る際の変調周期Tp を書き込みクロック周期Tと等しく
し、時間TW2を、前記変調周期Tp のm/n倍(m,n
は自然数、m<n)とすることが好ましい。また強度P
LTをPpre と等しくしてもよい。
は、「マークの後エッジ位置の、記録データパターン依
存性」を最小にすることが難しい。また、使用する光デ
ィスクによっては、PW2の値が非常に大きくなってしま
う。しかし、本発明に従いτを式(1)に代入して求め
られたパルストレイン条件を用いれば、その依存性が最
小になるし、最小にするPW2の値を小さくすることがで
きる。このことは本発明者らが初めて見いだした。前記
依存性が小さくなると、高密度記録が正確に行なうこと
ができ、データの弁別性が良好となる。作成の容易さか
ら、PLTとPLTより高い強度PW2との間で強度変調させ
る際の変調周期Tp を書き込みクロック周期Tと等しく
し、時間TW2を、前記変調周期Tp のm/n倍(m,n
は自然数、m<n)とすることが好ましい。また強度P
LTをPpre と等しくしてもよい。
【0053】ところで、式(1)のパルストレイン条件
は、ディスクの熱応答特性が単純な指数関数exp(−t/
τ) で近似できる場合についてのみ適用できる。単純な
指数関数で近似できない場合は、熱応答関数を時間の関
数f(t)とおいて、次のように考える。PW1のレベルを
TW1時間維持し、PLTに立ち下げたときの時刻をt=0
として、そのときのディスクの温度(温度はレーザビー
ムの強度に比例するので、以後強度の時間関数として表
す)をF0 とおくと、F0 は以下のように表せる。
は、ディスクの熱応答特性が単純な指数関数exp(−t/
τ) で近似できる場合についてのみ適用できる。単純な
指数関数で近似できない場合は、熱応答関数を時間の関
数f(t)とおいて、次のように考える。PW1のレベルを
TW1時間維持し、PLTに立ち下げたときの時刻をt=0
として、そのときのディスクの温度(温度はレーザビー
ムの強度に比例するので、以後強度の時間関数として表
す)をF0 とおくと、F0 は以下のように表せる。
【0054】 F0 =Pb・f(TW1)+PW1・{1−f(TW1)} また、n個めの後続パルスの終了時、即ちt=nTp 時
間後のディスク温度Fnは、以下のようになる。
間後のディスク温度Fnは、以下のようになる。
【0055】
【数1】
【0056】先頭パルス(PW1、TW1)によるディスク
のピーク温度およびn個の各後続パルス(PW2、TW2)
によるディスクのピーク温度がどれも等しくなるための
条件は、F0 =F1 =F2 =・・・・Fn である。即ち、F
n =Fn+1 (n=0,1,2,・・・・)として式を立てると、下
記式(4)となる。 Pb・[f{TW1+(n+1)Tp }−f(TW1+nTp )] +PW1・[f{(n+1)Tp }−f{TW1+(n+1)Tp } −f(nTp )+f(TW1+nTp )] +PLT・[f(TW2+nTp )−f{(n+1)Tp }] +PW2・{f(nTp )−f(TW2+nTp )} =0 ・・・・・(4) 式(4)はこれ以上解けない。そこでf(t)が以下の条
件を満たすと仮定する。
のピーク温度およびn個の各後続パルス(PW2、TW2)
によるディスクのピーク温度がどれも等しくなるための
条件は、F0 =F1 =F2 =・・・・Fn である。即ち、F
n =Fn+1 (n=0,1,2,・・・・)として式を立てると、下
記式(4)となる。 Pb・[f{TW1+(n+1)Tp }−f(TW1+nTp )] +PW1・[f{(n+1)Tp }−f{TW1+(n+1)Tp } −f(nTp )+f(TW1+nTp )] +PLT・[f(TW2+nTp )−f{(n+1)Tp }] +PW2・{f(nTp )−f(TW2+nTp )} =0 ・・・・・(4) 式(4)はこれ以上解けない。そこでf(t)が以下の条
件を満たすと仮定する。
【0057】 f(a)・f(b)=f(a+b),f(a)/f(b)=f(a−b)・・・(5) すると式(4)はさらに分解できて、以下の式となる。 f(nTp )[(PW1−Pb)・{1−f(TW1)}・{1−f(Tp )} −(PLT−Pb)・{1−f(Tp )} −(PW2−PLT)・{1−f(TW2)}]=0・・・・・(6) したがって、式(6)において、 (PW1−Pb)・{1−f(TW1)}・{1−f(Tp )} −(PLT−Pb)・{1−f(Tp )} −(PW2−PLT)・{1−f(TW2)}=0 とすれば、任意のnについて Fn =Fn+1 が成り立つ
条件が決まる。即ちその条件は、 (PW1−Pb)・{1−f(TW1)}・{1−f(Tp )} =(PLT−Pb)・{1−f(Tp )} +(PW2−PLT)・{1−f(TW2)} ・・・・・(7) 式(7)は、パルストレインの条件式(1)において、
exp(−t/τ)=f(t)とした形と等しくなる。
条件が決まる。即ちその条件は、 (PW1−Pb)・{1−f(TW1)}・{1−f(Tp )} =(PLT−Pb)・{1−f(Tp )} +(PW2−PLT)・{1−f(TW2)} ・・・・・(7) 式(7)は、パルストレインの条件式(1)において、
exp(−t/τ)=f(t)とした形と等しくなる。
【0058】以上のことから、熱応答関数f(t)が式
(5)の条件を満たすとき、先頭パルス(PW1、TW1)
によるディスクのピーク温度およびn個の各後続パルス
(PW2、TW2)によるディスクのピーク温度がどれも等
しくなるための条件が決定できる。熱応答関数f(t)が
式(4)の条件を満たさない場合は、ディスク温度が一
定となる条件が決定できないので、FA をF0 〜Fn の
平均として、
(5)の条件を満たすとき、先頭パルス(PW1、TW1)
によるディスクのピーク温度およびn個の各後続パルス
(PW2、TW2)によるディスクのピーク温度がどれも等
しくなるための条件が決定できる。熱応答関数f(t)が
式(4)の条件を満たさない場合は、ディスク温度が一
定となる条件が決定できないので、FA をF0 〜Fn の
平均として、
【0059】
【数2】
【0060】を最小とする条件を探すことになる。以
下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本
発明はこれに限られるものではない。
下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本
発明はこれに限られるものではない。
【0061】
【実施例】図1は、本実施例にかかる光磁気記録装置の
主要な構成を示す概念図である。この装置は再生装置を
兼用しており、主として、光磁気記録媒体Dを回転させ
るモータ(回転手段6)、レーザビーム光源2、レーザ
ビームの強度を、記録すべき2値化情報に従い、高レベ
ルと低レベルとの間でパルス変調する光源駆動回路1、
記録磁界印加手段(永久磁石11)、パルス波形整形回
路10、及び条件決定手段12からなる。ここでは、パ
ルス波形整形回路10は、パルス波形を、図2(後述)
に示すような波形に整形する。
主要な構成を示す概念図である。この装置は再生装置を
兼用しており、主として、光磁気記録媒体Dを回転させ
るモータ(回転手段6)、レーザビーム光源2、レーザ
ビームの強度を、記録すべき2値化情報に従い、高レベ
ルと低レベルとの間でパルス変調する光源駆動回路1、
記録磁界印加手段(永久磁石11)、パルス波形整形回
路10、及び条件決定手段12からなる。ここでは、パ
ルス波形整形回路10は、パルス波形を、図2(後述)
に示すような波形に整形する。
【0062】条件決定手段12は、式(1)及び式
(2)に基づいて各値(Ppre、PW1、PW2、PLT、PL
B、TW1、TW2、Tp、Toff)の組合わせを決定する演
算部と、決定された値を出力する出力部を備えている。
演算部では、式(1)及び式(2)に基づいて各値を決
定する。そして、決定された値を出力部から出力する。
パルス波形整形回路10では、この出力値に基づいてパ
ルス波形を整形する。
(2)に基づいて各値(Ppre、PW1、PW2、PLT、PL
B、TW1、TW2、Tp、Toff)の組合わせを決定する演
算部と、決定された値を出力する出力部を備えている。
演算部では、式(1)及び式(2)に基づいて各値を決
定する。そして、決定された値を出力部から出力する。
パルス波形整形回路10では、この出力値に基づいてパ
ルス波形を整形する。
【0063】媒体Dとして、光磁気ディスクをセットす
る。回転手段6で媒体Dを回転させ、媒体Dのトラック
の線速度が所定値となるようにする。光源2からのレー
ザビームのスポットをトラック上にサーボオンさせる。
つまり、フォーカシングとトラッキングのサーボ装置
(不図示)を作動させる。そして、光源2から出射され
るレーザビームを、光源駆動回路1により記録すべき2
値化情報に従いパルス変調する。光源2から出射したビ
ームは、コリメータレンズ3を通って平行にされた後、
ビームスプリッタ4で反射される。反射されたビーム
は、対物レンズ5で集光され、媒体D上に焦点を結ぶ。
記録は、これで基本的に終わりである。
る。回転手段6で媒体Dを回転させ、媒体Dのトラック
の線速度が所定値となるようにする。光源2からのレー
ザビームのスポットをトラック上にサーボオンさせる。
つまり、フォーカシングとトラッキングのサーボ装置
(不図示)を作動させる。そして、光源2から出射され
るレーザビームを、光源駆動回路1により記録すべき2
値化情報に従いパルス変調する。光源2から出射したビ
ームは、コリメータレンズ3を通って平行にされた後、
ビームスプリッタ4で反射される。反射されたビーム
は、対物レンズ5で集光され、媒体D上に焦点を結ぶ。
記録は、これで基本的に終わりである。
【0064】再生の場合は、強度変調をしないDC点灯
のレーザビームを記録時と同様に媒体Dに照射する。そ
して、媒体から反射された光を対物レンズ5を通してビ
ームスプリッタ4に入射させ、そこを透過した光を集光
レンズ7で集光した上で、ディテクタ9に入射させる。
このとき、集光レンズ7とディテクタ9との間に置いた
アナライザ(偏光子)を通して、偏光面の回転状況を光
の強度変化に変換する。これにより、偏光面の回転とし
て読みとった媒体Dの記録情報を光の強度変化に変換す
る。光の強度変化は、ディテクタ9で電気信号の強弱に
変換される。これが再生である。
のレーザビームを記録時と同様に媒体Dに照射する。そ
して、媒体から反射された光を対物レンズ5を通してビ
ームスプリッタ4に入射させ、そこを透過した光を集光
レンズ7で集光した上で、ディテクタ9に入射させる。
このとき、集光レンズ7とディテクタ9との間に置いた
アナライザ(偏光子)を通して、偏光面の回転状況を光
の強度変化に変換する。これにより、偏光面の回転とし
て読みとった媒体Dの記録情報を光の強度変化に変換す
る。光の強度変化は、ディテクタ9で電気信号の強弱に
変換される。これが再生である。
【0065】上記のような装置において、作用の項で説
明したτの測定法でτ=36nsec(V=11.3m/sec )を
有する光磁気ディスクを用意した。全面初期化の後、こ
の光磁気ディスクを測定線速度:V=11.3m/sec で回
転させ、これに対し、N.A.=0.55 、波長=830nm 、レ
ーザパルスの立ち上がり、立ち下がり時間が共に約 5ns
ec である記録再生用レーザビームを用い、次の条件で
2/3(1,7) R.L.L., 0.56 μm/bit,T(write
clock period)= 33 nsecの NRZI マーク長記録用ラン
ダム信号を記録した。パルス波形は、図2に示すよう
な、パルストレイン方式及び熱遮断方式を使用した。マ
ークの種類は2Tマーク〜8Tマークの7種である。図
2は、2Tマーク〜8Tマークを形成する場合のレーザ
ビーム強度の波形図である。ここで、nTマークとは、
記録されたマークを再生した際に、そのマークに対応す
る再生パルスの幅がクロック周期Tのn倍(例えば2T
マークの場合は2倍)になるようなマークを示す。
明したτの測定法でτ=36nsec(V=11.3m/sec )を
有する光磁気ディスクを用意した。全面初期化の後、こ
の光磁気ディスクを測定線速度:V=11.3m/sec で回
転させ、これに対し、N.A.=0.55 、波長=830nm 、レ
ーザパルスの立ち上がり、立ち下がり時間が共に約 5ns
ec である記録再生用レーザビームを用い、次の条件で
2/3(1,7) R.L.L., 0.56 μm/bit,T(write
clock period)= 33 nsecの NRZI マーク長記録用ラン
ダム信号を記録した。パルス波形は、図2に示すよう
な、パルストレイン方式及び熱遮断方式を使用した。マ
ークの種類は2Tマーク〜8Tマークの7種である。図
2は、2Tマーク〜8Tマークを形成する場合のレーザ
ビーム強度の波形図である。ここで、nTマークとは、
記録されたマークを再生した際に、そのマークに対応す
る再生パルスの幅がクロック周期Tのn倍(例えば2T
マークの場合は2倍)になるようなマークを示す。
【0066】熱遮断条件は、PW1=11.5mW、TW1=50
nsec(=T×3/2)、PLB=Pr=1.5 mW、Ppre
=3.5 mW、Toff =50nsec(マーク形成の開始位置、
つまりマークの前エッジ位置の、記録データパターン依
存性が最小になる値)とした。 [実施例1]Tp 、TW2及びPW2を、Tp =33nsec(=
T)、TW2=16.5nsec(=T×1/2)、PW2=PW1=
11.5mWに固定した。
nsec(=T×3/2)、PLB=Pr=1.5 mW、Ppre
=3.5 mW、Toff =50nsec(マーク形成の開始位置、
つまりマークの前エッジ位置の、記録データパターン依
存性が最小になる値)とした。 [実施例1]Tp 、TW2及びPW2を、Tp =33nsec(=
T)、TW2=16.5nsec(=T×1/2)、PW2=PW1=
11.5mWに固定した。
【0067】その後PLTを種々に変えて記録を行い、再
生レーザビーム強度Pr =1.5 mWで再生して、「マー
クの後エッジ位置の、記録データパターン依存性」を測
定したところ、PLT=4.6 mWのとき、前記依存性が最
小であった。 [実施例2]Tp 、PLT及びPW2を、Tp =33nsec(=
T)、PLT=Ppre =3.5 mW、PW2=PW1=11.5mW
に固定した。
生レーザビーム強度Pr =1.5 mWで再生して、「マー
クの後エッジ位置の、記録データパターン依存性」を測
定したところ、PLT=4.6 mWのとき、前記依存性が最
小であった。 [実施例2]Tp 、PLT及びPW2を、Tp =33nsec(=
T)、PLT=Ppre =3.5 mW、PW2=PW1=11.5mW
に固定した。
【0068】その後TW2を種々に変えて記録を行い、再
生レーザビーム強度Pr =1.5 mWで再生して、「マー
クの後エッジ位置の、記録データパターン依存性」を測
定したところ、TW2=21.5nsecのとき、前記依存性が最
小であった。 [実施例3]Tp 及びTW2を、Tp =33nsec(=T)、
TW2=16.5nsec(=T×1/2)に固定し、PLT=5.0
mWとした。
生レーザビーム強度Pr =1.5 mWで再生して、「マー
クの後エッジ位置の、記録データパターン依存性」を測
定したところ、TW2=21.5nsecのとき、前記依存性が最
小であった。 [実施例3]Tp 及びTW2を、Tp =33nsec(=T)、
TW2=16.5nsec(=T×1/2)に固定し、PLT=5.0
mWとした。
【0069】このとき、PW2を式(1)から算出したと
ころ、PW2=10.8mWとなった。この条件で記録を行
い、再生レーザビーム強度Pr =1.5 mWで再生し、
「マークの後エッジ位置の、記録データパターン依存
性」を測定したところ、前記依存性は小さく、データの
弁別性も良好であった。また、PW2のみを種々に変え
て、同様に記録・再生を試みたが、PW2が10.8mWのと
き、前記依存性が最小であった。PW2の値は、比較例の
それに比べて、2.5 mW低かった。 [実施例4]Tp 及びPLTを、Tp =33nsec(=T)、
PLT=Ppre =3.5 mWに固定し、TW2=25.0nsec(=
T×3/4)とした。
ころ、PW2=10.8mWとなった。この条件で記録を行
い、再生レーザビーム強度Pr =1.5 mWで再生し、
「マークの後エッジ位置の、記録データパターン依存
性」を測定したところ、前記依存性は小さく、データの
弁別性も良好であった。また、PW2のみを種々に変え
て、同様に記録・再生を試みたが、PW2が10.8mWのと
き、前記依存性が最小であった。PW2の値は、比較例の
それに比べて、2.5 mW低かった。 [実施例4]Tp 及びPLTを、Tp =33nsec(=T)、
PLT=Ppre =3.5 mWに固定し、TW2=25.0nsec(=
T×3/4)とした。
【0070】このとき、PW2を式(1)から算出したと
ころ、PW2=10.7mWとなった。この条件で記録を行
い、再生レーザビーム強度Pr =1.5 mWで再生し、
「マークの後エッジ位置の、記録データパターン依存
性」を測定したところ、前記依存性は小さく、データの
弁別性も良好であった。また、PW2のみを種々に変え
て、同様に記録・再生を試みたが、PW2が10.7mWのと
き、前記依存性が最小であった。PW2の値は、比較例の
それに比べて、2.6 mW低かった。
ころ、PW2=10.7mWとなった。この条件で記録を行
い、再生レーザビーム強度Pr =1.5 mWで再生し、
「マークの後エッジ位置の、記録データパターン依存
性」を測定したところ、前記依存性は小さく、データの
弁別性も良好であった。また、PW2のみを種々に変え
て、同様に記録・再生を試みたが、PW2が10.7mWのと
き、前記依存性が最小であった。PW2の値は、比較例の
それに比べて、2.6 mW低かった。
【0071】
【比較例】Tp 、PLT及びTW2を、Tp =33nsec(=
T)、PLT=Ppre =3.5 mW、TW2=16.5nsec(=T
×1/2)に固定した。その後PW2を種々に変えて記録
を行い、再生レーザビーム強度Pr =1.5 mWで再生し
て、「マークの後エッジ位置の、記録データパターン依
存性」を測定したところ、PW2=13.3mWのとき、前記
依存性が最小であった。この値は、[実施例3]に比べ
て2.5 mW、[実施例4]に比べて2.6 mW高かった。
T)、PLT=Ppre =3.5 mW、TW2=16.5nsec(=T
×1/2)に固定した。その後PW2を種々に変えて記録
を行い、再生レーザビーム強度Pr =1.5 mWで再生し
て、「マークの後エッジ位置の、記録データパターン依
存性」を測定したところ、PW2=13.3mWのとき、前記
依存性が最小であった。この値は、[実施例3]に比べ
て2.5 mW、[実施例4]に比べて2.6 mW高かった。
【0072】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、光ディス
クに最適なパルストレイン条件が求められるので、これ
を使用して光記録した場合、どんな光ディスクでも常に
「マーク形成の終了位置、つまりマークの後エッジ位置
の、記録データパターン依存性」が最小となり、また、
最小とするPW2の値を小さくできる。その結果、常に高
密度で記録でき、それでいてデータの弁別性の低下が常
に避けられる。
クに最適なパルストレイン条件が求められるので、これ
を使用して光記録した場合、どんな光ディスクでも常に
「マーク形成の終了位置、つまりマークの後エッジ位置
の、記録データパターン依存性」が最小となり、また、
最小とするPW2の値を小さくできる。その結果、常に高
密度で記録でき、それでいてデータの弁別性の低下が常
に避けられる。
【図1】本発明の実施例にかかる光磁気記録装置の主要
な構成を示す概念図。
な構成を示す概念図。
【図2】実施例に使用した、2Tマーク〜8Tマークを
形成する場合のレーザビーム強度の波形図。
形成する場合のレーザビーム強度の波形図。
【図3】記録すべきデータ信号のパターン(波形)の一
例、そのときのレーザビームの発光及び消光を示すチャ
ート(光源へ入力する電力のチャート)、そのときのデ
ィスクの温度プロフィール(昇温プロフィール)及び形
成されるマークの関係を示す説明図。
例、そのときのレーザビームの発光及び消光を示すチャ
ート(光源へ入力する電力のチャート)、そのときのデ
ィスクの温度プロフィール(昇温プロフィール)及び形
成されるマークの関係を示す説明図。
【図4】温度が飽和に達するまでの所要時間(tsat )
を示す温度プロフィールのグラフ。
を示す温度プロフィールのグラフ。
【図5】パルス時間長(P.D.T.)を説明する波形図。
【図6】Pth を縦軸、P.D.T.を横軸にデータをプロット
したグラフ。
したグラフ。
【図7】P0/Pth を縦軸、P.D.T.を横軸にデータをプロ
ットしたグラフ(ディスクの昇温プロフィールを表
す)。
ットしたグラフ(ディスクの昇温プロフィールを表
す)。
【図8】1−P0/Pth を縦軸、P.D.T.を横軸にデータを
プロットしたグラフ(ディスクの降温プロフィールを表
す)。
プロットしたグラフ(ディスクの降温プロフィールを表
す)。
【図9】熱遮断を用いて1つのマークを形成する場合の
レーザビーム強度の波形図。
レーザビーム強度の波形図。
【図10】熱遮断を用い、かつパルストレイン方式で1
つのマークを形成する場合のレーザビーム強度の波形
図。
つのマークを形成する場合のレーザビーム強度の波形
図。
【図11】従来の方式で1つのマークを形成する場合の
レーザビーム強度の波形図。
レーザビーム強度の波形図。
【図12】パルストレイン方式で1つのマークを形成す
る場合のレーザビーム強度の波形図。
る場合のレーザビーム強度の波形図。
【図13】規格書 ECMA /TC31/92/36文書の第87頁に
記載された波形図。
記載された波形図。
【図14】パルストレイン及び熱遮断方式でマークを形
成した場合の、各時刻のレーザビームのスポット中心の
温度又は各時刻のピーク温度のグラフ。
成した場合の、各時刻のレーザビームのスポット中心の
温度又は各時刻のピーク温度のグラフ。
1;光源駆動回路 2;レーザビーム光源 3;コリメータレンズ 4;ビームスプリッタ 5;対物レンズ 6;モータ(回転手段) 7;集光レンズ 8;アナライザ(偏光子) 9;ディテクタ 10;パルス波形整形回路 11;記録磁界印加手段(永久磁石) 12;条件決定手段 D;記録媒体
Claims (49)
- 【請求項1】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成する光
記録方法であって、 PW2、PLT及びPW2を維持する時間TW2のうちの少なく
とも1つを制御することにより、前記媒体面上に照射さ
れたレーザビームのピーク温度位置又はスポット中心位
置での温度を、TW1経過時とTW2経過時とで等しくする
ことを特徴とする光記録方法。 - 【請求項2】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成する光
記録方法であって、 前記各値を下記式(1)を満足する組合せとして求める
ことを特徴とする光記録方法。 (PW1-Ppre)×{1-exp(-TW1/τ)}×{1-exp(-Tp /τ)} =(PLT-Ppre)×{1-exp(-Tp /τ)}+(PW2-PLT)×{1-exp(-TW2/τ)} ・・・・・式(1) (τ;前記光記録媒体の熱時定数、TW2;PW2を維持す
る時間、Tp ;PLTとPW2との間で強度変調させる際の
変調周期) - 【請求項3】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成し、そ
の後Ppreより低い強度PLBに立ち下げ、時間Toff後P
preに立ち上げる光記録方法であって、 PW2、PLT及びPW2を維持する時間TW2のうちの少なく
とも1つを制御することにより、前記媒体面上に照射さ
れたレーザビームのピーク温度位置又はスポット中心位
置での温度を、TW1経過時とTW2経過時とで等しくし、 かつ、Ppre、Toff及びPLBのうちの少なくとも1つを
制御することにより、次のマークを形成すべく再度PW1
に立ち上げるまでの時間内に前記プレヒート状態とする
ことを特徴とする光記録方法。 - 【請求項4】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成し、そ
の後Ppreより低い強度PLBに立ち下げ、時間Toff後P
preに立ち上げる光記録方法であって、 前記各値を下記式(1)及び式(2)を満足する組合せ
として求めることを特徴とする光記録方法。 (PW1-Ppre)×{1-exp(-TW1/τ)}×{1-exp(-Tp /τ)} =(PLT-Ppre)×{1-exp(-Tp /τ)}+(PW2-PLT)×{1-exp(-TW2/τ)} ・・・・・式(1) Toff=τ×ln[{(PW1-PLB)-(PW1-Ppre)×exp(-TW1/τ)}÷(Ppre-PLB)] ・・・・・式(2) (τ;前記光記録媒体の熱時定数、TW2;PW2を維持す
る時間、Tp ;PLTとPW2との間で強度変調させる際の
変調周期) - 【請求項5】前記光記録媒体は熱応答特性が指数関数で
近似できることを特徴とする請求項1又は請求項3記載
の光記録方法。 - 【請求項6】前記強度PLTを、前記強度Ppreと等しく
したことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか
に記載の光記録方法。 - 【請求項7】前記強度PLTを、前記強度Ppreより大き
くしたことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれ
かに記載の光記録方法。 - 【請求項8】PLTとPLTより高い強度PW2との間で強度
変調させる際の変調周期Tp を書き込みクロック周期T
と等しくしたことを特徴とする請求項1から請求項7の
いずれかに記載の光記録方法。 - 【請求項9】PW2を維持する時間TW2を、PLTとPLTよ
り高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期T
p のm/n倍(m,nは自然数、m<n)としたことを
特徴とする請求項1から請求項8のいずれかに記載の光
記録方法。 - 【請求項10】前記強度PW2を前記強度PW1と等しくし
たことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれかに
記載の光記録方法。 - 【請求項11】前記強度PW2を前記強度PW1より小さく
したことを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか
に記載の光記録方法。 - 【請求項12】前記強度PLB をゼロとしたことを特徴
とする請求項3又は請求項4又は請求項5記載の光記録
方法。 - 【請求項13】前記時間Toffを、書き込みクロック周
期Tのm/n倍(m,nは自然数)又はそれに近い値と
することを特徴とする請求項3又は請求項4又は請求項
5又は請求項12記載の光記録方法。 - 【請求項14】レーザビームを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザビームの照射位置を変化さ
せる移動手段と、 マークを形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビー
ム強度を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレ
ヒート状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1
へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強
度PLTに立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2
との間で強度変調させる変調手段と、 前記媒体面上に照射されたレーザビームのピーク温度位
置又はスポット中心位置での温度を、TW1経過時とPW2
を維持する時間TW2経過時とで等しくするように、PW
2、PLT及びTW2のうちの少なくとも1つを制御する制
御手段とを備えたことを特徴とする光記録装置。 - 【請求項15】レーザビームを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザビームの照射位置を変化さ
せる移動手段と、 マークを形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビー
ム強度を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレ
ヒート状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1
へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強
度PLTに立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2
との間で強度変調させる変調手段と、 前記各値を下記式(1)を満足する組合せとして求める
条件決定手段とを備えたことを特徴とする光記録装置。 (PW1-Ppre)×{1-exp(-TW1/τ)}×{1-exp(-Tp /τ)} =(PLT-Ppre)×{1-exp(-Tp /τ)}+(PW2-PLT)×{1-exp(-TW2/τ)} ・・・・・式(1) (τ;前記光記録媒体の熱時定数、TW2;PW2を維持す
る時間、Tp ;PLTとPW2との間で強度変調させる際の
変調周期) - 【請求項16】レーザビームを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザビームの照射位置を変化さ
せる移動手段と、 マークを形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビー
ム強度を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレ
ヒート状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1
へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強
度PLTに立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2
との間で強度変調させる第1の変調手段と、 前記光記録媒体にマークを形成した後、Ppreより低い
強度PLBに立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる第
2の変調手段と、 前記媒体面上に照射されたレーザビームのピーク温度位
置又はスポット中心位置での温度を、TW1経過時とPW2
を維持する時間TW2経過時とで等しくするように、PW
2、PLT及びTW2のうちの少なくとも1つを制御する第
1の制御手段と、 次のマークを形成すべく再度PW1に立ち上げるまでの時
間内に前記プレヒート状態となるように、Ppre、Toff
及びPLBのうちの少なくとも1つを制御する第2の制御
手段とを備えたことを特徴とする光記録装置。 - 【請求項17】レーザビームを出射する光源と、 前記レーザビームを光記録媒体に照射する照射手段と、 前記記録媒体上の前記レーザビームの照射位置を変化さ
せる移動手段と、 マークを形成すべく、光記録媒体に照射するレーザビー
ム強度を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレ
ヒート状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1
へ立ち上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強
度PLTに立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2
との間で強度変調させる第1の変調手段と、 前記光記録媒体にマークを形成した後、Ppreより低い
強度PLBに立ち下げ、時間Toff後Ppreに立ち上げる第
2の変調手段と、 前記各値を下記式(1)及び式(2)を満足する組合せ
として求める条件決定手段とを備えたことを特徴とする
光記録装置。 (PW1-Ppre)×{1-exp(-TW1/τ)}×{1-exp(-Tp /τ)} =(PLT-Ppre)×{1-exp(-Tp /τ)}+(PW2-PLT)×{1-exp(-TW2/τ)} ・・・・・式(1) Toff=τ×ln[{(PW1-PLB)-(PW1-Ppre)×exp(-TW1/τ)}÷(Ppre-PLB)] ・・・・・式(2) (τ;前記光記録媒体の熱時定数、TW2;PW2を維持す
る時間、Tp ;PLTとPW2との間で強度変調させる際の
変調周期) - 【請求項18】前記強度PLTを、前記強度Ppreと等し
くしたことを特徴とする請求項14から17のいずれか
に記載の光記録装置。 - 【請求項19】前記強度PLTを、前記強度Ppreより大
きくしたことを特徴とする請求項14から請求項17の
いずれかに記載の光記録装置。 - 【請求項20】PLTとPLTより高い強度PW2との間で強
度変調させる際の変調周期Tp を書き込みクロック周期
Tと等しくしたことを特徴とする請求項14から請求項
19のいずれかに記載の光記録装置。 - 【請求項21】PW2を維持する時間TW2を、PLTとPLT
より高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期
Tp のm/n倍(m,nは自然数、m<n)としたこと
を特徴とする請求項14から請求項20のいずれかに記
載の光記録装置。 - 【請求項22】前記強度PW2を前記強度PW1と等しくし
たことを特徴とする請求項14から21のいずれかに記
載の光記録装置。 - 【請求項23】前記強度PW2を前記強度PW1より小さく
したことを特徴とする請求項14から21のいずれかに
記載の光記録装置。 - 【請求項24】前記強度PLB をゼロとしたことを特徴
とする請求項16又は請求項17記載の光記録装置。 - 【請求項25】前記時間Toffを、書き込みクロック周
期Tのm/n倍(m,nは自然数)又はそれに近い値と
することを特徴とする請求項16又は請求項17又は請
求項24記載の光記録装置。 - 【請求項26】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成する光
記録方法の条件を決定する方法であって、 前記媒体面上に照射されたレーザビームのピーク温度位
置又はスポット中心位置での温度が、TW1経過時とPW2
を維持する時間TW2経過時とで等しくなるような、PW
2、PLT及びTW2の組み合わせを求めることを特徴とす
る光記録のパルストレイン条件決定方法。 - 【請求項27】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成する光
記録方法の条件を決定する方法であって、 前記各値を下記式(1)を満足する組合せとして求める
ことを特徴とする光記録のパルストレイン条件決定方
法。 (PW1-Ppre)×{1-exp(-TW1/τ)}×{1-exp(-Tp /τ)} =(PLT-Ppre)×{1-exp(-Tp /τ)}+(PW2-PLT)×{1-exp(-TW2/τ)} ・・・・・式(1) (τ;前記光記録媒体の熱時定数、TW2;PW2を維持す
る時間、Tp ;PLTとPW2との間で強度変調させる際の
変調周期) - 【請求項28】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成し、そ
の後Ppreより低い強度PLBに立ち下げ、時間Toff後P
preに立ち上げる光記録方法の条件を決定する方法であ
って、 前記媒体面上に照射されたレーザビームのピーク温度位
置又はスポット中心位置での温度が、TW1経過時とPW2
を維持する時間TW2経過時とで等しくなるような、PW
2、PLT及びTW2の組み合わせを求め、 かつ次のマークを形成すべく再度PW1に立ち上げるまで
の時間内に前記プレヒート状態となるような、Ppre、
Toff及びPLBの組み合わせを求めることを特徴とする
光記録のパルストレイン条件及び熱遮断条件決定方法。 - 【請求項29】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成し、そ
の後Ppreより低い強度PLBに立ち下げ、時間Toff後P
preに立ち上げる光記録方法の条件を決定する方法であ
って、 前記各値を下記式(1)及び式(2)を満足する組合せ
として求めることを特徴とする光記録のパルストレイン
条件及び熱遮断条件決定方法。 (PW1-Ppre)×{1-exp(-TW1/τ)}×{1-exp(-Tp /τ)} =(PLT-Ppre)×{1-exp(-Tp /τ)}+(PW2-PLT)×{1-exp(-TW2/τ)} ・・・・・式(1) Toff=τ×ln[{(PW1-PLB)-(PW1-Ppre)×exp(-TW1/τ)}÷(Ppre-PLB)] ・・・・・式(2) (τ;前記光記録媒体の熱時定数、TW2;PW2を維持す
る時間、Tp ;PLTとPW2との間で強度変調させる際の
変調周期) - 【請求項30】前記強度PLTを、前記強度Ppreと等し
く設定することを特徴とする請求項26から請求項29
のいずれかに記載の光記録のパルストレイン条件決定方
法。 - 【請求項31】前記強度PLTを、前記強度Ppreより大
きく設定することを特徴とする請求項26から請求項2
9のいずれかに記載の光記録のパルストレイン条件決定
方法。 - 【請求項32】PLTとPLTより高い強度PW2との間で強
度変調させる際の変調周期Tp を書き込みクロック周期
Tと等しくしたことを特徴とする請求項26から請求項
31のいずれかに記載の光記録のパルストレイン条件決
定方法。 - 【請求項33】PW2を維持する時間TW2を、PLTとPLT
より高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期
Tp のm/n倍(m,nは自然数、m<n)としたこと
を特徴とする請求項26から請求項32のいずれかに記
載の光記録のパルストレイン条件決定方法。 - 【請求項34】前記強度PW2を前記強度PW1と等しく設
定することを特徴とする請求項26から請求項33のい
ずれかに記載の光記録のパルストレイン条件決定方法。 - 【請求項35】前記強度PW2を前記強度PW1より小さく
設定することを特徴とする請求項26から請求項33の
いずれかに記載の光記録のパルストレイン条件決定方
法。 - 【請求項36】前記強度PLB をゼロとしたことを特徴
とする請求項28又は請求項29記載の光記録の熱遮断
条件決定方法。 - 【請求項37】前記時間Toffを、書き込みクロック周
期Tのm/n倍(m,nは自然数)又はそれに近い値と
することを特徴とする請求項28又は請求項29又は請
求項36記載の光記録の熱遮断条件決定方法。 - 【請求項38】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成する光
記録方法の条件を決定する装置であって、 前記媒体面上に照射されたレーザビームのピーク温度位
置又はスポット中心位置での温度が、TW1経過時とPW2
を維持する時間TW2経過時とで等しくなるような、PW
2、PLT及びTW2の組み合わせを求める演算部と、 前記演算部で求められた値を出力する出力部とを備えた
ことを特徴とする光記録のパルストレイン条件決定装
置。 - 【請求項39】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成する光
記録方法の条件を決定する装置であって、 前記各値を下記式(1)を満足する組合せとして求める
演算部と、 前記演算部で算出された値を出力する出力部とを備えた
ことを特徴とする光記録のパルストレイン条件決定装
置。 (PW1-Ppre)×{1-exp(-TW1/τ)}×{1-exp(-Tp /τ)} =(PLT-Ppre)×{1-exp(-Tp /τ)}+(PW2-PLT)×{1-exp(-TW2/τ)} ・・・・・式(1) (τ;前記光記録媒体の熱時定数、TW2;PW2を維持す
る時間、Tp ;PLTとPW2との間で強度変調させる際の
変調周期) - 【請求項40】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成し、そ
の後Ppreより低い強度PLBに立ち下げ、時間Toff後P
preに立ち上げる光記録方法の条件を決定する装置であ
って、 前記媒体面上に照射されたレーザビームのピーク温度位
置又はスポット中心位置での温度が、TW1経過時とPW2
を維持する時間TW2経過時とで等しくなるような、PW
2、PLT及びTW2の組み合わせを求める第1演算部と、 次のマークを形成すべく再度PW1に立ち上げるまでの時
間内に前記プレヒート状態となるような、Ppre、Toff
及びPLBの組み合わせを求める第2演算部と、 前記演算部で求められた値を出力する出力部とを備えた
ことを特徴とする光記録のパルストレイン条件及び熱遮
断条件決定装置。 - 【請求項41】光記録媒体に照射するレーザビーム強度
を、前記媒体面の温度がある一定温度となるプレヒート
状態を保つ強度PpreからPpreより高い強度PW1へ立ち
上げ、PW1を時間TW1維持した後PW1より低い強度PLT
に立ち下げ、その後PLTとPLTより高い強度PW2との間
で強度変調させて前記光記録媒体にマークを形成し、そ
の後Ppreより低い強度PLBに立ち下げ、時間Toff後P
preに立ち上げる光記録方法の条件を決定する装置であ
って、 前記各値を下記式(1)及び式(2)を満足する組合せ
として求める演算部と、 前記演算部で算出された値を出力する出力部とを備えた
ことを特徴とする光記録のパルストレイン条件及び熱遮
断条件決定装置。 (PW1-Ppre)×{1-exp(-TW1/τ)}×{1-exp(-Tp /τ)} =(PLT-Ppre)×{1-exp(-Tp /τ)}+(PW2-PLT)×{1-exp(-TW2/τ)} ・・・・・式(1) Toff=τ×ln[{(PW1-PLB)-(PW1-Ppre)×exp(-TW1/τ)}÷(Ppre-PLB)] ・・・・・式(2) (τ;前記光記録媒体の熱時定数、TW2;PW2を維持す
る時間、Tp ;PLTとPW2との間で強度変調させる際の
変調周期) - 【請求項42】前記強度PLTを、前記強度Ppreと等し
く設定することを特徴とする請求項38から請求項41
のいずれかに記載の光記録のパルストレイン条件決定装
置。 - 【請求項43】前記強度PLTを、前記強度Ppreより大
きく設定することを特徴とする請求項38から請求項4
1のいずれかに記載の光記録のパルストレイン条件決定
装置。 - 【請求項44】PLTとPLTより高い強度PW2との間で強
度変調させる際の変調周期Tp を書き込みクロック周期
Tと等しくしたことを特徴とする請求項38から請求項
43のいずれかに記載の光記録のパルストレイン条件決
定装置。 - 【請求項45】PW2を維持する時間TW2を、PLTとPLT
より高い強度PW2との間で強度変調させる際の変調周期
Tp のm/n倍(m,nは自然数、m<n)としたこと
を特徴とする請求項38から請求項44のいずれかに記
載の光記録のパルストレイン条件決定装置。 - 【請求項46】前記強度PW2を前記強度PW1と等しく設
定することを特徴とする請求項38から請求項45のい
ずれかに記載の光記録のパルストレイン条件決定装置。 - 【請求項47】前記強度PW2を前記強度PW1より小さく
設定することを特徴とする請求項38から請求項45の
いずれかに記載の光記録のパルストレイン条件決定装
置。 - 【請求項48】前記強度PLB をゼロとしたことを特徴
とする請求項40又は請求項41記載の光記録の熱遮断
条件決定装置。 - 【請求項49】前記時間Toffを、書き込みクロック周
期Tのm/n倍(m,nは自然数)又はそれに近い値と
することを特徴とする請求項40又は請求項41又は請
求項48記載の光記録の熱遮断条件決定装置。
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