JP2972899B2 - 光磁気記録方法 - Google Patents
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- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
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- G11B11/1053—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing characterised by the transducing operation to be executed to compensate for the magnetic domain drift or time shift
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- G11B11/10517—Overwriting or erasing
- G11B11/10519—Direct overwriting, i.e. performing erasing and recording using the same transducing means
- G11B11/10521—Direct overwriting, i.e. performing erasing and recording using the same transducing means using a single light spot
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はオーバーライト可能な光
磁気記録方法に関する。
磁気記録方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、書き換え可能な光記録媒体とし
て、磁気光学効果を利用した光磁気記録媒体が精力的に
研究開発され、一部では実用化されるに至っている。こ
の光磁気記録媒体は大容量高密度記録、非接触記録再
生、アクセスの容易さ等の利点に加え、書き換えが可能
という点で文書情報ファイル、ビデオ・静止画ファイ
ル、コンピュータ用メモリ等への利用が期待されてい
る。光磁気記録媒体を磁気ディスクと同等もしくはそれ
以上の性能を持った記録媒体とするためには、いくつか
の技術的課題があり、その中の主要なものの１つに、オ
ーバーライト技術がある。現在市販されている光磁気記
録媒体は情報を書き換えるのに元の情報をあらかじめ消
去し、その後に新しい情報を書き込むという工程を踏む
必要があり、この消去操作が時間的なロスとなってい
る。この欠点を解消するのがオーバーライト技術であ
る。これ迄提案されているオーバーライト技術は、記録
の方法により磁界変調方式と光変調方式（マルチビーム
方式、２層膜方式等）に大別される。
て、磁気光学効果を利用した光磁気記録媒体が精力的に
研究開発され、一部では実用化されるに至っている。こ
の光磁気記録媒体は大容量高密度記録、非接触記録再
生、アクセスの容易さ等の利点に加え、書き換えが可能
という点で文書情報ファイル、ビデオ・静止画ファイ
ル、コンピュータ用メモリ等への利用が期待されてい
る。光磁気記録媒体を磁気ディスクと同等もしくはそれ
以上の性能を持った記録媒体とするためには、いくつか
の技術的課題があり、その中の主要なものの１つに、オ
ーバーライト技術がある。現在市販されている光磁気記
録媒体は情報を書き換えるのに元の情報をあらかじめ消
去し、その後に新しい情報を書き込むという工程を踏む
必要があり、この消去操作が時間的なロスとなってい
る。この欠点を解消するのがオーバーライト技術であ
る。これ迄提案されているオーバーライト技術は、記録
の方法により磁界変調方式と光変調方式（マルチビーム
方式、２層膜方式等）に大別される。
【０００３】磁界変調方式は光の強度を一定に保ち記録
情報に応じて印加磁界の極性を反転させて記録を行う方
式である。この方式では、磁界の反転を高速で行わなく
てはならないため、浮上タイプの磁気ヘッドを用いる必
要があり、媒体交換が困難である。
情報に応じて印加磁界の極性を反転させて記録を行う方
式である。この方式では、磁界の反転を高速で行わなく
てはならないため、浮上タイプの磁気ヘッドを用いる必
要があり、媒体交換が困難である。
【０００４】一方、光変調方式は印加磁界の大きさを一
定に保ち記録情報に応じて照射レーザービームをオン・
オフあるいは強度変調させて記録させて記録を行う方式
である。この方式のうちマルチビーム方式は、２〜３個
のレーザービームを用い、磁界の方向を１回転毎に反転
させてトラック毎に記録／消去を行う擬似オーバーライ
ト方式であるが、装置構成が複雑化し、コストアップを
招くなどの欠点を有している。また、２層膜方式は光磁
気記録媒体の記録層を２層膜とし、オーバーライトを達
成しようとするもので、例えば特開昭６２−１７５９４
８号公報等に開示されている。同公報に記載されている
方式は、例えばＴｂＦｅからなる記録層とＴｂＦｅＣｏ
からなる補助層とを備えた光磁気記録媒体を用い、初期
化を行った後、外部磁界の印加とパワーの異なるレーザ
ービームの照射によりオーバーライトを実現しようとす
るものである。すなわち、この方式では、記録に先立ち
予め４ＫＯｅ程度の初期化用磁界により補助層の磁化を
一方向に揃え、高出力レーザービームを照射して媒体温
度ＴをＴ＞Ｔｃ2（Ｔｃ2は補助層のキュリー温度）なる
温度迄昇温させ、記録用磁界（初期化用磁界と反対方
向）を印加して補助層の磁化を反転させ、媒体が冷却さ
れる際にその磁化を記録層に転写させることにより記録
を行い、また、低出力レーザービームを照射して媒体温
度をＴｃ1＜Ｔ＜Ｔｃ2（Ｔｃ1は記録層のキュリー温
度）なる温度迄昇温させ、補助層の磁化方向を記録層に
転写させることにより消去を行う。しかしながら、この
方式は高速性の点で有利であるが、書き込み時のレーザ
ーパワーが高く、またオーバーライトに先立って行う初
期化の過程で非常に大きな磁界を付与しなければならな
いという問題があった。
定に保ち記録情報に応じて照射レーザービームをオン・
オフあるいは強度変調させて記録させて記録を行う方式
である。この方式のうちマルチビーム方式は、２〜３個
のレーザービームを用い、磁界の方向を１回転毎に反転
させてトラック毎に記録／消去を行う擬似オーバーライ
ト方式であるが、装置構成が複雑化し、コストアップを
招くなどの欠点を有している。また、２層膜方式は光磁
気記録媒体の記録層を２層膜とし、オーバーライトを達
成しようとするもので、例えば特開昭６２−１７５９４
８号公報等に開示されている。同公報に記載されている
方式は、例えばＴｂＦｅからなる記録層とＴｂＦｅＣｏ
からなる補助層とを備えた光磁気記録媒体を用い、初期
化を行った後、外部磁界の印加とパワーの異なるレーザ
ービームの照射によりオーバーライトを実現しようとす
るものである。すなわち、この方式では、記録に先立ち
予め４ＫＯｅ程度の初期化用磁界により補助層の磁化を
一方向に揃え、高出力レーザービームを照射して媒体温
度ＴをＴ＞Ｔｃ2（Ｔｃ2は補助層のキュリー温度）なる
温度迄昇温させ、記録用磁界（初期化用磁界と反対方
向）を印加して補助層の磁化を反転させ、媒体が冷却さ
れる際にその磁化を記録層に転写させることにより記録
を行い、また、低出力レーザービームを照射して媒体温
度をＴｃ1＜Ｔ＜Ｔｃ2（Ｔｃ1は記録層のキュリー温
度）なる温度迄昇温させ、補助層の磁化方向を記録層に
転写させることにより消去を行う。しかしながら、この
方式は高速性の点で有利であるが、書き込み時のレーザ
ーパワーが高く、またオーバーライトに先立って行う初
期化の過程で非常に大きな磁界を付与しなければならな
いという問題があった。
【０００５】以上のように、光磁気記録のオーバーライ
ト方式としていくつかの方式の提案がなされているが、
いずれも長所ばかりでなく短所を合わせ持っており、実
用化のためにはいくつのブレークスルーを重ねなければ
ならないと言われている。
ト方式としていくつかの方式の提案がなされているが、
いずれも長所ばかりでなく短所を合わせ持っており、実
用化のためにはいくつのブレークスルーを重ねなければ
ならないと言われている。
【０００６】一方、反磁界を利用したオーバーライト方
式が、前記方式と同様に提案されている〔例えば、Ｈａ
ｎ−Ｐｉｎｇ Ｄ．Ｓｈｉｅｈ ＆ Ｍａｒｋ Ｈ．Ｋ
ｒｙｄｅｒ；Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．４９，４
７３（１９８６）〕。この方式は光変調方式の一種であ
るが、単層構造であり、二層記録媒体と比べて低パワー
で書き込める可能性が高く、また初期化用の磁界を用意
する必要もないため、注目されている。
式が、前記方式と同様に提案されている〔例えば、Ｈａ
ｎ−Ｐｉｎｇ Ｄ．Ｓｈｉｅｈ ＆ Ｍａｒｋ Ｈ．Ｋ
ｒｙｄｅｒ；Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．４９，４
７３（１９８６）〕。この方式は光変調方式の一種であ
るが、単層構造であり、二層記録媒体と比べて低パワー
で書き込める可能性が高く、また初期化用の磁界を用意
する必要もないため、注目されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
反磁界を利用した方式においては、レーザー照射条件の
違いによる反磁界エネルギー、磁壁エネルギー、ゼーマ
ンエネルギーの磁壁位置での大きさの差を利用し、磁区
の生成、消滅を制御しているために、磁性膜特性あるい
はレーザー照射条件のバラツキにより、磁区すなわち信
号の消し残りあるいは不要な磁区の発生などが生じやす
いという欠点を有している。
反磁界を利用した方式においては、レーザー照射条件の
違いによる反磁界エネルギー、磁壁エネルギー、ゼーマ
ンエネルギーの磁壁位置での大きさの差を利用し、磁区
の生成、消滅を制御しているために、磁性膜特性あるい
はレーザー照射条件のバラツキにより、磁区すなわち信
号の消し残りあるいは不要な磁区の発生などが生じやす
いという欠点を有している。
【０００８】従って、本発明の目的は、単層膜光磁気記
録媒体に対して、信号の消し残りを解消し、あらかじめ
書き込まれていた信号（ＯＷ前信号と呼ぶ）によらず、
新たに書き込むべき信号（ＯＷ信号と呼ぶ）を安定に形
成するための光磁気記録方法及びそれに用いる光磁気記
録媒体を提供することにある。
録媒体に対して、信号の消し残りを解消し、あらかじめ
書き込まれていた信号（ＯＷ前信号と呼ぶ）によらず、
新たに書き込むべき信号（ＯＷ信号と呼ぶ）を安定に形
成するための光磁気記録方法及びそれに用いる光磁気記
録媒体を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、単層の垂直磁気異方性を示す磁性
膜により形成された記録層を有する光磁気記録媒体に対
して、ある一定外部磁界のもとで、２値化の信号“１”
を書き込む際には光パワーレベルＰ1にてレーザーを照
射し、２値化の信号“０”を書き込む際には光パワーレ
ベルＰｏｈの短いレーザーパルスを照射した後に光パワ
ーレベルＰｏｌのレーザーを照射することを特徴とする
オーバーライト可能な光磁気記録方法（但し、Ｐ1、Ｐ
ｏｈ、Ｐｏｌに対しては、Ｐｏｌ＜Ｐ1＜Ｐｏｈの関係
が成立する）が提供される。
め、本発明によれば、単層の垂直磁気異方性を示す磁性
膜により形成された記録層を有する光磁気記録媒体に対
して、ある一定外部磁界のもとで、２値化の信号“１”
を書き込む際には光パワーレベルＰ1にてレーザーを照
射し、２値化の信号“０”を書き込む際には光パワーレ
ベルＰｏｈの短いレーザーパルスを照射した後に光パワ
ーレベルＰｏｌのレーザーを照射することを特徴とする
オーバーライト可能な光磁気記録方法（但し、Ｐ1、Ｐ
ｏｈ、Ｐｏｌに対しては、Ｐｏｌ＜Ｐ1＜Ｐｏｈの関係
が成立する）が提供される。
【００１０】本発明方法の具体的な説明に入る前に、消
し残り磁区の発生する様子について述べる。以下信号
“１”を書き込むための光パワーレベルをＰ1、信号
“０”を書き込むための光パワーレベルをＰ0とする。
これは、例えば“Ｍ．Ｈ．Ｋｒｙｄｅｒ ＆ Ｍ．Ｄ．
Ｓｃｈｕｌｔｚ： Ｊａｐａｎｅｓｅ Ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ， ２８（１９
８９）Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ ２８−３，ｐｐ．３−
９”に記されているように、書き込みを２値のパワーレ
ベルにて制御する方法であり、後記する図２−（ｂ）に
これらの信号レベルが示されている。本発明者らの実験
によると、以下に示す４つの記録プロセスにおいて、
及びで示されるプロセスを両立させるのが、非常に困
難であることが判明した。 信号“０”上にＰｅにて信号“０”をオーバーライ
トする。 信号“０”上にＰｗにて信号“１”をオーバーライ
トする。 信号“１”上にＰｅにて信号“０”をオーバーライ
トする。 信号“１”上にＰｗにて信号“１”をオーバーライ
トする。
し残り磁区の発生する様子について述べる。以下信号
“１”を書き込むための光パワーレベルをＰ1、信号
“０”を書き込むための光パワーレベルをＰ0とする。
これは、例えば“Ｍ．Ｈ．Ｋｒｙｄｅｒ ＆ Ｍ．Ｄ．
Ｓｃｈｕｌｔｚ： Ｊａｐａｎｅｓｅ Ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ， ２８（１９
８９）Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ ２８−３，ｐｐ．３−
９”に記されているように、書き込みを２値のパワーレ
ベルにて制御する方法であり、後記する図２−（ｂ）に
これらの信号レベルが示されている。本発明者らの実験
によると、以下に示す４つの記録プロセスにおいて、
及びで示されるプロセスを両立させるのが、非常に困
難であることが判明した。 信号“０”上にＰｅにて信号“０”をオーバーライ
トする。 信号“０”上にＰｗにて信号“１”をオーバーライ
トする。 信号“１”上にＰｅにて信号“０”をオーバーライ
トする。 信号“１”上にＰｗにて信号“１”をオーバーライ
トする。
【００１１】その原因として、（１）ＯＷ前信号が図１
−（ａ）に示されるように、光磁気記録媒体１０上に、
比較的円筒状に近い磁区６として存在しているときに、
レーザービーム５を照射してこれを消滅させ“０”と書
き込む場合と、（２）図１−（ｂ）に示されるように、
ストライプ状に伸びた磁区７として存在しているとき
に、レーザービーム５を照射して磁区７の中ほどをチョ
ッピングするようなかたちで“０”を書き込む場合とで
は、書き込みに要する光パワーレベルが大きく異なるた
めである。例えば、（１）の場合に適した光パワーレベ
ルＰｏｌでは、（２）の場合のストライプ磁区をチョッ
ピングすることは困難であり、信号が消し残されてしま
う。また、（２）の場合に適した光パワーレベルＰｏｈ
では、円筒形磁区に対して磁区全体を消滅させることは
できるものの、前記記録プロセスにおいて、“０”の
上に“０”を書き込む、すなわち磁区のない部分にやは
り磁区のできないような形でレーザーを照射するという
プロセスが不安定になり、磁区が形成されてしまうとい
う現象がみられる。
−（ａ）に示されるように、光磁気記録媒体１０上に、
比較的円筒状に近い磁区６として存在しているときに、
レーザービーム５を照射してこれを消滅させ“０”と書
き込む場合と、（２）図１−（ｂ）に示されるように、
ストライプ状に伸びた磁区７として存在しているとき
に、レーザービーム５を照射して磁区７の中ほどをチョ
ッピングするようなかたちで“０”を書き込む場合とで
は、書き込みに要する光パワーレベルが大きく異なるた
めである。例えば、（１）の場合に適した光パワーレベ
ルＰｏｌでは、（２）の場合のストライプ磁区をチョッ
ピングすることは困難であり、信号が消し残されてしま
う。また、（２）の場合に適した光パワーレベルＰｏｈ
では、円筒形磁区に対して磁区全体を消滅させることは
できるものの、前記記録プロセスにおいて、“０”の
上に“０”を書き込む、すなわち磁区のない部分にやは
り磁区のできないような形でレーザーを照射するという
プロセスが不安定になり、磁区が形成されてしまうとい
う現象がみられる。
【００１２】本発明の方法は、前記のような信号の消し
残りあるいは不要な磁区の発生を抑え、安定な信号のオ
ーバーライトができるように、光パワーレベルを変調す
ることを特徴とする。以下、その方法と原理について述
べる。
残りあるいは不要な磁区の発生を抑え、安定な信号のオ
ーバーライトができるように、光パワーレベルを変調す
ることを特徴とする。以下、その方法と原理について述
べる。
【００１３】本方法においては、前記記録プロセス及
びでは、光パワーレベルＰ1にてレーザーを照射し、
前記記録プロセス及びに対しては、まず光パワーレ
ベルＰｏｈにて短いレーザーパルスを照射し、それに引
き続いて光パワーレベルＰｏｌにてレーザーを照射す
る。それぞれの光パワーレベルは図２−(ａ)に示され
る。
びでは、光パワーレベルＰ1にてレーザーを照射し、
前記記録プロセス及びに対しては、まず光パワーレ
ベルＰｏｈにて短いレーザーパルスを照射し、それに引
き続いて光パワーレベルＰｏｌにてレーザーを照射す
る。それぞれの光パワーレベルは図２−(ａ)に示され
る。
【００１４】本方法による書き込み原理を次に述べる。
信号“１”の書き込みから信号“０”の書き込みに切り
換える瞬間、すなわち図２−（ａ）中（Ａ）部におい
て、光磁気記録媒体上のレーザービームと磁区の関係
は、図３−（ａ）に示されるようになっている。そこ
で、この状態でストライプ磁区をチョッピング出来るの
に適した光パワーレベルＰｏｈのレーザービームを照射
すると、レーザービームの左側、すなわちＯＷ信号から
の反磁界が磁区を形成させない方向に働くため、磁区の
伸張は遮断され、レーザービームの右側の状態、すなわ
ちＯＷ前信号の状態にかかわらず、この位置に磁区は形
成されない〔図３−（ｂ）〕。その後、円筒形磁区の消
去に適したパワーレベルＰｏｌのレーザービームを照射
することにより〔図２−（ａ）中の（Ｂ）部〕、レーザ
ービームの左側は磁区のない状態となっているので、Ｏ
Ｗ前信号として磁区が存在していても消滅し、また磁区
が存在していない場合はそのままの状態が継続すること
になる。
信号“１”の書き込みから信号“０”の書き込みに切り
換える瞬間、すなわち図２−（ａ）中（Ａ）部におい
て、光磁気記録媒体上のレーザービームと磁区の関係
は、図３−（ａ）に示されるようになっている。そこ
で、この状態でストライプ磁区をチョッピング出来るの
に適した光パワーレベルＰｏｈのレーザービームを照射
すると、レーザービームの左側、すなわちＯＷ信号から
の反磁界が磁区を形成させない方向に働くため、磁区の
伸張は遮断され、レーザービームの右側の状態、すなわ
ちＯＷ前信号の状態にかかわらず、この位置に磁区は形
成されない〔図３−（ｂ）〕。その後、円筒形磁区の消
去に適したパワーレベルＰｏｌのレーザービームを照射
することにより〔図２−（ａ）中の（Ｂ）部〕、レーザ
ービームの左側は磁区のない状態となっているので、Ｏ
Ｗ前信号として磁区が存在していても消滅し、また磁区
が存在していない場合はそのままの状態が継続すること
になる。
【００１５】次に、本発明の方法に使用する光磁気記録
媒体について説明する。図４は本発明で用いられる光磁
気記録媒体の基本的な層構成を示す断面図で、この記録
媒体はガラス、プラスチック等からなる基板１上に、垂
直磁気異方性を示す磁性膜（すなわち垂直磁化膜）から
なる記録層２（膜厚２０〜１５０ｎｍ）を設けた構成か
らなっている。
媒体について説明する。図４は本発明で用いられる光磁
気記録媒体の基本的な層構成を示す断面図で、この記録
媒体はガラス、プラスチック等からなる基板１上に、垂
直磁気異方性を示す磁性膜（すなわち垂直磁化膜）から
なる記録層２（膜厚２０〜１５０ｎｍ）を設けた構成か
らなっている。
【００１６】記録層２には一般に光磁気記録媒体の記録
層に使用されているものと同様な磁性膜を用いることが
できるが、ＴｂＤｙＦｅＣｏ等の希土類−遷移金属非晶
質合金膜が特に好ましい。ただ、本発明の記録層におい
ては、前記磁性膜の補償温度とキュリー温度との差が１
５０℃以下、好ましくは１２０℃以下であることが要求
される。この温度差が１５０℃を越える場合には、レー
ザー照射時に、磁区形成に有利な方向（磁区消去に不利
な方向）に大きな反磁界がかかるため、以前に書き込ま
れていた磁区は消去されず、オーバーライトが不能にな
る。
層に使用されているものと同様な磁性膜を用いることが
できるが、ＴｂＤｙＦｅＣｏ等の希土類−遷移金属非晶
質合金膜が特に好ましい。ただ、本発明の記録層におい
ては、前記磁性膜の補償温度とキュリー温度との差が１
５０℃以下、好ましくは１２０℃以下であることが要求
される。この温度差が１５０℃を越える場合には、レー
ザー照射時に、磁区形成に有利な方向（磁区消去に不利
な方向）に大きな反磁界がかかるため、以前に書き込ま
れていた磁区は消去されず、オーバーライトが不能にな
る。
【００１７】なお、図４は本発明で使用される光磁気記
録媒体の最も基本的な層構成を示したものであるが、本
発明はこれに限定されるものではなく、例えば基板１と
記録層２との間に下地層３等として、あるいは記録層２
上に保護層４として、ＳｉＮ膜、ＺｎＳ膜等を設けても
よく、さらに有機系の樹脂膜等を積層してもよい。
録媒体の最も基本的な層構成を示したものであるが、本
発明はこれに限定されるものではなく、例えば基板１と
記録層２との間に下地層３等として、あるいは記録層２
上に保護層４として、ＳｉＮ膜、ＺｎＳ膜等を設けても
よく、さらに有機系の樹脂膜等を積層してもよい。
【００１８】
【実施例】次に、以上の原理を利用した実際の信号オー
バーライト方式について、実施例により詳しく説明す
る。
バーライト方式について、実施例により詳しく説明す
る。
【００１９】実施例１ ガラス基板１上にスパッタ法にてＳｉＮ層３（膜厚６０
ｎｍ）を形成し、大気にさらすことなく直接その上にＤ
ｙＦｅＣｏ層２（膜厚１００ｎｍ）、更に同様にその上
にＳｉＮ層（膜厚６０ｎｍ）４をそれぞれスパッタリン
グ法にて積層し、図５に示される構造の光磁気記録媒体
を作成した。なお、得られた記録媒体は、室温での磁化
の大きさ１６５ｅｍｕ／ｃｃ、補償温度１６０℃、キュ
リー温度２１０℃（キュリー温度と補償温度との差５０
℃）であった。
ｎｍ）を形成し、大気にさらすことなく直接その上にＤ
ｙＦｅＣｏ層２（膜厚１００ｎｍ）、更に同様にその上
にＳｉＮ層（膜厚６０ｎｍ）４をそれぞれスパッタリン
グ法にて積層し、図５に示される構造の光磁気記録媒体
を作成した。なお、得られた記録媒体は、室温での磁化
の大きさ１６５ｅｍｕ／ｃｃ、補償温度１６０℃、キュ
リー温度２１０℃（キュリー温度と補償温度との差５０
℃）であった。
【００２０】５０ Ｏｅの外部磁界を書き込みに有利な
方向に印加した状態で、あらかじめ上記光磁気記録媒体
上に形成された０．８μｍ径の円筒磁区の直上に、１０
０ｎｓｅｃのパルス幅にて光パワー強度を変化させ、レ
ーザー照射を行った場合の磁区径の変化の様子を測定し
たところ、図６の曲線ａで示される結果が得られた。こ
の図から、６〜１０ｍＷのレーザー強度において、円筒
磁区が完全に消去されることが分かる。また、この媒体
を磁気的に飽和させ、磁区のない状態からやはりレーザ
ー照射を行って、光パワー強度と磁区径の関係を測定し
たところ、図６の曲線ｂに示す通りの結果が得られた。
更に、この光磁気記録媒体にストライプ磁区を形成し、
このストライプ磁区の中ほどに同様のレーザー照射実験
を行ったところ、９〜１０ｍＷの範囲において、ストラ
イプ磁区は切断された。
方向に印加した状態で、あらかじめ上記光磁気記録媒体
上に形成された０．８μｍ径の円筒磁区の直上に、１０
０ｎｓｅｃのパルス幅にて光パワー強度を変化させ、レ
ーザー照射を行った場合の磁区径の変化の様子を測定し
たところ、図６の曲線ａで示される結果が得られた。こ
の図から、６〜１０ｍＷのレーザー強度において、円筒
磁区が完全に消去されることが分かる。また、この媒体
を磁気的に飽和させ、磁区のない状態からやはりレーザ
ー照射を行って、光パワー強度と磁区径の関係を測定し
たところ、図６の曲線ｂに示す通りの結果が得られた。
更に、この光磁気記録媒体にストライプ磁区を形成し、
このストライプ磁区の中ほどに同様のレーザー照射実験
を行ったところ、９〜１０ｍＷの範囲において、ストラ
イプ磁区は切断された。
【００２１】これらの条件をもとに、磁区長５μｍ、周
期１０μｍで媒体上にＯＷ前信号として光書き込みを行
った後、Ｐ1＝８．５ｍＷ、Ｐｏｈ＝１０ｍＷ、Ｐｏｌ
＝６ｍＷに設定し、レーザーパルス幅をそれぞれ１００
ｎｓｅｃ、媒体上でのパルス照射周期０．５μｍにて、
ＯＷ信号を書き込んだ。Ｐ1に対して６パルス、Ｐｏｈ
に対して１パルス、Ｐｏｌに対して５パルスのレーザー
照射を行ったところ、磁区長ほぼ３μｍ、周期６μｍの
ＯＷ信号が得られた。
期１０μｍで媒体上にＯＷ前信号として光書き込みを行
った後、Ｐ1＝８．５ｍＷ、Ｐｏｈ＝１０ｍＷ、Ｐｏｌ
＝６ｍＷに設定し、レーザーパルス幅をそれぞれ１００
ｎｓｅｃ、媒体上でのパルス照射周期０．５μｍにて、
ＯＷ信号を書き込んだ。Ｐ1に対して６パルス、Ｐｏｈ
に対して１パルス、Ｐｏｌに対して５パルスのレーザー
照射を行ったところ、磁区長ほぼ３μｍ、周期６μｍの
ＯＷ信号が得られた。
【００２２】実施例２〜３及び比較例１〜２ 記録層の組成を変化させて、表１に示す４種類の光磁気
記録媒体を実施例１と同様にして作成し、且つ実施例１
と同様の光磁気記録を試行したところ、実施例２及び３
の試料においては、実施例１と同様の結果が得られたも
のの、比較例１及び２の試料では記録できなかった。比
較例１及び２の試料については磁区の消去を行うことも
不可能であり、これらは単層膜光磁気記録媒体に光強度
を変調して光書き込み（オーバーライト）を行う方式に
対して不適切であることが確認された。
記録媒体を実施例１と同様にして作成し、且つ実施例１
と同様の光磁気記録を試行したところ、実施例２及び３
の試料においては、実施例１と同様の結果が得られたも
のの、比較例１及び２の試料では記録できなかった。比
較例１及び２の試料については磁区の消去を行うことも
不可能であり、これらは単層膜光磁気記録媒体に光強度
を変調して光書き込み（オーバーライト）を行う方式に
対して不適切であることが確認された。
【００２３】
【表１】
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の光磁気
記録方法によれば、前記構成としたことから、磁区の消
し残しや不要な磁区の発生等のエラーを減少させ、あら
かじめ書き込まれていた信号（ＯＷ前信号）によらず、
新たに書き込むべき信号（ＯＷ信号）を安定に形成する
ことができるので、簡単な構成で安定して効率の良い光
書き込み（オーバーライト）が可能となる。
記録方法によれば、前記構成としたことから、磁区の消
し残しや不要な磁区の発生等のエラーを減少させ、あら
かじめ書き込まれていた信号（ＯＷ前信号）によらず、
新たに書き込むべき信号（ＯＷ信号）を安定に形成する
ことができるので、簡単な構成で安定して効率の良い光
書き込み（オーバーライト）が可能となる。
【図１】従来方式により、信号“１”上に信号“０”を
書き込んだ場合の説明図である。
書き込んだ場合の説明図である。
【図２】図２−（ａ）は本発明方法による、また図２−
（ｂ）は従来方式による、オーバーライト時の光パワー
レベルを示す説明図である。
（ｂ）は従来方式による、オーバーライト時の光パワー
レベルを示す説明図である。
【図３】図３−（ａ）は信号“１”の書き込みから信号
“０”の書き込みに切り換えた瞬間（レーザービームＰ
ｏｈの照射開始時）の、また図３−（ｂ）はレーザービ
ームＰｏｈ照射完了時の、光磁気記録媒体上のレーザー
ビームと磁区との関係を示す説明図である。
“０”の書き込みに切り換えた瞬間（レーザービームＰ
ｏｈの照射開始時）の、また図３−（ｂ）はレーザービ
ームＰｏｈ照射完了時の、光磁気記録媒体上のレーザー
ビームと磁区との関係を示す説明図である。
【図４】本発明で使用する光磁気記録媒体の基本的な層
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図５】本発明で使用する光磁気記録媒体の代表的な層
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図６】実施例１で得られた光磁気記録媒体における光
パワーレベルと磁区径との関係を示すグラフである。
パワーレベルと磁区径との関係を示すグラフである。
１ 基板 ２ 記録層 ３ 下地層 ４ 保護層 ５ レーザービーム ６，７ 磁区 １０ 光磁気記録媒体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−300449（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−177040（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 11/10
Claims (1)
- 【請求項１】 単層の垂直磁気異方性を示す磁性膜によ
り形成された記録層を有する光磁気記録媒体に対して、
ある一定外部磁界のもとで、２値化の信号“１”を書き
込む際には光パワーレベルＰ1にてレーザーを照射し、
２値化の信号“０”を書き込む際には光パワーレベルＰ
ｏｈの短いレーザーパルスを照射した後に光パワーレベ
ルＰｏｌのレーザーを照射することを特徴とするオーバ
ーライト可能な光磁気記録方法（但し、Ｐ1、Ｐｏｈ、
Ｐｏｌに対しては、Ｐｏｌ＜Ｐ1＜Ｐｏｈの関係が成立
する）。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3024109A JP2972899B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 光磁気記録方法 |
| US07/825,015 US5337293A (en) | 1991-01-24 | 1992-01-24 | Magneto-optical recording method and recording medium for use in the same |
| US08/235,116 US5430696A (en) | 1991-01-24 | 1994-04-28 | Magneto-optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3024109A JP2972899B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 光磁気記録方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04330655A JPH04330655A (ja) | 1992-11-18 |
| JP2972899B2 true JP2972899B2 (ja) | 1999-11-08 |
Family
ID=12129172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3024109A Expired - Fee Related JP2972899B2 (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 光磁気記録方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5337293A (ja) |
| JP (1) | JP2972899B2 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR960015209B1 (ko) * | 1991-10-21 | 1996-11-01 | 샤프 가부시끼가이샤 | 광자기 기록 방법 및 광자기 메모리 소자 |
| JPH0684224A (ja) * | 1992-09-07 | 1994-03-25 | Hitachi Ltd | 光磁気ディスクの記録制御方法 |
| JP3259204B2 (ja) * | 1992-10-21 | 2002-02-25 | 株式会社ニコン | 光記録方法及び光記録のパルストレイン条件決定方法 |
| JPH06301978A (ja) * | 1992-10-28 | 1994-10-28 | Nikon Corp | 光記録のプリパルス条件及び熱遮断条件決定方法、 同決定装置、光記録方法及び光記録装置 |
| US5548573A (en) * | 1993-11-04 | 1996-08-20 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical information reproducing apparatus provided with laser power control means for detecting reflected light from data region |
| EP0703575B1 (en) * | 1994-09-22 | 2003-01-22 | Ricoh Company, Ltd | Information recording method and device |
| US5673249A (en) * | 1994-10-27 | 1997-09-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Phase change type optical recording apparatus and optical recording method using an overwrite system |
| DE69524543T2 (de) * | 1994-10-27 | 2002-06-27 | Toshiba Kawasaki Kk | Optisches Phasenwechselaufzeichnungsgerät und -verfahren unter Verwendung eines Überschreibsystems |
| JPH0969246A (ja) * | 1995-08-30 | 1997-03-11 | Canon Inc | 光学的情報記録再生装置 |
| WO1997014143A1 (fr) * | 1995-10-09 | 1997-04-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede et dispositif d'enregistrement d'informations optiques |
| EP0895634B1 (en) * | 1997-02-14 | 2005-02-16 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and device for writing an optical record carrier |
| JP4040152B2 (ja) * | 1997-12-17 | 2008-01-30 | ソニー株式会社 | 光情報記録装置、光情報記録方法、光情報記録媒体及び光ディスク製造方法 |
| AU2002241918B2 (en) * | 2001-01-16 | 2007-01-18 | Gr Intellectual Reserve, Llc | Enhanced data storage and retrieval devices and systems and methods for utilizing the same |
| AU2003303150A1 (en) * | 2002-11-21 | 2004-07-14 | Berkshire Laboratories, Inc. | Enhanced data storage and retrieval devices and systems and methods for utilizing same |
| US6939654B2 (en) * | 2002-12-06 | 2005-09-06 | Ricoh Company, Ltd. | Carrier and developer for developing latent electrostatic images |
| US7245430B2 (en) * | 2003-04-21 | 2007-07-17 | Ricoh Company, Ltd. | Method and apparatus for displaying three-dimensional stereo image using light deflector |
| JP4484785B2 (ja) * | 2005-08-09 | 2010-06-16 | ソニー株式会社 | 記録方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2579631B2 (ja) * | 1986-03-27 | 1997-02-05 | キヤノン株式会社 | 光磁気記録方法 |
| US5014252A (en) * | 1986-10-08 | 1991-05-07 | Nikon Corporation | Over write capable magnetooptical recording method using two beams, and magnetooptical recording apparatus therefor |
| JP2754537B2 (ja) * | 1987-05-18 | 1998-05-20 | 株式会社ニコン | 光磁気記録媒体並びにそれを使用したビット形成方法 |
| JPH0250336A (ja) * | 1988-08-11 | 1990-02-20 | Nikon Corp | 兼用可能なオーバーライト型光磁気記録装置 |
-
1991
- 1991-01-24 JP JP3024109A patent/JP2972899B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-01-24 US US07/825,015 patent/US5337293A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-04-28 US US08/235,116 patent/US5430696A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04330655A (ja) | 1992-11-18 |
| US5337293A (en) | 1994-08-09 |
| US5430696A (en) | 1995-07-04 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |