JPH06251977A - 磁気ヘッド用軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方法 - Google Patents
磁気ヘッド用軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方法Info
- Publication number
- JPH06251977A JPH06251977A JP3508493A JP3508493A JPH06251977A JP H06251977 A JPH06251977 A JP H06251977A JP 3508493 A JP3508493 A JP 3508493A JP 3508493 A JP3508493 A JP 3508493A JP H06251977 A JPH06251977 A JP H06251977A
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- thin film
- alloy thin
- soft magnetic
- tablet
- magnetic head
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/14—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing iron or nickel
- H01F10/142—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing iron or nickel containing Si
- H01F10/145—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing iron or nickel containing Si containing Al, e.g. SENDUST
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 良好な特性を有する軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金
薄膜の提供。 【構成】 電子ビーム蒸着法を用いた磁気ヘッド用軟磁
性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方法において、ＦｅＡｌ
Ｓｉ合金からなる蒸発材料のタブレット比重（ａ）が
６．１４〜６．１７であり、かつ、該蒸発材料のタブレ
ットの比重（ａ）と重量（ｂ）の間に、ｂ＝−（６００
〜８００）×ａ＋ｃ（ｃは定数）の関係が成り立つよう
に調整された該蒸発材料のタブレットを用いる。
薄膜の提供。 【構成】 電子ビーム蒸着法を用いた磁気ヘッド用軟磁
性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方法において、ＦｅＡｌ
Ｓｉ合金からなる蒸発材料のタブレット比重（ａ）が
６．１４〜６．１７であり、かつ、該蒸発材料のタブレ
ットの比重（ａ）と重量（ｂ）の間に、ｂ＝−（６００
〜８００）×ａ＋ｃ（ｃは定数）の関係が成り立つよう
に調整された該蒸発材料のタブレットを用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度磁気記録再生用
の、磁気ヘッド用軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方
法に関するものである。
の、磁気ヘッド用軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化にともな
いメタルテープのような高保磁力媒体が主流となってき
ている。このため磁気ヘッドに使用されるコア材料も高
い飽和磁束密度を有するものが要求されている。そこ
で、例えば図４に示すような高い飽和磁束密度を有する
軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜１を、非磁性材料からなる
基板２上に設けた構成の薄膜磁気ヘッドＭが知られてい
る。３は、磁気ヘッドコア接合用の低融点ガラスであ
る。
いメタルテープのような高保磁力媒体が主流となってき
ている。このため磁気ヘッドに使用されるコア材料も高
い飽和磁束密度を有するものが要求されている。そこ
で、例えば図４に示すような高い飽和磁束密度を有する
軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜１を、非磁性材料からなる
基板２上に設けた構成の薄膜磁気ヘッドＭが知られてい
る。３は、磁気ヘッドコア接合用の低融点ガラスであ
る。
【０００３】上記のような磁気ヘッド用軟磁性ＦｅＡｌ
Ｓｉ合金薄膜の形成方法においては、高い真空度で高純
度の膜を形成するため、優れた軟磁気特性を得られやす
い電子ビーム蒸着法が用いられている。
Ｓｉ合金薄膜の形成方法においては、高い真空度で高純
度の膜を形成するため、優れた軟磁気特性を得られやす
い電子ビーム蒸着法が用いられている。
【０００４】図５は、従来より使用されている電子ビー
ム蒸着装置Ｄの概要を示したものである。フィラメント
４からでた電子ビーム５が蒸発材料のタブレット６を加
熱蒸発させることによって蒸発源の上方に配置した被成
膜物８に薄膜を形成する。なお、その際真空槽７内は、
圧力１×１０-6Ｔｏｒｒ以下まで排気される。この際図
６に示すように比重６．１４〜６．１７でタブレット６
は、一定重量のものを用いていた。
ム蒸着装置Ｄの概要を示したものである。フィラメント
４からでた電子ビーム５が蒸発材料のタブレット６を加
熱蒸発させることによって蒸発源の上方に配置した被成
膜物８に薄膜を形成する。なお、その際真空槽７内は、
圧力１×１０-6Ｔｏｒｒ以下まで排気される。この際図
６に示すように比重６．１４〜６．１７でタブレット６
は、一定重量のものを用いていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ＦｅＡｌＳｉ合金は、
Ｆｅ：Ａｌ：Ｓｉ＝８５．４±０．５：５．４±０．
５：９．６±０．５（ｗｔ％）の非常に狭い組成領域に
おいて優れた軟磁気特性を示すことが知られている。Ｆ
ｅＡｌＳｉ合金を電子ビームによって蒸着する場合、合
金成分の各元素の蒸気圧の差に注意する必要がある。
Ｆｅ：Ａｌ：Ｓｉ＝８５．４±０．５：５．４±０．
５：９．６±０．５（ｗｔ％）の非常に狭い組成領域に
おいて優れた軟磁気特性を示すことが知られている。Ｆ
ｅＡｌＳｉ合金を電子ビームによって蒸着する場合、合
金成分の各元素の蒸気圧の差に注意する必要がある。
【０００６】図７に示すプロセスで電子ビームのパワー
を上げて行った場合、合金成分はＡｌ＞Ｆｅ＞Ｓｉの順
で蒸発しやすいため、合金中のアルミニウム成分に注目
すると、図８に示すように、加熱当初の蒸気はアルミニ
ウム過剰となり、徐々にアルミニウム濃度が減少する。
このような、アルミニウムの優先蒸発によって一定時間
後には、蒸発源表面のアルミニウム濃度が低下し、蒸発
源表面の比重が底部の比重よりも重くなり、蒸発源内で
対流現象が起こる。これによって、再び蒸発源表面のア
ルミニウム濃度が増加し、それによって蒸気のアルミニ
ウム濃度が再び増加しピーク（Ａ点）を経た後に再び減
少する。このプロセス内で適当な時刻にシャッターの開
閉を行い、蒸着された合金薄膜全体の組成が前記の合金
組成になるようにする必要がある。しかし、実際の薄膜
磁気ヘッドの製造を行う場合は、薄膜磁気ヘッドのトラ
ック幅に制限があるため、ＦｅＡｌＳｉ膜の一層膜厚を
一定にする必要がある。そのため、成膜する際の、シャ
ッターを開けて素子に膜をつける時間を一定にする必要
がある。
を上げて行った場合、合金成分はＡｌ＞Ｆｅ＞Ｓｉの順
で蒸発しやすいため、合金中のアルミニウム成分に注目
すると、図８に示すように、加熱当初の蒸気はアルミニ
ウム過剰となり、徐々にアルミニウム濃度が減少する。
このような、アルミニウムの優先蒸発によって一定時間
後には、蒸発源表面のアルミニウム濃度が低下し、蒸発
源表面の比重が底部の比重よりも重くなり、蒸発源内で
対流現象が起こる。これによって、再び蒸発源表面のア
ルミニウム濃度が増加し、それによって蒸気のアルミニ
ウム濃度が再び増加しピーク（Ａ点）を経た後に再び減
少する。このプロセス内で適当な時刻にシャッターの開
閉を行い、蒸着された合金薄膜全体の組成が前記の合金
組成になるようにする必要がある。しかし、実際の薄膜
磁気ヘッドの製造を行う場合は、薄膜磁気ヘッドのトラ
ック幅に制限があるため、ＦｅＡｌＳｉ膜の一層膜厚を
一定にする必要がある。そのため、成膜する際の、シャ
ッターを開けて素子に膜をつける時間を一定にする必要
がある。
【０００７】しかし、上記の蒸発元素の蒸気組成の変動
の様子が成膜ロット毎に大きく変わってしまい、同じ時
刻にシャッターの開閉を行って成膜する場合、できあが
ったＦｅＡｌＳｉ膜の組成に大きなバラツキが出てしま
い、得られた磁気ヘッドの特性に大きなバラツキがでて
しまうという問題があった。
の様子が成膜ロット毎に大きく変わってしまい、同じ時
刻にシャッターの開閉を行って成膜する場合、できあが
ったＦｅＡｌＳｉ膜の組成に大きなバラツキが出てしま
い、得られた磁気ヘッドの特性に大きなバラツキがでて
しまうという問題があった。
【０００８】そこで、良好な特性を有する軟磁性ＦｅＡ
ｌＳｉ合金薄膜を再現性良く形成する方法が望まれてい
る。
ｌＳｉ合金薄膜を再現性良く形成する方法が望まれてい
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記問題を
解決するために、電子ビーム蒸着法を用いた磁気ヘッド
用軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方法において、Ｆ
ｅＡｌＳｉ合金からなる蒸発材料のタブレット比重
（ａ）が６．１４〜６．１７であり、かつ、該蒸発材料
のタブレットの比重（ａ）と重量（ｂ）の間に、ｂ＝−
（６００〜８００）×ａ＋ｃ（ｃは定数）の関係が成り
立つように調整された該蒸発材料のタブレットを用いて
ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成を行った。
解決するために、電子ビーム蒸着法を用いた磁気ヘッド
用軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方法において、Ｆ
ｅＡｌＳｉ合金からなる蒸発材料のタブレット比重
（ａ）が６．１４〜６．１７であり、かつ、該蒸発材料
のタブレットの比重（ａ）と重量（ｂ）の間に、ｂ＝−
（６００〜８００）×ａ＋ｃ（ｃは定数）の関係が成り
立つように調整された該蒸発材料のタブレットを用いて
ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成を行った。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図を参照して説明す
る。
る。
【００１１】本発明のＦｅＡｌＳｉ軟磁性薄膜の形成
は、図５に示したような構成の従来より知られている電
子ビーム蒸着装置Ｄを用いて行う。合金薄膜の形成はフ
ィラメント４からでた電子ビーム５が蒸発物質のタブレ
ット６を加熱蒸発させることによって蒸発源の上方に配
置した被成膜物８に薄膜を形成する。真空槽７内は、圧
力１×１０-6Ｔｏｒｒ以下まで排気される。
は、図５に示したような構成の従来より知られている電
子ビーム蒸着装置Ｄを用いて行う。合金薄膜の形成はフ
ィラメント４からでた電子ビーム５が蒸発物質のタブレ
ット６を加熱蒸発させることによって蒸発源の上方に配
置した被成膜物８に薄膜を形成する。真空槽７内は、圧
力１×１０-6Ｔｏｒｒ以下まで排気される。
【００１２】図１は、同一重量（１００ｇ）のＦｅＡｌ
Ｓｉ合金からなる蒸発材料のタブレットを用いた場合
の、該タブレット比重と図８の（Ａ）点までの時間の関
係を示すものである。タブレット比重と（Ａ）点までの
時間との間には、傾き８０〜１０５の比例関係が成り立
っている。ここで、小数点３桁までタブレット比重を制
御できれば、（Ａ）点の時刻は一定となるが、制御は非
常に困難である。
Ｓｉ合金からなる蒸発材料のタブレットを用いた場合
の、該タブレット比重と図８の（Ａ）点までの時間の関
係を示すものである。タブレット比重と（Ａ）点までの
時間との間には、傾き８０〜１０５の比例関係が成り立
っている。ここで、小数点３桁までタブレット比重を制
御できれば、（Ａ）点の時刻は一定となるが、制御は非
常に困難である。
【００１３】また、図２は、同一比重（６．１５５）の
タブレットを用いた場合の、タブレット重量と（Ａ）点
までの時間の関係を示すものである。タブレット重量と
（Ａ）点までの時間との間には、傾き０．１３〜０．１
５の比例関係が成り立っている。
タブレットを用いた場合の、タブレット重量と（Ａ）点
までの時間の関係を示すものである。タブレット重量と
（Ａ）点までの時間との間には、傾き０．１３〜０．１
５の比例関係が成り立っている。
【００１４】これより、図３に示すように（Ａ）点の時
刻を一定にするには、タブレットの比重（ａ）と重量
（ｂ）と間に、ｂ＝−（６００〜８００）×ａ＋ｃ（ｃ
は定数）の関係が成り立っていればよいことがわかる。
この関係が成り立っているタブレットを用いて蒸着する
場合は、最良の軟磁気特性が現れる時刻にシャッターが
開き基板にＦｅＡｌＳｉ合金薄膜が形成されるように一
度設定すれば、特性のバラツキなく、一定の膜厚の優れ
た軟磁気特性をもつＦｅＡｌＳｉ合金薄膜を得ることが
できる。
刻を一定にするには、タブレットの比重（ａ）と重量
（ｂ）と間に、ｂ＝−（６００〜８００）×ａ＋ｃ（ｃ
は定数）の関係が成り立っていればよいことがわかる。
この関係が成り立っているタブレットを用いて蒸着する
場合は、最良の軟磁気特性が現れる時刻にシャッターが
開き基板にＦｅＡｌＳｉ合金薄膜が形成されるように一
度設定すれば、特性のバラツキなく、一定の膜厚の優れ
た軟磁気特性をもつＦｅＡｌＳｉ合金薄膜を得ることが
できる。
【００１５】このようにして得られたＦｅＡｌＳｉ合金
薄膜を用いて図４のような薄膜磁気ヘッドＭを製造する
ことにより、優れた特性を有する磁気ヘッドを得ること
が可能となる。
薄膜を用いて図４のような薄膜磁気ヘッドＭを製造する
ことにより、優れた特性を有する磁気ヘッドを得ること
が可能となる。
【００１６】
【発明の効果】本発明により、良好な特性を有する軟磁
性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜が再現性良く形成することがで
きるため、軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜を用いた薄膜磁
気ヘッドが、高い量産性・歩留まりで特性のバラツキな
く製造することが可能となる。
性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜が再現性良く形成することがで
きるため、軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜を用いた薄膜磁
気ヘッドが、高い量産性・歩留まりで特性のバラツキな
く製造することが可能となる。
【図１】本発明で使用するタブレット比重とＡｌの
（Ａ）点までの時間の関係を示す。
（Ａ）点までの時間の関係を示す。
【図２】本発明で使用するタブレット重量と（Ａ）点ま
での時間の関係を示す。
での時間の関係を示す。
【図３】本発明で使用するタブレットの比重（ａ）と重
量（ｂ）の関係を示す。
量（ｂ）の関係を示す。
【図４】本発明方法による薄膜磁気ヘッドを示す。
【図５】電子ビーム蒸着装置を示す。
【図６】本発明で使用するタブレットの比重と重量の関
係を示す。
係を示す。
【図７】本発明で電子ビームのパワーを上げて行くプロ
セスを示す。
セスを示す。
【図８】本発明の蒸着プロセスにおける、蒸発材料中の
アルミニウムの濃度の変化を示す。
アルミニウムの濃度の変化を示す。
１、 軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜 ２、 非磁性材料からなる基板 ３、 低融点ガラス ６、 蒸発材料のタブレット、 Ｄ、 電子ビーム蒸着装置 Ｍ， 薄膜磁気ヘッド
Claims (1)
- 【請求項１】 電子ビーム蒸着法を用いた磁気ヘッド用
軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方法において、Ｆｅ
ＡｌＳｉ合金からなる蒸発材料のタブレット比重（ａ）
が６．１４〜６．１７であり、かつ、該蒸発材料のタブ
レットの比重（ａ）と重量（ｂ）の間に、ｂ＝−（６０
０〜８００）×ａ＋ｃ（ｃは定数）の関係が成り立つよ
うに調整された該蒸発材料のタブレットを用いることを
特徴とする磁気ヘッド用軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3508493A JPH06251977A (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | 磁気ヘッド用軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3508493A JPH06251977A (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | 磁気ヘッド用軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06251977A true JPH06251977A (ja) | 1994-09-09 |
Family
ID=12432110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3508493A Pending JPH06251977A (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | 磁気ヘッド用軟磁性ＦｅＡｌＳｉ合金薄膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06251977A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08241813A (ja) * | 1995-01-16 | 1996-09-17 | Lg Electron Inc | 磁気ヘッド用軟磁性薄膜材料 |
-
1993
- 1993-02-24 JP JP3508493A patent/JPH06251977A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08241813A (ja) * | 1995-01-16 | 1996-09-17 | Lg Electron Inc | 磁気ヘッド用軟磁性薄膜材料 |
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