JPH0625147B2 - アミノ酸誘導体、その製造法およびそれを含有する医薬組成物 - Google Patents

アミノ酸誘導体、その製造法およびそれを含有する医薬組成物

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JPH0625147B2
JPH0625147B2 JP63153041A JP15304188A JPH0625147B2 JP H0625147 B2 JPH0625147 B2 JP H0625147B2 JP 63153041 A JP63153041 A JP 63153041A JP 15304188 A JP15304188 A JP 15304188A JP H0625147 B2 JPH0625147 B2 JP H0625147B2
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宏 丸澤
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、レニン阻害活性を有する新規なアミノ酸誘
導体に関するものであり、医療の分野で利用される。
[従来の技術] これまで、レニン阻害活性を有するペプチド化合物とし
て、特公昭62-13360号公報、特開昭61-33153号公報、特
開昭61-236770号公報、特開昭62-234052号公報他多数報
告されており、今なお、特に経口投与可能なレニン阻害
剤の開発が続けられている。
[問題点を解決するための手段] この発明の目的とするアミノ酸誘導体は新規であり、下
記一般式[I]で示すことができる。
[式中、Rはアシル基、ヒドロキシ基、低級アルコキ
シ基、アリール基、低級アルキルチオ基および式 [式中、Rは水素またはアシル基、Rは水素または
低級アルキル基をそれぞれ意味する)で示される基より
なる群から選択された置換基で置換されていてもよい低
級アルキル基;アリール基;または低級アルキル基およ
びアシル基よりなる群から選択された置換基で置換され
ていてもよいアミノ基; Rは水素または低級アルキル基を意味するか、または RおよびRは隣接する窒素原子と一緒になって、低
級アルキル基、ヒドロキシ(低級)アルキル基、低級ア
ルコキシ(低級)アルキル基、アシル(低級)アルキル
基、オキソ基およびアシル基よりなる群から選択された
置換基で置換されていてもよい複素環基を形成する、 Rは水素または低級アルキル基、 Rは低級アルキル基を意味する] 目的化合物[I]またはその塩は下記反応式で説明され
る製造法によって製造することができるが、目的化合物
[I]の製造法は下記製造法のみに限定されるものでは
ない。
製造法1 第1工程 第2工程 第3工程 製造法2 [式中、RはN−保護基、 Rは水素またはN−保護基、 Aは低級アルキレン基を意味し、 R、R、R、RおよびRは前と同じ意味であ
る] この明細書の記載において、この発明の範囲内に包含さ
れる種々の定義の好適な例を以下詳細に述べる。
「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜7個
を有する基を意味するものとする。
好適な「低級アルキル基」としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三級
ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、メチルヘ
キシル、ヘプチル等のような直鎖または分枝鎖アルキル
基が挙げられる。
好適な「アシル基」および「アシル(低級)アルキル
基」の好適な「アシル」部分としては、式 11−CO−およびR11−SO− [式中、RおよびR10はそれぞれ水素;アリール基;
シクロ(低級)アルキル基;複素環基;または低級アル
コキシカルボニル基、低級アルコキシ基、アリール基お
よび複素環基よりなる群から選択された置換基で置換さ
れていてもよい低級アルキル基を意味するか、または RおよびR10は隣接する窒素原子と一緒になって、低
級アルキル基で置換されていてもよい複素環基を形成す
る、 R11はアリール基;シクロ(低級)アルキル基;低級ア
ルコキシ基およびモノまたはジ(低級)アルキルアミノ
基よりなる群から選択された置換基で置換されていても
よい低級アルキル基;または低級アルカノイル基および
アリール基よりなる群から選択された置換基で置換され
ていてもよい低級アルコキシ基を意味する]で示される
基、アミノ基が保護されていてもよいアミノ酸残基等が
挙げられる。
好適な「アリール基」としては、フェニル、ナフチル、
トリル、キシリル、メシチル、クメニル等の基が挙げら
れ、それらの中で好ましいものはフェニル基である。
好適な「シクロ(低級)アルキル基」としてはシクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル等の基が挙げられる。
およびR10の好適な「複素環基」ならびにRおよ
びR10の低級アルキル基の置換基としての好適な「複素
環基」としては、窒素原子、酸素原子またはイオウ原子
のようなヘテロ原子少なくとも1個を含む飽和または不
飽和単環式または多環式複素環基、好ましくはN,Oお
よび/またはS含有5員または6員複素環基が挙げら
れ、それらの中で最も好ましいものはモルホリノ基、ピ
リジル基およびチアゾリル基である。
好適な「低級アルコキシ基」および「低級アルコキシカ
ルボニル基」の好適な「低級アルコキシ」部分として
は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、イソブトキシ、第三級ブトキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ等のような直鎖または分枝鎖
アルコキシ基が挙げられ、それらの中でさらに好ましい
ものとしてはC−Cアルコキシ基が挙げられる。
、R10および隣接する窒素原子によって形成される
好適な「複素環基」としては、モルホリノ、チオモルホ
リノ、その1−オキシドまたは1,1−ジオキシド、ピロ
リジン−1−イル、ピラゾリジン−1−イル、ピペリジ
ノ、ピペラジン−1−イル、ピロリン−1−イル、チア
ゾリジン−3−イル、その1−オキシドまたは1,1−ジ
オキシド、オキサゾリジン−3−イル、ペルヒドロピリ
ダジン−1−イル、1,4−ジヒドロピリジン−1−イ
ル、1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−イル、1,2,
3,4−テトラヒドロイソキノリン−2−イル、1,2,3,4−
テトラヒドロキノリン−1−イル、ヘキサメチレンイミ
ノ、1,4−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン−4−イル等
が挙げられる。
好適な「モノ−またはジ(低級)アルキルアミノ基」と
しては、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミ
ノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソブチルア
ミノ、ジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、メチルイ
ソプロピルアミノ、ジエチルアミノ等の基が挙げられ
る。
好適な「低級アルカノイル基」としては、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレ
リル、イソバレリル、ピバロイル、4−メチルバレリル
等の基が挙げられる。
好適な「アミノ基が保護されていてもよいアミノ酸残
基」としては、グリシル、アラニル、β−アラニル、バ
リル、ロイシル、イソロイシル、ヒスチジル、プロリ
ル、セリル、スレオニル、シスチル、フェニルアラニ
ル、アスパルチル、グルタミル、トリプトフィル等の残
基で、それらの残基の各アミノ基は後記のようなN−保
護基によって保護されていてもよい。
前記アシル基のより好ましい例としては、例えばホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、4−メチル
バレリル等の低級アルカノイル基、例えばメチルアミノ
アセチル、メチルアミノプロピオニル、ジメチルアミノ
ブチリル等のモノ−またはジ(低級)アルキルアミノ
(低級)アルカノイル基、例えばメトキシアセチル、メ
トキシプロピオニル、エトキシプロピオニル等の低級ア
ルコキシ(低級)アルカノイル基、例えばベンゾイル、
トルオイル等のアロイル基、例えばシクロプロピルカル
ボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカル
ボニル、シクロヘキシルカルボニル等のシクロ(低級)
アルキルカルボニル基、例えばグリシル、ベンゾイルグ
リシル、第三級ブトキシカルボニルグリシル、第三級ブ
トキシカルボニルロイシル、アセチルロイシル、第三級
ブトキシカルボニルヒスチジル等のアミノ基が保護され
ていてもよいアミノ酸残基、カルバモイル基、例えばメ
チルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピルカル
バモイル、イソプロピルカルバモイル、ブチルカルバモ
イル、ペンチルカルバモイル、イソブチルカルバモイ
ル、第三級ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイ
ル、ジエチルカルバモイル、メチルエチルカルバモイ
ル、メチルイソプロピルカルバモイル、メチルイソブチ
ルカルバモイル等のモノ−またはジ(低級)アルキルカ
ルバモイル基、例えばピコリルカルバモイル、ピリジル
エチルカルバモイル、チアゾリルメチルカルバモイル、
モルホリノメチルカルバモイル、モルホリノエチルカル
バモイル等の複素環(低級)アルキルカルバモイル基、
例えばN−ピコリル−N−メチルカルバモイル、N−ピ
リジルエチル−N−メチルカルバモイル、N−モルホリ
ノメチル−N−エチルカルバモイル、N−モルホリノエ
チル−N−メチルカルバモイル等のN−複素環(低級)
アルキル−N−低級アルキルカルバモイル基、例えばベ
ンジルカルバモイル、フェネチルカルバモイル、ベンズ
ヒドリルカルバモイル等のアル(低級)アルキルカルバ
モイル基、例えばN−ベンジル−N−メチルカルバモイ
ル、N−フェネチル−N−メチルカルバモイル、N−フ
ェネチル−N−エチルカルバモイル等のN−アル(低
級)アルキル−N−低級アルキルカルバモイル基、例え
ばN−フェニル−N−メチルカルバモイル等のN−アリ
ール−N−低級アルキルカルバモイル基、例えばメトキ
シカルボニルメチルカルバモイル、エトキシカルボニル
メチルカルバモイル、エトキシカルボニルエチルカルバ
モイル等の低級アルコキシカルボニル(低級)アルキル
カルバモイル基、例えばメトキシメチルカルバモイル、
メオキシエチルカルバモイル、エトキシプロピルカルバ
モイル等の低級アルコキシ(低級)アルキルカルバモイ
ル基、例えばベンゾイルカルバモイル、トルオイルカル
バモイル等のアロイルカルバモイル基、例えばピリジル
カルバモイル、モルホリノカルバモイル、チアゾリルカ
ルバモイル等の複素環カルバモイル基、例えばN−ピリ
ジル−N−メチルカルバモイル、N−チアゾリル−N−
メチルカルバモイル等のN−複素環−N−低級アルキル
カルバモイル基、複素環カルボニル基、より好ましくは
例えばモルホリノカルボニル、チオモルホリノカルボニ
ル、ピペリジノカルボニル、4−メチル−1−ピペラジ
ニルカルボニル、1,2,3,6−テトラヒドロ−1−ピリジ
ルカルボニル等の、低級アルキル基で置換されていても
よいN−含有複素環−N−イルカルボニル基、例えばメ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル、イソブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボ
ニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカル
ボニル等の低級アルコキシカルボニル基、例えばヨード
エトキシカルボニル、ジクロロエトキシカルボニル、ト
リクロロエオキシカルボニル、トリフルオロメトキシカ
ルボニル等のモノ−(またはジまたはトリ)ハロ(低
級)アルコキシカルボニル基、例えばヒドロキシメトキ
シカルボニル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基、ヒ
ドロキシピロポキシカルボニル基、ヒドロキシブトキシ
カルボニル基等のヒドロキシ(低級)アルコキシカルボ
ニル基、例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチル
オキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、トリチルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシ
カルボニル等のアル(低級)アルコキシカルボニル基、
例えばビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
ル等の低級アルケニルオキシカルボニル基、例えばアセ
チルメトキシカルボニル、プロピオニルメトキシカルボ
ニル、アセチルエトキシカルボニル等の低級アルカノイ
ル(低級)アルコキシカルボニル基、例えばメシル、エ
チルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルス
ルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、
第三級ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシ
ルスルホニル等の低級アルキルスルホニル基、例えばフ
ェニルスルホニル、トシル等のアリールスルホニル基等
が挙げられる。
好適な「低級アルキルチオ基」としては、メチルチオ、
エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチル
チオ、イソブチルチオ、第三級ブチルチオ、ペンチルチ
オ、ヘキシルチオ等のような直鎖または分枝鎖アルキル
チオ基が挙げられ、それらの中でさらに好ましいものと
してはC−Cアルキルチオ基が挙げられる。
、Rおよび隣接する窒素原子によって形成される
好適な「複素環基」については、前に例示したようなR
、R10および隣接する窒素原子によって形成された複
素環基を参照すればよい。
好適な「ヒドロキシ(低級)アルキル基」としては、ヒ
ドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ル、ヒドロキシイソプロピル、ヒドロキシブチル等が挙
げられる。
好適な「低級アルコキシ(低級)アルキル基」として
は、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチ
ル、エトキシエチル、メトキシプロピル等が挙げられ
る。
好適な「N−保護基」としては、例えばホルミル、アセ
チル、プロピオニル、トリフルオロアセチル等の置換さ
れたまたは非置換低級アルカノイル基、フタロイル基、
例えば第三級ブトキシカルボニル、第三級アミルオキシ
カルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、例えばベ
ンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル等の置換されたまたは非置換アラルコキシカル
ボニル基、例えばベンゼンスルホニル、トシル等の置換
されたまたは非置換アレーンスルホニル基、ニトロフェ
ニルフェニル基、例えばトリチル、ベンジル等のアラル
キル基等が挙げられる。
好適な「低級アルキレン基」としては、メチレン、エチ
レン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン、ヘキサメチレン、プロピレン、メチルメチレン、エ
チルメチレン、プロピルメチレン等のような直鎖または
分枝鎖アルキレン基が挙げられ、それらの中でさらに好
ましいものとしてはC−Cアルキレン基、最も好ま
しいものとしてはメチレン、エチレン、トリメチレン、
テトラメチレンおよびメチルメチレンが挙げられる。
目的化合物[I]の好適な医薬として許容される塩類は
常用の無毒性塩類であり、例えばギ酸塩、酢酸塩、トリ
フルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸
塩等の有機酸付加塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫
酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、例えばアスパラギン酸
塩、グルタミン酸塩等のアミノ酸との塩等が挙げられ
る。
目的化合物[I]の製造法を以下詳細に説明する。
製造法1 第1工程 化合物[IV]またはその塩は、化合物[II]もしくはカ
ルボキシ基におけるその反応性誘導体またはそれらの塩
を、化合物[III]もしくはアミノ基におけるその反応
性誘導体またはそれらの塩と反応させることにより製造
することができる。
化合物[IV]の好適な塩類は、化合物[I]について例
示したものを参照すればよい。
化合物[II]のカルボキシ基における好適な反応性誘導
体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミ
ド、活性化エステル等が挙げられる。それらの反応性誘
導体の好適な例としては酸塩化物;酸アジド;例えばジ
アルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベン
ジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換された燐酸、ジアル
キル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、例えばメタンス
ルホン酸等のスルホン酸、例えば酢酸、プロピオン酸、
酪酸、イソ酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタ
ン酸、2−エチル酪酸、トリクロロ酢酸等の脂肪族カル
ボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボン酸のよ
うな酸との混合酸無水物;対称酸無水物;イミダゾー
ル、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリ
アゾールまたテトラゾールとの活性化アミド;または例
えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、
ジメチルイミノメチル エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、p
−ニトロフェニルエステル、2,4−ジニトロフェニルエ
ステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフ
ェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルア
ゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニト
ロフェニルチオエステル、p−クレジルチオエステル、
カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピ
リジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリルチ
オエステル等の活性化エステル、または例えばN,N−ジ
メチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−(1
H)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−
ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−1H−ベン
ゾトリアゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのエステル
等が挙げられる。これらの反応性誘導体は使用すべき化
合物[II]の種類によってそれらの中から任意に選択す
ることができる。
化合物[II]およびその反応性誘導体の好適な塩類とし
ては、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金
属塩、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカ
リ土類金属塩、アンモニウム塩、例えばトリメチルアミ
ン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、
ジシクロヘキシルアミン塩、N,N′−ジベンジルエチレ
ンジアミン塩等の有機塩基塩等のような塩基塩、および
化合物[I]について例示したような酸付加塩が挙げら
れる。
化合物[III]のアミノ基における好適な反応性誘導体
としては、化合物[III]とアルデヒド、ケトン等のよ
うなカルボニル化合物との反応によって生成するシッフ
の塩基型イミノ基またはそのエナミン型互変異性体;化
合物[III]とビス(トリメチルシリル)アセトアミ
ド、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(ト
リメチルシリル)尿素等のようなシリル化合物との反応
によって生成するシリル誘導体;化合物[III]と三塩
化燐、ホスゲンとの反応によって生成する誘導体等が挙
げられる。
化合物[III]およびその反応性誘導体の好適な塩類
は、化合物[I]について例示したような塩類を参照す
ればよい。
反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、
ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる有機溶
媒中でも反応を行うことができる。これらの常用の溶媒
は水との混合物として使用してもよい。
この反応において化合物[II]を遊離酸の形またはその
塩の形で使用する場合には、N,N′−ジシクロヘキシル
カルボジイミド;N−シクロヘキシル−N′−モルホリ
ノエチルカルボジイミド;N−シクロヘキシル−N′−
(4−ジエチルアミノシクロヘキシル)カルボジイミ
ド;N,N′−ジエチルカルボジイミド;N,N′−ジイソプ
ロピルカルボジイミド;N−エチル−N′−(3−ジメ
チルアミノプロピル)カルボジイミド;N,N′−カルボ
ニルビス−(2−メチルイミダゾール);ペンタメチレ
ンケテン−N−シクロヘキシルイミン;ジフェニルケテ
ン−N−シクロヘキシルイミン;エトキシアセチレン;
1−アルコキシ−1−クロロエチレン;亜燐酸トリアル
キル;ポリ燐酸エチル;ポリ燐酸イソプロピル;オキシ
塩化燐(塩化ホスホリル);三塩化燐;ジフェニルアジ
化ホスホリル;塩化チオニル;塩化オキザリル;例えば
クロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプロピル等のハロギ
酸低級アルキル;トリフェニルホスフィン;2−エチル
−7−ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩;2−エ
チル−5−(m−スルホフェニル)イソオキサゾリウム
ヒドロキシド分子内塩;1−(p−クロロベンゼンスル
ホニルオキシ)−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾー
ル;N,N−ジメチルホルムアミドと塩化チオニル、ホス
ゲン、クロロギ酸トリクロロメチル、オキシ塩化燐等と
の反応によって調製したいわゆるビルスマイヤー試薬等
のような慣用の縮合剤の存在下に反応を行うのが好まし
い。
反応はまた、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)ア
ルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモルホ
リン、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等のよ
うな無機塩基または有機塩基の存在下に行ってもよい。
反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
第2工程 化合物[V]またはその塩は、化合物[IV]またはその
塩をN−保護基の脱離反応に付すことにより製造するこ
とができる。
化合物[V]の好適な塩類については化合物[I]につ
いて例示したものを参照すればよい。
この反応は加水分解、還元等のような常法に従って行わ
れる。
加水分解は塩基またはルイス酸を含めた酸の存在下に行
うのが好ましい。
好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のア
ルカリ土類金属、それらの金属の水酸化物または炭酸塩
または炭酸水素塩、ヒドラジン、例えばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリ
ン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,
4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビ
シクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン等のような無機塩
基および有機塩基が挙げられる。
好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、例えば
塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素、フッ化
水素等の無機酸および例えばピリジン塩酸塩等の酸付加
塩化合物が挙げられる。
例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが好ましい。
反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロ
メタン、テトラヒドロフランのような溶媒、またはそれ
らの混合物中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない
溶媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行うこ
とができる。液状の塩基または酸も溶媒として使用する
ことができる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。
脱離反応に適用されうる還元法としては、化学的還元お
よび接触還元が挙げられる。
化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭
化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせである。
接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化
パラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、
パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム
等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネ−ニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネ−コバルト等のコバルト触媒、例えば還元
鉄、ラネ−鉄等の鉄触媒、例えば還元銅、ラネ−銅、ウ
ルマン銅等の銅触媒等のような常用のものである。
還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、N,N−ジメチルホルムアミドのような反応に悪影響
を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合物中で行わ
れる。さらに、化学的還元に使用される上記酸が液体で
ある場合には、それらを溶媒として使用することもでき
る。さらにまた、接触還元に使用される好適な溶媒とし
ては、上記溶媒およびジエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等のようなその他の慣用の溶媒、ま
たはそれらの混合物が挙げられる。
この還元の反応温度は特に限定されず、通常冷却下ない
し加熱下に反応が行われる。
第3工程 目的化合物[I]またはその塩は、化合物[V]もしく
はアミノ基におけるその反応性誘導体またはそれらの塩
を、化合物[VI]もしくはカルボキシ基におけるその反
応性誘導体またはそれらの塩と反応させ、必要に応じて
N−保護基を脱離することにより製造することができ
る。
化合物[VI]の好適な塩類については、化合物[II]に
ついて例示したような塩基との塩を参照すればよい。
この反応は第1工程と実質的に同様にして行うことがで
きるので、この反応の反応方式および例えば反応性誘導
体、縮合剤、溶媒、反応温度等の反応条件については第
1工程の説明を参照すればよい。
化合物[V]のイミダゾリル基が保護されている場合に
は、さらに化合物[V]と化合物[VI]との反応生成物
のN−保護基を脱離することにより目的化合物[I]を
製造することができる。
この脱離反応はこの製造法の第2工程と実質的に同様に
して行うことができるので、この反応の反応方式および
例えば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反
応条件についてはこの製造法の第2工程の説明を参照す
ればよい。
製造法2 目的化合物[Ib]またはその塩は、化合物[Ia]ま
たはその塩をN−保護基の脱離反応に付すことにより製
造することができる。
化合物[Ia]および[Ib]の好適な塩類については
化合物[I]について例示したものを参照すればよい。
この反応は製造法1の第2工程と実質的に同様にして行
うことができ、従ってこの反応の反応方式および例えば
塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反応条件
については、製造法1の第2工程の説明を参照すればよ
い。
原料化合物[VI]中、それらの中のある種のものは新規
化合物であり、下記反応式で示される製造法により製造
することができる。
製造法A 製造法B 製造法C [式中、R12は保護されたカルボキシ基を意味し、 R、R、R、R10およびAは前と同じ意味] 化合物[VII]中の幾つかは新規であり、下記反応式で
説明される製造法により製造することができる。
製造法D 製造法E 製造法F 製造法G 製造法H [式中、▲R5 a▼はアシル基、 R13は低級アルキル基を意味し、 R、R、R、R、R、R10およびAはそれぞ
れ前と同じ意味] 好適な「保護されたカルボキシ基」としては、例えばメ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル、第二級ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボ
ニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカル
ボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
シカルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、任意に
置換されていてもよいアル(低級)アルコキシカルボニ
ル基、その例として、例えばベンジルオキシカルボニ
ル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル、ベンズヒド
リルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル等の
ニトロ基で置換されていてもよいモノ−またはジ−また
はトリフェニル(低級)アルコキシカルボニル基等のよ
うな、常用の保護基によって保護されたカルボキシ基が
挙げられる。
原料化合物の前記製造法を以下詳細に説明する。
製造法A 化合物[IX]は、化合物[VII]またはその塩および化
合物[VIII]をカルバモイルオキシ基の生成反応に付す
ことにより製造することができる。
化合物[VII]の好適な塩類については、化合物[I]
について例示したような塩類を参照すればよい。
この反応はホスゲン、例えばクロロギ酸エチル、クロロ
ギ酸トリクロロメチル等のハロギ酸エステル化合物、N,
N′−カルボニルジイミダゾール、例えばコバルトカル
ボニル、マンガンカルボニル等の金属カルボニル化合
物、一酸化炭素と塩化パラジウム等のような触媒との組
合わせ等のようなカルボニル基を導入する試薬の存在下
に行われる。
この反応は通常、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベ
ンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メチレン、N,N
−ジメチルホルムアミドのような溶媒中で行われるが、
反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかな
る有機溶媒中でも反応を行うことができる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。
製造法B 化合物[IXa]は化合物[X]もしくはカルボキシ基に
おける反応性誘導体またはそれらの塩を、化合物[X
I]もしくはアミノ基におけるその反応性誘導体または
それらの塩と反応させることにより製造することができ
る。
化合物[X]およびその反応性誘導体の好適な塩類につ
いては、化合物[II]について例示したような塩基との
塩類を参照すればよい。
化合物[XI]およびその反応性誘導体の好適な塩類に
ついては、化合物[I]について例示したような塩類を
参照すればよい。
この反応は製造法1の第1工程と実質的に同様にして行
うことができ、従ってこの反応の反応方式および例えば
反応性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温度等の反応条件に
ついては製造法1の第1工程の説明を参照すればよい。
製造法C 化合物[VI]またはその塩は、化合物[IX]をカルボキ
シ保護基の脱離反応に付すことにより製造することがで
きる。
この反応は製造法1の第2工程と実質的に同様にして行
うことができ、従ってこの反応の反応方式および例えば
塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反応条件
については、製造法1の第2工程の説明を参照すればよ
い。
製造法D 化合物[XIII]は化合物[XII]もしくはカルボキシ
基におけるその反応性誘導体またはそれらの塩を、化合
物[XI]もしくはアミノ基におけるその反応性誘導体
またはそれらの塩と反応させることにより製造すること
ができる。
化合物[XII]およびその反応性誘導体の好適な塩類に
ついては、化合物[II]について例示したような塩基と
の塩類を参照すればよい。
この反応は製造法1の第1工程と実質的に同様にして行
うことができ、従ってこの反応の反応方式および例えば
反応性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温度等の反応条件に
ついては製造法1の第1工程の説明を参照すればよい。
製造法E 化合物[VIIa]またはその塩は化合物[XIII]をN−
保護基の脱離反応に付すことにより製造することができ
る。
化合物[VIIa]の好適な塩類については、化合物
[I]について例示したものを参照すればよい。
この反応は製造法1の第2工程と実質的に同様にして行
うことができ、従ってこの反応の反応方式および例えば
塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反応条件
については、製造法1の第2工程の説明を参照すればよ
い。
製造法F 化合物[XVI]は化合物[XIV]もしくはアミノ基にお
けるその反応性誘導体またはそれらの塩を、化合物[X
V]もしくはその反応性誘導体またはそれらの塩と反応
させることにより製造することができる。
化合物[XIV]およびその反応性誘導体の好適な塩類に
ついては、化合物[I]について例示したような塩類を
参照すればよい。
化合物[XV]およびその反応性誘導体の好適な塩類に
ついては、化合物[II]について例示したような塩基と
の塩類を参照すればよい。
この反応は製造法1の第1工程と実質的に同様にして行
うことができ、従ってこの反応の反応方式および例えば
反応性誘導体、縮合剤、溶媒、反応温度等の反応条件に
ついては製造法1の第1工程の説明を参照すればよい。
製造法G 化合物[XVIb]は、化合物[XVIa]を低級アルキル
化反応に付すことにより製造することができる。
この反応に使用される好適な低級アルキル化剤として
は、例えば沃化メチル、沃化エチル、沃化プロピル、沃
化ブチル、塩化ブチル、塩化ペンチル等の低級アルキル
ハロゲン化物等が挙げられる。
この反応は通常、例えばナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のアルカ
リ土類金属、それらの金属の水素化物または水酸化物、
例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、
カリウム第三級ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシ
ド等のような塩基の存在下に行われる。
この反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、
プロパノール等のアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、塩化メチレン、N,N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテ
ルのような慣用の溶媒中で行われるが、反応に悪影響を
及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる有機溶媒中
でも反応を行うことができる。また上記低級アルキル化
剤が液体であればそれを溶媒として使用することもでき
る。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下、常温、加温下
または加熱下に反応が行われる。
製造法H 化合物[VIIb]またはその塩は、化合物[XVI]をN
−保護基の脱離反応に付すことにより製造することがで
きる。
化合物[VIIb]の好適な塩類については、化合物
[I]について例示したような塩類を参照すればよい。
この反応は製造法1の第2工程と実質的に同様にして行
うことができ、従ってこの反応の反応方式および例えば
塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反応条件
については、製造法1の第2工程の説明を参照すればよ
い。
上記製造法で得られた化合物は、粉砕、再結晶、カラム
クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフフィー、再沈
殿等のような常法によって単離、精製することができ
る。
化合物[I]およびその他の化合物には、不斉炭素原子
に基づく立体異性体1個以上が含まれ、そのような異性
体およびそれらの混合物はすべてこの発明の範囲内に包
含される。
治療のためにこの発明の化合物[I]および医薬として
許容されるその塩類は、有機または無機固体状または液
状賦形剤と混合して前記化合物の1種を有効成分として
含有する、経口投与、非経口投与または外用投与に適し
た医薬製剤の形で使用することができる。医薬製剤とし
てはカプセル、錠剤、糖衣錠、顆粒、溶液、懸濁液、エ
マルジョン等が挙げられる。所望に応じてこれらの製剤
中に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液および
その他の通常使用される添加剤が含まれていてもよい。
化合物[I]の投与量は患者の年齢および状態によって
変化するが、化合物[I]を平均1回約0.1mg、1mg、1
0mg、50mg、100mg、250mg、500mg、1000mgの投与量で高
血圧および心不全の治療に有効である。一般的には1日
当り0.1mg/固体〜約1000mg/固体との間の量を投与す
ればよい。
[発明の効果] 目的化合物[I]の有用性を示すために、化合物[I]
の代表的化合物の薬理試験結果を以下に示す。
試験化合物 (1)2(S)−[Nα−(2(S)−モルホリノカルボ
ニルオキシ−3−フェニルプロピオニル)−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロ
キシ−6−メチルヘプタン (2)2(S)−[Nα−(2(S)−モルホリノカルボ
ニルオキシ−3−フェニルプロピオニル)−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (3)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−メトキシカ
ルボニルメチル−N−メチルアミノカルボニルオキシ)
−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン (4)2(S)−[Nα−{2(S)−(2(R)−メト
キシカルボニルピロリジン−1−カルボニルオキシ)−
3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒス
チジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒド
ロキシ−6−メチルヘプタン (5)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−モル
ホリノカルボニルエチル)−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ}−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (6)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−ジメ
チルアミノカルボニルエチル)−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (7)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(ジメチル
アミノカルボニルメチル)−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (8)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(4−ピコ
リルアミノカルボニルメチル)−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (9)2(S)−[Nα−{2(S)−(2(R)−ジメ
チルアミノカルボニルピロリジン−1−カルボニルオキ
シ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L
−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)
−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (10)2(S)−[Nα−{2(S)−(6(S)−2−
オキソ−1,4−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン−4−カ
ルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (11)2(S)−[Nα−{2(S)−(4−メチル−3
−オキソピペラジン−1−カルボニルオキシ)−3−フ
ェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン (12)2(S)−[Nα−{2(S)−(3−オキソピペ
ラジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン (13)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−イソブトキ
シカルボニルメチル−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L
−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)
−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (14)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−メチル−N
−フェネチルオキシカルボニルメチルアミノカルボニル
オキシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル
−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (15)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−メチル−N
−(2−オキソプロポキシカルボニルメチル)アミノカ
ルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (16)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(エ
トキシカルボニルメチルアミノカルボニル)エチル}−
N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプ
ロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ
−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン (17)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(2
−ピコリルアミノカルボニル)エチル}−N−メチルア
ミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオニル]
−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロ
ヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (18)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−チオ
モルホリノカルボニルエチル)−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (19)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−モル
ホリノカルボニルエチル)−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロ
キシ−6−メチルヘプタン (20)2(S)−[Nα−{2(S)−(N′−イソブト
キシカルボニル−N,N′−ジメチルヒドラジノカルボニ
ルオキシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (21)2(S)−[Nα−[2(S)−{N′−(イソプ
ロピルカルバモイル)−N,N′−ジメチルヒドラジノカ
ルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル}−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (22)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−イソプロピ
ルカルバモイルピラゾリジン−1−カルボニルオキシ)
−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン (23)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−[2−{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチル
アミノ}エチル]アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン (24)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−{2−(N−イソブチリル−N−メチルアミノ)エチ
ル}アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオ
ニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−
シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘ
プタン (25)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−{2−(N−イソバレリル−N−メチルアミノ)エチ
ル}アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオ
ニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−
シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘ
プタン (26)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(N
−メチル−N−フェニルカルバモイル)エチル}−N−
メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン (27)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(N
−メチル−N−イソブチルカルバモイル)エチル}−N
−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロ
ピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−
1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン (28)2(S)−[Nα−{2(S)−(3−オキソピペ
リジノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニ
ル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シ
クロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプ
タン (29)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{4−(N
−メチル−N−イソプロピルカルバモイル)ブチル}−
N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプ
ロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ
−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン (30)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(4−イソ
プロピルカルバモイルブチル)−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (31)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−[3−{N−モルホリノカルボニル)−N−メチルア
ミノ}プロピル]アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン (32)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−メチル−N
−(3−モルホリノカルボニルプロピル)アミノカルボ
ニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (33)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−{3−(N−イソプロピル−N−メチルカルバモイ
ル)プロピル}アミノカルボニルオキシ]−3−フェニ
ルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6
−メチルヘプタン (34)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−[4−{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチル
アミノ}ブチル]アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン (35)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(4−モル
ホリノカルボニルブチル)−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (36)2(S)−[Nα−[2(S)−{N′−(モルホ
リノカルボニル)−N,N′−ジメチルヒドラジノカルボ
ニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−L−ヒス
チジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒド
ロキシ−6−メチルヘプタン (37)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−[2−[N
−{2−(2−ピリジル)エチル}−N−メチルアミノ
カルボニル]エチル]−N−メチルアミノカルボニルオ
キシ]−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (38)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(1,
2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−カルボニル)エチ
ル}−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン (39)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−イソ
プロピルアミノカルボニルエチル)−N−メチルアミノ
カルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−N
α−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキ
シル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (40)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−イソ
プロピルスルホニルエチル)−N−メチルアミノカルボ
ニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 試験1 試験法 ヒト血漿を薬物前処置しない男性ボランティアから採取
し、プールとして使用した。エチレンジアミン四酢酸
(EDTA)ジナトリウム塩を抗凝血剤として使用した。血
漿中内因レニンおよびアンジオテンシノゲンをpH6.0で
インキュベート(37℃)後、血漿レニン作用をアンジオ
テンシンI生成率として測定した。インキュベート混合
物は血漿250μ、フッ化(フェニルメチル)スルホニ
ル5μ、緩衝液(ナトリウム−燐酸カリウム緩衝液、
pH6.0)30μおよび50%エチルアルコール−水担体中
適宜濃度の試験化合物15μを含むものであった。90分
間インキュベート後に生成したアンジオテンシンIを、
市販キットRENCTK100[コミッサリアート・エー・レネ
ルギー・アトミク(Commissariat A L'energie Atomiqu
e)製]を用いて行うラジオイミュノアッセイ法により
測定した。試料を二組一揃いとしてインキュベートし、
各チューブを二組一揃いとしてラジオイミュノアッセイ
法で測定した。血漿レニン活性抑制百分率を、試験化合
物存在下および存在しない場合に生成したアンジオテン
シンIの量を比較することにより計算した。血漿レニン
作用を50%抑制した試験化合物濃度(IC50)をプロビッ
ト(Probit)法により決定した。
試験2 試験法 体重約2.5〜3.5kgのカニクイザルに試験化合物投与前日
フロセミド(15mg/kg)を皮下投与し当日試験化合物投
与前30分前にフロセミド(10mg/kg)を静注投与して高
レニン状態とした。
上記カニクイザルをサル固定台に覚醒状態で固定した。
試験化合物を一当量の希塩酸に溶解し(pH5〜6)、胃
ゾンデを用いて経口的に投与した。投与前および投与後
0.5、1、2、3、4、6時間後の血圧を測定し、降圧
率を投与前値に対する百分率として計算した。
また、投与前および投与後0.5、1、2、4、6時間後
に左上腕より血液(約1.0m)を採取した。EDTAジナ
トリウム塩を含む採血管に移し、10分間遠心分離(3000
rpm、4℃)して、レニン活性測定サンプルとした。得
られた血漿(100μ)にアンジオテンシナーゼ抑制剤
を含む水溶液(3mM・8−ヒドロキシキノリンスルフェ
ートおよび5mM・2,3−ジメルカプトプロパノール)(1
00μ)を添加した。この混合物のうち、100μを4
℃で保存し、他の100μを37℃で1時間インキュベー
トした。それぞれの反応液中に存在するアンジオテンシ
ンIの量を試験1と同様にして測定した。血漿レニン活
性は、37℃でインキュベートした反応液中のアンジオテ
ンシンIの量から4℃で保存した反応液中のアンジオテ
ンシンIの量を差し引き算出した。レニン活性抑制率は
薬物投与前のレニン活性に対する百分率として計算し
た。
上記の試験結果から明らかな様に、目的化合物[I]お
よびその塩類は、in vitro試験および経口投与によるin
vivo試験において、レニンに対する強い阻害作用およ
び降圧作用を有し、特に経口投与可能な降圧剤および心
不全用剤として有用である。
[実施例] 以下実施例に従って目的化合物[I]の好ましい製造例
を説明するが、これらの化合物の製造法は下記実施例に
限定されるものではない。
下記実施例ではTLC板としてキーゼルゲル(Kieselgel)6
0F254(商標:メルク社製)(厚さ:0.25mm)を使用し
た。
製造例1 N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−アラ
ニン(1.02g)とモルホリン(0.48g)の乾燥塩化メチ
レン混合物にN−エチル−N′−(3−ジメチルアミノ
プロピル)カルボジイミド塩酸塩(1.05g)を添加し、
室温で一夜攪拌する。溶媒を留去した後、残渣を酢酸エ
チルに溶解する。この溶液を1%クエン酸水溶液、飽和
炭酸水素ナトリウム溶液、飽和塩化ナトリウム溶液で洗
浄する。次に、この溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下で濃縮して4−(N−第三級ブトキシカルボニル
−N−メチル−β−アラニル)モルホリン(1.36g)を
得る。
Rf:0.57(メタノール/クロロホルム、 10%、v/v) 製造例2 4−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β
−アラニル)モルホリン(1.37g)のトルフルオロ酢酸
(20m)を溶液を0℃で1時間攪拌する。溶媒を留去
して4−(N−メチル−β−アラニル)モルホリン・ト
リフルオロ酢酸塩(1.44g)を得る。
Rf:0.17(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) 製造例3 製造例1と同様にして以下の化合物を得る。
(1)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(610mg)とチオモルホリン(372mg)から4−
(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−ア
ラニル)チオモルホリン(798mg)を得る。
Rf:0.79(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (2)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(610mg)と2−アミノチアゾール(361mg)か
ら2−[(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル
−β−アラニル)アミノ]チアゾール(639mg)を得
る。
Rf:0.63(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (3)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(610mg)と2−ピコリルアミン(389mg)から
2−[(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−
β−アラニル)アミノメチル]ピリジン(902mg)を得
る。
Rf:0.55(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (4)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(610mg)と4−(2−アミノエチル)モルホ
リン(469mg)から4−[2−(N−第三級ブトキシカ
ルボニル−N−メチル−β−アラニル)アミノエチル]
モルホリン(931mg)を得る。
Rf:0.53(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (5)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(711mg)と2−(2−メチルアミノエチル)
ピリジン(572mg)から2−[2−{N−(N−第三級
ブトキシカルボニル−N−メチル−β−アラニル)−N
−メチルアミノ}エチル]ピリジン(1.08g)を得る。
Rf:0.61(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (6)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(711mg)と4−メチルピペラジン(421mg)か
ら1−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−
β−アラニル)−4−メチルピペラジン(460mg)を得
る。
Rf:0.45(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (7)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(508mg)と2−(メチルアミノ)ピリジン(3
25mg)から2−[N−(N−第三級ブトキシカルボニル
−N−メチル−β−アラニル)−N−メチルアミノ]ピ
リジン(324.3mg)を得る。
Rf:0.63(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (8)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(711mg)と3−ピコリルアミン(454mg)から
3−[(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−
β−アラニル)アミノメチル]ピリジン(1.03g)を得
る。
Rf:0.43(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (9)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(813mg)と1,2,3,6−テトラヒドロピリジン
(399mg)から1−(N−第三級ブトキシカルボニル−
N−メチル−β−アラニル)−1,2,3,6−テトラヒドロ
ピリジン(645mg)を得る。
Rf:0.68(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (10)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(813mg)とイソプロピルアミン(284mg)から
N−イソプロピル−Nα−第三級ブトキシカルボニル−
α−メチル−β−アラニンアミド(893mg)を得る。
Rf:0.62(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (11)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(600mg)とグリシンエチルエステル塩酸塩(4
95mg)から(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチ
ル−β−アラニル)グリシンエチルエステル(830m)を
得る。
Rf:0.50(酢酸エチル) (12)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(1.02g)とジメチルアミン塩酸塩(0.45g)
からN,N−ジメチル−Nα−第三級ブトキシカルボニル
−Nα−メチル−β−アラニンアミド(1.15g)を得
る。
Rf:0.50(メタノール/クロロホルム、 10%、v/v) (13)N−第三級ブトキシカルボニルサルコシン(284m
g)とモルホリン(144mg)から4−(N−第三級ブトキ
シカルボニルサルコシル)モルホリン(386mg)を得
る。
Rf:0.66(メタノール/クロロホルム、 10%、v/v) (14)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−D−
アラニン(610mg)とモルホリン(290mg)から4−(N
−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−D−アラニ
ル)モルホリン(738.4mg)を得る。
Rf:0.41(酢酸エチル:n−ヘキサン、 3:1、v/v) (15)N−第三級ブトキシカルボニルサルコシン(568m
g)とN−メチル−N−フェネチルアミン(446mg)から
2−[N−(N−第三級ブトキシカルボニルサルコシ
ル)−N−メチルアミノ]エチルベンゼン(897.4mg)
を得る。
Rf:0.47(酢酸エチル:n−ヘキサン、 3:1、v/v) (16)N−第三級ブトキシカルボニルサルコシン(0.95
g)とジメチルアミン塩酸塩(0.45g)からN,N−ジメ
チル−Nα−第三級ブトキシカルボニルサルコシンアミ
ド(1.08g)を得る。
Rf:0.41(メタノール/クロロホルム、 10%、v/v) (17)N−第三級ブトキシカルボニルサルコシン(473m
g)とn−ブチルアミン(201mg)からN−n−ブチル−
α−第三級ブトキシカルボニルサルコシンアミド(58
1mg)を得る。
Rf:0.50(酢酸エチル:ベンゼン:酢酸、 20:20:1、v/v) (18)N−第三級ブトキシカルボニルサルコシン(473m
g)と4−ピコリルアミン(297mg)から4−[(N−第
三級ブトキシカルボニルサルコシル)アミノメチル]ピ
リジン(595.3mg)を得る。
融点:115-116℃ Rf:0.50(メタノール:クロロホルム、 1:6、v/v) (19)N−第三級ブトキシカルボニル−D−プロリン(45
5mg)とジメチルアミン塩酸塩(180mg)からN,N−ジメ
チル−Nα−第三級ブトキシカルボニル−D−プロリン
アミド(559.1mg)を得る。
Rf:0.27(酢酸エチル:ベンゼン:酢酸、20: 20:1、v/v) この製造例で得られた化合物の第三級ブトキシカルボニ
ル基を製造例2と同様の方法により除去し、このように
して得られたトリフルオロ酢酸塩化合物を製造例33の出
発化合物として使用する。
製造例4 (1)N−第三級ブトキシカルボニルサルコシナール(1.5
0g)とグリシンメチルエステル塩酸塩(1.63g)のメ
タノール(60m)溶液に水素化シアノホウ素ナトリウ
ム(544mg)のメタノール(10m)溶液を室温で添加
し、同温で一夜攪拌する。溶媒を留去した後、残渣を酢
酸エチル(50m)に溶解し、この溶液を1M炭酸水素
ナトリウム溶液、次いで水で順次洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下で濃縮する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(クロロホルムで展開)で精製
しN−[2−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メ
チルアミノ)エチル]グリシンメチルエステル(1.04
g)を油状物として得る。
Rf:0.69(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (2)N−[2−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−
メチルアミノ)エチル]グリシンメチルエステル(1.06
g)のトリフルオロ酢酸(15m)溶液を0℃で1時間
攪拌する。溶媒を減圧留去後、残渣を6Nアンモニアの
メタノール(20m)溶液に溶解する。この溶液を室温
で30分間攪拌し、減圧濃縮して1−メチル−2−ピペラ
ジノン(490mg)を油状物として得る。
Rf:0.28(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例5 (1)製造例4−(1)と同様にしてN−第三級ブトキシカル
ボニルプロリナール(1.99g)とグリシンメチルエステ
ル塩酸塩(1.88g)からN−(N−第三級ブトキシカル
ボニル−2(S)−ピロリジニルメチル)グリシンメチ
ルエステル(808mg)を得る。
Rf:0.31(酢酸エチル) (2)製造例4−(2)と同様にしてN−(N−第三級ブトキ
シカルボニル−2(S)−ピロリジニルメチル)グリシ
ンメチルエステル(800mg)から6(S)−2−オキソ
−1,4−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン(410mg)を得
る。
Rf:0.52(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) 製造例6 N,N′−ジメチルヒドラジン二塩酸塩(940mg)とトリエ
チルアミン(2.15g)の塩化メチレン(30m)溶液を
0℃に冷却して、これにクロロギ酸イソブチル(970m
g)を添加し、0℃で1時間攪拌する。溶媒を留去後、
残渣を酢酸エチル(50m)に溶解し、この溶液を1M
炭酸水素ナトリウム溶液、次いで水で順次洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥する。溶媒を留去してN−イソブトキ
シカルボニル−N,N′−ジメチルヒドラジン(922mg)を
油状物として得る。
Rf:0.78(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例7 製造例6と同様にして下記の化合物を得る。
(1)N,N′−ジメチルヒドラジン二塩酸塩(1.33g)と塩
化モルホリノカルボニル(1.50g)からN−(モルホリ
ノカルボニル)−N,N′−ジメチルヒドラジン(1.70
g)を得る。
Rf:0.52(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (2)N,N′−ジメチルヒドラジン二塩酸塩(4.00g)と塩
化ベンジルオキシカルボニル(4.8m)からN−ベン
ジルオキシカルボニル−N,N′−ジメチルヒドラジン
(4.78g)を得る。
Rf:0.56(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (3)ピラゾリジン二塩酸塩(5.81g)と塩化ベンジルオ
キシカルボニル(6.624g)から1−ベンジルオキシカ
ルボニルピラゾリジン(8.26g)を得る。
Rf:0.61(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (4)ペルヒドロピリダジン二塩酸塩(6.68g)と塩化ベ
ンジルオキシカルボニル(7.123g)から1−ベンジル
オキシカルボニルペルヒドロピリダジン(9.20g)を得
る。
Rf:0.29(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) 製造例8 N,N′−ジメチルヒドラジン二塩酸塩(1.33g)とトリ
エチルアミン(2.02g)の乾燥テトラヒドロフラン(20
m)溶液を0℃に冷却して、これにイソシアン酸イソ
プロピル(851mg)を添加し、0℃で2時間攪拌する。
溶媒を留去後、残渣を酢酸エチル(50m)に溶解す
る。この溶液を1M炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し次
に水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留
去してN−(イソプロピルカルバモイル)−N,N′−ジ
メチルヒドラジン(771mg)を油状物として得る。
Rf:0.48(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例9 製造例8と同様にしてN,N′−ジメチルヒドラジン二塩
酸塩(1.33g)とイソシアン酸ベンジル(1.33g)から
N−(ベンジルカルバモイル)−N,N′−ジメチルヒド
ラジン(1.07g)を得る。
Rf:0.47(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例10 N−ベンジルオキシカルボニル−N,N′−ジメチルヒド
ラジン(1.2g)の乾燥テトラヒドロフラン(20m)
溶液に0℃でイソシアン酸メチル(352mg)を添加す
る。この混合物を0℃で6時間攪拌する。溶媒を留去
後、残渣を酢酸エチル(50m)に溶解する。この溶液
を5%塩酸、1M炭酸水素ナトリウム溶液および水で順
次洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去後、
残渣をメタノール(20m)と水(2m)に溶解す
る。この溶液を10%パラジウム−炭素(100mg)で3気
圧の水素ガスを吹きこみながら1時間水素添加する。こ
の溶液を濾過し濾液を減圧濃縮してN−(メチルカルバ
モイル)−N,N′−ジメチルヒドラジン(592mg)を油状
物として得る。
Rf:0.42(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例11 製造例10と同様にして以下の化合物を得る。
(1)1−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(1.237
g)とイソシアン酸イソプロピル(510.6mg)から1−
イソプロピルカルバモイルピラゾリジン(845mg)を得
る。
Rf:0.52(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (2)1−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(1.237
g)とイソシアン酸メチル(354μ)から1−メチル
カルバモイルピラゾリジン(774mg)を得る。
Rf:0.42(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) 製造例12 N−ベンジルオキシカルボニル−N,N′−ジメチルヒド
ラジン(1.6g)のトルエン(30m)溶液にクロロギ
酸トリクロロメチル(0.553m)を添加する。この溶
液を30分間還流した後、ジメチルアミン(672mg)とト
リエチルアミン(2.0g)を0℃で添加する。得られた
反応混合物を室温で2時間攪拌する。溶媒を留去後、残
渣を酢酸エチル(50m)に溶解する。この溶液を5%
塩酸、1M炭酸水素ナトリウム溶液、水で順次洗浄し
て、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去後、残渣
をメタノール(20m)と水(20m)に溶解する。こ
の溶液を10%パラジウム−炭素(100mg)で3気圧の水
素ガスを吹き込みながら1時間水素添加する。溶液を濾
過し、濾液を減圧濃縮してN−(N,N−ジメチルカルバ
モイル)−N,N′−ジメチルヒドラジン(820mg)を油状
物として得る。
Rf:0.47(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例13 N−第三級ブトキシカルボニルサルコシナール(3.46
g)の乾燥テトラヒドロフラン(100m)溶液を-78℃
に冷却して、これに臭化イソペンチル(30.8g)とマグ
ネシウム(4.86g)から製造した臭化イソペンチルマグ
ネシウムの乾燥テトラヒドロフラン(200m)溶液を
滴下する。添加終了後、反応混合物の温度を室温まで上
昇させて4時間攪拌する。塩化アンモニウム飽和水溶液
(200m)を添加して、得られた混合物をジエチルエ
ーテル(300m)で2回抽出する。抽出液を合わせて
硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下に濃縮する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサ
ン中20%酢酸エチルで溶出して精製し、1−(N−第三
級ブトキシカルボニル−N−メチルアミノ)−2−ヒド
ロキシ−5−メチルヘキサン(3.96g)を得る。
Rf:0.53(ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) 製造例14 1−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチルアミ
ノ)−2−ヒドロキシ−5−メチルヘキサン(2.45g)
とトリエチルアミン(3.03g)のジメチルスルホキシド
(20m)溶液に氷浴冷却下において三酸化硫黄−ピリ
ジン錯体(4.77g)を添加する。この混合物を室温で一
夜攪拌した後、反応混合物を氷水(100m)中に注
ぐ。この混合物をジエチルエーテル(100m)で2回
抽出する。抽出物を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下で濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、n−ヘキサン中20%酢酸エチル
で溶出して精製し、1−(N−第三級ブトキシカルボニ
ル−N−メチルアミノ)−2−オキソ−5−メチルヘキ
サン(2.15g)を得る。
Rf:0.73(ヘキサン:酢酸エチル、 5:2、v/v) 製造例15 N−第三級ブトキシカルボニル−N,N′−ジメチルエチ
レンジアミン(1.0g)とトリエチルアミン(537mg)の
塩化メチレン(20m)溶液を0℃に冷却して、これに
塩化モルホリノカルボニル(794mg)を添加する。この
混合物を0℃で1時間攪拌する。溶媒を留去後、残渣を
酢酸エチル(30m)に溶解し、溶液を5%塩酸、1M
炭酸水素ナトリウム溶液、水で順次洗浄して、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を留去後、N−第三級ブトキ
シカルボニル−N′−(モルホリノカルボニル)−N,
N′−ジメチルエチレンジアミン(1.11g)を油状物と
して得る。
Rf:0.62(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例16 製造例15と同様にして以下の化合物を得る。
(1)N−第三級ブトキシカルボニル−N,N′−ジメチルエ
チレンジアミン(1.2g)と塩化イソブチリル(668m
)からN−第三級ブトキシカルボニル−N′−イソブ
チリル−N,N′−ジメチルエチレンジアミン(1.42g)
を得る。
Rf:0.31(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) (2)N−第三級ブトキシカルボニル−N,N′−ジメチルエ
チレンジアミン(850mg)と塩化イソバレリル(0.55m
)からN−第三級ブトキシカルボニル−N′−イソバ
レリル−N,N′−ジメチルエチレンジアミン(1.17g)
を得る。
Rf:0.75(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (3)1−[N−(第三級ブトキシカルボニル)−N−メ
チルアミノ]−4−メチルアミノブタン(500mg)と塩
化モルホリノカルボニル(363mg)から1−[N−(第
三級ブトキシカルボニル)−N−メチルアミノ]−4−
[N−(モルホリノカルボニル)−N−メチルアミノ]
ブタン(478mg)を得る。
Rf:0.30(酢酸エチル) (4)1−[N−(第三級ブトキシカルボニル)−N−メ
チルアミノ]−3−メチルアミノプロパン(600mg)、
塩化モルホリノカルボニル(444mg)、トリエチルアミ
ン(301mg)から1−[N−(第三級ブトキシカルボニ
ル)−N−メチルアミノ]−3−[N−(モルホリノカ
ルボニル)−N−メチルアミノ]プロパン(930mg)を
得る。
Rf:0.34(酢酸エチル) (5)1−[N−(第三級ブトキシカルボニル)−N−メ
チルアミノ]−5−メチルアミノペンタン(576mg)、
塩化モルホリノカルボニル(374mg)、トリエチルアミ
ン(253mg)から1−[N−(第三級ブトキシカルボニ
ル)−N−メチルアミノ]−5−[N−モルホリノカル
ボニル)−N−メチルアミノ]ペンタン(881mg)を得
る。
Rf:0.74(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例17 5−(N−第三級ブトキシカルボニルアミノ)吉草酸
(2.173g)とモルホリン(1.045g)の無水塩化メチレ
ン(22m)混合物にN−エチル−N′−(3−ジメチ
ルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(2.30g)を
0−5℃で少しずつ添加する。同じ温度で3時間攪拌し
た後、溶媒を減圧下留去し、残渣を酢酸エチル(100m
)と水(100m)に溶解する。有機層を0.5N塩酸
(100m)、水(100m)、炭酸水素ナトリウム水溶
液(100m)、水(100m)、食塩水(100m)で
順次洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥させる。溶媒を
留去して4−[5−(N−第三級ブトキシカルボニルア
ミノ)バレリル]モルホリン(1.668g)を油状物とし
て得る。
Rf:0.37(酢酸エチル) 製造例18 4−[5−(N−第三級ブトキシカルボニルアミノ)バ
レリル]モルホリン(1.656g)の乾燥N,N−ジメチルホ
ルムアミド(20m)溶液に窒素雰囲気下、0−5℃で
60%水素化ナトリウム(347mg)とヨウ化メチル(2.462
g)を添加する。室温で6時間攪拌した後、反応混合物
を酢酸エチル(200m)と水(200m)に添加する。
有機層を0.5N塩酸(200m)、水(200m)、炭酸
水素ナトリウム水溶液(200m)、水(200m)、食
塩水(200m)で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を留去して4−[5−(N−メチル−N−
第三級ブトキシカルボニルアミノ)バレリル]モルホリ
ン(1.093g)を油状物として得る。
Rf:0.38(酢酸エチル) 製造例19 N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−アラ
ニン(6.097g)とトリエチルアミン(4.18m)の酢
酸エチル(60m)混合物に2−ブロモアセトフェノン
(5.972g)を0−5℃で少しずつ添加する。室温で一
夜攪拌した後、溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチ
ル(200m)に溶解する。この溶液を0.5N塩酸(200
m)、水(200m)、炭酸水素ナトリウム水溶液(2
00m)、水(200m)、食塩水(200m)で順次洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去してN
−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−アラニ
ン・フェナシルエステル(8.54g)を油状物として得
る。
Rf:0.53(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) 製造例20 (1)製造例17と同様にして5−(N−第三級ブトキシカ
ルボニルアミノ)吉草酸(2.173g)とイソプロピルア
ミン(673mg)からN−イソプロピル−5−(N−第三
級ブトキシカルボニルアミノ)バレルアミド(1.524
g)を得る。
融点:93.5-95℃ Rf:0.46(酢酸エチル) (2)製造例18と同様にしてN−イソプロピル−5−(N
−第三級ブトキシカルボニルアミノ)バレルアミド(1.
502g)とヨウ化メチル(4.951g)からN−イソプロピ
ル−N−メチル−5−(N−メチル−N−第三級ブトキ
シカルボニルアミノ)バレルアミド(1.399g)を得
る。
Rf:0.19(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) 製造例21 (1)製造例18と同様にして5−(N−第三級ブトキシカ
ルボニルアミノ)吉草酸(2.716g)とヨウ化メチル(1
4.20g)から5−(N−第三級ブトキシカルボニル−N
−メチルアミノ)吉草酸メチル(563mg)を得る。
Rf:0.62(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) (2)5−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル
アミノ)吉草酸メチル(557mg)のメタノール(6m
)および1N水酸化ナトリウム溶液(3.41m)混合
物を室温で1時間攪拌する。この溶液を減圧濃縮し、残
渣を水(20m)とジエチルエーテル(20m)に注
ぐ。水層を分離し1N塩酸で酸性化し酢酸エチル(20m
)で3回抽出する。抽出液を合わせ、水(40m、2
回)、食塩水(40m)で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去して、5−(N−第三級ブト
キシカルボニル−N−メチルアミノ)吉草酸(470mg)
を油状物として得る。
Rf:0.43(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (3)製造例17と同様にして5−(N−第三級ブトキシカ
ルボニル−N−メチルアミノ)吉草酸(454mg)とイソ
プロピルアミン(132mg)からN−イソプロピル−5−
(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチルアミノ)
バレルアミド(384mg)を得る。
Rf:0.17(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) 製造例22 (1)製造例17と同様にして4−(N−第三級ブトキシカ
ルボニルアミノ)酪酸(2.03g)とモルホリン(0.88
g)から4−[4−(N−第三級ブトキシカルボニルア
ミノ)ブチリル]モルホリン(1.73g)を得る。
Rf:0.50(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (2)製造例18と同様にして4−[4−(N−第三級ブト
キシカルボニル−N−メチルアミノ)ブチリル]モルホ
リンを得る。
Rf:0.58(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例23 (1)製造例17と同様にして4−(N−第三級ブトキシカ
ルボニル−N−メチルアミノ)酪酸(3.26g)とイソプ
ロピルアミン(0.91g)からN−イソプロピル−4−
(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチルアミノ)
ブチルアミド(3.13g)を得る。
Rf:0.62(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (2)製造例18と同様の方法によりN−イソプロピル−N
−メチル−4−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−
メチルアミノ)ブチルアミドを得る。
Rf:0.72(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例24 (1)製造例18と同様にしてN−第三級ブトキシカルボニ
ル−β−アラニン(28.38g)とヨウ化メチル(102.1
g)からN−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−
β−アラニン・メチルエステル(15.12g)を得る。
Rf:0.61(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) (2)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン・メチルエステル(3.911g)のメタノール(2
0m)および水(20m)溶液に4℃で水素化ホウ素
ナトリウム(6.81g)を添加し、この混合物を室温で3
時間攪拌する。溶液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル
(100m)と0.5N塩酸(100m)に加える。分離し
た有機層を0.5N塩酸(100m)、水(100m)、炭
酸水素ナトリウム水溶液(100m)、水(100m)、
食塩水(100m)で順次洗浄し硫酸マグネシウムで乾
燥する。
溶媒を留去して、3−(N−第三級ブトキシカルボニル
−N−メチルアミノ)プロパノール(2.48g)を油状物
として得る。
Rf:0.28(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) (3)3−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル
アミノ)プロパノール(2.40g)とトリエチルアミン
(2.07g)の塩化メチレン(25m)溶液を0℃に冷却
し、塩化メタンスルホニル(1.883g)で処理する。こ
の溶液を0−4℃で1時間攪拌した後、減圧濃縮し、残
渣を酢酸エチル(25m)と水(50m)で分離させ
る。分離した有機層を0.5N塩酸(50m)、水(50m
)、炭酸水素ナトリウム水溶液(50m)、水(50m
)、食塩水(50m)で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。溶媒を留去して、3−(N−第三級ブ
トキシカルボニル−N−メチルアミノ)プロピルメタン
スルホネート(3.742g)を油状物として得る。
Rf:0.18(酢酸エチル) (4)60%水素化ナトリウム(336mg)の無水テトラヒドロ
フラン(12m)攪拌懸濁液に3−(N−第三級ブトキ
シカルボニル−N−メチルアミノ)プロピル メタンス
ルホネート(2.139g)のテトラヒドロフラン(10m
)溶液を5分間滴下する。この混合物を30分間攪拌し
た後、0℃に冷却し、次に0〜5℃で2−メチル−1−
プロパンチオール(758mg)を滴下する。この混合物の
温度を室温まで上昇させ、24時間攪拌する。さらに168m
gの水素化ナトリウムと379mgの2−メチル−1−プロパ
ンチオールを上記と同じ条件下で添加する。さらに16時
間攪拌した後、溶媒を留去し、得られた残渣を酢酸エチ
ル(100m)に溶解する。この溶液を0.5N塩酸(100
m)、水(100m)、炭酸水素ナトリウム水溶液(1
00m)、水(100m)、食塩水(100m)で順次洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサ
ンと酢酸エチル(6:4、v/v)の混合物で溶出し、3
−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチルアミ
ノ)プロピル イソブチル スルフィド(595mg)を油
状物として得る。
Rf:0.83(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) 製造例25 (1)2−(N−第三級ブトキシカルボニル)アミノエタ
ンチオール(3.55g)のN,N−ジメチルホルムアミド(1
0m)溶液に氷浴冷却下で2.2N水酸化ナトリウム溶液
(10m)を添加する。この混合物を室温で20分間攪拌
し、次に2−ヨードプロパン(3.74g)のN,N−ジメチ
ルホルムアミド(2m)溶液を氷浴冷却下で添加す
る。この混合物を室温で1時間攪拌した後、氷水(20m
)中に注ぐ。この混合物を10%塩酸で中和し、次に酢
酸エチル(40m)で2回抽出する。抽出液を水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮する。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し、ヘキサ
ンと酢酸エチル(8:1、v/v)の混合物で溶出して精
製し、2−(N−第三級ブトキシカルボニルアミノ)エ
チル イソプロピル スルフィド(3.88g)を得る。
Rf:0.46(ヘキサン:酢酸エチル、5:1、 v/v) (2)製造例18と同様の方法により2−(N−第三級ブト
キシカルボニル−N−メチルアミノ)エチル イソプロ
ピル スルフィドを得る。
Rf:0.55(ヘキサン:酢酸エチル、 5:1、v/v) 製造例26 (1)N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル−β−
アラニン(610m)の乾燥塩化メチレン(10m)溶液を
0℃に冷却し、これに塩化オキサリル(439m)と3
滴のN,N−ジメチルホルムアミドを添加する。この混合
物を同じ温度で30分間攪拌する。溶媒を留去後、残渣を
乾燥塩化メチレン(10m)に溶解し、この溶液に0℃
で2−メルカプトピリジン(350mg)を添加する。この
混合物を同じ温度で4時間攪拌する。溶媒を留去後、残
渣を酢酸エチル(50m)に溶解し、この溶液を0.5%
塩酸、1M炭酸水素ナトリウム溶液、水で順次洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去してS−2−
ピリジル 3−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−
メチルアミノ)プロパンチオエート(490mg)を無定形
粉末として得る。
Rf:0.61(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) (2)S−2−ピリジル 3−(N−第三級−ブトキシカ
ルボニル−N−メチルアミノ)プロパンチオエート(49
0mg)の乾燥テトラヒドロフラン(20m)溶液を0℃
に冷却し、これに臭化イソブチル(1.13g)とマグネシ
ウム(200mg)とから製造した臭化イソブチルマグネシ
ウムの乾燥テトラヒドロフラン(30m)溶液を滴下す
る。この混合物を0℃で1時間攪拌する。得られた反応
混合物を塩化アンモニウム飽和水溶液(50m)に注
ぐ。得られたスラリーをジエチルエーテル(50m)で
2回抽出し、抽出液を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥
し濃縮して1−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−
メチルアミノ)−3−オキソ−5−メチルヘキサン(40
0mg)を油状物として得る。
Rf:0.64(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) 製造例27 (1)エチレンジアミン(308g)とイソ酪酸メチル(87.1
5g)の混合物を80℃で15時間攪拌する。減圧下で過剰
のエチレンジアミンを除去した後、残渣を酢酸エチル
(100m)に溶解する。不溶物を濾別し、濾液を濃縮
し蒸留してN−イソブチリルエチレンジアミン(84.45
g)を得る。
沸点:106〜108℃/1mmHg (2)ジ−第三級ブチルジカルボネート(137.5g)の塩化
メチレン(1)溶液を氷浴冷却下でN−イソブチリル
エチレンジアミン(82.02g)の塩化メチレン溶液に滴
下する。混合物を室温で3時間攪拌した後、減圧下で溶
媒を留去する。残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(2:
1、v/v、1.6)から再結晶して、N−第三級ブトキシ
カルボニル−N′−イソブチリルエチレンジアミン(11
7.6g)を得る。
融点:116-117℃ (3)製造例18と同様にしてN−第三級ブトキシカルボニ
ル−N′−イソブチリルエチレンジアミン(105g)、
沃化メチル(85.2m)、60%水素化ナトリウム(38.3
g)からN−第三級ブトキシカルボニル−N′−イソブ
チリル−N,N′−ジメチルエチレンジアミン(129g)を
得る。
Rf:0.59(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例13〜27で得られた化合物の第三級ブトキシカルボ
ニル基を製造例2と同様の方法により除去し、得られた
トリフルオロ酢酸塩化合物を製造例33の出発化合物とし
て使用する。
製造例28 製造例15と同様にして下記化合物を得る。
(1)塩化アセチル(195.5μ)と1−ベンジルオキシカ
ルボニルペルヒドロピリダジン(550.7mg)から1−ア
セチル−2−ベンジルオキシカルボニルペルヒドロピリ
ダジン(647mg)を得る。
Rf:0.68(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (2)塩化ブチリル(287.3μ)と1−ベンジルオキシカ
ルボニルペルヒドロピリダジン(550.7mg)から1−ベ
ンジルオキシカルボニル−2−ブチリルペルヒドロピリ
ダジン(782mg)を得る。
Rf:0.79(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (3)1−ベンジルオキシカルボニルペルヒドロピリダジ
ン(220.3mg)と塩化イソブチリル(116μ)から1−
ベンジルオキシカルボニル−2−イソブチリルペルヒド
ロピリダジン(320mg)を得る。
Rf:0.84(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (4)1−ベンジルオキシカルボニルペルヒドロピリダジ
ン(220.3mg)と塩化ベンゾイル(127μ)から1−ベ
ンゾイル−2−ベンジルオキシカルボニルペルヒドロピ
リダジン(350mg)を得る。
Rf:0.76(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (5)1−ベンジルオキシカルボニルペルヒドロピリダジ
ン(220.3mg)と塩化シクロヘキシルカルボニル(148μ
)から1−ベンジルオキシカルボニル−2−シクロヘ
キシルカルボニルペルヒドロピリダジン(427mg)を得
る。
Rf:0.83(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (6)塩化アセチル(78.2μ)と1−ベンジルオキシカ
ルボニルピラゾリジン(206.2mg)から1−アセチル−
2−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(222mg)
を得る。
Rf:0.66(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (7)1−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(1.237
g)と塩化イソブチリル(696μ)から1−ベンジル
オキシカルボニル−2−イソブチリルピラゾリジン(1.
796g)を得る。
Rf:0.82(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (8)1−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(825m
g)と塩化メトキシアセチル(366μ)から1−ベンジ
ルオキシカルボニル−2−メトキシアセチルオピラゾリ
ジン(973mg)を得る。
Rf:0.74(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (9)1−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(1.237
g)と塩化モルホリノカルボニル(0.897g)から1−
ベンジルオキシカルボニル−2−モルホリノカルボニル
ピラゾリジン(1.797g)を得る。
Rf:0.76(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) 製造例29 製造例1と同様にして下記の化合物を得る。
(1)1−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(1.237
g)と4−ジメチルアミノ酪酸塩酸塩(1.01g)から1
−ベンジルオキシカルボニル−2−(4−ジメチルアミ
ノブチリル)ピラゾリジン(1.47g)を得る。
Rf:0.62(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (2)1−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(825m
g)と馬尿酸(717mg)から1−ベンジルオキシカルボニ
ル−2−ベンゾイルアミノアセチルピラゾリジン(1.36
g)を得る。
Rf:0.68(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (3)1−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(2.475
g)とN−第三級ブトキシカルボニル−L−ロイシン
(2.988g)から1−ベンジルオキシカルボニル−2−
(N−第三級ブトキシカルボニル−L−ロイシル)ピラ
ゾリジン(4.25g)を得る。
Rf:0.88(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (4)1−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(1.718
g)とN−アセチル−L−ロイシン(1.442g)から1
−ベンジルオキシカルボニル−2−(N−アセチル−L
−ロイシル)ピラゾリジン(2.35g)を得る。
Rf:0.70(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (5)1−ベンジルオキシカルボニルピラゾリジン(2.475
g)とNα−第三級ブトキシカルボニル−Nim−トシル
−L−ヒスチジン(4.913g)から1−ベンジルオキシ
カルボニル−2−(Nα−第三級ブトキシカルボニル−
im−トシル−L−ヒスチジル)ピラゾリジン(2.442
g)を得る。
Rf:0.72(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) 製造例28および29で得られた化合物のベンジルオキシカ
ルボニル基を製造例10と同様の方法により除去し、この
ようにして得られた化合物を製造例33の出発化合物とし
て使用する。
製造例30 製造例1と同様にしてピペラジン(1.034g)と第三級
ブトキシカルボニルグリシン(2.102g)から第三級ブ
トキシカルボニルグリシルピペラジン(2.13g)を得
る。
融点:169-170.5℃ Rf:0.48(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) 製造例31 2(S)−ヒドロキシ−3−フェニルプロピオン酸ベン
ジル(256mg)の乾燥テトラヒドロフラン(10m)溶
液にクロロギ酸トリクロロメチル(0.122m)を添加
する。混合物を0℃に冷却し、モルホリン(348mg)を
添加する。この混合物を0℃で3時間攪拌する。溶媒を
留去後、残渣を酢酸エチル(40m)に溶解する。この
溶液を5%塩酸、1M炭酸水素ナトリウム溶液、水で順
次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフフィーに付し、
n−ヘキサン中25%酢酸エチルで溶出して精製し、2
(S)−モルホリノカルボニルオキシ−3−フェニルプ
ロピオン酸ベンジル(367mg)を油状物として得る。
Rf:0.52(酢酸エチル:n−ヘキサン、 2:1、v/v) 製造例32 2(S)−ヒドロキシ−3−フェニルプロピオン酸ベン
ジル(513mg)の乾燥テトラヒドロフラン(10m)溶
液にクロロギ酸トリクロロメチル(0.244m)を添加
する。混合物を18時間還流した後、0℃に冷却し、これ
に4−(N−メチル−β−アラニル)モルホリン・トリ
フルオロ酢酸塩(1.44g)とトリエチルアミン(701m
g)の乾燥テトラヒドロフラン(10m)溶液を添加す
る。混合物を室温で2時間攪拌する。溶媒を留去後、残
渣を酢酸エチル(50m)に溶解する。この溶液を50%
塩酸、1M炭酸水素ナトリウム溶液、水で順次洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下において濃縮する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n
−ヘキサン中50%酢酸エチルで溶出して精製し、2
(S)−[N−(2−モルホリノカルボニルエチル)−
N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプ
ロピオン酸ベンジル(726mg)を油状物として得る。
Rf:0.49(酢酸エチル) 製造例33 製造例31または32と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2(S)−(N,N−ジエチルアミノカルボニルオキ
シ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.64(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (2)2(S)−(2−メトキシエチルアミノカルボニル
オキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.63(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (3)2(S)−(N−メトキシカルボニルメチル−N−
メチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル Rf:0.29(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (4)2(S)−[N−(2−ヒドロキシエチル)−N−
メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル Rf:0.67(酢酸エチル) (5)2(S)−(N′−アセチル−N′−メチル−N−
メチルヒドラジノカルボニルオキシ)−3−フェニルプ
ロピオン酸ベンジル Rf:0.38(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) (6)2(S)−(2(S)−メトキシカルボニルピロリ
ジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオ
ン酸ベンジル Rf:0.36(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (7)2(S)−(N−n−ブチル−N−エチルアミノカ
ルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.69(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (8)2(S)−(N−メチル−N−フェネチルアミノカ
ルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.58(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (9)2(S)−(2(R)−メトキシカルボニルピロリ
ジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオ
ン酸ベンジル Rf:0.35(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (10)2(S)−(N−n−ブチル−N−メチルアミノカ
ルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.67(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (11)2(S)−(N−メチル−N−フェニルアミノカル
ボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.65(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (12)2(S)−(2(S)−ヒドロキシメチルピロリジ
ン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン
酸ベンジル Rf:0.19(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (13)2(S)−ヘキサメチレンイミノカルボニルオキシ
−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.62(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (14)2(S)−(2(R)−ヒドロキシメチルピロリジ
ン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン
酸ベンジル Rf:0.16(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (15)2(S)−[N−(1(R)−モルホリノカルボニ
ルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.58(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:3、v/v) (16)2(S)−[N−(2−ジメチルアミノカルボニル
エチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.43(酢酸エチル) (17)2(S)−(N−モルホリノカルボニルメチル−N
−メチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロ
ピオン酸ベンジル Rf:0.35(酢酸エチル) (18)2(S)−(N−ジメチルアミノカルボニルメチル
−N−メチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニル
プロピオン酸ベンジル Rf:0.44(酢酸エチル) (19)2(S)−[N−(n−ブチルアミノカルボニルメ
チル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸ベンジル 融点:48-50℃ Rf:0.61(酢酸エチル:n−ヘキサン、 3:1、v/v) (20)2(S)−[N−(4−ピコリルアミノカルボニル
メチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオン酸ベンジル 融点:98-100℃ Rf:0.60(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (21)2(S)−[N−(N−メチル−N−フェネチルア
ミノカルボニルメチル)−N−メチルアミノカルボニル
オキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.52(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:3、v/v) (22)2(S)−(2(R)−ジメチルアミノカルボニル
ピロリジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプ
ロピオン酸ベンジル Rf:0.31(酢酸エチル) (23)2(S)−(6(S)−2−オキソ−1,4−ジアザ
ビシクロ[4.3.0]ノナン−4−カルボニルオキシ)−
3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.42(酢酸エチル) (24)2(S)−(4−メチル−3−オキソピペラジン−
1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベ
ンジル Rf:0.41(酢酸エチル) (25)2(S)−(3−オキソピペラジン−1−カルボニ
ルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.38(酢酸エチル) (26)2(S)−(N−イソブトキシカルボニルメチル−
N−メチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプ
ロピオン酸ベンジル Rf:0.69(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (27)2(S)−(N−メチル−N−フェネチルオキシカ
ルボニルメチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニ
ルプロピオン酸ベンジル Rf:0.72(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (28)2(S)−[N−メチル−N−(5−メチル−2−
オキソヘキシル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.62(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (29)2(S)−[N−メチル−N−(2−ヒドロキシ−
5−メチルヘキシル)アミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.42(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (30)2(S)−[N−メチル−N−(2−オキソプロポ
キシカルボニルメチル)−アミノカルボニルオキシ]−
3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.82(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (31)2(S)−[N−{2−(エトキシカルボニルメチ
ルアミノカルボニル)エチル}−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.88(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (32)2(S)−(2(S)−メトキシメチルピロリジン
−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸
ベンジル Rf:0.92(酢酸エチル) (33)2(S)−[N−{2−(2−モルホリノエチルア
ミノカルボニル)エチル}−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.59(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (34)2(S)−[N−{2−(2−ピコリルアミノカル
ボニル)エチル}−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.21(酢酸エチル) (35)2(S)−[N−[2−[N−{2−(2−ピリジ
ル)エチル}−N−メチルアミノカルボニル]エチル]
−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸ベンジル Rf:0.15(酢酸エチル) (36)2(S)−[N−{2−(3−ピコリルアミノカル
ボニル)エチル}−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.11(酢酸エチル) (37)2(S)−[N−[2−{N−(2−ピリジル)−
N−メチルアミノカルボニル}エチル]−N−メチルア
ミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベ
ンジル Rf:0.25(酢酸エチル) (38)2(S)−[N−(2−イソプロピルアミノカルボ
ニルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−
3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.67(酢酸エチル) (39)2(S)−[N−{2−(4−メチルピペラジン−
1−カルボニル)エチル}−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.47(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (40)2(S)−[N−(2−チオモルホリノカルボニル
エチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.76(酢酸エチル) (41)2(S)−[N−{2−(2−チアゾリルアミノカ
ルボニル)エチル}−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.83(酢酸エチル) (42)2(S)−[N−{2−(1,2,3,6−テトラヒドロ
ピリジン−1−カルボニル)エチル}−N−メチルアミ
ノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベン
ジル Rf:0.83(酢酸エチル) (43)2(S)−(2−イソプロピルカルバモイルピラゾ
リジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル Rf:0.73(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (44)2(S)−[N′−(メチルカルバモイル)−N,
N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.68(酢酸エチル) (45)2(S)−[N′−(N,N′−ジメチルカルバモイ
ル)−N,N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ]
−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.79(酢酸エチル) (46)2(S)−[N′−(モルホリノカルボニル)−N,
N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.36(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (47)2(S)−[N′−(イソプロピルカルバモイル)
−N,N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.77(酢酸エチル) (48)2(S)−[N′−(ベンジルカルバモイル)−N,
N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.42(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (49)2(S)−(N′−イソブトキシカルボニル−N,
N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ)−3−フ
ェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.36(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (50)2(S)−[N−(2−ヒドロキシエチル)−N−
エチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル Rf:0.64(酢酸エチル) (51)2(S)−[N−メチル−N−[2−{N−(モル
ホリノカルボニル)−N−メチルアミノ}エチル]アミ
ノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベン
ジル Rf:0.43(酢酸エチル) (52)2(S)−[N−メチル−N−{2−(N−イソブ
チリル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル
オキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.57(酢酸エチル) (53)2(S)−[N−メチル−N−{2−(N−イソバ
レリル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル
オキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.64(酢酸エチル) (54)2(S)−[N−メチル−N−[4−{N−(モル
ホリノカルボニル)−N−メチルアミノ}ブチル]アミ
ノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベン
ジル Rf:0.34(酢酸エチル) (55)2(S)−[N−(4−モルホリノカルボニルブチ
ル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.34(酢酸エチル) (56)2(S)−ヒドロキシ−3−フェニルプロピオン酸
ベンジル(513mg)と3−ヒドロキシピペリジン塩酸塩
(551mg)とトリエチルアミン(405mg)から2(S)−
(3−ヒドロキシピペリジノカルボニルオキシ)−3−
フェニルプロピオン酸ベンジル(490mg)を得る。
Rf:0.70(酢酸エチル) (57)2(S)−[N−メチル−N−(2−フェナシルオ
キシカルボニルエチル)アミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.78(酢酸エチル) (58)2(S)−[N−{4−(N−メチル−N−イソプ
ロピルカルバモイル)ブチル}−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.59(酢酸エチル) (59)2(S)−[N−(4−イソプロピルカルバモイル
ブチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.56(酢酸エチル) (60)2(S)−[N−メチル−N−[3−{N−(モル
ホリノカルボニル)−N−メチルアミノ}プロピル]ア
ミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベ
ンジル Rf:0.31(酢酸エチル) (61)2(S)−[N−メチル−N−(3−モルホリノカ
ルボニルプロピル)アミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.20(酢酸エチル:n−ヘキサン、 5:1、v/v) (62)2(S)−[N−メチル−N−{3−(N−イソプ
ロピル−N−メチルカルバモイル)プロピル}アミノカ
ルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.48(酢酸エチル:n−ヘキサン、 5:1、v/v) (63)2(S)−ヒドロキシ−3−フェニルプロピオン酸
ベンジル(1.36g)とN−第三級ブトキシカルボニル−
N,N′−ジメチルエチレンジアミン(1.0g)から2
(S)−[N−メチル−N−{2−(N−第三級ブトキ
シカルボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカル
ボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル
(1.6g)を得る。
Rf:0.59(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) (64)2(S)−[N−(3−イソブチルチオプロピル)
−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸ベンジル Rf:0.53(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) (65)2(S)−[N−メチル−N−[5−{N−(モル
ホリノカルボニル)−N−メチルアミノ}ペンチル]ア
ミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベ
ンジル Rf:0.43(酢酸エチル) (66)2(S)−[N−メチル−N−(3−イソプロピル
カルバモイルプロピル)アミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.32(酢酸エチル:n−ヘキサン、 5:1、v/v) (67)2(S)−[N−メチル−N−(3−オキソ−5−
メチルヘキシル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.52(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (68)2(S)−[N−(2−イソプロピルチオエチル)
−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸ベンジル Rf:0.46(n−ヘキサン:酢酸エチル、 2:1、v/v) (69)2(S)−(2−アセチルペルヒドロピリダジン−
1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベ
ンジル Rf:0.41(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (70)2(S)−(2−ブチリルペルヒドロピリダジン−
1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベ
ンジル Rf:0.68(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (71)2(S)−(2−イソブチリルペルヒドロピリダジ
ン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン
酸ベンジル Rf:0.66(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (72)2(S)−(2−ベンゾイルペルヒドロピリダジン
−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸
ベンジル Rf:0.66(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (73)2(S)−(2−シクロヘキシルカルボニルペルヒ
ドロピリダジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニ
ルプロピオン酸ベンジル Rf:0.72(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (74)2(S)−(2−アセチルピラゾリジン−1−カル
ボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.25(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (75)2(S)−(2−イソブチリルピラゾリジン−1−
カルボニルオキシ)3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.50(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (76)2(S)−(2−メトキシアセチルピラゾリジン−
1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベ
ンジル Rf:0.20(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (77)2(S)−[2−(4−ジメチルアミノブチリル)
ピラゾリジン−1−カルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸ベンジル Rf:0.17(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (78)2(S)−(2−ベンゾイルアミノアセチルピラゾ
リジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル Rf:0.19(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (79)2(S)−(2−メチルカルバモイルピラゾリジン
−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸
ベンジル Rf:0.67(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (80)2(S)−(2−モルホリノカルボニルピラゾリジ
ン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン
酸ベンジル Rf:0.45(酢酸エチル) (81)2(S)−[2−(N−第三級ブトキシカルボニル
−L−ロイシル)ピラゾリジン−1−カルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.50(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (82)2(S)−[2−(N−アセチル−L−ロイシル)
ピラゾリジン−1−カルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸ベンジル Rf:0.30(酢酸エチル) (83)2(S)−[2−(Nα−第三級ブトキシカルボニ
ル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)ピラゾリジン−1
−カルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベン
ジル Rf:0.18(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (84)2(S)−(4−メチルピペラジン−1−カルボニ
ルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.25(酢酸エチル) (85)2(S)−(4−メチルカルバモイルピペラジン−
1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベ
ンジル Rf:0.21(酢酸エチル) (86)2(S)−[4−(第三級ブトキシカルボニルグリ
シル)ピペラジン−−1−カルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.33(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (87)2(S)−[4−(モルホリノカルボニル)ピペラ
ジン−1−カルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオ
ン酸ベンジル Rf:0.49(酢酸エチル) (88)2(S)−(3−ヒドロキシピロリジン−1−カル
ボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.61(酢酸エチル) (89)2(S)−(2−オキサゾリジノン−3−カルボニ
ルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.41(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (90)2(S)−(1,2,3,6−テトラヒドピリジン−1−
カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジ
ル Rf:0.81(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (91)2(S)−(3−チアゾリジンカルボニルオキシ)
−3−フェニルプロピオン酸ベンジル 融点:75-75.5℃ Rf:0.75(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (92)2(S)−チオモルホリノカルボニルオキシ−3−
フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.82(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) (93)2(S)−(2(R)−メチル−3(R)−ジメチ
ルカルバモイルモルホリノカルボニルオキシ)−3−フ
ェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.64(酢酸エチル) (94)2(S)−(2(S)−イソブチル−4−メチル−
3−オキソピペラジン−1−カルボニルオキシ)−3−
フェニルプロピオン酸ベンジル Rf:0.73(酢酸エチル) (95)2(S)−(6(S)−3(S)−モルホリノカル
ボニルメチル−2−オキソ−1,4−ジアザビシクロ[4.
3.0]ノナン−4−カルボニルオキシ)−3−フェニル
プロピオン酸ベンジル Rf:0.78(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例34 2(S)−[N−メチル−N−(2−フェナシルオキシ
カルボニルエチル)アミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸ベンジル(1.0g)の酢酸(10m
)溶液に室温で少しずつ亜鉛末(1.0g)を添加す
る。2時間攪拌した後、亜鉛末(0.2g)を添加する。
反応混合物を室温で一夜攪拌し、濾過して濾液を減圧濃
縮する。残渣を酢酸エチル(30m)と0.5N塩酸(30
m)に溶解する。有機層を1N水酸化ナトリウム溶液
(20m)で3回抽出する。抽出水溶液を合わせて1N
塩酸でpH2に調整しクロロホルム(50m)で3回抽出
する。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥する。溶媒を留去して、2(S)−[N−メチル−N
−(2−カルボキシエチル)アミノカルボニルオキシ]
−3−フェニルプロピオン酸ベンジル(543mg)を油状
物として得る。
Rf:0.11(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) 製造例35 2(S)−[N−メチル−N−(2−カルボキシエチ
ル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオ
ン酸ベンジル(460mg)とイソブチルアミン(143m)
の無水塩化メチレン(10m)混合物にN−エチル−
N′−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド
塩酸塩(274mg)を0−5℃で少しずつ添加する。この
混合物を上記と同じ温度で3時間攪拌した後、溶媒を減
圧留去し、残渣を酢酸エチル(30m)に溶解する。溶
液を0.5N塩酸(30m)、水(30m)、炭酸水素ナ
トリウム水溶液(30m)、水(30m)、食塩水(30
m)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させる。
溶媒を留去して、2(S)−[N−メチル−N−(2−
イソブチルカルバモイルエチル)アミノカルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル(440mg)を
油状物として得る。
Rf:0.59(酢酸エチル) 製造例36 製造例35と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2(S)−[N−メチル−N−(2−カルボキシエ
チル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル(460mg)とN−メチルアニリン(154m
g)から2(S)−[N−{2−(N−メチル−N−フ
ェニルカルバモイル)エチル}−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル
(510mg)を得る。
Rf:0.74(酢酸エチル) (2)2(S)−[N−メチル−N−(2−カルボキシエ
チル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル(846mg)とN−メチル−N−イソブチ
ルアミン(230mg)から2(S)−[N−{2−(N−
メチル−N−イソブチルカルバモイル)エチル}−N−
メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル(586mg)を得る。
Rf:0.70(酢酸エチル) (3)2(S)−[N−メチル−N−(2−カルボキシエ
チル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル(771mg)とN−メチル−N−(2−ピ
コリル)アミン(257mg)から2(S)−[N−[2−
{N−メチル−N−(2−ピコリル)カルバモイル}エ
チル]−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸ベンジル(941mg)を得る。
Rf:0.26(酢酸エチル) (4)2(S)−[N−メチル−N−(2−カルボキシエ
チル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル(578mg)とシクロペンチルアミン(154
mg)から2(S)−[N−(2−シクロペンチルカルバ
モイルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]
−3−フェニルプロピオン酸ベンジル(534mg)を得
る。
Rf:0.33(酢酸エチル) (5)2(S)−[N−メチル−N−(2−カルボキシエ
チル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル(578mg)と2−メトキシエチルアミン
(136mg)から2(S)−[N−{2−(2−メトキシ
エチルカルバモイル)エチル}−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル
(517mg)を得る。
Rf:0.60(酢酸エチル) (6)2(S)−[N−メチル−N−(2−カルボキシエ
チル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジル(787mg)と4−アミノモルホリン(251
mg)から2(S)−[N−(2−モルホリノカルバモイ
ルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオン酸ベンジル(721mg)を得る。
Rf:0.09(酢酸エチル) 製造例37 2(S)−(3−ヒドロキシピペリジノカルボニルオキ
シ)−3−フェニルプロピオン酸ベンジル(477mg)の
塩化メチレン(10m)溶液に二クロム酸ピリジニウム
(0.99g)を添加し、室温で一夜攪拌する。この混合物
をフロリシル(Florisil−商標−フロリジン社製)カラ
ム(60-100メッシュ)に通してジエチルエーテルで溶出
し次に塩化メチレンで溶出する。減圧下で濃縮して、2
(S)−(3−オキソピペリジノカルボニルオキシ)−
3−フェニルプロピオン酸ベンジル(278mg)を得る。
Rf:0.65(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) 製造例38 製造例37と同様にして、2(S)−(3−オキソピロリ
ジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオ
ン酸ベンジルを得る。
Rf:0.55(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) 製造例39 2(S)−[N−(3−イソブチルチオプロピル)−N
−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロ
ピオン酸ベンジル(120mg)の塩化メチレン(3m)
氷冷溶液にm−クロロ過安息香酸(117mg)を少しずつ
添加する。添加完了後、冷却浴を取り去り、反応混合物
を4時間攪拌する。溶液を酢酸エチル(20m)で希釈
し、10%硫酸水素ナトリウム水溶液(20m)で2回、
水(20m)、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液(20m
)で2回、水(20m)、食塩水で順次洗浄し、次に
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して、2
(S)−[N−(3−イソブチルスルホニルプロピル)
−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸ベンジル(145mg)を油状物として得る。
Rf:0.15(n−ヘキサン:酢酸エチル、 1:1、v/v) 製造例40 製造例39と同様にして、2(S)−[N−(2−イソプ
ロピルスルホニルエチル)−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジルを得
る。
Rf:0.58(酢酸エチル:n−ヘキサン、 2:1、v/v) 製造例41 2(S)−(3−チアゾリジンカルボニルオキシ)−3
−フェニルプロピオン酸ベンジル(371mg)の塩化メチ
レン(7m)溶液を0℃に冷却し、80%m−クロロ過
安息香酸(215mg)を添加する。混合物を0℃で30分間
攪拌する。次に10%亜硫酸ナトリウム水溶液と塩化メチ
レンを添加し、この混合物を分離する。分離した水層を
塩化メチレンで2回抽出する。抽出液を合わせて炭酸水
素ナトリウム飽和溶液と塩化ナトリウム飽和溶液で順次
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮す
る。得られた結晶をn−ヘキサンで洗浄し、2(S)−
(1−オキソ−チアゾリジン−3−カルボニルオキシ)
−3−フェニルプロピオン酸ベンジル(350mg)を得
る。
融点:84-85℃ Rf:0.29(酢酸エチル) 製造例42 製造例41と同様にして、2(S)−(1−オキソチオモ
ルホリノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン
酸ベンジルを得る。
融点:100-101℃ Rf:0.24(酢酸エチル) 製造例43 2(S)−(3−チアゾリジンカルボニルオキシ)−3
−フェニルプロピオン酸ベンジル(371mg)の塩化メチ
レン(7m)溶液に80%m−クロロ過安息香酸(431m
g)を添加する。混合物を室温で2日間攪拌する。次に1
0%亜硫酸ナトリウム水溶液と塩化メチレンを添加し
て、混合物を分離する。水層を塩化メチレンで抽出す
る。抽出液を合わせて炭酸水素ナトリウム飽和溶液で2
回、塩化ナトリウム飽和溶液で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下で濃縮して、2(S)−(1,1
−ジオキソチアゾリジン−3−カルボニルオキシ)−3
−フェニルプロピオン酸ベンジル(330mg)を得る。
融点:110.5-111.5℃ Rf:0.84(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) 製造例44 製造例43と同様にして、2(S)−(1,1−ジオキソチ
オモルホリノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オン酸ベンジルを得る。
融点:77-78℃ Rf:0.46(酢酸エチル:n−ヘキサン、 1:1、v/v) 製造例45 2(S)−モルホリノカルボニルオキシ−3−フェニル
プロピオン酸ベンジル(300mg)のメタノール(20m
)溶液を10%パラジウム−炭素(30mg)で3気圧の水
素ガスを吹き込みながら1時間水素添加する。その溶液
を濾過後、濾液を減圧濃縮して2(S)−モルホリノカ
ルボニルオキシ−3−フェニルプロピオン酸(220mg)
を油状物として得る。
Rf:0.59(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) 製造例46 2(S)−[N−(2−モルホリノカルボニルエチル)
−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸ベンジル(726mg)のメタノール(150m
)及び水(10m)の溶液を10%パラジウム−炭素
(80mg)で3気圧の水素ガスを吹き込みながら1時間水
素添加する。その溶液を濾過後、濾液を減圧濃縮して2
(S)−[N−(2−モルホリノカルボニルエチル)−
N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプ
ロピオン酸(573mg)を得る。
融点:120-124℃ Rf:0.67(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) 製造例47 製造例45又は46と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2(S)−(N,N−ジエチルアミノカルボニルオキ
シ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.71(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (2)2(S)−(2−メトキシエチルアミノカルボニル
オキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.55(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (3)2(S)−(N−メトキシカルボニルメチル−N−
メチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オン酸 Rf:0.60(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (4)2(S)−[N−(2−ヒドロキシエチル)−N−
メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸 Rf:0.38(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (5)2(S)−(N′−アセチル−N′−メチル−N−
メチルヒドラジノカルボニルオキシ)−3−フェニルプ
ロピオン酸 Rf:0.64(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (6)2(S)−(2(S)−メトキシカルボニルピロリ
ジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオ
ン酸 Rf:0.50(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (7)2(S)−(N−n−ブチル−N−エチルアミノカ
ルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.49(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (8)2(S)−(N−メチル−N−フェネチルアミノカ
ルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.52(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (9)2(S)−(2(R)−メトキシカルボニルピロリ
ジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオ
ン酸 Rf:0.50(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (10)2(S)−(N−n−ブチル−N−メチルアミノカ
ルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.52(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (11)2(S)−(N−メチル−N−フェニルアミノカル
ボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.52(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (12)2(S)−(2(S)−ヒドロキシメチルピロリジ
ン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン
酸 Rf:0.31(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (13)2(S)−ヘキサメチレンイミノカルボニルオキシ
−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.52(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (14)2(S)−(2(R)−ヒドロキシメチルピロリジ
ン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン
酸 Rf:0.28(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (15)2(S)−[N−(1(R)−モルホリノカルボニ
ルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオン酸 Rf:0.26(メタノール/クロロホルム、 10%、v/v) 0.75(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (16)2(S)−[N−(2−ジメチルアミノカルボニル
エチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオン酸 mp:138〜144℃ Rf:0.63(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (17)2(S)−(N−モルホリノカルボニルメチル−N
−メチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロ
ピオン酸 Rf:0.16(メタノール/クロロホルム、 10%、v/v) 0.53(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (18)2(S)−(N−ジメチルアミノカルボニルメチル
−N−メチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニル
プロピオン酸 Rf:0.51(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (19)2(S)−[N−(n−ブチルアミノカルボニルメ
チル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸 Rf:0.53(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (20)2(S)−[N−(4−ピコリルアミノカルボニル
メチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオン酸 Rf:0.08(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (21)2(S)−[N−(N−メチル−N−フェネチルア
ミノカルボニルメチル)−N−メチルアミノカルボニル
オキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.66(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (22)2(S)−(2(R)−ジメチルアミノカルボニル
ピロリジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプ
ロピオン酸 Rf:0.38(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (23)2(S)−(6(S)−2−オキソ−1,4−ジアザ
ビシクロ[4.3.0]ノナン−4−カルボニルオキシ)−
3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.44(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (24)2(S)−(4−メチル−3−オキソピペラジン−
1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.25(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (25)2(S)−(3−オキソピペラジン−1−カルボニ
ルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.30(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (26)2(S)−(N−イソブトキシカルボニルメチル−
N−メチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプ
ロピオン酸 Rf:0.29(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (27)2(S)−(N−メチル−N−フェネチルオキシカ
ルボニルメチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニ
ルプロピオン酸 Rf:0.31(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (28)2(S)−[N−メチル−N−(5−メチル−2−
オキソヘキシル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオン酸 Rf:0.18(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (29)2(S)−[N−メチル−N−(2−ヒドロキシ−
5−メチルヘキシル)アミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオン酸 Rf:0.19(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (30)2(S)−[N−メチル−N−(2−オキソプロポ
キシカルボニルメチル)アミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオン酸 Rf:0.24(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (31)2(S)−[N−{2−(エトキシカルボニルメチ
ルアミノカルボニル)エチル}−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.14(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (32)2(S)−(2(S)−メトキシメチルピロリジン
−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.57(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (33)2(S)−[N−{2−(2−モルホリノエチルア
ミノカルボニル)エチル}−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.16(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (34)2(S)−[N−{2−(2−ピコリルアミノカル
ボニル)エチル}−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.31(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (35)2(S)−[N−[2−[N−{2−(2−ピリジ
ル)エチル}−N−メチルアミノカルボニル]エチル]
−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸 Rf:0.31(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (36)2(S)−[N−{2−(3−ピコリルアミノカル
ボニル)エチル}−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.16(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (37)2(S)−[N−[2−{N−(2−ピリジル)−
N−メチルアミノカルボニル}エチル]−N−メチルア
ミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.34(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (38)2(S)−[N−(2−イソプロピルアミノカルボ
ニルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−
3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.40(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (39)2(S)−[N−{2−(4−メチルピペラジン−
1−カルボニル)エチル}−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.12(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (40)2(S)−(2−イソプロプルカルバモイルピラゾ
リジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オン酸 Rf:0.54(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (41)2(S)−[N′−(メチルカルバモイル)−N,
N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸 Rf:0.51(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (42)2(S)−[N′−(N,N−ジメチルカルバモイ
ル)−N,N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ]
−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.63(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (43)2(S)−[N′−(モルホリノカルボニル)−N,
N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸 Rf:0.08(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (44)2(S)−[N′−(イソプロピルカルバモイル)
−N,N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオン酸 Rf:0.53(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (45)2(S)−[N′−(ベンジルカルバモイル)−N,
N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸 Rf:0.40(酢酸エチル:ベンゼン:酢酸、 20:20:1、v/v) (46)2(S)−(N′−イソブトキシカルボニル−N,
N′−ジメチルヒドラジノカルボニルオキシ)−3−フ
ェニルプロピオン酸 Rf:0.34(酢酸エチル:ベンゼン:酢酸、 20:20:1、v/v) (47)2(S)−[N−(2−ヒドロキシエチル)−N−
エチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オン酸 Rf:0.32(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (48)2(S)−[N−メチル−N−[2−{N−(モル
ホリノカルボニル)−N−メチルアミノ}エチル]アミ
ノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.33(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (49)2(S)−[N−メチル−N−{2−(N−イソブ
チリル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル
オキシ]−3−フェニルプロピオン酸 融点:104-109℃ Rf:0.43(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (50)2(S)−[N−メチル−N−{2−(N−イソバ
レリル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカルボニル
オキシ]−3−フェニルプロピオン酸 融点:108-110℃ Rf:0.54(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (51)2(S)−[N−メチル−N−[4−{N−(モル
ホリノカルボニル)−N−メチルアミノ}ブチル]アミ
ノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.21(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (52)2(S)−[N−{2−(N−メチル−N−フェニ
ルカルバモイル)エチル}−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.25(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (53)2(S)−[N−{2−(N−メチル−N−イソブ
チルカルバモイル)エチル}−N−メチルアミノカルボ
ニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.35(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (54)2(S)−[N−(4−モルホリノカルボニルブチ
ル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオン酸 Rf:0.27(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (55)2(S)−(3−オキソピペリジノカルボニルオキ
シ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.52(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (56)2(S)−[N−メチル−N−(2−イソブチルカ
ルバモイルエチル)−アミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオン酸 Rf:0.24(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (57)2(S)−[N−{4−(N−メチル−N−イソプ
ロピルカルバモイル)ブチル}−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.44(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (58)2(S)−[N−(4−イソプロピルカルバモイル
ブチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−
フェニルプロピオン酸 Rf:0.30(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (59)2(S)−[N−メチル−N−[3−{N−(モル
ホリノカルボニル)−N−メチルアミノ}プロピル]ア
ミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.21(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (60)2(S)−[N−メチル−N−(3−モルホリノカ
ルボニルプロピル)アミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸 Rf:0.18(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (61)2(S)−[N−メチル−N−{3−(N−イソプ
ロピル−N−メチルカルバモイル)プロピル}アミノカ
ルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.19(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (62)2(S)−[N−メチル−N−{2−(N−第三級
ブトキシカルボニル−N−メチルアミノ)エチル}アミ
ノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.52(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (63)2(S)−[N−[2−{N−メチル−N−(2−
ピコリル)カルバモイル}エチル]−N−メチルアミノ
カルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.19(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (64)2(S)−[N−(2−シクロペンチルカルバモイ
ルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオン酸 Rf:0.30(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (65)2(S)−[N−{2−(2−メトキシエチルカル
バモイル)エチル}−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.21(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (66)2(S)−[N−(2−モルホリノカルバモイルエ
チル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸 Rf:0.16(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (67)2(S)−[N−メチル−N−[5−{N−(モル
ホリノカルボニル)−N−メチルアミノ}ペンチル]ア
ミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.33(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (68)2(S)−[N−メチル−N−(3−イソプロピル
カルバモイルプロピル)アミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオン酸 Rf:0.16(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (69)2(S)−[N−メチル−N−(3−オキソ−5−
メチルヘキシル)アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオン酸 Rf:0.17(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (70)2(S)−(2−アセチルペルヒドロピリダジン−
1−カルボニルオキシ−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.41(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (71)2(S)−(2−ブチリルペルヒドロピリダジン)
−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.52(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (72)2(S)−(2−イソブチリルペルヒドロピリダジ
ン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン
酸 Rf:0.49(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (73)2(S)−(2−ベンゾイルペルヒドロピリダジン
−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.47(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (74)2(S)−(2−シクロヘキシルカルボニルペルヒ
ドロピリダジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニ
ルプロピオン酸 Rf:0.55(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (75)2(S)−(2−アセチルピラゾリジン−1−カル
ボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.22(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (76)2(S)−(2−イソブチリルピラゾリジン−1−
カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.36(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (77)2(S)−(2−メトキシアセチルピラゾリジン−
1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.32(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (78)2(S)−[2−(4−ジメチルアミノブチリル)
ピラゾリジン−1−カルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸 Rf:0.17(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (79)2(S)−(2−ベンゾイルアミノアセチルピラゾ
リジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オン酸 Rf:0.32(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (80)2(S)−(2−メチルカルバモイルピラゾリジン
−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.48(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (81)2(S)−(2−モルホリノカルボニルピラゾリジ
ン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン
酸 Rf:0.21(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (82)2(S)−[2−(N−第三級ブトキシカルボニル
−L−ロイシル)ピラゾリジン−1−カルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.40(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (83)2(S)−[2−(N−アセチル−L−ロイシル)
ピラゾリジン−1−カルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸 Rf:0.22(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (84)2(S)−[2−(Nα−第三級ブトキシカルボニ
ル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)ピラゾリジン−1
−カルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.16(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (85)2(S)−(4−メチルピペラジン−1−カルボニ
ルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.18(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (86)2(S)−(4−メチルカルバモイルピペラジン−
1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.11(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (87)2(S)−[4−(第三級ブトキシカルボニルグリ
シル)ピペラジン−1−カルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオン酸 Rf:0.24(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (88)2(S)−[4−(モルホリノカルボニル)ピペラ
ジン−1−カルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオ
ン酸 Rf:0.13(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (89)2(S)−(3−オキソピロリジン−1−カルボニ
ルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.46(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (90)2(S)−(2−オキサゾリジノン−3−カルボニ
ルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.15(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (91)2(S)−(2(R)−メチル−3(R)−ジメチ
ルカルボニルモルホリノカルボニルオキシ)−3−フェ
ニルプロピオン酸 Rf:0.40(クロロホルム:メタノール:酢酸、 30:1:1、v/v) (92)2(S)−(2(S)−イソブチル−4−メチル−
3−オキソピペラジン−1−カルボニルオキシ)−3−
フェニルプロピオン酸 Rf:0.45(クロロホルム:メタノール:酢酸、 30:1:1、v/v) (93)2(S)−(6(S)−3(S)−モルホリノカル
ボニルメチル−2−オキソ−1,4−ジアザビシクロ[4.
3.0]ノナン−4−カルボニルオキシ)−3−フェニル
プロピオン酸 Rf:0.10(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例48 0℃に冷却した2(S)−[N−(2−チオモルホリノ
カルボニルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸ベンジル(418mg)の
メタノール(5m)溶液に1N水酸化ナトリウム水溶
液(1.33m)を加え、その溶液を常温で1時間攪拌す
る。メタノールを留去し、残塩基性水溶液をクロロホル
ム(5m×2)で洗浄する。5%塩酸でpH2に調整
し、次いで酢酸エチル(10m×2)で抽出する。抽出
液を水(10m)で、次いで飽和塩化ナトリウム水溶液
(10m)で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。溶媒を減圧留去して、2(S)−[N−(2−チオ
モルホリノカルボニルエチル)−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸(315mg)
を得る。
Rf:0.56(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) 製造例49 2(S)−[N−(2−イソプロピルチオエチル)−N
−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロ
ピオン酸ベンジル(623mg)のエタノール(10m)溶
液に常温で1N水酸化カリウム水溶液(3m)を加え
た後、常温で1時間攪拌する。溶液を減圧濃縮し、残渣
を水(20m)とジエチルエーテル(20m)で分離す
る。分離した水層を、10%塩酸でpH2に調整し、次いで
クロロホルム(20m×2)で抽出する。抽出液で水
(30m)で洗浄、次いで硫酸マグネシウムで乾燥させ
る。溶媒を留去して2(S)−[N−(2−イソプロピ
ルチオエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]
−3−フェニルプロピオン酸(485mg)を得る。
Rf:0.84(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) 製造例50 製造例48又は49と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2(S)−[N−{2−(2−チアゾリルアミノカ
ルボニル)エチル}−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.56(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (2)2(S)−[N−{2−(1,2,3,6−テトラヒドロピ
リジン−1−カルボニル)エチル}−N−メチルアミノ
カルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.48(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (3)2(S)−[N−(3−イソブチルチオプロピル)
−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸 Rf:0.38(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (4)2(S)−[N−(3−イソブチルスルホニルプロ
ピル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸 Rf:0.14(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (5)2(S)−[N−(2−イソプロピルスルホニルエ
チル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオン酸 Rf:0.58(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (6)2(S)−(1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−
カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.37(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (7)2(S)−(3−チアゾリジンカルボニルオキシ)
−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.44(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (8)2(S)−(1−オキソチアゾリジン−3−カルボ
ニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 融点:148.5-149.5℃ Rf:0.17(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (9)2(S)−(1,1−ジオキソチアゾリジン−3−カル
ボニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 Rf:0.19(酢酸エチル) (10)2(S)−チオモルホリノカルボニルオキシ−3−
フェニルプロピオン酸 Rf:0.54(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (11)2(S)−(1−オキソチオモルホリノカルボニル
オキシ)−3−フェニルプロピオン酸 融点:162-163℃ Rf:0.19(クロロホルム:メタノール:酢酸、 16:1:1、v/v) (12)2(S)−(1,1−ジオキソチオモルホリノカルボ
ニルオキシ)−3−フェニルプロピオン酸 融点:92.5-93.5℃ 製造例51 (1)N−第三級ブトキシカルボニル−L−シクロヘキシ
ルアラニナール(7.73g)の乾燥テトラヒドロフラン
(200m)溶液を-78℃に冷却してこれに、臭化イソペ
ンチル(46.4g)とマグネシウム(7.47g)とから製造
した臭化イソペンチルマグネシウムの乾燥テトラヒドロ
フラン(500m)溶液を滴下する。添加終了後、反応
混合物の温度を2時間かけて常温まで上昇せしめ、塩化
アンモニウム飽和水溶液(500m)中に注ぐ。この混
合物をエーテル(500m)で2回抽出し、抽出液を合
わせて硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して油状
物(10.1g)を得る。残渣をシリカゲル(1kg)カラム
クロマトグラフィーに付し、ヘキサン中10%酢酸エチル
で溶出して精製し、2(S)−第三級ブトキシカルボニ
ルアミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ
−6−メチルヘプタン(3.03g)を得る。
Rf:0.67(ベンゼン:酢酸エチル、4:1v/v) ▲[α]20 D▼:-23.46°(c1.0,MeOH) (2)2(S)−第三級ブトキシカルボニルアミノ−1−
シクロヘキシル−3((S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン(600mg)のトリフルオロ酢酸(10m)溶液
を0℃で30分間攪拌する。溶媒を留去後、残渣を酢酸エ
チル(20m)に溶解する。溶液を炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を減圧下に留去して、2(S)−アミノ−1−シクロヘ
キシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン
(412mg)を油状物として得る。
Rf:0.63(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (3)Nα−第三級ブトキシカルボニル−Nα−メチル−
im−トシル−L−ヒスチジン(2.77g)および2
(S)−アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒド
ロキシ−6−メチルヘプタン(1.49g)の乾燥塩化メチ
レン(60m)溶液を0℃に冷却してこれに、N−エチ
ル−N′−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイ
ミド(1.25g)を加える。混合物を常温で3時間攪拌す
る。溶媒を留去後、残渣を酢酸エチル(200m)に溶
解し、溶液を0.5%塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶
液および水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、クロロホルム中1%メタノールで溶出して
精製し、2(S)−(Nα−第三級ブトキシカルボニル
−Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン(1.61g)を無定形粉末として得る。
融点:55-58℃ Rf:0.56(ベンゼン:酢酸エチル:酢酸、 20:20:1、v/v) (4)2(S)−(Nα−第三級ブトキシカルボニル−N
α−メチッル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ
−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン(1.20g)のトリフルオロ酢酸(20m)
溶液を−5℃で3時間攪拌する。混合物を減圧濃縮後、
残渣を酢酸エチル(100m)に溶解する。溶液を炭酸
水素ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮して、2(S)−(Nα−メチル−
im−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘ
キシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン
(982mg)を油状物として得る。
Rf:0.67(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 製造例52 (1)2(S)−第三級ブトキシカルボニルアミノ−1−
シクロヘキシル−3−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン
(100g)の塩化水素(58.2g)/ジオキサン(400m
)溶液を20〜30℃で1.5時間攪拌する。塩化メチレン
(500m)と水(500m)を加え、分取した水層を塩
化メチレン(300m)で抽出する。有機層を合せ、5
%塩酸(400m)、25%アンモニア水(300m)及び
水(300m)で順次洗浄する。溶媒を留去し、残渣を
イソプロピルアルコール(420m)に溶解する。該溶
液をL−酒石酸(34.4g)の水(52m)及びイソプロ
ピルアルコール(570m)溶液に70〜80℃で滴下す
る。冷却後、生成沈殿物を濾取し乾燥して、粗2(S)
−アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ
−6−メチルヘプタンのL−酒石酸塩(51.9g)を得
る。
融点:114-119℃ ▲[α]25 D▼:-9.5°(C=1.0,50%含水メタノー
ル) (2)この粗化合物(51.9g)をイソプロピルアルコール
(986m)に還流下溶解し、濾過する。濾液に水(52
m)を加え、冷却する。生成沈殿物を濾取し次いで乾
燥させて、精製2(S)−アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタンのL−酒
石酸塩(46.7g)を得る。
融点:119-122℃ ▲[α]25 D▼:-10.5°(C=1.0,50%含水メタノー
ル) (3)精製2(S)−アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタンのL−酒石酸
塩(46.7g)と塩化メチレン(374m)の混合物に25
%アンモニア水(140m)と水(47m)を加える。
分離した有機層を水(140m)で洗浄、次いで溶媒を
留去して、2(S)−アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(28.1g)を
得る。
実施例1 0℃に冷却した2(S)−モルホリノカルボニルオキシ
−3−フェニルプロピオン酸(86mg)と2(S)−(N
α−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−
1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタンの乾燥塩化メチレン(20m)溶液にN−メ
チル−N′−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジ
イミド塩酸塩(60mg)を加え、同温で6時間攪拌する。
溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル(30m)に溶解す
る。5%塩酸、1M炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で
順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥、次いで減圧下で濃
縮する。残渣をN,N−ジメチルホルムアミド(20m)
に溶解後、同溶液に常温でピリジン塩酸塩(326mg)を
加え、同温で2時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣を酢
酸エチル(30m)に溶解する。水、1M炭酸水素ナト
リウム水溶液及び水で順次洗浄、硫酸マグネシウムで乾
燥し、次いで減圧下に濃縮する。同残渣をシリカゲル薄
層クロマトグラフフィ(クロロホルム:メタノール、
8:1、v/vで展開)で精製し、2(S)−[Nα
(2(S)−モルホリノカルボニルオキシ−3−フェニ
ルプロピオニル)−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6
−メチルヘプタン(98.2mg)を無定形粉末として得る。
融点:91-95℃ Rf:0.61(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) 実施例2 0℃に冷却した2(S)−[N−(2−モルホリノカル
ボニルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ]
−3−フェニルプロピオン酸(449mg)と2(S)−
(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン(300mg)の乾燥塩化メチレン(30m
)溶液にN−メチル−N′−(3−ジメチルアミノプ
ロピル)カルボジイミド塩酸塩(140mg)を加え、5℃
で一夜攪拌する。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル(30
m)に溶解する。同溶液で5%塩酸、1M炭酸水素ナ
トリウム水溶液及び水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで
乾燥後、減圧下で濃縮する。残渣をN,N−ジメチルホル
ムアミド(20m)に溶解後、同溶液に同温でピリジン
塩酸塩(650mg)を加える。常温で2時間攪拌した後、
溶媒を留去し残渣を酢酸エチル(30m)に溶解する。
同溶液を1M炭酸水素ナトリウム水溶液と水とで順次洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣
をシリカゲル薄層クロマトグラフフィ(クロロホルム:
メタノール、6:1、v/vで展開)で精製して2(S)
−[Nα−[2(S)−{N−(2−モルホリノカルボ
ニルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ}−
3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒス
チジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒド
ロキシ−6−メチルヘプタン(221mg)を無定形粉末と
して得る。
融点:80-87℃ Rf:0.48(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) 実施例3 0℃に冷却した2(S)−[N−メチル−N−[2−
{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチルアミノ}
エチル]アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロ
ピオン酸(222mg)の乾燥塩化メチレン(10m)溶液
に塩化オキサリル(0.051m)とN,N′−ジメチルホル
ムアミド3滴を加え、同温で1時間攪拌する。溶媒を留
去し、残渣を乾燥塩化メチレン(5m)に溶解する。
同溶液を2(S)−(Nα−メチル−Nim−トシル−L
−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)
−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(300mg)とトリエ
チルアミン(57mg)の塩化メチレン(10m)溶液に0
℃で加え、同温で3時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣
を酢酸エチル(30m)に溶解する。同溶液を5%塩
酸、1M炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣を
N,N−ジメチルホルムアミド(10m)に溶解後、同溶
液にピリジン塩酸塩(650mg)を常温で加え、同温で2
時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル(30m
)に溶解する。同溶液を1M炭酸水素ナトリウム水溶
液と水とで順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧濃縮する。残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフフィ
(クロロホルム:メタノール、9:1、v/v展開)で精
製し、2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−
N−[2−{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチ
ルアミノ}エチル]アミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン(297mg)を無定形粉末として
得る。
融点:69-74℃ Rf:0.45(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 実施例4 0℃に冷却した2(S)−[N−メチル−N−{2−
(N−イソブチリル−N−メチルアミノ)エチル}アミ
ノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオン酸(21
7mg)の乾燥塩化メチレン(20m)溶液に塩化オキサ
リル(0.054m)とN,N−ジメチルホルムアミド3滴を
加え、同温で1時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣を乾
燥塩化メチレン(5m)に溶解する。同溶液を2
(S)−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジ
ル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン(300mg)とトリエチルアミン
(63mg)の塩化メチレン(10m)溶液に0℃で加え、
同温で3時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣を酢酸エチ
ル(30m)に溶解する。同溶液を5%塩酸、1M炭酸
水素ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣をN,N−ジメチル
ホルムアミド(15m)に溶解し、そこにピリジン塩酸
塩(650mg)を常温で加え、同温で2時間攪拌する。溶
媒を留去し、残渣を酢酸エチル(30m)に溶解する。
同溶液を1M炭酸水素ナトリウム水溶液と水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣を
シリカゲル薄層クロマトグラフフィ(クロロホルム:メ
タノール、9:1、v/vで展開)で精製して、2(S)
−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N−{2−(N
−イソブチリル−N−メチルアミノ)エチル}アミノカ
ルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオニル]−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(295m
g)を無定形粉末として得る。
融点:68-72℃ Rf:0.46(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 実施例5 実施例1〜4と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2(S)−[Nα−{2(S)−(N,N−ジエチルア
ミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニル}
−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロ
ヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:75-79℃ Rf:0.61(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (2)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−メトキシエ
チルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオ
ニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−
シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘ
プタン 融点:80-84℃ Rf:0.45(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (3)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−メトキシカ
ルボニルメチル−N−メチルアミノカルボニルオキシ)
−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:84-87℃ Rf:0.55(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (4)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−ヒド
ロキシエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキシ}
−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:82-86℃ Rf:0.57(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (5)2(S)−[Nα−{2(S)−(N′−アセチル
−N′−メチルヒドラジノカルボニルオキシ}−3−フ
ェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:88-92℃ Rf:0.68(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (6)2(S)−[Nα−{2(S)−(2(S)−メト
キシカルボニルピロリジン−1−カルボニルオキシ)−
3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒス
チジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒド
ロキシ−6−メチルヘプタン 融点:71-76℃ Rf:0.31(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (7)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−n−ブチル
−N−エチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニル
プロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン 融点:67-71℃ Rf:0.27(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (8)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−メチル−N
−フェネチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニル
プロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン 融点:66-69℃ Rf:0.30(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (9)2(S)−[Nα−{2(S)−(2(R)−メチ
キシカルボニルピロリジン−1−カルボニルオキシ)−
3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒス
チジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒド
ロキシ−6−メチルヘプタン 融点:73-79℃ Rf:0.41(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (10)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−n−ブチル
−N−メチルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニル
プロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン 融点:67-71℃ Rf:0.40(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (11)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−メチル−N
−フェニルアミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプ
ロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ
−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン 融点:83-87℃ Rf:0.38(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (12)2(S)−[Nα−{2(S)−(2(S)−ヒド
ロキシメチルピロリジン−1−カルボニルオキシ)−3
−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロ
キシ−6−メチルヘプタン 融点:94-101℃ Rf:0.29(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (13)2(S)−[Nα−(2(S)−ヘキサメチレンイ
ミノカルボニルオキシ−3−フェニルプロピオニル)−
α−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘ
キシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:71-77℃ Rf:0.36(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (14)2(S)−[Nα−{2(S)−(2(R)−ヒド
ロキシメチルピロリジン−1−カルボニルオキシ)−3
−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロ
キシ−6−メチルヘプタン 融点:93-99℃ Rf:0.30(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (15)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(1(R)
−モルホリノカルボニルエチル)−N−メチルアミノカ
ルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:92-97℃ Rf:0.42(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (16)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−ジメ
チルアミノカルボニルエチル)−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:55-60℃ Rf:0.39(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (17)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−モルホリノ
カルボニルメチル−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L
−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)
−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:91-94℃ Rf:0.49(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (18)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−ジメチルア
ミノカルボニルメチル−N−メチルアミノカルボニルオ
キシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:79-83℃ Rf:0.40(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (19)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(n−ブチ
ルアミノカルボニルメチル)−N−メチルアミノカルボ
ニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:77-81℃ Rf:0.55(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (20)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(4−ピコ
リルアミノカルボニルメチル)−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:80-89℃ Rf:0.36(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (21)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(N−メチ
ル−N−フェネチルアミノカルボニルメチル)−N−メ
チルアミノカルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオ
ニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−
シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘ
プタン 融点:72-80℃ Rf:0.42(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (22)2(S)−[Nα−{2(S)−(2(R)−ジメ
チルアミノカルボニルピロリジン−1−カルボニルオキ
シ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L
−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)
−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:100-102℃ Rf:0.70(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (23)2(S)−[Nα−{2(S)−(6(S)−2−
オキソ−1,4−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン−4−カ
ルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:91-96℃ Rf:0.42(メタノール/クロロホルム、10%、 v/v) (24)2(S)−[Nα−{2(S)−(4−メチル−3
−オキソピペラジン−1−カルボニルオキシ)−3−フ
ェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:81-85℃ Rf:0.38(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (25)2(S)−[Nα−{2(S)−(3−オキソピペ
ラジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン 融点:108-112℃ Rf:0.48(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (26)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−イソブトキ
シカルボニルメチル−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L
−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)
−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:58-60℃ Rf:0.62(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (27)2(S)−[Nα−{2(S)−(N−メチル−N
−フェネチルオキシカルボニルメチルアミノカルボニル
オキシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル
−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:54-57℃ Rf:0.64(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (28)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−メチル−N
−(5−メチル−2−オキソヘキシル)アミノカルボニ
ルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:65-67℃ Rf:0.38(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (29)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−メチル−N
−(2−ヒドロキシ−5−メチルヘキシル)アミノカル
ボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:76-78℃ Rf:0.24(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (30)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−メチル−N
−(2−オキソプロポキシカルボニルメチル)アミノカ
ルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:65-68℃ Rf:0.78(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (31)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(エ
トキシカルボニルメチルアミノカルボニル)エチル}−
N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプ
ロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ
−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン 融点:72-75℃ Rf:0.44(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (32)2(S)−[Nα−{2(S)−(2(S)−メト
キシメチルピロリジン−1−カルボニルオキシ)−3−
フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:72-77℃ Rf:0.44(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (33)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(2
−モルホリノエチルアミノカルボニル)エチル}−N−
メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン 融点:60-64℃ Rf:0.26(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (34)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(2
−ピコリルアミノカルボニル)エチル}−N−メチルア
ミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオニル]
−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロ
ヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:64-68℃ Rf:0.40(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (35)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−[2−[N
−{2−(2−ピリジル)エチル}−N−メチルアミノ
カルボニル]エチル]−N−メチルアミノカルボニルオ
キシ]−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:55-58℃ Rf:0.17(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (36)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(3
−ピコリルアミノカルボニル)エチル}−N−メチルア
ミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオニル]
−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロ
ヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:67-71℃ Rf:0.44(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (37)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−[2−{N
−(2−ピリジル)−N−メチルアミノカルボニル}エ
チル]−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:73-77℃ Rf:0.27(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (38)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−イソ
プロピルアミノカルボニルエチル)−N−メチルアミノ
カルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−N
α−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキ
シル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:78-83℃ Rf:0.49(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (39)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(4
−メチルピペラジン−1カルボニル)エチル}−N−メ
チルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオ
ニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−
シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘ
プタン 融点:65-71℃ Rf:0.17(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (40)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−チオ
モルホリノカルボニルエチル)−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:66-72℃ Rf:0.45(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (41)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(2
−チアゾリルアミノカルボニル)エチル}−N−メチル
アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオニ
ル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シ
クロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプ
タン 融点:100-106℃ Rf:0.45(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (42)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(1,
2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−カルボニル)エチ
ル}−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン 融点:67-73℃ Rf:0.48(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (43)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−イソプロピ
ルカルバモイルピラゾリジン−1−カルボニルオキシ)
−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:86-89℃ Rf:0.46(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (44)2(S)−[Nα−[2(S)−{N′−(メチル
カルバモイル)−N,N′−ジメチルヒドラジノカルボニ
ルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:112-116℃ Rf:0.50(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (45)2(S)−[Nα−[2(S)−{N′−(N,N′
−ジメチルカルバモイル)−N,N′−ジメチルヒドラジ
ノカルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−
α−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘ
キシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:75-79℃ Rf:0.54(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (46)2(S)−[Nα−[2(S)−{N′−(モルホ
リノカルボニル)−N,N′−ジメチルヒドラジノカルボ
ニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:86-92℃ Rf:0.42(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (47)2(S)−[Nα−[2(S)−{N′−(イソプ
ロピルカルバモイル)−N,N′−ジメチルヒドラジノカ
ルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:94-99℃ Rf:0.54(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (48)2(S)−[Nα−[2(S)−{N′−(ベンジ
ルカルバモイル)−N,N′−ジメチルヒドラジノカルボ
ニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:99-104℃ Rf:0.31(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (49)2(S)−[Nα−{2(S)−(N′−イソブト
キシカルボニル−N,N′−ジメチルヒドラジノカルボニ
ルオキシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:74-77℃ Rf:0.24(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (50)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−ヒド
ロキシエチル)−N−エチルアミノカルボニルオキシ}
−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:80-84℃ Rf:0.53(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (51)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−{2−(N−イソバレリル−N−メチルアミノ)エチ
ル}アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオ
ニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−
シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘ
プタン 融点:68-72℃ Rf:0.44(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (52)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−[4−{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチル
アミノ}ブチル]アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン 融点:64-67℃ Rf:0.35(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (53)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(N
−メチル−N−フェニルカルバモイル)エチル}−N−
メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピ
オニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン 融点:67-71℃ Rf:0.47(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (54)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(N
−メチル−N−イソブチルカルバモイル)エチル}−N
−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロ
ピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−
1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン 融点:73-79℃ Rf:0.50(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (55)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(4−モル
ホリノカルボニルブチル)−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:72-78℃ Rf:0.48(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (56)2(S)−[Nα−{2(S)−(3−オキソピペ
リジノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニ
ル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シ
クロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプ
タン 融点:86-90℃ Rf:0.41(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (57)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−(2−イソブチルカルバモイルエチル)アミノカルボ
ニルオキシ]−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:79-83℃ Rf:0.54(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (58)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{4−(N
−メチル−N−イソプロピルカルバモイル)ブチル}−
N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプ
ロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ
−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン 融点:64-71℃ Rf:0.46(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (59)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(4−イソ
プロピルカルバモイルブチル)−N−メチルアミノカル
ボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:74-80℃ Rf:0.41(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (60)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−[3−{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチル
アミノ}プロピル]アミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:62-66℃ Rf:0.51(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (61)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−メチル−N
−(3−モルホリノカルボニルプロピル)アミノカルボ
ニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:60-63℃ Rf:0.39(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (62)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−{3−(N−イソプロピル−N−メチルカルバモイ
ル)プロピル}アミノカルボニルオキシ]−3−フェニ
ルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6
−メチルヘプタン 融点:70-73℃ Rf:0.41(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (63)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−{2−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチル
アミノ)エチル}アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6
−メチルヘプタン 融点:61-65℃ Rf:0.50(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (64)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−[2−{N
−メチル−N−(2−ピコリル)カルバモイル}エチ
ル]−N−メチルアミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン 融点:65-69℃ Rf:0.48(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (65)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−シク
ロペンチルカルバモイルエチル)−N−メチルアミノカ
ルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:86-92℃ Rf:0.68(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (66)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−{2−(2
−メトキシエチルカルバモイル)エチル}−N−メチル
アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオニ
ル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シ
クロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプ
タン 融点:68-74℃ Rf:0.40(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (67)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−モル
ホリノカルバモイルエチル)−N−メチルアミノカルボ
ニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:92-98℃ Rf:0.39(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (68)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(3−イソ
ブチルチオプロピル)−N−メチルアミノカルボニルオ
キシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:62-68℃ Rf:0.53(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (69)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(3−イソ
ブチルスルホニルプロピル)−N−メチルアミノカルボ
ニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:77-82℃ Rf:0.57(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (70)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−[5−{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチル
アミノ}ペンチル]アミノカルボニルオキシ]−3−フ
ェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:58-61℃ Rf:0.33(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (71)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−メチル−N
−(3−イソプロピルカルバモイルプロピル)アミノカ
ルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:62-66℃ Rf:0.38(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (72)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−メチル−N
−(3−オキソ−5−メチルヘキシル)アミノカルボニ
ルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:68-72℃ Rf:0.32(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (73)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−イソ
プロピルチオエチル)−N−メチルアミノカルボニルオ
キシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:70-74℃ Rf:0.46(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (74)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−イソ
プロピルスルホニルエチル)−N−メチルアミノカルボ
ニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:68-71℃ Rf:0.42(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (75)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−アセチルペ
ルヒドロピリダジン−1−カルボニルオキシ)−3−フ
ェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:80-84℃ Rf:0.39(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (76)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−ブチリルペ
ルヒドロピリダジン−1−カルボニルオキシ)−3−フ
ェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:73-77℃ Rf:0.58(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (77)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−イソブチリ
ルペルヒドロピリダジン−1−カルボニルオキシ)−3
−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロ
キシ−6−メチルヘプタン 融点:73-81℃ Rf:0.36(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (78)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−ベンゾイル
ペルヒドロピリダジン−1−カルボニルオキシ)−3−
フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:77-82℃ Rf:0.49(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (79)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−シクロヘキ
シルカルボニルペルヒドロピリダジン−1−カルボニル
オキシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル
−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:70-76℃ Rf:0.38(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (80)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−アセチルピ
ラゾリジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプ
ロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ
−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン 融点:77-82℃ Rf:0.30(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (81)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−イソブチリ
ルピラゾリジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニ
ルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6
−メチルヘプタン 融点:66-73℃ Rf:0.33(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (82)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−メトキシア
セチルピラゾリジン−1−カルボニルオキシ)−3−フ
ェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:80-84℃ Rf:0.34(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (83)2(S)−[Nα−[2(S)−{2−(4−ジメ
チルアミノブチリル)ピラゾリジン−1−カルボニルオ
キシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:58-63℃ Rf:0.05(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (84)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−ベンゾイル
アミノアセチルピラゾリジン−1−カルボニルオキシ}
−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒ
スチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:98-102℃ Rf:0.35(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (85)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−メチルカル
バモイルピラゾリジン−1−カルボニルオキシ)−3−
フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:80-83℃ Rf:0.40(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (86)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−モルホリノ
カルボニルピラゾリジン−1−カルボニルオキシ)−3
−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロ
キシ−6−メチルヘプタン 融点:79-87℃ Rf:0.28(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (87)2(S)−[Nα−[2(S)−{2−(N−第三
級ブトキシカルボニル−L−ロイシル)ピラゾリジン−
1−カルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]
−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロ
ヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:83-89℃ Rf:0.39(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (88)2(S)−[Nα−[2(S)−{2−(N−アセ
チル−L−ロイシル)ピラゾリジン−1−カルボニルオ
キシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:85-93℃ Rf:0.26(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (89)2(S)−[Nα−[2(S)−{2−(Nα−第
三級ブトキシカルボニル−L−ヒスチジル)ピラゾリジ
ン−1−カルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニ
ル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シ
クロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプ
タン 融点:74-81℃ Rf:0.21(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (90)2(S)−[Nα−{2(S)−(4−メチルピペ
ラジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン 融点:82-86℃ Rf:0.19(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (91)2(S)−[Nα−{2(S)−(4−メチルカル
バモイルピペラジン−1−カルボニルオキシ)−3−フ
ェニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン 融点:107-112℃ Rf:0.37(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (92)2(S)−[Nα−[2(S)−{4−(第三級ブ
トキシカルボニルグリシル)ピペラジン−1−カルボニ
ルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチ
ル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:84-89℃ Rf:0.19(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (93)2(S)−[Nα−[2(S)−{4−(モルホリ
ノカルボニル)ピペラジン−1−カルボニルオキシ}−
3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒス
チジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒド
ロキシ−6−メチルヘプタン 融点:81-88℃ Rf:0.24(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (94)2(S)−[Nα−{2(S)−(3−オキソピロ
リジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン 融点:80-84℃ Rf:0.40(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (95)2(S)−[Nα−{2(S)−(2−オキサゾリ
ジノン−3−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン 融点:82-89℃ Rf:0.25(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (96)2(S)−[Nα−{2(S)−(1,2,3,6−テト
ラヒドロピリジン−1−カルボニルオキシ)−3−フェ
ニルプロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン 融点:69-74℃ Rf:0.38(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (97)2(S)−[Nα−{2(S)−(3−チアゾリジ
ンカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニル}−
α−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘ
キシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:76-82℃ Rf:0.34(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (98)2(S)−[Nα−{2(S)−(1−オキソチア
ゾリジン−3−カルボニルオキシ)−3−フェニルプロ
ピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−
1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン 融点:90-96℃ Rf:0.22(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (99)2(S)−[Nα−{2(S)−(1,1−ジオキソ
チアゾリジン−3−カルボニルオキシ)−3−フェニル
プロピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン 融点:89-95℃ Rf:0.32(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (100)2(S)−[Nα−{2(S)−(チオモルホリ
ノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニル}−
α−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘ
キシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:78-82℃ Rf:0.36(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (101)2(S)−[Nα−{2(S)−(1−オキソチ
オモルホリノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピ
オニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン 融点:90-96℃ Rf:0.23(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (102)2(S)−[Nα−{2(S)−(1,1−ジオキソ
チオモルホリノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロ
ピオニル}−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−
1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン 融点:99-103℃ Rf:0.31(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (103)2(S)−[Nα−{2(S)−(2(R)−メ
チル−3(R)−ジメチルカルバモイルモルホリノカル
ボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:92-97℃ Rf:0.45(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (104)2(S)−[Nα−{2(S)−(2(S)−イ
ソブチル−4−メチル−3−オキソピペラジン−1−カ
ルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα
−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:88-92℃ Rf:0.50(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (105)2(S)−[Nα−{2(S)−(6(S)−3
(S)−モルホリノカルボニルメチル−2−オキソ−1,
4−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン−4−カルボニルオ
キシ)−3−フェニルプロピオニル}−Nα−メチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:113-117℃ Rf:0.37(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 実施例6 (1)0℃に冷却したN−第三級ブトキシカルボニル−L
−ヒスチジン(363mg)と2(S)−アミノ−1−シク
ロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタ
ン(249mg)の乾燥N,N−ジメチルホルムアミド(30m
)溶液にジフェニルホスホリルアジド(390mg)の乾
燥N,N−ジメチルホルムアミド(5m)とトリエチル
アミン(144mg)溶液を加え、常温で一夜攪拌する。溶
媒を留去し、残渣を酢酸エチル(30m)に溶解する。
同溶液を10%クエン酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液及び水で順次洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧下で濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(クロロホルムで溶出)で精製して、2
(S)−(N−第三級ブトキシカルボニル−L−ヒスチ
ジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロ
キシ−6−メチルヘプタン(384mg)を無定形粉末とし
て得る。
融点:96-100℃ Rf:0.47(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (2)2(S)−(N−第三級ブトキシカルボニル−L−
ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−
ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(383mg)のトリフル
オロ酢酸(10m)溶液を0℃で30分間攪拌する。混合
物を減圧濃縮後、残渣を酢酸エチル(20m)に溶解す
る。溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して2(S)−(L−
ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−
ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(275mg)を無定形粉
末として得る。
融点:126-130℃ Rf:0.11(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (3)0℃に冷却した2(S)−モルホリノカルボニルオ
キシ−3−フェニルプロピオン酸(120mg)と2(S)
−(L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(142mg)の
乾燥N,N−ジメチルホルムアミド(20m)混合物にジ
フェニルホスホリルアジド(108mg)の乾燥N,N−ジメチ
ルホルムアミド(5m)とトリエチルアミン(40mg)
溶液を加え、常温で16時間攪拌する。溶媒を留去後、残
渣を酢酸エチル(30m)に溶解する。同溶液を1M炭
酸水素ナトリウムと水で順次洗浄、硫酸マグネシウムで
乾燥し、次いで減圧下で濃縮する。残渣をシリカゲル薄
層クロマトグラフフィ(クロロホルム:メタノール、
6:1、v/vで展開)で精製して、2(S)−[Nα
(2(S)−モルホリノカルボニルオキシ−3−フェニ
ルプロピオニル)−L−ヒスチジル]アミノ−1−シク
ロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタ
ン(177mg)を無定形粉末として得る。
Rf:0.63(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) 実施例7 実施例6と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2(S)−[Nα−{2(S)−(N,N−ジエチルア
ミノカルボニルオキシ)−3−フェニルプロピオニル}
−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:73-77℃ Rf:0.49(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) (2)2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−モル
ホリノカルボニルエチル)−N−メチルアミノカルボニ
ルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−L−ヒスチ
ジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロ
キシ−6−メチルヘプタン 融点:82-86℃ Rf:0.49(クロロホルム:メタノール、 9:1、v/v) (3)2(S)−[Nα−[2(S)−{N′−(モルホ
リノカルボニルエチル)−N,N′−ジメチルヒドラジノ
カルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−L
−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)
−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン 融点:76-80℃ Rf:0.48(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 実施例8 2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N−
{2−(N−第三級ブトキシカルボニル−N−メチルア
ミノ)エチル}アミノカルボニルオキシ]−3−フェニ
ルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6
−メチルヘプタン(114mg)のトリフルオロ酢酸(10m
)溶液を0℃で1時間攪拌する。溶媒を留去後、残渣
を酢酸エチル(20m)に溶解する。溶液を1M炭酸水
素ナトリウム水溶液と水で順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去して、2(S)−[Nα−[2
(S)−{N−メチル−N−(2−メチルアミノエチ
ル)アミノカルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオ
ニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−
シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘ
プタン(88mg)の無定形粉末として得る。
融点:65-68℃ Rf:0.20(クロロホルム:メタノール、 6:1、v/v) 実施例9 (1)2(S)−[Nα−第三級ブトキシカルボニル−N
α−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−
1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン(200g)のテトラヒドロフラン(2)と
メタノール(500m)との溶液に1−ヒドロベンゾト
リアゾール(128.1g)と3−(N,N−ジメチルアミノ)
プロピルアミン(32.3g)とを常温で加え、同温で16時
間攪拌する。溶媒を留去後、残渣を酢酸エチル(800m
)に溶解する。次いで同溶液を1M炭酸水素ナトリウ
ム水溶液と水とで順次洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下で濃縮する。残渣をトリフルオロ酢酸(500
m)と塩化メチレン(500m)に溶解し、常温で2
時間攪拌する。溶媒を留去し、残渣を水(1)に溶解
し、28%アンモニア水を加えて中和後、塩化メチレン
(1)で2回抽出する。抽出液を合せ、1M炭酸水素
ナトリウム水溶液と水とで順次洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥、次いで減圧濃縮する。残渣をジエチルエーテル
(2)から結晶化して、2(S)−[Nα−メチル−
L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(46.0g)を
得る。
Rf:0.16(クロロホルム:メタノール:酢酸、 8:1:1、v/v) (2)2(S)−[Nα−メチル−L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン(900mg)とトリエチルアミン(494mg)
の塩化メチレン(20m)溶液に0℃で塩化トリチル
(696mg)を加え、同温で1時間攪拌する。溶媒を留去
後、残渣を酢酸エチル(30m)に溶解する。同溶液を
1M炭酸水素ナトリウム水溶液と水とで順次洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去して、2(S)
−[Nα−メチル−Nim−トリチル−L−ヒスチジル)
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン(1.46g)を無定形粉末として得
る。
Rf:0.43(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (3)0℃に冷却した2(S)−[N−メチル−N−[2
−{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチルアミ
ノ}エチル]アミノカルボニルオキシ]−3−フェニル
プロピオン酸(976mg)の乾燥塩化メチレン(20m)
溶液に塩化オキサリル(0.22m)とN,N−ジメチルア
ミド3滴を加える。同混合物を同温で1時間攪拌し、次
に2(S)−[Nα−メチル−Nim−トリチル−L−ヒ
スチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン(1.40g)とN−メチル
モルホリン(502mg)の塩化メチレン(20m)溶液に
0℃で加え、同混合物を同温で1時間攪拌する。溶媒を
留去後、残渣を酢酸エチル(30m)に溶解する。同溶
液を5%塩酸、1M炭酸水素ナトリウム水溶液と水とで
順次洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を留去して2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチ
ル−N−[2−{N−(モルホリノカルボニル)−N−
メチルアミノ}エチル]アミノカルボニルオキシ]−3
−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−Nim−トリ
チル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(2.21g)
を無定形粉末として得る。
Rf:0.80(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) (4)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−[2−{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチル
アミノ}エチル]アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル]−Nα−メチル−Nim−トリチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(1.00g)を
50%酢酸(20m)に溶解し、60℃で1時間加熱する。
常温に冷却後、生成したトリフェニルカルビノールを濾
別し、濾液を減圧下で濃縮する。残渣を酢酸エチル(50
m)に溶解し、次いで同溶液を1M炭酸水素ナトリウ
ム水溶液と水で順次洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ(5%メタノール含有クロロホルムで溶出)で精製し
て、2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−[2−{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチル
アミノ}エチル]アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン(700mg)を無定形粉末として得
る。
Rf:0.45(クロロホルム:メタノール、 10:1、v/v) 実施例10 2(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−モルホリ
ノカルボニルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオ
キシ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(4.55g)の
エタノール(50m)溶液を0℃に冷却し4N塩化水素
のジオキサン溶液(1.9m)を加え、同温で10分間攪
拌後、溶媒を減圧留去する。残渣をエタノール(5m
)と酢酸エチル(150m)で結晶化させて、2
(S)−[Nα−[2(S)−{N−(2−モルホリノ
カルボニルエチル)−N−メチルアミノカルボニルオキ
シ}−3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L
−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)
−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン一塩酸塩(3.93g)
を得る。
融点:175-177℃ ▲[α]20 ▼:-51.93°(C=1.0,メタノール) 実施例11 実施例10と同様にして以下の化合物を得る。
(1)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−{2−(N−イソブチリル−N−メチルアミノ)エチ
ル}アミノカルボニルオキシ]−3−フェニルプロピオ
ニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−
シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘ
プタン一塩酸塩 融点:118-122℃ (2)2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メチル−N
−[2−{N−(モルホリノカルボニル)−N−メチル
アミノ}エチル]アミノカルボニルオキシ]−3−フェ
ニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン一塩酸塩 融点:108-116℃
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/535 9360−4C 31/54 9360−4C C07C 271/08 7188−4H 281/02 7188−4H 311/53 7419−4H 313/32 7419−4H C07D 207/16 8314−4C 211/68 9165−4C 213/36 231/14 241/08 8615−4C 277/34 277/44 295/14 Z 401/12 233 8829−4C 403/12 207 8829−4C 231 8829−4C 233 8829−4C 413/12 233 8829−4C 417/12 9051−4C 487/04 140 7019−4C (72)発明者 橋本 眞志 茨城県つくば市竹園2丁目11―6―408 (56)参考文献 Chem,Ab,第105巻第25号(1986) 要約番号225819K Chem,Ab,第87巻第21号(1977) 要約番号161422a

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式: [式中、Rはアシル基、ヒドロキシ基、低級アルコキ
    シ基、アリール基、低級アルキルチオ基および式 (式中、Rは水素またはアシル基、Rは水素または
    低級アルキル基をそれぞれ意味する)で示される基より
    なる群から選択された置換基で置換されていてもよい低
    級アルキル基;アリール基;または低級アルキル基およ
    びアシル基よりなる群から選択された置換基で置換され
    ていてもよいアミノ基; Rは水素または低級アルキル基を意味するか、または RおよびRは隣接する窒素原子と一緒になって、低
    級アルキル基、ヒドロキシ(低級)アルキル基、低級ア
    ルコキシ(低級)アルキル基、アシル(低級)アルキル
    基、オキソ基およびアシル基よりなる群から選択された
    置換基で置換されていてもよい複素環基を形成する、 Rは水素または低級アルキル基、 Rは低級アルキル基を意味する] で示されるアミノ酸誘導体およびその塩。
  2. 【請求項2】Rがヒドロキシ基、低級アルコキシ基、
    アリール基、低級アルキルチオ基、式 11−CO−またはR11−SO− [式中、RおよびR10はそれぞれ水素;アリール基;
    シクロ(低級)アルキル基;複素環基;または低級アル
    コキシカルボニル基、低級アルコキシ基、アリール基お
    よび複素環基よりなる群から選択された置換基で置換さ
    れていてもよい低級アルキル基を意味するか、または RおよびR10は隣接する窒素原子と一緒になって、低
    級アルキル基で置換されていてもよい複素環基を形成す
    る、 R11はアリール基;シクロ(低級)アルキル基;低級ア
    ルコキシ基およびモノまたはジ(低級)アルキルアミノ
    基よりなる群から選択された置換基で置換されていても
    よい低級アルキル基;または低級アルカノイル基および
    アリール基よりなる群から選択された置換基で置換され
    ていてもよい低級アルコキシ基を意味する]で示される
    基および式 [式中、Rは水素または式 11−CO−またはR11−SO− (式中、R、R10およびR11はそれぞれ前と同じ意
    味)で示される基、Rは水素または低級アルキル基を
    意味する]で示される基よりなる群から選択された置換
    基で置換されていてもよい低級アルキル基;アリール
    基;または低級アルキル基および式 11−CO−またはR11−SO− [式中、R、R10およびR11はそれぞれ前と同じ意
    味]で示される基よりなる群から選択された置換基で置
    換されていてもよいアミノ基; Rは水素または低級アルキル基を意味するか、または RおよびRは隣接する窒素原子と一緒になって、低
    級アルキル基、ヒドロキシ(低級)アルキル基、低級ア
    ルコキシ(低級)アルキル基、複素環置換カルボニル
    (低級)アルキル基、オキソ基、アミノ基が保護されて
    いてもよいアミノ酸残基および式 11−CO−またはR11−SO− [式中、R、R10およびR11はそれぞれ前と同じ意
    味]で示される基よりなる群から選択された置換基で置
    換されていてもよい複素環基を形成している特許請求の
    範囲第1項記載の化合物。
  3. 【請求項3】Rがヒドロキシ基、低級アルコキシ基、
    アリール基、低級アルキルチオ基、式 11−CO−またはR11−SO− で示される基および式 で示される基よりなる群から選択された置換基で置換さ
    れていてもよい低級アルキル基である特許請求の範囲第
    2項記載の化合物。
  4. 【請求項4】Rが式 [式中、RおよびR10はそれぞれ水素または低級アル
    キル基を意味するか、またはRおよびR10は隣接する
    窒素原子と一緒になってモルホリノ基を形成する]で示
    される基で置換された低級アルキル基である特許請求の
    範囲第3項記載の化合物。
  5. 【請求項5】2(S)−[Nα−[2(S)−{N−
    (2−モルホリノカルボニルエチル)−N−メチルアミ
    ノカルボニルオキシ}−3−フェニルプロピオニル]−
    α−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘ
    キシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタンま
    たはその塩酸塩である特許請求の範囲第4項記載の化合
    物。
  6. 【請求項6】Rが式 [式中、Rは水素または式 またはR11−CO− 式中、RおよびR10は隣接する窒素原子と一緒になっ
    てモルホリノ基を形成し、R11は低級アルキル基を意味
    する)で示される基、 Rは水素または低級アルキル基を意味する] で示される基で置換された低級アルキル基である特許請
    求の範囲第3項記載の化合物。
  7. 【請求項7】2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メ
    チル−N−[2−{N−(モルホリノカルボニル)−N
    −メチルアミノ}エチル]アミノカルボニルオキシ]−
    3−フェニルプロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒス
    チジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒド
    ロキシ−6−メチルヘプタンまたはその塩酸塩である特
    許請求の範囲第6項記載の化合物。
  8. 【請求項8】2(S)−[Nα−[2(S)−[N−メ
    チル−N−{2−(N−イソブチリル−N−メチルアミ
    ノ)エチル}アミノカルボニルオキシ]−3−フェニル
    プロピオニル]−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミ
    ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
    メチルヘプタンまたはその塩酸塩である特許請求の範囲
    第6項記載の化合物。
  9. 【請求項9】Rが低級アルキル基および式 11−CO−またはR11−SO− で示される基よりなる群から選択された置換基で置換さ
    れていてもよいアミノ基である特許請求の範囲第2項記
    載の化合物。
  10. 【請求項10】RおよびRが隣接する窒素原子と一
    緒になって、低級アルキル基、ヒドロキシ(低級)アル
    キル基、低級アルコキシ(低級)アルキル基、複素環置
    換カルボニル(低級)アルキル基、オキソ基、アミノ基
    が保護されていてもよいアミノ酸残基および式 11−CO−またはR11−SO− で示される基よりなる群から選択された置換基で置換さ
    れていてもよい複素環基を形成している特許請求の範囲
    第2項記載の化合物。
  11. 【請求項11】イ)式 [式中、Rは水素または低級アルキル基、Rは低級
    アルキル基、Rは水素またはN−保護基を意味する] で示される化合物もしくはアミノ基におけるその反応性
    誘導体またはそれらの塩を、式 [式中、Rはアシル基、ヒドロキシ基、低級アルコキ
    シ基、アリール基、低級アルキルチオ基および式 (式中、Rは水素またはアシル基、Rは水素または
    低級アルキル基をそれぞれ意味する)で示される基より
    なる群から選択された置換基で置換されていてもよい低
    級アルキル基;アリール基;または低級アルキル基およ
    びアシル基よりなる群から選択された置換基で置換され
    ていてもよいアミノ基; Rは水素または低級アルキル基を意味するか、または RおよびRは隣接する窒素原子と一緒になって、低
    級アルキル基、ヒドロキシ(低級)アルキル基、低級ア
    ルコキシ(低級)アルキル基、アシル(低級)アルキル
    基、オキソ基およびアシル基よりなる群から選択された
    置換基で置換されていてもよい複素環基を形成する] で示される化合物もしくはカルボキシ基におけるその反
    応性誘導体またはそれらの塩と反応させ、必要に応じて
    N−保護基を脱離させて式 [式中、R、R、RおよびRはそれぞれ前と同
    じ意味] で示される化合物またはその塩を得るか、または式 [式中、RはN−保護基、Aは低級アルキレン基を意
    味し、R、R、RおよびRはそれぞれ前と同じ
    意味である] で示される化合物またはその塩をN−保護基の脱離反応
    に付して、式 [式中、R、R、R、RおよびAはそれぞれ前
    と同じ意味] で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載のアミノ酸誘導体またはその
    塩の製造法。
  12. 【請求項12】特許請求の範囲第1項記載のアミノ酸誘
    導体または医薬として許容されるその塩を有効成分とし
    て含有する降圧剤および心不全用剤。
  13. 【請求項13】式 [式中、Rは低級アルコキシ基、アリール基、低級ア
    ルキルチオ基、式 11−CO−またはR11−SO− [式中、RおよびR10はそれぞれ水素;アリール基;
    シクロ(低級)アルキル基;複素環基;または低級アル
    コキシカルボニル基、低級アルコキシ基、アリール基お
    よび複素環基よりなる群から選択された置換基で置換さ
    れていてもよい低級アルキル基を意味するか、または RおよびR10は隣接する窒素原子と一緒になって、低
    級アルキル基で置換されていてもよい複素環基を形成す
    る、 R11はアリール基;シクロ(低級)アルキル基;低級ア
    ルコキシ基およびモノまたはジ(低級)アルキルアミノ
    基よりなる群から選択された置換基で置換されていても
    よい低級アルキル基;または低級アルカノイル基および
    アリール基よりなる群から選択された置換基で置換され
    ていてもよい低級アルコキシ基を意味する]で示される
    基および式 [式中、Rは水素または式 11−CO−またはR11−SO− (式中、R、R10およびR11はそれぞれ前と同じ意
    味)で示される基、Rは水素または低級アルキル基を
    意味する]で示される基よりなる群から選択された置換
    基で置換された低級アルキル基;アリール基;または低
    級アルキル基および式 11−CO−またはR11−SO− [式中、R、R10およびR11はそれぞれ前と同じ意
    味]で示される基よりなる群から選択された置換基で置
    換されたアミノ基; Rは水素または低級アルキル基を意味する] で示される化合物およびその塩。
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