JP2536032B2 - ペプチド化合物、その製造法およびそれを含有する医薬組成物 - Google Patents

ペプチド化合物、その製造法およびそれを含有する医薬組成物

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JP2536032B2 JP63070537A JP7053788A JP2536032B2 JP 2536032 B2 JP2536032 B2 JP 2536032B2 JP 63070537 A JP63070537 A JP 63070537A JP 7053788 A JP7053788 A JP 7053788A JP 2536032 B2 JP2536032 B2 JP 2536032B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、レニン阻害活性を有する新規なペプチド
化合物に関するものであり、医療の分野で利用される。
[従来の技術] これまで、レニン阻害活性を有するペプチド化合物と
して、特公昭62−13360号公報、特開昭61−33153号公
報、特開昭61−236770号公報、特開昭62−234052号公報
他多数報告されており、今なお、特に経口投与可能なレ
ニン阻害剤の開発が続けられている。
[問題点を解決するための手段] この発明の目的とするペプチド化合物は新規であり、
下記一般式[I]で示すことができる。
[式中、R1はハロゲンおよびハロ(低級)アルキル基よ
りなる群から選択された置換基で置換されていてもよい
アリール基、低級アルキル基またはシクロ(低級)アル
キル基、 R2は水素または低級アルキル基を意味するか、または R1およびR2は隣接する窒素原子と一緒になって、低級
アルキル基およびエステル化されたカルボキシ基よりな
る群から選択された置換基で置換されていてもよい複素
環基を形成する、 R3は水素または低級アルキル基、 R4は低級アルキル基を意味する] 目的化合物[I]またはその塩は下記反応式で説明さ
れる製造法によって製造することができるが、目的化合
物[I]の製造法は下記製造法のみに限定されるもので
はない。
製造法1 [式中、R5はN−保護基、 R6は水素またはN−保護基を意味し、 R1、R2、R3およびR4は前と同じ意味である] この明細書の記載において、この発明の範囲内に包含
される種々の定義の好適な例を以下詳細に述べる。
「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6
個を有する基を意味するものとする。
「ハロゲンおよびハロ(低級)アルキル基よりなる群
から選択された置換基で置換されていてもよいアリール
基」の好適な「アリール」部分としては、フェニル、ナ
フチル、トリル、キシリル、メシチル、クメニル等が挙
げられ、そのうちより好ましいものはフェニル基であ
る。このようなアリール部分は例えばフルオロ、クロ
ロ、ブロモおよびヨードのようなハロゲンおよびハロ
(低級)アルキル基、好ましくは例えばクロロメチル、
ブロモメチル、フルオロメチル、ジクロロメチル、ジフ
ルオロメチル、トリフルオロメチル、2−クロロエチ
ル、2−ブロモエチル、3−クロロプロピル等のモノ
−、ジ−またはトリ−(ハロ)低級アルキル基よりなる
群から選択された置換基で置換されていてもよい。
このような「ハロゲンおよびハロ(低級)アルキル基
よりなる群から選択された置換基で置換されていてもよ
いアリール基」の好ましい例としては、フェニル基、例
えばフルオロフェニル、クロロフェニル、ブロモフェニ
ル、ヨードフェニル等のハロフェニル、ならびに例えば
クロロメチルフェニル、ジクロロメチルフェニル、トリ
フルオロメチルフェニル等のモノ−またはジ−またはト
リ−(ハロ)低級アルキルフェニル基が挙げられ、その
うち最も好ましいものはフルオロフェニル基およびトリ
フルオロメチルフェニル基である。
好適な「低級アルキル基」としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第
三級ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル等のよ
うな直鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられ、さらに好
ましいものとしてはC1〜C5アルキル基が挙げられる。
好適な「シクロ(低級)アルキル基」としては、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル等が挙げられ、そのうち最も好ましいものとして
はシクロヘキシル基が挙げられる。
R1、R2および隣接する窒素原子によって形成される好
適な「複素環基」としては、モルホリノ、チオモルホリ
ノ、ピロリジン−1−イル、ピペリジノ、ピペラジン−
1−イル、ピロリン−1−イル、1,4−ジヒドロピリジ
ン−1−イル、1,2,3,6−テトラヒドロピリジン−1−
イル、1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン−2−イ
ル、1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−1−イル等の基
が挙げられ、それらの中で最も好ましいものはモルホリ
ノ、チオモルホリノ、ピペラジン−1−イル、ピロリジ
ン−1−イルおよび1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリ
ン−2−イルである。このような複素環基は、上記低級
アルキル基およびエステル化されたカルボキシ基、好ま
しくは例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、第
三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、
ヘキシルオキシカルボニル等の低級アルコキシカルボニ
ル基よりなる群から選択された置換基で置換されていて
もよく、それらの中で最も好ましいものは4−メチルピ
ペラジン−1−イル基および2−メトキシカルボニルピ
ロリジン−1−イル基である。
好適な「N−保護基」としては、例えばホルミル、ア
セチル、プロピオニル、トリフルオロアセチル等の置換
されたまたは非置換低級アルカノイル基、フタロイル
基、例えば第三級ブトキシカルボニル、第三級アミルオ
キシカルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、例え
ばベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル等の置換されたまたは非置換アラルコキシ
カルボニル基、例えばベンゼンスルホニル、トシル等の
置換されたまたは非置換アレーンスルホニル基、ニトロ
フェニルスルフェニル基等のようなアシル基、例えばト
リチル、ベンジル等のアラルキル基等が挙げられる。
目的化合物[I]の好適な医薬として許容される塩類
は常用の無毒性塩類であり、例えばギ酸塩、酢酸塩、ト
リフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンス
ルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン
酸塩等の有機酸付加塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、例えばアスパラギン
酸塩、グルタミン酸塩等のアミノ酸との塩等が挙げられ
る。
目的化合物[I]の製造法を以下詳細に説明する。
製造法1 第1工程 化合物[IV]またはその塩は、化合物[II]もしくは
カルボキシ基におけるその反応性誘導体またはそれらの
塩を、化合物[III]もしくはアミノ基におけるその反
応性誘導体またはそれらの塩と反応させることにより製
造することができる。
化合物[IV]の好適な塩類は、化合物[I]について
例示したものを参照すればよい。
化合物[II]のカルボキシ基における好適な反応性誘
導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミ
ド、活性化エステル等が挙げられる。それらの反応性誘
導体の好適な例としては酸塩化物;酸アジド;例えばジ
アルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベン
ジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換された燐酸、ジアル
キル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、例えばメタンス
ルホン酸等のスルホン酸、例えば酢酸、プロピオン酸、
酪酸、イソ酪酸、ピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタ
ン酸、2−エチル酪酸、トリクロロ酢酸等の脂肪族カル
ボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボン酸のよ
うな酸との混合酸無水物;対称酸無水物;イミダゾー
ル、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリ
アゾールまたはテトラゾールとの活性化アミド;または
例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエステ
ル、ジメチルイミノメチル エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル、p
−ニトロフェニルエステル、2,4−ジニトロフェニルエ
ステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフ
ェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルア
ゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、p−ニト
ロフェニルチオエステル、p−クレジルチオエステル、
カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピ
リジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリルチ
オエステル等の活性化エステル、または例えばN,N−ジ
メチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−(1
H)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−
ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−1H−ベンゾ
トリアゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのエステル等
が挙げられる。これらの反応性誘導体は使用すべき化合
物[II]の種類によってそれらの中から任意に選択する
ことができる。
化合物[II]およびその反応性誘導体の好適な塩類と
しては、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ
金属塩、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアル
カリ土類金属塩、アンモニウム塩、例えばトリメチルア
ミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン
塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N′−ジベンジルエ
チレンジアミン塩等の有機塩基塩等のような塩基塩、お
よび化合物[I]について例示したような酸付加塩が挙
げられる。
化合物[III]のアミノ基における好適な反応性誘導
体としては、化合物[III]とアルデヒド、ケトン等の
ようなカルボニル化合物との反応によって生成するシフ
トの塩基型イミノ基またはそのエナミン型互変異性体;
化合物[III]とビス(トリメチルシリル)アセトアミ
ド、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(ト
リメチルシリル)尿素等のようなシリル化合物との反応
によって生成するシリル誘導体;化合物[III]と三塩
化燐、ホスゲンとの反応によって生成する誘導体等が挙
げられる。
化合物[III]およびその反応性誘導体の好適な塩類
は、化合物[I]について例示したような塩類を参照す
ればよい。
反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等の
アルコール、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、
クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒ
ドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる有
機溶媒中でも反応を行うことができる。これらの常用の
溶媒は水との混合物として使用してもよい。
この反応において化合物[II]を遊離酸の形またはそ
の塩の形で使用する場合には、N,N′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド;N−シクロヘキシル−N′−モルホリ
ノエチルカルボジイミド;N−シクロヘキシル−N′−
(4−ジエチルアミノシクロヘキシル)カルボジイミ
ド;N,N′−ジエチルカルボジイミド;N,N′−ジイソプロ
ピルカルボジイミド;N−エチル−N′−(3−ジメチル
アミノプロピル)カルボジイミド;N,N′−カルボニルビ
ス−(2−メチルイミダゾール);ペンタメチレンケテ
ン−N−シクロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N
−シクロヘキシルイミン;エトキシアセチレン;1−アル
コキシ−1−クロロエチレン;亜燐酸トリアルキル;ポ
リ燐酸エチル;ポリ燐酸イソプロピル;オキシ塩化燐
(塩化ホスホリル);三塩化燐;ジフェニルアジ化ホス
ホリル;塩化チオニル;塩化オキザリル;例えばクロロ
ギ酸エチル、クロロギ酸イソプロピル等のハロギ酸低級
アルキル;トリフェニルホスフィン;2−エチル−7−ヒ
ドロキシベンズイソオキサゾリウム塩;2−エチル−5−
(m−スルホフェニル)イソオキサゾリウムヒドロキシ
ド分子内塩;1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキ
シ)−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾール;N,N−ジメ
チルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、クロロギ
酸トリクロロメチル、オキシ塩化燐等との反応によって
調製したいわゆるビルスマイヤー試薬等のような慣用の
縮合剤の存在下に反応を行うのが好ましい。
反応はまた、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)
アルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモル
ホリン、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等の
ような無機塩基または有機塩基の存在下に行ってもよ
い。
反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし
加温下に反応が行われる。
第2工程 化合物[V]またはその塩は、化合物[IV]またはそ
の塩をN−保護基の脱離反応に付すことにより製造する
ことができる。
化合物[V]の好適な塩類については化合物[I]に
ついて例示したものを参照すればよい。
この反応は加水分解、還元等のような常法に従って行
われる。
加水分解は塩基またはルイス酸を含めた酸の存在下に
行うのが好ましい。
好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等の
アルカリ土類金属、それらの金属の水酸化物または炭酸
塩または炭酸水素塩、ヒドラジン、例えばトリメチルア
ミン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピコ
リン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、
1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザ
ビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン等のような無機
塩基および有機塩基が挙げられる。
好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素、フ
ッ化水素等の無機酸および例えばピリジン塩酸塩等の酸
付加塩化合物が挙げられる。
例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハ
ロ酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は、例えばア
ニソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行
うのが好ましい。
反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等の
アルコール、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロ
ロメタン、テトラヒドロフランのような溶媒、またはそ
れらの混合物中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行う
ことができる。液状の塩基または酸も溶媒として使用す
ることができる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下
に反応が行われる。
脱離反応に適用されうる還元法としては、化学的還元
および接触還元が挙げられる。
化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばス
ズ、亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸ク
ロム等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン
酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩
酸、臭化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせで
ある。
接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、
白金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等
の白金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸
化パラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウ
ム、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリ
ウム等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニ
ッケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元
コバルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還
元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元銅、ラネー銅、
ウルマン銅等の銅触媒等のような常用のものである。
還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、N,N−ジメチルホルムアミドのような反応に悪影
響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混合物中で行
われる。さらに、化合的還元に使用される上記酸が液体
である場合には、それらを溶媒として使用することもで
きる。さらにまた、接触還元に使用される好適な溶媒と
しては、上記溶媒およびジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のようなその他の慣用の溶
媒、またはそれらの混合物が挙げられる。
この還元の反応温度は特に限定されず、通常冷却下な
いし加熱下に反応が行われる。
第3工程 目的化合物[I]またはその塩は、化合物[V]もし
くはアミノ基におけるその反応性誘導体またはそれらの
塩を、化合物[VI]もしくはカルボキシ基におけるその
反応性誘導体またはそれらの塩と反応させ、必要に応じ
てN−保護基を脱離することにより製造することができ
る。
化合物[VI]の好適な塩類については、化合物[II]
について例示したような塩基との塩を参照すればよい。
この反応は第1工程と実質的に同様にして行うことが
できるので、この反応の反応方式および例えば反応性誘
導体、縮合剤、溶媒、反応温度等の反応条件については
第1工程の説明を参照すればよい。
化合物[V]のイミダゾリル基が保護されている場合
には、さらに化合物[V]と化合物[VI]との反応生成
物のN−保護基を脱離することにより目的化合物[I]
を製造することができる。
この脱離反応はこ製造法の第2工程と実質的に同様に
して行うことができるので、この反応の反応方式および
例えば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反
応条件についてはこの製造法の第2工程の説明を参照す
ればよい。
原料化合物[VI]中、それらの中のある種のものは新
規化合物であり、下記反応式で示される製造法により製
造することができる。
[式中、R7は保護されたカルボキシ基を意味し、R1およ
びR2は前と同じ意味] 好適な「保護されたカルボキシ基」としては、例えば
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、第二級ブトキシカルボニル、イソブトキシカル
ボニル、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカ
ルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオ
キシカルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、任意
に置換されたアル(低級)アルコキシカルボニル基、そ
の例として、例えばベンジルオキシカルボニル、4−ニ
トロベンジルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシ
カルボニル、トリチルオキシカルボニル等の、ニトロ基
で置換されていてもよいモノまたはジまたはトリフェニ
ル(低級)アルコキシカルボニル基等が挙げられる。
原料化合物の上記製造法を以下詳細に説明する。
製造法A 化合物[IX]は化合物[VII]またはその塩と化合物
[VIII]またはその塩とを尿素基生成反応に付すことに
より製造することができる。
化合物[VII]および[VIII]の好適な塩類について
は、化合物[I]で例示した塩類を参照すればよい。
この反応はホスゲン、例えばクロロギ酸エチル、クロ
ロギ酸トリクロロメチル等のハロギ酸エステル化合物、
N,N′−カルボニルジイミダゾール、例えばコバルトカ
ルボニル、マンガンカルボニル等の金属カルボニル化合
物、一酸化炭素と塩化パラジウム等のような触媒との組
合わせ等のようなカルボニル基を導入する試薬の存在下
に行われる。
この反応は通常、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ベンゼン、トルエン、クロロホルム、塩化メチレン、N,
N−ジメチルホルムアミドのような溶媒中で行われる
が、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のい
かなる有機溶媒中でも反応を行うことができる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下
に反応が行われる。
製造法B 化合物[IX a]は化合物[X]を化合物[VIII]また
はその塩と反応させることにより製造することができ
る。
この反応は通常、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ベンゼン、クロロホルム、塩化メチレン、N,N−ジメチ
ルホルムアミドのような溶媒中で行われるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる有機溶
媒中でも反応を行うことができる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下
に反応が行われる。
製造法C 化合物[VI]またはその塩は、化合物[IX]をカルボ
キシ保護基の脱離反応に付すことにより製造することが
できる。
この反応は製造法1の第2工程と実質的に同様にして
行うことができ、従ってこの反応の反応方式および例え
ば塩基、酸、還元剤、触媒、溶媒、反応温度等の反応条
件については、製造法1の第2工程の説明を参照すれば
よい。
上記製造法で得られた化合物は、粉砕、再結晶、カラ
ムクロマトグラフィー、再沈殿等のような常法によって
単離、精製することができる。
化合物[I]およびその他の化合物には、不斉炭素原
子に基づく立体異性体1個以上が含まれ、そのような異
性体およびそれらの混合物はすべてこの発明の範囲内に
包含される。
治療のためにこの発明の化合物[I]および医薬とし
て許容されるその塩類は、有機または無機固体状または
液状賦形剤と混合して前記化合物の1種を有効成分とし
て含有する、経口投与、非経口投与または外用投与に適
した医薬製剤の形で使用することができる。医薬製剤と
してはカプセル、錠剤、糖衣錠、顆粒、溶液、懸濁液、
エマルジョン等が挙げられる。所望に応じてこれらの製
剤中に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液およ
びその他の通常使用される添加剤が含まれていてもよ
い。
化合物[I]の投与量は患者の年齢および状態によっ
て変化するが、化合物[I]を平均1回約0.1mg、1mg、
10mg、50mg、100mg、250mg、500mg、1000mgの投与量で
高血圧の治療に有効である。一般的には1日当り0.1mg/
個体〜約1000mg/個体との間の量を投与すればよい。
[発明の効果] 目的化合物[I]の有用性を示すために、化合物
[I]の代表的化合物の薬理試験結果を以下に示す。
試験化合物 (a)2(S)−(N−モルホリノカルボニル−L−フ
ェニルアラニル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロ
ヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン (b)2(S)−(N−モルホリノカルボニル−L−フ
ェニルアラニル−Nα−メチル−L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン (c)2(S)−(N−チオモルホリノカルボニル−L
−フェニルアラニル−Nα−メチル−L−ヒスチジル)
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン (d)2(S)−[N−(1,2,3,4−テトラヒドロイソ
キノリン−2−イルカルボニル)−L−フェニルアラニ
ル−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シク
ロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタ
ン 試験1 試験法 ヒト血漿を薬物前処置しない男性ボランティアから採
取し、プールとして使用した。エチレンジアミン四酢酸
(EDTA)ジナトリウム塩を抗凝血剤として使用した。血
漿中内因レニンおよびアンジオテンシノゲンをpH6.0で
インキュベート(37℃)後、血漿レニン作用をアンジオ
テンシンI生成率として測定した。インキュベート混合
物は血漿250μ、フッ化(フェニルメチル)スルホニ
ル5μ、緩衝液(ナトリウム−燐酸カリウム緩衝液、
pH6.0)30μおよび50%エチルアルコール−水担体中
適宜濃度の試験化合物15μを含むものであった。90分
間インキュベート後に生成したアンジオテンシンIを、
市販キットRENCTK100[コミッサリアート・エー・レネ
ルギー、アトミク(Commissariat A L′energie Atomiq
ue)製]を用いて行うラジオイミュノアッセイ法により
測定した。試料を二組一揃いとしてインキュベートし、
各チューブを二組一揃いとしてラジオイミュノアッセイ
法で測定した。血漿レニン活性抑制百分率を、試験化合
物存在下および存在しない場合に生成したアンジオテン
シンIの量を比較することにより計算した。血漿レニン
作用を50%抑制した試験化合物濃度(IC50)をプロビッ
ト(Probit)法により決定した。
試験結果 試験2 試験法 体重約2.5〜3.5kgのカニクイザルに試験化合物投与前
日フロセミド(15mg/kg)を皮下投与し当日試験化合物
投与前30分前にフロセミド(10mg/kg)を静注投与して
高レニン状態とした。
上記カニクイザルをサル固定台に覚醒状態で固定し
た。試験化合物を一当量の希塩酸に溶解し(pH5〜
6)、胃ゾンデを用いて経口的に投与した。投与前およ
び投与後0.5、1、2、3、4、6時間後の血圧を測定
し、降圧率を投与前値に対する百分率として計算した。
また、投与前および投与後0.5、1、2、4、6時間
後に左上腕より血液(約1.0ml)を採取した。EDTAジナ
トリウム塩を含む採血管に移し、10分間遠心分離(3000
rpm、4℃)して、レニン活性測定サンプルとした。得
られた血漿(100μ)にアンジオテンシナーゼ抑制剤
を含む水溶液(3mM・8−ヒドロキシキノリンスルフェ
ートおよび5mM・2,3−ジメチルカプトプロパノール)
(100μ)を添加した。この混合物のうち、100μを
4℃で保存し、他の100μを37℃で1時間インキュベ
ートした。それぞれの反応液中に存在するアンジオテン
シンIの量を試験1と同様にして測定した。血漿レニン
活性は、37℃でインキュベートした反応液中のアシジオ
テンシンIの量から4℃で保存した反応液中のアンジオ
テンシンIの量を差し引き算出した。レニン活性抑制率
は薬物投与前のレニン活性に対する百分率として計算し
た。
試験結果 上記の試験結果から明らかな様に、目的化合物[I]
およびその液類は、in vitro試験および経口投与による
in vivo試験において、レニンに対する強い阻害作用お
よび降圧作用を有し、特に経口投与可能な降圧剤として
有用である。
[実施例] 以下実施例に従って目的化合物[I]の好ましい製造
例を説明するが、これらの化合物の製造法は下記実施例
に限定されるものではない。
下記実施例ではTLC板としてキーゼルゲル(Kieselge
l)60F254(商標:メルク社製)(厚さ:0.25mm)を使用
した。
実施例1 (1)N−第三級ブトキシカルボニル−L−シクロヘキ
シルアラニナール(7.73g)の乾燥テトラヒドロフラン
(200ml)溶液を−78℃に冷却してこれに、臭化イソペ
ンチル(46.4g)とマグネシウム(7.47g)とから製造し
た臭化イソペンチルマグネシウムの乾燥テトラヒドロフ
ラン(500ml)溶液を滴下する。添加終了後、反応混合
物の温度を2時間かけて常温まで上昇せしめ、塩化アン
モニウム飽和水溶液(500ml)中に注ぐ。この混合物を
エーテル(500ml)で2回抽出し、抽出液を合わせて硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して油状物(10.1
g)を得る。残渣をシリカゲル(1kg)カラムクロマトグ
ラフィーに付し、ヘキサン中10%酢酸エチルで溶出して
精製し、2(S)−第三級ブトキシカルボニルアミノ−
1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン(3.03g)を得る。
Rf:0.67(ベンゼン:酢酸エチル、4:1 v/v) ▲[α]20 D▼:−23.46゜(c1.0,MeOH) (2)2(S)−第三級ブトキシカルボニルアミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン(600mg)のトリフルオロ酢酸(10ml)溶液を
0℃で30分間撹拌する。溶媒を留去後、残渣を酢酸エチ
ル(20ml)に溶解する。溶液を炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減
圧下に留去して、2(S)−アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3−(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(41
2mg)を油状物として得る。
Rf:0.63(クロロホルム:メタノール:酢酸、8:1:1、v/
v) (3)Nα−第三級ブトキシカルボニル−Nα−メチル
−Nim−トシル−L−ヒスチジン(2.77g)および2
(S)−アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒド
ロキシ−6−メチルヘプタン(1.49g)の乾燥塩化メチ
レン(60ml)溶液を0℃に冷却してこれに、N−エチル
−N′−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミ
ド(1.25g)を加える。混合物を常温で3時間撹拌す
る。溶媒を留去後、残渣を酢酸エチル(200ml)に溶解
し、溶液を0.5%塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液
および水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、クロロホルム中1%メタノールで溶出して精
製し、2(S)−(Nα−第三級ブトキシカルボニル−
α−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ
−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン(1.61g)を無定形粉末として得る。
mp:55−58℃ Rf:0.56(ベンゼン:酢酸エチル:酢酸、20:20:1 v/v) (4)2(S)−(Nα−第三級ブトキシカルボニル−
α−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ
−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン(1.20g)のトリフルオロ酢酸(20ml)溶
液を−5℃で3時間撹拌する。混合物を減圧濃縮後、残
渣を酢酸エチル(100ml)に溶解する。溶液を炭酸水素
ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮して、2(S)−(Nα−メチル−Nim
−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(982m
g)を油状物として得る。
Rf:0.67(クロロホルム:メタノール、10:1、v/v) (5)L−フェニルアラニンベンジルエステル・p−ト
ルエンスルホン酸塩(4.27g)の乾燥トルエン(50ml)
溶液に、トリエチルアミン(1.01g)およびクロロギ酸
トリクロロメチル(0.732ml)を加える。混合物を80℃
で30分間撹拌する。溶媒を留去後、残渣をテトラヒドロ
フラン(40ml)に溶解してこの溶液にモルホリン(871m
g)を常温で加える。混合物を常温で3時間撹拌する。
溶媒を留去後、残渣を酢酸エチル(100ml)に溶解し、
この溶液を5%塩酸、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液お
よび水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグフィーに
付し、n−ヘキサン中30%酢酸エチルで溶出、精製し
て、N−モルホリノカルボニル−L−フェニルアラニン
ベンジルエステル(3.02g)を無定形粉末として得る。
mp:85−87℃ Rf:0.30(酢酸エチル:n−ヘキサン、1:1、v/v) (6)N−モルホリノカルボニル−L−フェニルアラニ
ンベンジルエステル(1.43g)のメタノール(20ml)溶
液を10%パラジウム−炭素(150mg)により3気圧の水
素ガスを吹きこみながら、1時間水素添加する。溶液を
濾過し、減圧濃縮して、N−モルホリノカルボニル−L
−フェニルアラニン(1.02g)を無定形粉末として得
る。
mp:57−60℃ Rf:0.15(クロロホルム:メタノール、10:1、v/v) (7)N−モルホリノカルボニル−L−フェニルアラニ
ン(663mg)および2(S)−(Nα−メチル−Nim−ト
シル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(982mg)
の乾燥塩化メチレン(30ml)溶液を0℃に冷却してこれ
に、N−エチル−N′−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド・塩酸塩(437mg)を加える。混合
物を同温で6時間撹拌する。溶媒を留去後、残渣を酢酸
エチル(60ml)に溶解し、この溶液を5%塩酸、炭酸水
素ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄して硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣をN,N−ジメ
チルホルムアミド(30ml)に溶解後、この溶液にピリジ
ン・塩酸塩(2.20g)を常温で加える。混合物を同温で
2時間撹拌する。溶媒を留去後、残渣を酢酸エチル(10
0ml)に溶解し、溶液を水、炭酸水素ナトリウム飽和水
溶液および水で順次洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、クロロホルム中2%メタノールで溶
出、精製して、2(S)−(N−モルホリノカルボニル
−L−フェニルアラニル−Nα−メチル−L−ヒスチジ
ル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン(1.03g)を無定形粉末として
得る。
mp:102−108℃ Rf:0.58(クロロホルム:メタノール、10:1、v/v) 実施例2 (1)N−第三級ブトキシカルボニル−L−ヒスチジン
(363mg)および2(S)−アミノ−1−シクロヘキシ
ル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(294m
g)の乾燥N,N−ジメチルホルムアミド(30ml)溶液を0
℃に冷却してこれに、ジフェニルホスホリルアジド(39
0mg)の乾燥N,N−ジメチルホルムアミド(5ml)溶液お
よびトリエチルアミン(144mg)を加える。混合物を常
温で一夜撹拌する。溶媒を留去後、残渣を酢酸エチル
(30ml)に溶解し、溶液を10%クエン酸水溶液、炭酸水
素ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄して硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧濃縮する。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムで溶
出、精製して、2(S)−(N−第三級ブトキシカルボ
ニル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(384mg)
を無定形粉末として得る。
mp:96−100℃ Rf:0.47(クロロホルム:メタノール:酢酸、8:1:1、v/
v) (2)2(S)−(N−第三級ブトキシカルボニル−L
−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)
−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(383mg)のトリフ
ルオロ酢酸(10ml)溶液を0℃で30分間撹拌する。混合
物を減圧濃縮した後、残渣を酢酸エチル(20ml)に溶解
する。溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して、2(S)−
(L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(275mg)を
無定形粉末として得る。
mp:126−130℃ Rf:0.11(クロロホルム:メタノール:酢酸、8:1:1、v/
v) (3)N−モルホリノカルボニル−L−フェニルアラニ
ン(114mg)および2(S)−(L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン(150mg)の乾燥N,N−ジメチルホルムア
ミド(20ml)溶液を0℃に冷却してこれに、ジフェニル
ホスホリルアジド(125mg)の乾燥N,N−ジメチルホルム
アミド(5ml)溶液およびトリエチルアミン(46mg)を
加える。混合物を常温で一夜撹拌する。溶媒を留去後、
残渣を酢酸エチル(30ml)に溶解し、溶液を炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液および水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム中2%メタ
ノールで溶出、精製して、2(S)−(N−モノホリノ
カルボニル−L−フェニルアラニル−L−ヒスチジル)
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)ヒドロキシ−6
−メチルヘプタン(174mg)を無定形粉末として得る。
mp:108−110℃ Rf:0.41(クロロホルム:メタノール、6:1、v/v) 実施例3 (1)実施例1−(5)と同様にして、L−フェニルア
ラニンベンジルエステル・p−トルエンスルホン酸塩
(1.71g)およびチオモルホリン(454mg)から、N−チ
オモルホリノカルボニル−L−フェニルアラニンベンジ
ルエステル(576mg)を得る。
mp:101−103℃ Rf:0.70(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/v) (2)N−チオモルホリノカルボニル−L−フェニルア
ラニンベンジルエステル(526mg)のメタノール(10m
l)と水(10ml)との混合物溶液を0℃に冷却してこれ
に、1N水酸化ナトリウム水溶液(4ml)を加える。混合
物を同温で1時間撹拌する。メタノールを留去後、残る
水溶液をジエチルエーテルで洗浄し、3N塩酸でpH2に調
整して酢酸エチル(30ml)で3回抽出する。抽出液を塩
化ナトリウム飽和水溶液で洗浄して硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧濃縮して、N−チオモルホリノカルボニル
−L−フェニルアラニン(382mg)を油状物として得
る。
Rf:0.10(クロロホルム:メタノール、9:1、v/v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−チオモルホ
リノカルボニル−L−フェニルアラニン(55mg)および
2(S)−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチ
ジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロ
キシ−6−メチルヘプタン(90mg)から、2(S)−
(N−チオモルホリノカルボニル−L−フェニルアラニ
ル−Nα−メチル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シク
ロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタ
ン(80.7mg)を得る。
mp:106−110℃ Rf:0.53(クロロホルム:メタノール、9:1、v/v) 実施例4 (1)実施例1−(5)と同様にして、L−フェニルア
ラニンベンジルエステル・p−トルエンスルホン酸塩
(1.71g)および1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン
(586mg)から、N−(1,2,3,4−テトラヒドロイソキノ
リン−2−イルカルボニル)−L−フェニルアラニンベ
ンジルエステル(1.02g)を得る。
Rf:0.61(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:2、v/v) (2)実施例1−(6)と同様にして、N−(1,2,3,4
−テトラヒドロイソキノリン−2−イルカルボニル)−
L−フェニルアラニンベンジルエステル(950mg)か
ら、N−(1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリン−2−
イルカルボニル)−L−フェニルアラニン(730mg)を
得る。
Rf:0.19(クロロホルム:メタノール、10:1、v/v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−(1,2,3,4
−テトラヒドロイソキノリン−2−イルカルボニル)−
L−フェニルアラニン(67mg)および2(S)−(Nα
−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1
−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチル
ヘプタン(100mg)から、2(S)−[N−(1,2,3,4−
テトラヒドロイソキノリン−2−イルカルボニル)−L
−フェニルアラニル−Nα−メチル−L−ヒスチジル]
アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−
6−メチルヘプタン(85mg)を得る。
mp:104−108℃ Rf:0.67(クロロホルム:メタノール:酢酸、8:1:1、v/
v) 実施例5 (1)L−フェニルアラニンベンジルエステル・p−ト
ルエンスルホン酸塩(1.71g)とトリエチルアミン(405
mg)との乾燥テトラヒドロフラン(30ml)溶液を0℃に
冷却してこれに、4−トリフルオロメチルフェニルイソ
シアネート(748mg)を加える。混合物を同温で30分間
撹拌する。溶媒を留去後、残渣を5%塩酸、炭酸水素ナ
トリウム飽和水溶液および水で順次洗浄して硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮して、N−(4−トリフルオ
ロメチルフェニルカルバモイル)−L−フェニルアラニ
ンベンジルエステル(1.62g)を白色結晶として得る。
mp:155−157℃ Rf:0.81(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1 v/v) (2)実施例1−(6)と同様にして、N−(4−トリ
フルオロメチルフェニルカルバモイル)−L−フェニル
アラニンベンジルエステル(1.58g)から、N−(4−
トリフルオロメチルフェニルカルバモイル)−L−フェ
ニルアラニン(1.18g)を得る。
mp:189−191℃ Rf:0.70(クロロホルム:メタノール:酢酸、8:1:1、v/
v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−(4−トリ
フルオロメチルフェニルカルバモイル)−L−フェニル
アラニン(73mg)および2(S)−(Nα−メチル−N
im−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキ
シル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(10
0mg)から、2(S)−[N−(4−トリフルオロメチ
ルフェニルカルバモイル)−L−フェニルアラニル−N
α−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキ
シル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(10
7mg)を得る。
mp:128−132℃ Rf:0.46(クロロホルム:メタノール、9:1、v/v) 0.56(クロロホルム:メタノール:酢酸、8:1:1、v/v) 実施例6 (1)実施例5−(1)と同様にして、L−フェニルア
ラニンベンジルエステル・p−トルエンスルホン酸塩
(1.71g)および4−フルオロフェニルイソシアネート
(548mg)から、N−(4−フルオロフェニルカルバモ
イル)−L−フェニルアラニンベンジルエステル(1.54
g)を得る。
mp:140−140.5℃ Rf:0.25(n−ヘキサン:酢酸エチル、2:1、v/v) (2)実施例1−(6)と同様にして、N−(4−フル
オロフェニルカルバモイル)−L−フェニルアラニンベ
ンジルエステル(1.44g)から、N−(4−フルオロフ
ェニルカルバモイル)−L−フェニルアラニン(1.11
g)を得る。
mp:155−156℃ Rf:0.38(酢酸エチル:ベンゼン:酢酸、20:20:1、v/
v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−(4−フル
オロフェニルカルバモイル)−L−フェニルアラニン
(68.1mg)および2(S)−(Nα−メチル−Nim−ト
シル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−
3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(100.0m
g)から、2(S)−[N−(4−フルオロフェニルカ
ルバモイル)−L−フェニルアラニル−Nα−メチル−
L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3
(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(102.6mg)
を得る。
mp:116−118℃ Rf:0.25(クロロホルム中10%メタノール) 実施例7 (1)実施例5−(1)と同様にして、n−ブチルイソ
シアネート(397mg)およびL−フェニルアラニンベン
ジルエステル・p−トルエンスルホン酸塩(1.71g)か
ら、N−(n−ブチルカルバモイル)−L−フェニルア
ラニンベンジルエステル(1.40g)を得る。
mp:95−96℃ Rf:0.66(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1 v/v) (2)実施例1−(6)と同様にして、N−(n−ブチ
ルカルバモイル)−L−フェニルアラニンベンジルエス
テル(1.31g)から、N−(n−ブチルカルバモイル)
−L−フェニルアラニン(977mg)を得る。
Rf:0.29(酢酸エチル:ベンゼン:酢酸、20:20:1、v/
v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−(n−ブチ
ルカルバモイル)−L−フェニルアラニン(45.1mg)お
よび2(S)−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒ
スチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン(75.8mg)から、2
(S)−[N−(n−ブチルカルバモイル−L−フェニ
ルアラニル−Nα−メチル−L−ヒスチジル]アミノ−
1−シクロヘキシル−3−(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン(64.5mg)を得る。
mp:88−92℃ Rf:0.30(クロロホルム中10%メタノール) 実施例8 (1)実施例1−(5)と同様にして、1−メチルピペ
ラジン(441mg)およびL−フェニルアラニンベンジル
エステル・p−トルエンスルホン酸塩(1.71g)から、
N−(4−メチルピペラジン−1−イルカルボニル)−
L−フェニルアラニンベンジルエステル(762mg)を得
る。
Rf:0.49(クロロホルム:メタノール:酢酸、8:1:1、v/
v) (2)実施例1−(6)と同様にして、N−(4−メチ
ルピペラジン−1−イルカルボニル)−L−フェニルア
ラニンベンジルエステル(740mg)から、N−(4−メ
チルピペラジン−1−イルカルボニル)−L−フェニル
アラニン(531mg)を得る。
Rf:0.09(クロロホルム:メタノール:酢酸、8:1:1、v/
v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−(4−メチ
ルピペラジン−1−イルカルボニル)−L−フェニルア
ラニン(52.4mg)および2(S)−(Nα−メチル−N
im−トシル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキ
シル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(80
mg)から、2(S)−[N−(4−メチルピペラジン−
1−イルカルボニル)−L−フェニルアラニル−Nα
メチル−L−ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル
−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(64mg)
を得る。
mp:100−108℃ Rf:0.10(クロロホルム:メタノール:酢酸、8:2:1、v/
v) 実施例9 (1)実施例1−(5)と同様にして、L−プロリンメ
チルエステル・塩酸塩(729mg)およびL−フェニルア
ラニンベンジルエステル・p−トルエンスルホン酸塩
(1.71g)から、N−[2(S)メトキシカルボニルピ
ロリジン−1−イルカルボニル]−L−フェニルアラニ
ンベンジルエステル(680mg)を得る。
mp:83−87℃ Rf:0.44(n−ヘキサン:酢酸エチル、1:1、v/v) (2)実施例1−(6)と同様にして、N−[2(S)
−メトキシカルボニルピロリジン−1−イルカルボニ
ル]−L−フェニルアラニンベンジルエステル(660m
g)から、N−[2(S)−メトキシカルボニルピロリ
ジン−1−イルカルボニル]−L−フェニルアラニン
(470mg)を得る。
Rf:0.16(酢酸エチル:ベンゼン:酢酸、20:20:1、v/
v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−[2(S)
−メトキシカルボニルピロリジン−1−イルカルボニ
ル]−L−フェニルアラニン(58mg)および2(S)−
(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン(80mg)から、2(S)−[N−(2
(S)−メトキシカルボニルピロリジン−1−イルカル
ボニル)−L−フェニルアラニル−Nα−メチル−L−
ヒスチジル]アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−
ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(78mg)を得る。mp:9
2−98℃ Rf:0.42(クロロホルム:メタノール、10:1、v/v) 実施例10 (1)実施例5−(1)と同様にして、L−フェニルア
ラニンベンジルエステル・p−トルエンスルホン酸塩
(1.71g)および第三級ブチルイソシアネート(397mg)
から、N−第三級ブチルカルバモイル−L−フェニルア
ラニンベンジルエステル(1.42g)を得る。
Rf:0.54(n−ヘキサン:酢酸エチル、2:1、v/v) (2)実施例1−(6)と同様にして、N−第三級ブチ
ルカルバモイル−L−フェニルアラニンベンジルエステ
ル(1.30g)から、N−第三級ブチルカルバモイル−L
−フェニルアラニン(963.4mg)を得る。
mp:139−140℃ Rf:0.36(酢酸エチル:ベンゼン:酢酸、20:20:1、v/
v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−第三級ブチ
ルカルバモイル−L−フェニルアラニン(43.7mg)およ
び2(S)−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒス
チジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒド
ロキシ−6−メチルヘプタン(70.8mg)から、2(S)
−(N−第三級ブチルカルバモイル−L−フェニルアラ
ニル−Nα−メチル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シ
クロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプ
タン(61.7mg)を得る。
mp:115−123℃ Rf:0.26(メタノール:クロロホルム、1:9、v/v) 実施例11 (1)実施例5−(1)と同様にして、シクロヘキシル
イソシアネート(500mg)およびL−フェニルアラニン
ベンジルエステル・p−トルエンスルホン酸塩(1.71
g)から、N−シクロヘキシルカルバモイル−L−フェ
ニルアラニンベンジルエステル(1.52g)を得る。
mp:158−159℃ Rf:0.40(n−ヘキサン:酢酸エチル、2:1、v/v) (2)実施例1−(6)と同様にして、N−シクロヘキ
シルカルバモイル−L−フェニルアラニンベンジルエス
テル(1.40g)から、N−シクロヘキシルカルバモイル
−L−フェニルアラニン(984.6mg)を得る。
Rf:0.35(酢酸エチル:ベンゼン:酢酸、20:20:1、v/
v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−シクロヘキ
シルカルバモイル−L−フェニルアラニン(48.0mg)お
よび2(S)−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒ
スチジル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒ
ドロキシ−6−メチルヘプタン(71.7mg)から、2
(S)−(N−シクロヘキシルカルバモイル−L−フェ
ニルアラニル−Nα−メチル−L−ヒスチジル)アミノ
−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メ
チルヘプタン(63.2mg)を得る。
mp:115−123℃ Rf:0.29(メタノール:クロロホルム、1:9、v/v) 実施例12 (1)実施例1−(5)と同様にして、L−フェニルア
ラニンベンジルエステル・p−トルエンスルホン酸塩
(1.71g)およびジエチルアミン(0.46ml)から、N−
ジエチルカルバモイル−L−フェニルアラニンベンジル
エステル(627.6mg)を得る。
Rf:0.28(n−ヘキサン:酢酸エチル、2:1、v/v) (2)実施例1−(6)と同様にして、N−ジエチルカ
ルバモイル−L−フェニルアラニンベンジルエステル
(627.6mg)から、N−ジエチルカルバモイル−L−フ
ェニルアラニン(447.3mg)を得る。
Rf:0.25(酢酸エチル:ベンズン:酢酸、20:20:1、v/
v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−ジエチルカ
ルバモイル−L−フェニルアラニン(41.2mg)および2
(S)−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジ
ル)アミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキ
シ−6−メチルヘプタン(77.6mg)から、2(S)−
(N−ジエチルカルバモイル−L−フェニルアラニル−
α−メチル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘ
キシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン
(53.0mg)を得る。
mp:84−92℃ Rf:0.39(メタノール:クロロホルム、1:9、v/v) 実施例13 (1)実施例1−(5)と同様にして、L−フェニルア
ラニンベンジルエステル・p−トルエンスルホン酸塩
(1.71g)およびジイソプロピルアミン(0.57ml)か
ら、N−ジイソプロピルカルバモイル−L−フェニルア
ラニンベンジルエステル(419.3mg)を得る。
Rf:0.30(n−ヘキサン:酢酸エチル、3:1、v/v) (2)実施例1−(6)と同様にして、N−ジイソプロ
ピルカルバモイル−L−フェニルアラニンベンジルエス
テル(419.3mg)から、N−ジイソプロピルカルバモイ
ル−L−フェニルアラニン(320.5mg)を得る。
Rf:0.35(酢酸エチル:ベンゼン:酢酸、20:20:1、v/
v) (3)実施例1−(7)と同様にして、N−ジイソプロ
ピル−L−フェニルアラニン(46.3mg)および2(S)
−(Nα−メチル−Nim−トシル−L−ヒスチジル)ア
ミノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6
−メチルヘプタン(77.3mg)から、2(S)−(N−ジ
イソプロピルカルバモイル−L−フェニルアラニル−N
α−メチル−L−ヒスチジル)アミノ−1−シクロヘキ
シル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチルヘプタン(6
2.7mg)を得る。
mp:82−90℃ Rf:0.4(メタノール:クロロホルム、1:9、v/v) 実施例14 2(S)−(N−モルホリノカルボニル−L−フェニ
ルアラニル−Nα−メチル−L−ヒスチジル)アミノ−
1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−メチ
ルヘプタン(1.00g)のエタノール(10ml)溶液に0℃
で4N塩化水素のジオキサン溶液(0.47ml)を加える。同
温で10分間撹拌した後、溶媒を減圧留去する。残渣をエ
タノール(1ml)および酢酸エチル(30ml)で結晶化さ
せて、2(S)−(N−モルホリノカルボニル−L−フ
ェニルアラニル−Nα−メチル−L−ヒスチジル)アミ
ノ−1−シクロヘキシル−3(S)−ヒドロキシ−6−
メチルヘプタン−塩酸塩(860mg)を得る。
mp:149−152℃
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−48252(JP,A) 特開 昭62−258365(JP,A) 特開 昭61−33153(JP,A) 国際公開88/5050(WO,A) 欧州特許公開229667(EP,A) 欧州特許公開230266(EP,A) 欧州特許公開189203(EP,A) 欧州特許公開172346(EP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式: [式中、R1はハロゲンおよびハロ(低級)アルキル基よ
    りなる群から選択された置換基で置換されていてもよい
    アリール基、低級アルキル基またはシクロ(低級)アル
    キル基、 R2は水素または低級アルキル基を意味するか、または R1およびR2は隣接する窒素原子と一緒になって、低級ア
    ルキル基およびエステル化されたカルボキシ基よりなる
    群から選択された置換基で置換されていてもよい複素環
    基を形成する、 R3は水素または低級アルキル基、 R4は低級アルキル基を意味する] で示されるペプチド化合物およびその塩。
JP63070537A 1987-03-27 1988-03-23 ペプチド化合物、その製造法およびそれを含有する医薬組成物 Expired - Lifetime JP2536032B2 (ja)

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