JPH06216000A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH06216000A JPH06216000A JP5023564A JP2356493A JPH06216000A JP H06216000 A JPH06216000 A JP H06216000A JP 5023564 A JP5023564 A JP 5023564A JP 2356493 A JP2356493 A JP 2356493A JP H06216000 A JPH06216000 A JP H06216000A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光装置のレンズ系の容器の空気を迅速に不
活性なガスによって置換する。 【構成】 光源１から発せられたレーザ光Ｌ1 は光源レ
ンズ系２、レチクル３および投影レンズ系５を経てウエ
ハ４に照射される。光源レンズ系２のレンズ２ａ〜２ｃ
は容器２ｄに収容されており、光源１の駆動開始と同時
に窒素ガス供給装置８の第１および第２の電磁弁８ｂ，
８ｃが開かれて、大流量の窒素ガスが容器２ｄの内部空
間２ｆ，２ｇへ供給され、空気と置換される。所定の時
間を経過したのち、コントローラ７に設定されたプログ
ラムによって第２の電磁弁８ｃが閉じられる。これ以後
はバイパスライン８ｄのみにより小流量の窒素ガスが容
器２ｄに供給される。
活性なガスによって置換する。 【構成】 光源１から発せられたレーザ光Ｌ1 は光源レ
ンズ系２、レチクル３および投影レンズ系５を経てウエ
ハ４に照射される。光源レンズ系２のレンズ２ａ〜２ｃ
は容器２ｄに収容されており、光源１の駆動開始と同時
に窒素ガス供給装置８の第１および第２の電磁弁８ｂ，
８ｃが開かれて、大流量の窒素ガスが容器２ｄの内部空
間２ｆ，２ｇへ供給され、空気と置換される。所定の時
間を経過したのち、コントローラ７に設定されたプログ
ラムによって第２の電磁弁８ｃが閉じられる。これ以後
はバイパスライン８ｄのみにより小流量の窒素ガスが容
器２ｄに供給される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特に、強力な光束をも
ち雰囲気ガスを活性化しやすい遠紫外線やエキシマレー
ザ光を照明光とする露光装置に関するものである。
ち雰囲気ガスを活性化しやすい遠紫外線やエキシマレー
ザ光を照明光とする露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造等に用いられる露光装置に
おいて、特に、強力な光束をもち雰囲気ガスを活性化し
やすい遠紫外線やエキシマレーザ光を照明光とするもの
は、光源のレンズ系や、投影レンズ系等の光学系の雰囲
気ガスの酸素や有機物等が照明光によって活性化され、
これらの化学反応によって前記光学系の光学部材の表面
が汚染されるおそれがある。そこで、光源のレンズ系や
投影レンズ系等の光学系を容器内に収容し、該容器の空
気を窒素ガス等の不活性なガスによって置換することに
よって各光学部材の汚染を防ぐ方法が開発された。
おいて、特に、強力な光束をもち雰囲気ガスを活性化し
やすい遠紫外線やエキシマレーザ光を照明光とするもの
は、光源のレンズ系や、投影レンズ系等の光学系の雰囲
気ガスの酸素や有機物等が照明光によって活性化され、
これらの化学反応によって前記光学系の光学部材の表面
が汚染されるおそれがある。そこで、光源のレンズ系や
投影レンズ系等の光学系を容器内に収容し、該容器の空
気を窒素ガス等の不活性なガスによって置換することに
よって各光学部材の汚染を防ぐ方法が開発された。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、光学系を収容する容器は密閉性の高い
ものではないため、露光を開始する毎に不活性なガスを
供給し、容器内の酸素濃度が所定の値に低下するまで露
光装置を待機させるか、あるいは、露光装置が不作動で
あっても不活性なガスの供給を続ける必要がある。前者
の場合は、露光装置の待機時間が長くなり、そのために
スループットが低下するおそれがあり、後者の場合は、
常時不活性なガスを供給するために大量の不活性なガス
を消費する。
の技術によれば、光学系を収容する容器は密閉性の高い
ものではないため、露光を開始する毎に不活性なガスを
供給し、容器内の酸素濃度が所定の値に低下するまで露
光装置を待機させるか、あるいは、露光装置が不作動で
あっても不活性なガスの供給を続ける必要がある。前者
の場合は、露光装置の待機時間が長くなり、そのために
スループットが低下するおそれがあり、後者の場合は、
常時不活性なガスを供給するために大量の不活性なガス
を消費する。
【０００４】本発明は上記従来の技術の未解決の課題に
鑑みてなされたものであり、大量の不活性なガスを消費
することなく、光学系の容器の空気を不活性なガスによ
って迅速に置換することができる露光装置を提供するこ
とを目的とするものである。
鑑みてなされたものであり、大量の不活性なガスを消費
することなく、光学系の容器の空気を不活性なガスによ
って迅速に置換することができる露光装置を提供するこ
とを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の露光装置は、基板に照射される照明光の
光路の光学系を収容する容器と、該容器に不活性なガス
を供給する給気ラインと、該給気ラインに設けられた開
閉弁および流量切換手段と、前記照明光の光源の駆動開
始および停止とそれぞれ同期して前記開閉弁を開閉する
とともに、前記開閉弁が開かれた後に所定のプログラム
に基づいて前記流量切換手段を駆動する制御手段からな
ることを特徴とする。
めに、本発明の露光装置は、基板に照射される照明光の
光路の光学系を収容する容器と、該容器に不活性なガス
を供給する給気ラインと、該給気ラインに設けられた開
閉弁および流量切換手段と、前記照明光の光源の駆動開
始および停止とそれぞれ同期して前記開閉弁を開閉する
とともに、前記開閉弁が開かれた後に所定のプログラム
に基づいて前記流量切換手段を駆動する制御手段からな
ることを特徴とする。
【０００６】流量切換手段が、給気ラインのバイパスラ
インを除く部分を遮断することの自在な第２の開閉弁か
らなるとよい。
インを除く部分を遮断することの自在な第２の開閉弁か
らなるとよい。
【０００７】また、流量切換手段が、給気ラインに設け
られた可変弁から構成されていてもよい。
られた可変弁から構成されていてもよい。
【０００８】さらに、容器の雰囲気ガスの酸素濃度を検
出するセンサが設けられ、制御手段が、所定のプログラ
ムの替わりに前記センサの出力に基づいて流量切換手段
を駆動するものであってもよい。
出するセンサが設けられ、制御手段が、所定のプログラ
ムの替わりに前記センサの出力に基づいて流量切換手段
を駆動するものであってもよい。
【０００９】
【作用】光源の駆動開始と同期して開閉弁を開いて不活
性なガスの供給を開始する。光源の駆動開始後、所定時
間を経過したのち、所定のプログラムに基づいて流量切
換手段が駆動され、容器に供給される不活性なガスの流
量が低減される。あるいは、光源の駆動開始後、センサ
によって容器内の酸素濃度をモニタし、酸素濃度が所定
の値以下に低減したときに流量切換手段が駆動されるよ
うに構成してもよい。光源の駆動開始と同時に大流量の
不活性なガスを容器に供給し、容器の雰囲気ガスを迅速
に置換させたのち、不活性なガスの供給量を定常値へ低
減することで不活性なガスの消費量を低減することがで
きる。
性なガスの供給を開始する。光源の駆動開始後、所定時
間を経過したのち、所定のプログラムに基づいて流量切
換手段が駆動され、容器に供給される不活性なガスの流
量が低減される。あるいは、光源の駆動開始後、センサ
によって容器内の酸素濃度をモニタし、酸素濃度が所定
の値以下に低減したときに流量切換手段が駆動されるよ
うに構成してもよい。光源の駆動開始と同時に大流量の
不活性なガスを容器に供給し、容器の雰囲気ガスを迅速
に置換させたのち、不活性なガスの供給量を定常値へ低
減することで不活性なガスの消費量を低減することがで
きる。
【００１０】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【００１１】図１は、第１実施例を説明する説明図であ
って、本実施例の露光装置Ｅ1 は、一般にステッパと呼
ばれる縮小投影型の半導体露光装置であって、エキシマ
レーザからなる光源１と、光源１から発せられた照明光
であるレーザ光Ｌ1 を所定の形状の光束に成形する光学
系である光源レンズ系２と、該光源レンズ系２によって
所定の形状に成形されたレーザ光Ｌ1 をレチクル３を経
て基板であるウエハ４に結像させる投影レンズ系５から
なる。光源１はそのレーザ出力を制御するレーザ制御装
置６を有し、レーザ制御装置６は制御手段であるコント
ローラ７によって制御される。
って、本実施例の露光装置Ｅ1 は、一般にステッパと呼
ばれる縮小投影型の半導体露光装置であって、エキシマ
レーザからなる光源１と、光源１から発せられた照明光
であるレーザ光Ｌ1 を所定の形状の光束に成形する光学
系である光源レンズ系２と、該光源レンズ系２によって
所定の形状に成形されたレーザ光Ｌ1 をレチクル３を経
て基板であるウエハ４に結像させる投影レンズ系５から
なる。光源１はそのレーザ出力を制御するレーザ制御装
置６を有し、レーザ制御装置６は制御手段であるコント
ローラ７によって制御される。
【００１２】光源レンズ系２は、レーザ光Ｌ1 を所定の
形状の光束に成形するための複数のレンズ２ａ〜２ｃを
有し、これらは容器２ｄに収容され、容器２ｄは、光源
１に対向する端壁に窓２ｅを有し、また、容器２ｄ内を
２つの内部空間２ｆ，２ｇに分割するための隔壁２ｉを
有する。なお、図示最下端のレンズ２ｃは、レチクル３
に向ってレーザ光Ｌ1 を放出する第２の窓を兼ねてい
る。
形状の光束に成形するための複数のレンズ２ａ〜２ｃを
有し、これらは容器２ｄに収容され、容器２ｄは、光源
１に対向する端壁に窓２ｅを有し、また、容器２ｄ内を
２つの内部空間２ｆ，２ｇに分割するための隔壁２ｉを
有する。なお、図示最下端のレンズ２ｃは、レチクル３
に向ってレーザ光Ｌ1 を放出する第２の窓を兼ねてい
る。
【００１３】容器２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇにそれぞ
れ不活性なガスである窒素ガスを供給する窒素ガス供給
装置８は、図示しない窒素ガス供給源に接続された給気
ライン８ａと、該給気ライン８ａに設けられた開閉弁で
ある第１の電磁弁８ｂと、その下流側に接続された第２
の開閉弁である第２の電磁弁８ｃと、これを迂回するバ
イパスライン８ｄと、該バイパスライン８ｄに設けられ
た第１の絞り弁８ｅと、バイパスライン８ｄの下流側に
設けられた一対の分岐ライン８ｆ，８ｇと、分岐ライン
８ｆ，８ｇにそれぞれ設けられた第２および第３の絞り
弁８ｉ，８ｈからなり、第２および第３の絞り弁８ｉ，
８ｈの吐出側はそれぞれ容器２ｄの内部空間２ｆ，２ｇ
に接続されている。
れ不活性なガスである窒素ガスを供給する窒素ガス供給
装置８は、図示しない窒素ガス供給源に接続された給気
ライン８ａと、該給気ライン８ａに設けられた開閉弁で
ある第１の電磁弁８ｂと、その下流側に接続された第２
の開閉弁である第２の電磁弁８ｃと、これを迂回するバ
イパスライン８ｄと、該バイパスライン８ｄに設けられ
た第１の絞り弁８ｅと、バイパスライン８ｄの下流側に
設けられた一対の分岐ライン８ｆ，８ｇと、分岐ライン
８ｆ，８ｇにそれぞれ設けられた第２および第３の絞り
弁８ｉ，８ｈからなり、第２および第３の絞り弁８ｉ，
８ｈの吐出側はそれぞれ容器２ｄの内部空間２ｆ，２ｇ
に接続されている。
【００１４】第１の電磁弁８ｂは、レーザ制御装置６の
出力によって光源１が駆動あるいは停止されると同時
に、コントローラ７の出力信号によって開閉されるもの
であり、第２の電磁弁８ｃは、光源１が駆動されると同
時に第１の電磁弁８ｂとともに開かれて、所定の流量の
窒素ガスを分岐ライン８ｆ，８ｇに供給し、コントロー
ラ７に設定されたプログラムである窒素供給プログラム
によって所定時間を経たのちに閉じられる。また、容器
２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇの酸素濃度を検出するセン
サを設け、該センサの出力に基づいて第２の電磁弁８ｃ
を閉じるように構成してもよい。第１の絞り弁８ｅは、
第１の電磁弁８ｂが開かれた後、常時バイパスライン８
ｄを経て所定の流量の窒素ガスを容器２ｄの内部空間２
ｆ，２ｇに供給する。第２，第３の絞り弁８ｉ，８ｈ
は、それぞれ分岐ライン８ｆ，８ｇから容器２ｄの内部
空間２ｆ，２ｇに供給される窒素ガスの流量の比率を調
節するものである。
出力によって光源１が駆動あるいは停止されると同時
に、コントローラ７の出力信号によって開閉されるもの
であり、第２の電磁弁８ｃは、光源１が駆動されると同
時に第１の電磁弁８ｂとともに開かれて、所定の流量の
窒素ガスを分岐ライン８ｆ，８ｇに供給し、コントロー
ラ７に設定されたプログラムである窒素供給プログラム
によって所定時間を経たのちに閉じられる。また、容器
２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇの酸素濃度を検出するセン
サを設け、該センサの出力に基づいて第２の電磁弁８ｃ
を閉じるように構成してもよい。第１の絞り弁８ｅは、
第１の電磁弁８ｂが開かれた後、常時バイパスライン８
ｄを経て所定の流量の窒素ガスを容器２ｄの内部空間２
ｆ，２ｇに供給する。第２，第３の絞り弁８ｉ，８ｈ
は、それぞれ分岐ライン８ｆ，８ｇから容器２ｄの内部
空間２ｆ，２ｇに供給される窒素ガスの流量の比率を調
節するものである。
【００１５】第２の電磁弁８ｃを閉じるタイミングは、
光源１の駆動後に所定の強度の照明光が得られるまでの
光源１の立上り時間に基づいて設定されるもので、図２
のタイムチャートＡ〜Ｅに示すような窒素供給プログラ
ムによって制御される。また、露光装置Ｅ1 において露
光が終了し、光源１の駆動が停止されると同時に、第１
の電磁弁８ｂが閉じられて、窒素ガスの供給が停止され
る。
光源１の駆動後に所定の強度の照明光が得られるまでの
光源１の立上り時間に基づいて設定されるもので、図２
のタイムチャートＡ〜Ｅに示すような窒素供給プログラ
ムによって制御される。また、露光装置Ｅ1 において露
光が終了し、光源１の駆動が停止されると同時に、第１
の電磁弁８ｂが閉じられて、窒素ガスの供給が停止され
る。
【００１６】図２のタイムチャートＡに示す窒素供給プ
ログラムは、光源１の駆動開始時刻ｔ0 において第１お
よび第２の電磁弁８ｂ，８ｃを開き、大流量値ｑ1 で示
す供給量の窒素ガスを容器２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇ
に供給し、各内部空間２ｆ，２ｇの雰囲気の酸素濃度を
速かに低下させたのち、時刻ｔ1 において第２の電磁弁
８ｃを閉じる。光源１がエキシマレーザである場合は、
光源１を駆動したのちに所定の出力のレーザ光が得られ
るまでに数分以上の時間を必要とする。前述の時刻ｔ1
は、このような光源１の立上り時間に合わせて設定され
る。時刻ｔ1 において第２の電磁弁８ｃが閉じられる
と、窒素ガスはバイパスライン８ｄのみを経て容器２ｄ
の各内部空間２ｆ，２ｇに供給されるため、窒素ガスの
供給量は小流量値（定常値）ｑ2 に低下する。時刻ｔ2
において露光装置の露光が終了し、光源１の駆動が停止
されると、これと同時に第１の電磁弁８ｂが閉じられて
窒素ガスの供給が停止される。なお、小流量値ｑ2 は、
容器２から漏出する窒素ガスを補うのに充分であればよ
い。
ログラムは、光源１の駆動開始時刻ｔ0 において第１お
よび第２の電磁弁８ｂ，８ｃを開き、大流量値ｑ1 で示
す供給量の窒素ガスを容器２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇ
に供給し、各内部空間２ｆ，２ｇの雰囲気の酸素濃度を
速かに低下させたのち、時刻ｔ1 において第２の電磁弁
８ｃを閉じる。光源１がエキシマレーザである場合は、
光源１を駆動したのちに所定の出力のレーザ光が得られ
るまでに数分以上の時間を必要とする。前述の時刻ｔ1
は、このような光源１の立上り時間に合わせて設定され
る。時刻ｔ1 において第２の電磁弁８ｃが閉じられる
と、窒素ガスはバイパスライン８ｄのみを経て容器２ｄ
の各内部空間２ｆ，２ｇに供給されるため、窒素ガスの
供給量は小流量値（定常値）ｑ2 に低下する。時刻ｔ2
において露光装置の露光が終了し、光源１の駆動が停止
されると、これと同時に第１の電磁弁８ｂが閉じられて
窒素ガスの供給が停止される。なお、小流量値ｑ2 は、
容器２から漏出する窒素ガスを補うのに充分であればよ
い。
【００１７】タイムチャートＢは、前述のセンサによっ
て検出された酸素濃度が所定の値に減少した時刻ｔ3 に
おいて第２の電磁弁８ｃを閉じるように設定した窒素供
給プログラムを示し、タイムチャートＣは、上記酸素濃
度が所定の値に減少した時刻ｔ3 から所定の時間遅れΔ
ｔを経た時刻ｔ4 において第２の電磁弁８ｃを閉じるよ
うに設定した窒素供給プログラムを示し、タイムチャー
トＤは、前述のタイムチャートＡ〜Ｃの時刻ｔ1 ，ｔ3
またはｔ4 において第２の電磁弁８ｃを閉じたのち、こ
れを間欠的に開くことによって容器２ｄから漏出する窒
素ガスを補充する窒素供給プログラムを示すもので、こ
の場合はバイパスライン８ｄを必要としない。また、タ
イムチャートＥは、前述のセンサによって検出された酸
素濃度が所定の値ｄ1 に減少した時刻ｔ3 において第２
の電磁弁８ｃを閉じたのちも時刻ｔ5 まで前記センサに
よる測定を継続し、これによって容器２ｄの酸素濃度を
所定の値に維持するのに必要な窒素ガスの供給量を実測
し、これに基づいて窒素ガスの補充量を設定する窒素供
給プログラムを示すものである。
て検出された酸素濃度が所定の値に減少した時刻ｔ3 に
おいて第２の電磁弁８ｃを閉じるように設定した窒素供
給プログラムを示し、タイムチャートＣは、上記酸素濃
度が所定の値に減少した時刻ｔ3 から所定の時間遅れΔ
ｔを経た時刻ｔ4 において第２の電磁弁８ｃを閉じるよ
うに設定した窒素供給プログラムを示し、タイムチャー
トＤは、前述のタイムチャートＡ〜Ｃの時刻ｔ1 ，ｔ3
またはｔ4 において第２の電磁弁８ｃを閉じたのち、こ
れを間欠的に開くことによって容器２ｄから漏出する窒
素ガスを補充する窒素供給プログラムを示すもので、こ
の場合はバイパスライン８ｄを必要としない。また、タ
イムチャートＥは、前述のセンサによって検出された酸
素濃度が所定の値ｄ1 に減少した時刻ｔ3 において第２
の電磁弁８ｃを閉じたのちも時刻ｔ5 まで前記センサに
よる測定を継続し、これによって容器２ｄの酸素濃度を
所定の値に維持するのに必要な窒素ガスの供給量を実測
し、これに基づいて窒素ガスの補充量を設定する窒素供
給プログラムを示すものである。
【００１８】本実施例によれば、光源の駆動開始ととも
に大流量の窒素ガスを光源レンズ系の容器内へ供給し、
容器内の空気を短時間で窒素ガスによって置換させると
ともに、所定時間後あるいは容器内の酸素濃度が所定の
値に低減したのちに窒素ガスの供給量を縮小すること
で、大量の窒素ガスを消費することなく容器の空気を迅
速に窒素ガスと置換させることができる。
に大流量の窒素ガスを光源レンズ系の容器内へ供給し、
容器内の空気を短時間で窒素ガスによって置換させると
ともに、所定時間後あるいは容器内の酸素濃度が所定の
値に低減したのちに窒素ガスの供給量を縮小すること
で、大量の窒素ガスを消費することなく容器の空気を迅
速に窒素ガスと置換させることができる。
【００１９】図３は、第２実施例を説明する説明図であ
って、本実施例の露光装置Ｅ2 は、第１実施例と同様
に、エキシマレーザからなる光源２１と、光源２１から
発せられた照明光であるレーザ光Ｌ2 を所定の光束に成
形する光学系である光源レンズ系２２と、該光源レンズ
系２２によって所定の光束に成形されたレーザ光Ｌ2 を
レチクル２３を経てウエハ２４に結像させる投影レンズ
系２５からなる。光源２１はそのレーザ出力を制御する
レーザ制御装置２６を有し、レーザ制御装置２６は制御
手段であるコントローラ２７によって制御される。
って、本実施例の露光装置Ｅ2 は、第１実施例と同様
に、エキシマレーザからなる光源２１と、光源２１から
発せられた照明光であるレーザ光Ｌ2 を所定の光束に成
形する光学系である光源レンズ系２２と、該光源レンズ
系２２によって所定の光束に成形されたレーザ光Ｌ2 を
レチクル２３を経てウエハ２４に結像させる投影レンズ
系２５からなる。光源２１はそのレーザ出力を制御する
レーザ制御装置２６を有し、レーザ制御装置２６は制御
手段であるコントローラ２７によって制御される。
【００２０】光源レンズ系２２は、レーザ光Ｌ2 を所定
の光束に成形するためのレンズ２２ａ，２２ｂを有し、
これらは容器２２ｄに収容され、容器２２ｄは、光源２
１に対向する端壁に窓２２ｅを有し、また、図示下方の
レンズ２２ｂはレチクル２３に向ってレーザ光Ｌ2 を放
出する第２の窓を兼ねている。
の光束に成形するためのレンズ２２ａ，２２ｂを有し、
これらは容器２２ｄに収容され、容器２２ｄは、光源２
１に対向する端壁に窓２２ｅを有し、また、図示下方の
レンズ２２ｂはレチクル２３に向ってレーザ光Ｌ2 を放
出する第２の窓を兼ねている。
【００２１】容器２２ｄの内部空間２２ｆに不活性なガ
スである窒素ガスを供給する窒素ガス供給装置２８は、
図示しない窒素ガス供給源から容器２２ｄの内部空間２
２ｆに窒素ガスを供給する給気ライン２８ａと、該給気
ライン２８ａに直列に設けられた開閉弁である第１の電
磁弁２８ｂおよび可変弁２８ｃと、容器２２ｄの内部空
間２２ｆから雰囲気ガスを排出する排気ライン２８ｈ
と、これに設けられた第２の電磁弁２８ｇと、容器２２
ｄの内部空間２２ｆの酸素濃度を検出するセンサ２８ｆ
からなり、第１の電磁弁２８ｂおよび可変弁２８ｃは光
源２１の駆動開始と同時に開かれて容器２２ｄの内部空
間２２ｆに所定の大流量値の窒素ガスを供給し、センサ
２８ｆによって検出される酸素濃度が所定の値に減少し
たとき、可変弁２８ｃが切換えられて、窒素ガスの供給
量を所定の小流量値（定常値）に減少させるように構成
されている。なお、光源２１の駆動開始と同時に、第２
の電磁弁２８ｇを開き、排気ライン２８ｈから容器２２
ｄの内部空間２２ｆの空気を排出すれば、窒素ガスによ
る置換をより一層迅速に行うことができる。
スである窒素ガスを供給する窒素ガス供給装置２８は、
図示しない窒素ガス供給源から容器２２ｄの内部空間２
２ｆに窒素ガスを供給する給気ライン２８ａと、該給気
ライン２８ａに直列に設けられた開閉弁である第１の電
磁弁２８ｂおよび可変弁２８ｃと、容器２２ｄの内部空
間２２ｆから雰囲気ガスを排出する排気ライン２８ｈ
と、これに設けられた第２の電磁弁２８ｇと、容器２２
ｄの内部空間２２ｆの酸素濃度を検出するセンサ２８ｆ
からなり、第１の電磁弁２８ｂおよび可変弁２８ｃは光
源２１の駆動開始と同時に開かれて容器２２ｄの内部空
間２２ｆに所定の大流量値の窒素ガスを供給し、センサ
２８ｆによって検出される酸素濃度が所定の値に減少し
たとき、可変弁２８ｃが切換えられて、窒素ガスの供給
量を所定の小流量値（定常値）に減少させるように構成
されている。なお、光源２１の駆動開始と同時に、第２
の電磁弁２８ｇを開き、排気ライン２８ｈから容器２２
ｄの内部空間２２ｆの空気を排出すれば、窒素ガスによ
る置換をより一層迅速に行うことができる。
【００２２】本実施例は、バイパスラインを必要とせ
ず、また、容器２２ｄの密封状態に応じて可変弁２８ｃ
を数段階に切換えることによって補充用の窒素ガスの流
量を変化させることができる。
ず、また、容器２２ｄの密封状態に応じて可変弁２８ｃ
を数段階に切換えることによって補充用の窒素ガスの流
量を変化させることができる。
【００２３】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
で、以下に記載するような効果を奏する。
【００２４】大量の不活性なガスを消費することなく、
光学系の容器の空気を不活性なガスによって迅速に置換
することができる、その結果、露光装置の待機時間を短
縮し、スループットを改善できる。
光学系の容器の空気を不活性なガスによって迅速に置換
することができる、その結果、露光装置の待機時間を短
縮し、スループットを改善できる。
【図１】第１実施例を説明する説明図である。
【図２】図１の装置を制御するタイムチャートの様々な
例を示す図である。
例を示す図である。
【図３】第２実施例を説明する説明図である。
Ｌ1 ，Ｌ2 レーザ光 １，２１ 光源 ２，２２ 光源レンズ系 ２ｄ，２２ｄ 容器 ３，２３ レチクル ４，２４ ウエハ ５，２５ 投影レンズ系 ６，２６ レーザ制御装置 ７，２７ コントローラ ８，２８ 窒素ガス供給装置 ８ａ，２８ａ 給気ライン ８ｂ，２８ｂ 第１の電磁弁 ８ｃ，２８ｇ 第２の電磁弁 ８ｄ バイパスライン ８ｅ 第１の絞り弁 ８ｉ 第２の絞り弁 ８ｈ 第３の絞り弁 ２８ｃ 可変弁 ２８ｆ センサ ２８ｈ 排気ライン
Claims (4)
- 【請求項１】 基板に照射される照明光の光路の光学系
を収容する容器と、該容器に不活性なガスを供給する給
気ラインと、該給気ラインに設けられた開閉弁および流
量切換手段と、前記照明光の光源の駆動開始および停止
とそれぞれ同期して前記開閉弁を開閉するとともに、前
記開閉弁が開かれた後に所定のプログラムに基づいて前
記流量切換手段を駆動する制御手段からなる露光装置。 - 【請求項２】 流量切換手段が、給気ラインのバイパス
ラインを除く部分を遮断することの自在な第２の開閉弁
からなることを特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 流量切換手段が、給気ラインに設けられ
た可変弁からなることを特徴とする請求項１記載の露光
装置。 - 【請求項４】 容器の雰囲気ガスの酸素濃度を検出する
センサが設けられ、制御手段が、所定のプログラムの替
わりに前記センサの出力に基づいて流量切換手段を駆動
するものであることを特徴とする請求項１ないし３いず
れか１項記載の露光装置。
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