JPH06211752A - ２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの製造方法 - Google Patents
２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの製造方法Info
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- JPH06211752A JPH06211752A JP5006185A JP618593A JPH06211752A JP H06211752 A JPH06211752 A JP H06211752A JP 5006185 A JP5006185 A JP 5006185A JP 618593 A JP618593 A JP 618593A JP H06211752 A JPH06211752 A JP H06211752A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- NMRDKGOPQYFYTD-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-hydroxy-3-nitrophenyl)propan-2-yl]-2-nitrophenol Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C([N+]([O-])=O)=C1 NMRDKGOPQYFYTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000000802 nitrating effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CC(F)(F)F NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- -1 3-nitro-4-hydroxyphenyl Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 11
- ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol AF Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C=C1 ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 28
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 26
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 24
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- MSTZGVRUOMBULC-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-[2-(3-amino-4-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenol Chemical compound C1=C(O)C(N)=CC(C(C=2C=C(N)C(O)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 MSTZGVRUOMBULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006396 nitration reaction Methods 0.000 description 7
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- ZXVONLUNISGICL-UHFFFAOYSA-N 4,6-dinitro-o-cresol Chemical group CC1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1O ZXVONLUNISGICL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241001550224 Apha Species 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- YXESKRYTYVPTNB-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;butan-2-ol Chemical compound CCCCO.CCC(C)O YXESKRYTYVPTNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hexane Chemical compound CCCCCC.CCOC(C)=O OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N methanol;hydrate Chemical compound O.OC GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 238000000643 oven drying Methods 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000002827 triflate group Chemical group FC(S(=O)(=O)O*)(F)F 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003828 vacuum filtration Methods 0.000 description 1
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐熱性ポリマ−等の原料として有用な化合物
である２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパンの原料および各種含フッ
素化合物の中間体として有用な２，２−ビス（３−ニト
ロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
を高純度で得る方法を提供する。 【構成】 ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘ
キサフルオロプロパンをニトロ化して２，２−ビス（３
−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンを製造する方法において、溶媒としてアルコ−ル
類を用いる。
である２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパンの原料および各種含フッ
素化合物の中間体として有用な２，２−ビス（３−ニト
ロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
を高純度で得る方法を提供する。 【構成】 ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘ
キサフルオロプロパンをニトロ化して２，２−ビス（３
−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンを製造する方法において、溶媒としてアルコ−ル
類を用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性ポリマ−等の原
料として有用な化合物である２，２−ビス（３−アミノ
−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンお
よび各種の含フッ素化合物の中間体として有用な２，２
−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
フルオロプロパンの製造方法に関する。
料として有用な化合物である２，２−ビス（３−アミノ
−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンお
よび各種の含フッ素化合物の中間体として有用な２，２
−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
フルオロプロパンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術とその問題点】２，２−ビス（３−ニトロ
−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの
製造方法としては、特開昭５９−１０９５４６号には
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンをトリフルオロ酢酸中で硝酸カリウムと反応
させ２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンとする製造方法が記載され
ており、Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐｏｌ
ｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．２０巻，２３８１頁（１９
８２）には２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘ
キサフルオロプロパンを無水トリフルオロメタンスルホ
ン酸によりトリフレ−トとしたのち、混酸によりニトロ
化する方法が記載されているが、これらはいずれも高価
な溶媒あるいは試剤を用いており、また困難な蒸留によ
り精製しなければならない欠点を有している。
−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの
製造方法としては、特開昭５９−１０９５４６号には
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンをトリフルオロ酢酸中で硝酸カリウムと反応
させ２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンとする製造方法が記載され
ており、Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐｏｌ
ｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．２０巻，２３８１頁（１９
８２）には２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘ
キサフルオロプロパンを無水トリフルオロメタンスルホ
ン酸によりトリフレ−トとしたのち、混酸によりニトロ
化する方法が記載されているが、これらはいずれも高価
な溶媒あるいは試剤を用いており、また困難な蒸留によ
り精製しなければならない欠点を有している。
【０００３】また、独国特許３６２４８１５号では、ク
ロロホルム溶媒中で硝酸でニトロ化し、粗２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンを製造する方法が記載されている。しかしこ
の場合、ニトロ化が更に進行したトリニトロ体が生成す
るため、このトリニトロ体が目的物である２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンに混入するため純度の高いジニトロ体を容易
に得ることはできない。
ロロホルム溶媒中で硝酸でニトロ化し、粗２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンを製造する方法が記載されている。しかしこ
の場合、ニトロ化が更に進行したトリニトロ体が生成す
るため、このトリニトロ体が目的物である２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンに混入するため純度の高いジニトロ体を容易
に得ることはできない。
【０００４】これらの問題点を解決すべくなされた、特
開平１−３０１６５３号明細書記載の方法は、低級脂肪
酸溶媒中で硝酸によりニトロ化反応を行うことを特徴と
し、その結果、生成したジニトロ体の結晶が反応液から
析出し、容易に高純度のジニトロ体が高収率で得られる
ものである。この方法によると、ジニトロ体が反応液よ
り結晶として析出するためこれを濾過等により容易に得
ることができるという一定の効果を示すものの、この方
法で得た２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパンの固体内には反応溶媒
として使用した低級脂肪酸が取り込まれており、この低
級脂肪酸を除くため、何回もの水洗が必要であるという
欠点を有する。また、残留硝酸根が原因と思われる褐色
の著しい着色が発生する。この２，２−ビス（３−ニト
ロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
を還元して２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパンを製造した場合、生
成物にはやはり著しい着色が見られ、この着色を除くた
め再結晶を繰り返さなければならないという問題が生じ
る。
開平１−３０１６５３号明細書記載の方法は、低級脂肪
酸溶媒中で硝酸によりニトロ化反応を行うことを特徴と
し、その結果、生成したジニトロ体の結晶が反応液から
析出し、容易に高純度のジニトロ体が高収率で得られる
ものである。この方法によると、ジニトロ体が反応液よ
り結晶として析出するためこれを濾過等により容易に得
ることができるという一定の効果を示すものの、この方
法で得た２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパンの固体内には反応溶媒
として使用した低級脂肪酸が取り込まれており、この低
級脂肪酸を除くため、何回もの水洗が必要であるという
欠点を有する。また、残留硝酸根が原因と思われる褐色
の著しい着色が発生する。この２，２−ビス（３−ニト
ロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
を還元して２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパンを製造した場合、生
成物にはやはり著しい着色が見られ、この着色を除くた
め再結晶を繰り返さなければならないという問題が生じ
る。
【０００５】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、従来の方
法の問題点を解決すべく検討した結果、特定の溶媒中に
おいて、特異的に収率よく目的物を得ることができるこ
とを見出し本発明に到達したものである。
法の問題点を解決すべく検討した結果、特定の溶媒中に
おいて、特異的に収率よく目的物を得ることができるこ
とを見出し本発明に到達したものである。
【０００６】すなわち、本発明は２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンをニトロ化
して２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンを製造する方法において、
溶媒としてアルコ−ル類を用いることを特徴とする２，
２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキ
サフルオロプロパンの製造方法である。
ドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンをニトロ化
して２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンを製造する方法において、
溶媒としてアルコ−ル類を用いることを特徴とする２，
２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキ
サフルオロプロパンの製造方法である。
【０００７】本発明において使用できるアルコ−ル類は
炭素数が１〜４の脂肪族アルコ−ルであり、具体的には
メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、イソプロパノ
−ル、ｎ−ブタノ−ルｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノ
ール、トリフルオロエタノ−ルおよびヘキサフルオロイ
ソプロパノ−ルなどが好ましい。これらのアルコ−ルは
原料の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
フルオロプロパンおよびニトロ化の中間体であるモノニ
トロ体をよく溶解する一方、目的物であるジニトロ体は
殆ど溶解しないという特異な性質を示し、その結果、生
成ジニトロ体を純度の高い結晶として得ることができる
ものである。反応に用いるアルコ−ルの量はアルコール
１リットルに対し、原料の２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ヘキサフルオロプロパン０．１〜２．０Ｋ
ｇが好ましい。０．１Ｋｇ以下では、生産性が低く、ま
た２．０Ｋｇ以上では完全な均一相とならない場合があ
り好ましくない。反応に用いるニトロ化剤である硝酸は
工業的に使用されている発煙硝酸、濃硝酸、希硝酸を使
用できる。
炭素数が１〜４の脂肪族アルコ−ルであり、具体的には
メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、イソプロパノ
−ル、ｎ−ブタノ−ルｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノ
ール、トリフルオロエタノ−ルおよびヘキサフルオロイ
ソプロパノ−ルなどが好ましい。これらのアルコ−ルは
原料の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
フルオロプロパンおよびニトロ化の中間体であるモノニ
トロ体をよく溶解する一方、目的物であるジニトロ体は
殆ど溶解しないという特異な性質を示し、その結果、生
成ジニトロ体を純度の高い結晶として得ることができる
ものである。反応に用いるアルコ−ルの量はアルコール
１リットルに対し、原料の２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ヘキサフルオロプロパン０．１〜２．０Ｋ
ｇが好ましい。０．１Ｋｇ以下では、生産性が低く、ま
た２．０Ｋｇ以上では完全な均一相とならない場合があ
り好ましくない。反応に用いるニトロ化剤である硝酸は
工業的に使用されている発煙硝酸、濃硝酸、希硝酸を使
用できる。
【０００８】反応系に水が存在するとジニトロ体の溶解
度がより減少し、収率よく結晶を得ることができるが、
この水の量が、使用するアルコ−ル類に対して５０％を
越えるとモノニトロ体も油状物としてジニトロ体と共に
析出するため好ましくない。また、ニトロ化反応は水を
生成する反応であることから反応の進行に伴い水分量が
増大する。したがって、ニトロ化反応により生じる水の
量をも考慮して使用する硝酸の濃度を選択し、最も純
度、収率共に高くなるように反応を行なうことが好まし
い。使用する硝酸の量は原料の２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンに対して２〜
５当量が好ましく、目的のジニトロ体を収率よく、かつ
高純度で得るには反応系内に存在する水の量を考慮し
て、６０〜７０％濃度の硝酸を使用することが好まし
い。反応温度は使用するアルコ−ルの沸点にもよるが２
０〜１００℃が好ましい。反応圧力は特に制限されない
が、１〜１０ｋｇ／ｃｍ2が好ましく、通常常圧で行
う。
度がより減少し、収率よく結晶を得ることができるが、
この水の量が、使用するアルコ−ル類に対して５０％を
越えるとモノニトロ体も油状物としてジニトロ体と共に
析出するため好ましくない。また、ニトロ化反応は水を
生成する反応であることから反応の進行に伴い水分量が
増大する。したがって、ニトロ化反応により生じる水の
量をも考慮して使用する硝酸の濃度を選択し、最も純
度、収率共に高くなるように反応を行なうことが好まし
い。使用する硝酸の量は原料の２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンに対して２〜
５当量が好ましく、目的のジニトロ体を収率よく、かつ
高純度で得るには反応系内に存在する水の量を考慮し
て、６０〜７０％濃度の硝酸を使用することが好まし
い。反応温度は使用するアルコ−ルの沸点にもよるが２
０〜１００℃が好ましい。反応圧力は特に制限されない
が、１〜１０ｋｇ／ｃｍ2が好ましく、通常常圧で行
う。
【０００９】ニトロ化反応は逐次的に進行するが、本発
明の方法では、モノニトロ化物は油状物とし分離するこ
となく円滑にジニトロ化され、目的とするジニトロ体は
結晶として析出し、しかも結晶中にとり込まれた溶媒
（アルコ−ル類）および硝酸根は水洗浄およびオ−ブン
乾燥にて容易に除去できるため、高純度の２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンを得ることができる。
明の方法では、モノニトロ化物は油状物とし分離するこ
となく円滑にジニトロ化され、目的とするジニトロ体は
結晶として析出し、しかも結晶中にとり込まれた溶媒
（アルコ−ル類）および硝酸根は水洗浄およびオ−ブン
乾燥にて容易に除去できるため、高純度の２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンを得ることができる。
【００１０】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。目的物の純度分析はいずれも液体クロマトグラフィ
−により行なった。
る。目的物の純度分析はいずれも液体クロマトグラフィ
−により行なった。
【００１１】実施例１ 温度計、攪拌機、ジムロ−ト冷却管、１００ｍｌの滴下
ロ−トを備えた２００ｍｌの四口丸底フラスコ内にメタ
ノ−ル１００ｍｌと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン６７．２ｇ（０．２０ｍ
ｏｌ）を仕込み、攪拌を開始すると共に反応温度を６０
℃に昇温し、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパンが完全に溶解した後、予め６０
％硝酸８４．０ｇ（０．４０ｍｏｌ）を仕込んだ滴下ロ
−トより硝酸の滴下を開始した。硝酸の滴下は反応温度
を６０℃に保ちながら１時間かけて全量滴下した。硝酸
を滴下し終わると黄色の結晶が析出し始めた。硝酸滴下
後さらに反応温度６０℃に保ち５時間反応を継続した
後、２０℃以下に冷却し結晶を完全に析出させた。生成
した黄色の結晶を減圧濾過にて濾別し、１００ｍｌの水
で洗浄したのちオ−ブンで乾燥して、純度９９．１％
（トリニトロ体０．８％）の黄色の結晶の２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン７４．７ｇが得られた。このときの収率は８
６．９％であった。
ロ−トを備えた２００ｍｌの四口丸底フラスコ内にメタ
ノ−ル１００ｍｌと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン６７．２ｇ（０．２０ｍ
ｏｌ）を仕込み、攪拌を開始すると共に反応温度を６０
℃に昇温し、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパンが完全に溶解した後、予め６０
％硝酸８４．０ｇ（０．４０ｍｏｌ）を仕込んだ滴下ロ
−トより硝酸の滴下を開始した。硝酸の滴下は反応温度
を６０℃に保ちながら１時間かけて全量滴下した。硝酸
を滴下し終わると黄色の結晶が析出し始めた。硝酸滴下
後さらに反応温度６０℃に保ち５時間反応を継続した
後、２０℃以下に冷却し結晶を完全に析出させた。生成
した黄色の結晶を減圧濾過にて濾別し、１００ｍｌの水
で洗浄したのちオ−ブンで乾燥して、純度９９．１％
（トリニトロ体０．８％）の黄色の結晶の２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン７４．７ｇが得られた。このときの収率は８
６．９％であった。
【００１２】ここで得られた２，２−ビス（３−ニトロ
−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを
メタノ−ル溶媒にて５％−Ｐｄ／Ｃを触媒として、水素
圧５Kg／cm2、反応温度１００℃で６時間直接還元反応
を行ない２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパンとした。この還元反応
の反応率は９９％以上で２，２−ビス（３−アミノ−４
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの純度
は９７．２％であった。これを濾過して触媒を除去した
後、水中に投入し２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの結晶を析出
させ濾過して回収した。ここで回収した結晶は黒灰色の
結晶でＡＰＨＡカラ−は１８０であった。酢酸エチル−
ｎ−ヘキサン系の１回の再結晶で、純度９９．６％、Ａ
ＰＨＡカラ−が１００の結晶が得られた。
−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを
メタノ−ル溶媒にて５％−Ｐｄ／Ｃを触媒として、水素
圧５Kg／cm2、反応温度１００℃で６時間直接還元反応
を行ない２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパンとした。この還元反応
の反応率は９９％以上で２，２−ビス（３−アミノ−４
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの純度
は９７．２％であった。これを濾過して触媒を除去した
後、水中に投入し２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの結晶を析出
させ濾過して回収した。ここで回収した結晶は黒灰色の
結晶でＡＰＨＡカラ−は１８０であった。酢酸エチル−
ｎ−ヘキサン系の１回の再結晶で、純度９９．６％、Ａ
ＰＨＡカラ−が１００の結晶が得られた。
【００１３】実施例２ 実施例１でメタノ−ルの代りにイソプロパノールを用
い、反応温度を７０℃とし、硝酸滴下後の反応時間を３
時間とした以外は実施例１と同様にして純度９９．０％
（トリニトロ体０．６％）の黄色の結晶の２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン７２．１ｇ（収率８４．６％）を得た。
い、反応温度を７０℃とし、硝酸滴下後の反応時間を３
時間とした以外は実施例１と同様にして純度９９．０％
（トリニトロ体０．６％）の黄色の結晶の２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン７２．１ｇ（収率８４．６％）を得た。
【００１４】ここで得た２，２−ビス（３−ニトロ−４
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを実施
例１と同様に還元反応に付し、純度９６．９％、ＡＰＨ
Ａカラ−１６０の２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの結晶が得ら
れた。また実施例１と同様に再結晶を１回実施して、純
度９９．７％、ＡＰＨＡカラ−８０の２，２−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンを得た。
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを実施
例１と同様に還元反応に付し、純度９６．９％、ＡＰＨ
Ａカラ−１６０の２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの結晶が得ら
れた。また実施例１と同様に再結晶を１回実施して、純
度９９．７％、ＡＰＨＡカラ−８０の２，２−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンを得た。
【００１５】実施例３ 実施例１でメタノ−ルの代りにトリフルオロエタノ−ル
を用いて、硝酸滴下後の反応時間を４時間とした以外は
実施例１と同様にして純度９９．０％（トリニトロ体
０．８％）の黄色の結晶の２，２−ビス（３−ニトロ−
４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン７
２．１ｇ（収率８２．６％）を得た。
を用いて、硝酸滴下後の反応時間を４時間とした以外は
実施例１と同様にして純度９９．０％（トリニトロ体
０．８％）の黄色の結晶の２，２−ビス（３−ニトロ−
４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン７
２．１ｇ（収率８２．６％）を得た。
【００１６】ここで得た２，２−ビス（３−ニトロ−４
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを実施
例１と同様に還元反応に付し、純度９７．１％、ＡＰＨ
Ａカラ−２００の２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの結晶が得ら
れた。また実施例１と同様に再結晶を１回実施して、純
度９９．６％、ＡＰＨＡカラ−１００の２，２−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンを得た。
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを実施
例１と同様に還元反応に付し、純度９７．１％、ＡＰＨ
Ａカラ−２００の２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの結晶が得ら
れた。また実施例１と同様に再結晶を１回実施して、純
度９９．６％、ＡＰＨＡカラ−１００の２，２−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンを得た。
【００１７】比較例１ 温度計、攪拌機、ジムロ−ト冷却管、１００ｍｌの滴下
ロ−トを備えた２００ｍｌの四口丸底フラスコ内に、ク
ロロホルム１００ｍｌと２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパン６７．２ｇ（０．２
０ｍｏｌ）を仕込み、攪拌を開始すると共に反応温度を
６０℃に昇温し、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンが完全に溶解した後、予め
６０％硝酸８４．０ｇ（０．４０ｍｏｌ）を仕込んだ滴
下ロ−トより硝酸の滴下を開始した。硝酸の滴下は反応
温度を６０℃に保ちながら１時間かけて全量滴下した。
硝酸滴下後さらに反応温度６０℃に保ち２時間反応を継
続した。この時の２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの純度は８
１．９％でトリニトロ体が８．４％生成した。さらに２
時間反応を継続したところ、トリニトロ体は１７．６％
に増加し、２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパンの純度も７１．０％
に低下した。
ロ−トを備えた２００ｍｌの四口丸底フラスコ内に、ク
ロロホルム１００ｍｌと２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパン６７．２ｇ（０．２
０ｍｏｌ）を仕込み、攪拌を開始すると共に反応温度を
６０℃に昇温し、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンが完全に溶解した後、予め
６０％硝酸８４．０ｇ（０．４０ｍｏｌ）を仕込んだ滴
下ロ−トより硝酸の滴下を開始した。硝酸の滴下は反応
温度を６０℃に保ちながら１時間かけて全量滴下した。
硝酸滴下後さらに反応温度６０℃に保ち２時間反応を継
続した。この時の２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの純度は８
１．９％でトリニトロ体が８．４％生成した。さらに２
時間反応を継続したところ、トリニトロ体は１７．６％
に増加し、２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパンの純度も７１．０％
に低下した。
【００１８】比較例２ 温度計、攪拌機、ジムロ−ト冷却管、１００ｍｌの滴下
ロ−トを備えた２００ｍｌの四口丸底フラスコ内に、酢
酸５０ｍｌと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン６７．２ｇ（０．２０ｍｏｌ）
を仕込み、攪拌を開始すると共に反応温度を５０℃に昇
温し、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
フルオロプロパンが完全に溶解した後、予め６０％硝酸
９６．６ｇ（０．４６ｍｏｌ）を仕込んだ滴下ロ−トよ
り硝酸の滴下を開始した。硝酸の滴下は反応温度を５０
℃に保ちながら１時間かけて全量滴下した。所定量の硝
酸の約２／３を滴下した時点で結晶が析出し始めた。硝
酸滴下後さらに反応温度を５０℃に保ち１時間反応を継
続後、水２７ｍｌを添加し、結晶を完全に析出させた。
生成した黄色の結晶を減圧濾過にて濾別し、５０ｍｌの
５０％メタノ−ル水で洗浄後、水で洗浄したのちオ−ブ
ンで乾燥したところ、黄色の結晶から褐色の結晶に変色
した。この時の２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロ
キシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの純度は９７．
３％でトリニトロ体は１．２％含まれていた。また収量
は７１．６ｇで収率は８３．３％であった。
ロ−トを備えた２００ｍｌの四口丸底フラスコ内に、酢
酸５０ｍｌと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン６７．２ｇ（０．２０ｍｏｌ）
を仕込み、攪拌を開始すると共に反応温度を５０℃に昇
温し、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサ
フルオロプロパンが完全に溶解した後、予め６０％硝酸
９６．６ｇ（０．４６ｍｏｌ）を仕込んだ滴下ロ−トよ
り硝酸の滴下を開始した。硝酸の滴下は反応温度を５０
℃に保ちながら１時間かけて全量滴下した。所定量の硝
酸の約２／３を滴下した時点で結晶が析出し始めた。硝
酸滴下後さらに反応温度を５０℃に保ち１時間反応を継
続後、水２７ｍｌを添加し、結晶を完全に析出させた。
生成した黄色の結晶を減圧濾過にて濾別し、５０ｍｌの
５０％メタノ−ル水で洗浄後、水で洗浄したのちオ−ブ
ンで乾燥したところ、黄色の結晶から褐色の結晶に変色
した。この時の２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロ
キシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの純度は９７．
３％でトリニトロ体は１．２％含まれていた。また収量
は７１．６ｇで収率は８３．３％であった。
【００１９】ここで得られた２，２−ビス（３−ニトロ
−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを
メタノ−ル溶媒で５％−Ｐｄ／Ｃを触媒として、水素圧
５Kg／cm2、反応温度１００℃で６時間直接還元反応を
行ない２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパンとした。この還元反応の
反応率は９９％以上で２，２−ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの純度は
９４．０％であった。これから濾過により触媒を除去し
た後、水中に投入して、２，２−ビス（３−アミノ−４
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの結晶
を析出させ濾過して回収した。ここで回収した結晶は黒
灰色の結晶でＡＰＨＡカラ−（５％メタノ−ル溶液）を
測定したが５００以上で測定不可能であった。これを酢
酸エチル−ｎ−ヘキサン系で３回再結晶して、純度９
９．９％、ＡＰＨＡカラ−を１００とした。
−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを
メタノ−ル溶媒で５％−Ｐｄ／Ｃを触媒として、水素圧
５Kg／cm2、反応温度１００℃で６時間直接還元反応を
行ない２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパンとした。この還元反応の
反応率は９９％以上で２，２−ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの純度は
９４．０％であった。これから濾過により触媒を除去し
た後、水中に投入して、２，２−ビス（３−アミノ−４
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの結晶
を析出させ濾過して回収した。ここで回収した結晶は黒
灰色の結晶でＡＰＨＡカラ−（５％メタノ−ル溶液）を
測定したが５００以上で測定不可能であった。これを酢
酸エチル−ｎ−ヘキサン系で３回再結晶して、純度９
９．９％、ＡＰＨＡカラ−を１００とした。
【００２０】
【発明の効果】耐熱性ポリマ−等の原料として有用な化
合物である２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパンおよび各種含フッ素
化合物の中間体として有用な２，２−ビス（３−ニトロ
−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを
高純度で得ることができるという効果を奏する。
合物である２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサフルオロプロパンおよび各種含フッ素
化合物の中間体として有用な２，２−ビス（３−ニトロ
−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを
高純度で得ることができるという効果を奏する。
Claims (1)
- 【請求項１】２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパンをニトロ化して２，２−ビス
（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパンを製造する方法において、溶媒としてアルコ
−ル類を用いることを特徴とする２，２−ビス（３−ニ
トロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5006185A JP3059018B2 (ja) | 1993-01-18 | 1993-01-18 | ２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5006185A JP3059018B2 (ja) | 1993-01-18 | 1993-01-18 | ２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06211752A true JPH06211752A (ja) | 1994-08-02 |
| JP3059018B2 JP3059018B2 (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=11631502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5006185A Expired - Fee Related JP3059018B2 (ja) | 1993-01-18 | 1993-01-18 | ２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3059018B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5977413A (en) * | 1997-08-04 | 1999-11-02 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Method for producing bis(3-amino-4-hydroxyphenyl) compounds |
| WO2001081293A1 (fr) * | 2000-04-25 | 2001-11-01 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Procede de production d'un compose bis (4-hydroxy-3-nitrophenyl) |
| CN105218387A (zh) * | 2015-09-30 | 2016-01-06 | 天津市均凯化工科技有限公司 | 2,2-双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷的制备方法 |
| WO2021065653A1 (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | セントラル硝子株式会社 | 粉体、粉体の製造方法および溶液の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5173561A (en) | 1990-07-24 | 1992-12-22 | Daychem Laboratories, Inc. | Heat resistant polyimide-benzoxazole polymers and composites thereof |
| US5262056A (en) | 1992-11-30 | 1993-11-16 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Polyamides and polypyrrolones for fluid separation membranes |
-
1993
- 1993-01-18 JP JP5006185A patent/JP3059018B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5977413A (en) * | 1997-08-04 | 1999-11-02 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Method for producing bis(3-amino-4-hydroxyphenyl) compounds |
| EP0895985A3 (en) * | 1997-08-04 | 2000-10-25 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Method for producing bis(3-amino-4-hydroxyphenyl) compounds |
| WO2001081293A1 (fr) * | 2000-04-25 | 2001-11-01 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Procede de production d'un compose bis (4-hydroxy-3-nitrophenyl) |
| US6608233B2 (en) * | 2000-04-25 | 2003-08-19 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Process for producting bis(4-hydroxy-3-nitrophenyl) compound |
| CN105218387A (zh) * | 2015-09-30 | 2016-01-06 | 天津市均凯化工科技有限公司 | 2,2-双(3-氨基-4-羟基苯基)六氟丙烷的制备方法 |
| WO2021065653A1 (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | セントラル硝子株式会社 | 粉体、粉体の製造方法および溶液の製造方法 |
| CN114555549A (zh) * | 2019-09-30 | 2022-05-27 | 中央硝子株式会社 | 粉末、粉末的制造方法及溶液的制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3059018B2 (ja) | 2000-07-04 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |