JPH0354930B2 - - Google Patents
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- JPH0354930B2 JPH0354930B2 JP17903284A JP17903284A JPH0354930B2 JP H0354930 B2 JPH0354930 B2 JP H0354930B2 JP 17903284 A JP17903284 A JP 17903284A JP 17903284 A JP17903284 A JP 17903284A JP H0354930 B2 JPH0354930 B2 JP H0354930B2
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、2−ニトロ−4,6−ジクロル−5
−エチルフエノールの製造法に関するものであ
る。
−エチルフエノールの製造法に関するものであ
る。
(背景技術)
2−ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチルフ
エノールを常法に従つて還元および造塩して得ら
れる2−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチル
フエノール塩酸塩は、シアン発色剤の中間体とし
て、有用な化合物である。
エノールを常法に従つて還元および造塩して得ら
れる2−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチル
フエノール塩酸塩は、シアン発色剤の中間体とし
て、有用な化合物である。
本発明者は、当初2−アミノ−4,6−ジクロ
ル−5−エチルフエノール塩酸塩の製造法として
次のものを考えた。即ち4−クロル−5−エチル
フエノール()を氷酢酸中で硝酸でニトロ化
し、2−ニトロ−4−クロル−5−エチルフエノ
ール()とする。次にこの化合物()をジオ
キサン又はテトラヒドロフラン中でラネーニツケ
ルを触媒として加圧下に接触還元し2−アミノ−
4−クロル−5−エチルフエノール()とし、
直ちに無水酢酸によりアセチル化し、2−アセト
アミノ−4−クロル−5−エチルフエノール
()として取り出す。さらに化合物()をジ
オキサン中にてスルフリルクロライドで塩素化
し、2−アセトアミノ−4,6−ジクロル−5−
エチルフエノール()とし、ついでこれを濃塩
酸と共に加熱して目的物である2−アミノ−4,
6−ジクロル−5−エチルフエノール塩酸塩
()を得る。
ル−5−エチルフエノール塩酸塩の製造法として
次のものを考えた。即ち4−クロル−5−エチル
フエノール()を氷酢酸中で硝酸でニトロ化
し、2−ニトロ−4−クロル−5−エチルフエノ
ール()とする。次にこの化合物()をジオ
キサン又はテトラヒドロフラン中でラネーニツケ
ルを触媒として加圧下に接触還元し2−アミノ−
4−クロル−5−エチルフエノール()とし、
直ちに無水酢酸によりアセチル化し、2−アセト
アミノ−4−クロル−5−エチルフエノール
()として取り出す。さらに化合物()をジ
オキサン中にてスルフリルクロライドで塩素化
し、2−アセトアミノ−4,6−ジクロル−5−
エチルフエノール()とし、ついでこれを濃塩
酸と共に加熱して目的物である2−アミノ−4,
6−ジクロル−5−エチルフエノール塩酸塩
()を得る。
しかしながらこの方法は、多くの欠点を持つて
いる。第1に収率が極めて低いことである。即ち
化合物()から()までの収率は、47%、化
合物()から化合物()までは79%、化合物
()から化合物()までは75%であり、原料
の4−クロル−5−エチルフエノールから目的の
2−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフエ
ノール塩酸塩までの全収率は28%である。第2に
ニトロ化工程においてニトロ基が6位に入つた異
性体が目的物とほぼ同量生成するため目的物の分
離および副生成物の除去が必要である。
いる。第1に収率が極めて低いことである。即ち
化合物()から()までの収率は、47%、化
合物()から化合物()までは79%、化合物
()から化合物()までは75%であり、原料
の4−クロル−5−エチルフエノールから目的の
2−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフエ
ノール塩酸塩までの全収率は28%である。第2に
ニトロ化工程においてニトロ基が6位に入つた異
性体が目的物とほぼ同量生成するため目的物の分
離および副生成物の除去が必要である。
更にアミノ基を保護するために前段階としてア
セチル化工程が必要である。第3に還元工程にお
いては、次の工程に無水酢酸によるアセチル化が
あるため溶剤として一般的なアルコール類が使用
できず、高価なジオキサン、テトラヒドロフラン
等を用いなければならない。加うるにこの方法に
よる中間体をニトロ化のあと、およびアセチル化
のあとで計2回取り出す必要がある。
セチル化工程が必要である。第3に還元工程にお
いては、次の工程に無水酢酸によるアセチル化が
あるため溶剤として一般的なアルコール類が使用
できず、高価なジオキサン、テトラヒドロフラン
等を用いなければならない。加うるにこの方法に
よる中間体をニトロ化のあと、およびアセチル化
のあとで計2回取り出す必要がある。
(発明の目的)
従つて、本発明の目的は、2−アミノ−4,6
−ジクロル−5−エチルフエノール塩酸塩を容易
にかつ高収率に、製造する方法を提供することで
ある。もう1つの目的は、経済的に有利な、2−
アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノー
ル塩酸塩を提供することである。
−ジクロル−5−エチルフエノール塩酸塩を容易
にかつ高収率に、製造する方法を提供することで
ある。もう1つの目的は、経済的に有利な、2−
アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノー
ル塩酸塩を提供することである。
(発明の構成)
本発明者は、上に述べた如き製造法の欠点を取
り除くべく種々検討の結果、4−クロル−5−エ
チルフエノール又は3−エチルフエノールを出発
原料として2−アミノ−4,6−ジクロル−5−
エチルフエノール塩酸塩の新規かつ有用な製造法
を完成したのである。
り除くべく種々検討の結果、4−クロル−5−エ
チルフエノール又は3−エチルフエノールを出発
原料として2−アミノ−4,6−ジクロル−5−
エチルフエノール塩酸塩の新規かつ有用な製造法
を完成したのである。
本発明は、4−クロル−5−エチルフエノール
又は、3−エチルフエノールをハロゲン化炭化水
素系溶媒中で無水硫酸錯体を用いてスルホン化し
て2−スルホ−4−クロル−5−エチルフエノー
ル又は、2−スルホ−5−エチルフエノールと
し、これを塩素ガス、又は塩化スルフリルを用い
て35℃以下で塩素化して2−スルホ−4,6−ジ
クロル−5−エチルフエノールとし、次に硝酸を
用いてスルホン基をニトロ基で置換して2−ニト
ロ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノールを
製造する方法である。
又は、3−エチルフエノールをハロゲン化炭化水
素系溶媒中で無水硫酸錯体を用いてスルホン化し
て2−スルホ−4−クロル−5−エチルフエノー
ル又は、2−スルホ−5−エチルフエノールと
し、これを塩素ガス、又は塩化スルフリルを用い
て35℃以下で塩素化して2−スルホ−4,6−ジ
クロル−5−エチルフエノールとし、次に硝酸を
用いてスルホン基をニトロ基で置換して2−ニト
ロ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノールを
製造する方法である。
本発明における無水硫酸錯体によるスルホン化
の溶媒として使用するハロゲン化炭化水素は、た
とえば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロルエタン、トリクロルエチレン、テト
ラクロルエタン、テトラクロルエチレン、メチル
クロロホルム、ジブロムエタン、トリクロルトリ
フロルエタン、ブロムブタン等である。
の溶媒として使用するハロゲン化炭化水素は、た
とえば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロルエタン、トリクロルエチレン、テト
ラクロルエタン、テトラクロルエチレン、メチル
クロロホルム、ジブロムエタン、トリクロルトリ
フロルエタン、ブロムブタン等である。
また、無水硫酸錯体としては、無水硫酸とジオ
キサン、ジエチルアミン、ピリジン等との公知の
錯体が挙げられる。無水硫酸のジオキサン錯体の
場合、モル比で2:1のものが、特に良い。無水
硫酸は4−クロル−5−エチルフエノール又は、
3−エチルフエノールに対して1ないし1.5倍モ
ル使用するのが特に有利である。また、反応温度
は、反応速度に影響するので、50℃以上で行うの
が有利である。
キサン、ジエチルアミン、ピリジン等との公知の
錯体が挙げられる。無水硫酸のジオキサン錯体の
場合、モル比で2:1のものが、特に良い。無水
硫酸は4−クロル−5−エチルフエノール又は、
3−エチルフエノールに対して1ないし1.5倍モ
ル使用するのが特に有利である。また、反応温度
は、反応速度に影響するので、50℃以上で行うの
が有利である。
塩素化の工程は、スルホン化の工程にひきつづ
いて行われる。塩素化は反応液中に塩素ガスを通
じる如き常套手段、塩化スルフリルを滴下する如
き常套手段が適用される。塩素ガス又は塩化スル
フリルは理論量の1〜2倍で用いればよい。又、
出発原料が3−エチルフエノールの場合にも4−
クロル−5−エチルフエノールを用いた場合と同
様に反応する。本発明において塩素化の工程は、
反応温度35℃以下で行われる。本発明の製造法に
おいては反応温度がこれより高いと副生成物が多
くなり、収率が大幅に低下し、目的を達成するこ
とができない。このように低い反応温度において
高収率を達成できたことは驚くべきことである。
いて行われる。塩素化は反応液中に塩素ガスを通
じる如き常套手段、塩化スルフリルを滴下する如
き常套手段が適用される。塩素ガス又は塩化スル
フリルは理論量の1〜2倍で用いればよい。又、
出発原料が3−エチルフエノールの場合にも4−
クロル−5−エチルフエノールを用いた場合と同
様に反応する。本発明において塩素化の工程は、
反応温度35℃以下で行われる。本発明の製造法に
おいては反応温度がこれより高いと副生成物が多
くなり、収率が大幅に低下し、目的を達成するこ
とができない。このように低い反応温度において
高収率を達成できたことは驚くべきことである。
塩素化工程の終了後、反応物を水中に注ぐこと
により、目的物は水相中へ移行する。従つてこの
操作により不純物の除去が行われる。
により、目的物は水相中へ移行する。従つてこの
操作により不純物の除去が行われる。
スルホン基のニトロ基による置換は常法に従つ
て行うことができる。例えば、水抽出液に1〜2
倍量の硝酸を加えればよい。
て行うことができる。例えば、水抽出液に1〜2
倍量の硝酸を加えればよい。
本発明の方法を適用して2−アミノ−4,6−
ジクロル−5−エチルフエノール塩素塩を製造す
る工程を示せば例えば次のようになる。
ジクロル−5−エチルフエノール塩素塩を製造す
る工程を示せば例えば次のようになる。
ここで2−ニトロ−4・6−ジクロル−5−エ
チルフエノール()を還元して2−アミノ−
4,6−ジクロル−5−エチルフエノール(XI)
とする工程及び化合物(XI)から目的物である2
−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノ
ール塩酸塩()とする工程はいずれも常法に従
つて行うことができる。この方法を用いると原料
()から目的物()までの収率は60%を越え、
前述の方法に較べてすぐれている。更に、ニトロ
化は選択的に導入されたスルホン基の置換という
形で行われるため、異性体ができにくい。また塩
素化工程では、未反応のモノクロル体は還元及び
造塩工程を経て塩となつたものが、アルコールに
易溶の為造塩工程で分離除去される。このほか還
元工程に使用する溶剤としては、安価なアルコー
ル類が使用できること、原料からニトロ化まで中
間体を取り出す必要がない等の利点がある。
チルフエノール()を還元して2−アミノ−
4,6−ジクロル−5−エチルフエノール(XI)
とする工程及び化合物(XI)から目的物である2
−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノ
ール塩酸塩()とする工程はいずれも常法に従
つて行うことができる。この方法を用いると原料
()から目的物()までの収率は60%を越え、
前述の方法に較べてすぐれている。更に、ニトロ
化は選択的に導入されたスルホン基の置換という
形で行われるため、異性体ができにくい。また塩
素化工程では、未反応のモノクロル体は還元及び
造塩工程を経て塩となつたものが、アルコールに
易溶の為造塩工程で分離除去される。このほか還
元工程に使用する溶剤としては、安価なアルコー
ル類が使用できること、原料からニトロ化まで中
間体を取り出す必要がない等の利点がある。
(実施例)
次に実施例をあげて本発明を更に詳しく説明す
るが、本発明は以下の実施例によつて何ら限定さ
れるものではない。
るが、本発明は以下の実施例によつて何ら限定さ
れるものではない。
実施例 1
1・2−ジクロルエタン306g及びジオキサン
25.2gを四つ口フラスコに入れておき25℃以下に
冷却しながら無水硫酸42gを滴下した。次に前記
混合物中に4−クロル−5−エチルフエノール
68.1gを30mlの1・2−ジクロルエタンに溶解し
添加した。その後50℃に保ちながら1時間撹拌し
た。20゜に冷却するとスルホン体の結晶が析出し、
これを水75mlで溶解した。次に、30℃に保ちなが
ら塩素ガスを理論値の約1.1倍量通じた。塩素ガ
スの吹き込みが終了したら3時間撹拌後静置し、
この混合物を水220ml、濃硫酸42.8gの溶液中に、
30℃以下で添加した。下層の溶剤層を除去し、水
層を25゜〜50℃に保つて撹拌しながら62%硝酸、
53gを滴下し、5℃以下で1時間冷却すると、2
−ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノ
ールが析出した。この結晶を取し、水洗、乾燥
した。収量77.3g(収率75.3%)、融点46.3〜47.3
℃、元素分析:実測値H:3.03%、C:40.59%、
N:5.88%、計算値H:2.99%、C:40.71%、
N:5.93% 実施例 2 1,1,2,2−テトラクロルエタン300g、
ジオキサン25.2g、無水硫酸42g及び4−クロル
−5−エチルフエノール68.1gを用いて実施例1
と同様にして2−ニトロ−4,6−ジクロル−5
−エチルフエノールを得た。収率73.1% 実施例 3 ジオキサン43gを用いる他は実施例1と同様に
して2−ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチル
フエノールを得た。収率71.7% 実施例 4 4−クロル−5−エチルフエノールの替わりに
3−エチルフエノール53.1gを用い、塩素化にお
ける塩素ガスを3−エチルフエノールの約2.2倍
モル当量用いた他は、実施例1と同様にして2−
ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノー
ルを得た。収率65.3% 参考例 イソプロピルアルコール525ml、2−ニトロ−
4,6−ジクロル−5−エチルフエノール125g
及びラネーニツケル7.5gを1オートクレープ
に仕込み、水素初圧10Kg/cm2とし50℃以下で理論
量の水素を吸収するまで撹拌を続けた。反応混合
物より触媒のラネーニツケルを濾別し、濾液に濃
塩酸165gを加え、40〜50℃に保ち30分間撹拌す
ると白色結晶が析出した。5℃以下で1時間冷却
し、結晶を濾取し、アセトン140mlで洗浄し乾燥
し、2−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチル
フエノール塩酸塩112.5gを得た。収率87.5% (実施態様) 本発明は、以下の実施態様をも包含するもので
ある。
25.2gを四つ口フラスコに入れておき25℃以下に
冷却しながら無水硫酸42gを滴下した。次に前記
混合物中に4−クロル−5−エチルフエノール
68.1gを30mlの1・2−ジクロルエタンに溶解し
添加した。その後50℃に保ちながら1時間撹拌し
た。20゜に冷却するとスルホン体の結晶が析出し、
これを水75mlで溶解した。次に、30℃に保ちなが
ら塩素ガスを理論値の約1.1倍量通じた。塩素ガ
スの吹き込みが終了したら3時間撹拌後静置し、
この混合物を水220ml、濃硫酸42.8gの溶液中に、
30℃以下で添加した。下層の溶剤層を除去し、水
層を25゜〜50℃に保つて撹拌しながら62%硝酸、
53gを滴下し、5℃以下で1時間冷却すると、2
−ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノ
ールが析出した。この結晶を取し、水洗、乾燥
した。収量77.3g(収率75.3%)、融点46.3〜47.3
℃、元素分析:実測値H:3.03%、C:40.59%、
N:5.88%、計算値H:2.99%、C:40.71%、
N:5.93% 実施例 2 1,1,2,2−テトラクロルエタン300g、
ジオキサン25.2g、無水硫酸42g及び4−クロル
−5−エチルフエノール68.1gを用いて実施例1
と同様にして2−ニトロ−4,6−ジクロル−5
−エチルフエノールを得た。収率73.1% 実施例 3 ジオキサン43gを用いる他は実施例1と同様に
して2−ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチル
フエノールを得た。収率71.7% 実施例 4 4−クロル−5−エチルフエノールの替わりに
3−エチルフエノール53.1gを用い、塩素化にお
ける塩素ガスを3−エチルフエノールの約2.2倍
モル当量用いた他は、実施例1と同様にして2−
ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノー
ルを得た。収率65.3% 参考例 イソプロピルアルコール525ml、2−ニトロ−
4,6−ジクロル−5−エチルフエノール125g
及びラネーニツケル7.5gを1オートクレープ
に仕込み、水素初圧10Kg/cm2とし50℃以下で理論
量の水素を吸収するまで撹拌を続けた。反応混合
物より触媒のラネーニツケルを濾別し、濾液に濃
塩酸165gを加え、40〜50℃に保ち30分間撹拌す
ると白色結晶が析出した。5℃以下で1時間冷却
し、結晶を濾取し、アセトン140mlで洗浄し乾燥
し、2−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチル
フエノール塩酸塩112.5gを得た。収率87.5% (実施態様) 本発明は、以下の実施態様をも包含するもので
ある。
(1) 4−クロル−5−エチルフエノール又は、3
−エチルフエノールをハロゲン化炭化水素溶媒
中で、無水硫酸錯体を用いてスルホン化して、
2−スルホ−4−クロル−5−エチルフエノー
ル又は、2−スルホ−5−エチルフエノールと
し、これを塩素ガス又は、塩化スルフリルを用
いて35℃以下で塩素化して2−スルホ−4,6
−ジクロル−5−エチルフエノールとし、次に
硝酸を用いてスルホン基をニトロ基で置換し
て、2−ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチ
ルフエノールを製造する方法。
−エチルフエノールをハロゲン化炭化水素溶媒
中で、無水硫酸錯体を用いてスルホン化して、
2−スルホ−4−クロル−5−エチルフエノー
ル又は、2−スルホ−5−エチルフエノールと
し、これを塩素ガス又は、塩化スルフリルを用
いて35℃以下で塩素化して2−スルホ−4,6
−ジクロル−5−エチルフエノールとし、次に
硝酸を用いてスルホン基をニトロ基で置換し
て、2−ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチ
ルフエノールを製造する方法。
(2) (1)において、ハロゲン化炭化水素系溶媒が脂
肪族ハロゲン化炭化水素である方法。
肪族ハロゲン化炭化水素である方法。
(3) (2)において、脂肪族ハロゲン化炭化水素がジ
クロルエタンである方法。
クロルエタンである方法。
(4) (2)において、脂肪族ハロゲン化炭化水素がテ
トラクロルエタンである方法。
トラクロルエタンである方法。
(5) (1)において、無水硫酸錯体が無水硫酸とジオ
キサンとの錯体である方法。
キサンとの錯体である方法。
(6) (5)において、無水硫酸とジオキサンとの割合
がモル比で2:1のものである方法。
がモル比で2:1のものである方法。
(7) (5)において、無水硫酸を4−クロル−5−エ
チルフエノール又は、3−エチルフエノールの
1〜1.5倍モル使用する方法。
チルフエノール又は、3−エチルフエノールの
1〜1.5倍モル使用する方法。
(8) (1)において、塩素ガスを理論量の1〜2倍使
用する方法。
用する方法。
(9) (1)において、塩化スルフリルを理論量の1〜
2倍使用する方法。
2倍使用する方法。
(10) (1)において、硝酸を理論量の1〜2倍使用す
る方法。
る方法。
(11) (1)において塩素化工程後反応物を水に注ぐ工
程を含む方法。
程を含む方法。
(12) 4−クロル−5−エチルフエノール又は、3
−エチルフエノールをハロゲン化炭化水素系溶
媒中で、無水硫酸錯体を用いてスルホン化し
て、2−スルホ−4−クロル−5−エチルフエ
ノール又は、2−スルホ−5−エチルフエノー
ルとし、これを塩素ガス又は、塩化スルフリル
を用いて35℃以下で塩素化して2−スルホ−
4,6−ジクロル−5−エチルフエノールと
し、次に硝酸を用いてスルホン基をニトロ基で
置換して、2−ニトロ−4,6−ジクロル−5
−エチルフエノールとし、ニトロ基を還元して
2−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフ
エノールを製造する方法。
−エチルフエノールをハロゲン化炭化水素系溶
媒中で、無水硫酸錯体を用いてスルホン化し
て、2−スルホ−4−クロル−5−エチルフエ
ノール又は、2−スルホ−5−エチルフエノー
ルとし、これを塩素ガス又は、塩化スルフリル
を用いて35℃以下で塩素化して2−スルホ−
4,6−ジクロル−5−エチルフエノールと
し、次に硝酸を用いてスルホン基をニトロ基で
置換して、2−ニトロ−4,6−ジクロル−5
−エチルフエノールとし、ニトロ基を還元して
2−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフ
エノールを製造する方法。
(13) (12)において、接触還元によつて還元する方
法。
法。
(14) (13)において、還元溶媒としてアルコー
ルを使用する方法。
ルを使用する方法。
(15) (14)において、アルコールがメタノール
である方法。
である方法。
(16) (14)において、アルコールがイソプロパ
ノールである方法。
ノールである方法。
(17) 4−クロル−5−エチルフエノール又は、
3−エチルフエノールをハロゲン化炭化水素系
溶媒中で、無水硫酸錯体を用いてスルホン化し
て、2−スルホ−4−クロル−5−エチルフエ
ノール又は、2−スルホ−5−エチルフエノー
ルとし、これを塩素ガス又は、塩化スルフリル
を用いて35℃以下で塩素化して2−スルホ−
4,6−ジクロル−5−エチルフエノールと
し、次に硝酸を用いてスルホン基をニトロ基で
置換して、2−ニトロ−4,6−ジクロル−5
−エチルフエノールとし、ニトロ基を還元して
2−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフ
エノールとし、造塩して2−アミノ−4,6−
ジクロル−5−エチルフエノール塩を製造する
方法。
3−エチルフエノールをハロゲン化炭化水素系
溶媒中で、無水硫酸錯体を用いてスルホン化し
て、2−スルホ−4−クロル−5−エチルフエ
ノール又は、2−スルホ−5−エチルフエノー
ルとし、これを塩素ガス又は、塩化スルフリル
を用いて35℃以下で塩素化して2−スルホ−
4,6−ジクロル−5−エチルフエノールと
し、次に硝酸を用いてスルホン基をニトロ基で
置換して、2−ニトロ−4,6−ジクロル−5
−エチルフエノールとし、ニトロ基を還元して
2−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフ
エノールとし、造塩して2−アミノ−4,6−
ジクロル−5−エチルフエノール塩を製造する
方法。
(18) (17)において、濃硫酸を用いて造塩する
方法。
方法。
(19) (17)において、塩素ガスを用いて造塩す
る方法。
る方法。
(20) 上記(1)〜(11)の方法で製造された2−ニトロ
−4,6−ジクロル−5−エチルフエノール。
−4,6−ジクロル−5−エチルフエノール。
(21) 上記(12)〜(16)の方法で製造された2−ア
ミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノー
ル。
ミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノー
ル。
(22) 上記(17)〜(19)の方法で製造された2
−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフエ
ノール塩酸塩。
−アミノ−4,6−ジクロル−5−エチルフエ
ノール塩酸塩。
Claims (1)
- 1 4−クロル−5−エチルフエノール又は、3
−エチルフエノールをハロゲン化炭化水素溶媒中
で、無水硫酸錯体を用いてスルホン化して、2−
スルホ−4−クロル−5−エチルフエノール又
は、2−スルホ−5−エチルフエノールとし、こ
れを塩素ガス又は、塩化スルフリルを用いて35℃
以下で塩素化して2−スルホ−4,6−ジクロル
−5−エチルフエノールとし、次に硝酸を用いて
スルホン基をニトロ基で置換して、2−ニトロ−
4,6−ジクロル−5−エチルフエノールを製造
する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17903284A JPS6157536A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 2−ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノ−ルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17903284A JPS6157536A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 2−ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノ−ルの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6157536A JPS6157536A (ja) | 1986-03-24 |
JPH0354930B2 true JPH0354930B2 (ja) | 1991-08-21 |
Family
ID=16058916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17903284A Granted JPS6157536A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 2−ニトロ−4,6−ジクロル−5−エチルフエノ−ルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6157536A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011043228A1 (ja) | 2009-10-09 | 2011-04-14 | 花王株式会社 | 柔軟性シートの製造方法 |
WO2014050414A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | ユニ・チャーム株式会社 | 吸収性物品 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0788332B2 (ja) * | 1987-06-04 | 1995-09-27 | 住友化学工業株式会社 | 2−アミノ−4,6−ジクロル−5−アルキルフェノ−ルの製造法 |
US5136109A (en) * | 1990-08-28 | 1992-08-04 | Taoka Chemical Company, Ltd. | Process for preparing 2,4-dichloro-3-alkyl-6-nitrophenols |
FI953320A (fi) * | 1995-07-05 | 1997-01-06 | Kemira Agro Oy | Menetelmä 4-alkyyli-2-hydroksi-3,5-diklooribentseenisulfonihappojen valmistamiseksi |
CN106631920B (zh) * | 2016-11-17 | 2018-11-13 | 贵州大学 | 一种2-羟基-4-甲基苯磺酸的制备方法 |
-
1984
- 1984-08-28 JP JP17903284A patent/JPS6157536A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011043228A1 (ja) | 2009-10-09 | 2011-04-14 | 花王株式会社 | 柔軟性シートの製造方法 |
WO2014050414A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | ユニ・チャーム株式会社 | 吸収性物品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6157536A (ja) | 1986-03-24 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |