JPH06198832A - 印字体形成方法 - Google Patents
印字体形成方法Info
- Publication number
- JPH06198832A JPH06198832A JP34863192A JP34863192A JPH06198832A JP H06198832 A JPH06198832 A JP H06198832A JP 34863192 A JP34863192 A JP 34863192A JP 34863192 A JP34863192 A JP 34863192A JP H06198832 A JPH06198832 A JP H06198832A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive layer
- photosensitive
- substance
- support
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 形成工程が簡単で型を必要とせず、多品種少
量生産に対応した印字体形成方法を提供する。 【構成】 透過型の原稿８を重ね合わせランプ（図示せ
ず）で支持体体２側から露光する。ここで、原稿の透明
部分においてはランプからの光が原稿を透過し、感光層
５を露光する。感光層５の露光された部分９は、光硬化
反応により感光性物質３の硬度が上昇すると同時に発泡
物質４がガスを放出し、連続的な毛細管構造を持つ発泡
体部１０に形態が変化する。
量生産に対応した印字体形成方法を提供する。 【構成】 透過型の原稿８を重ね合わせランプ（図示せ
ず）で支持体体２側から露光する。ここで、原稿の透明
部分においてはランプからの光が原稿を透過し、感光層
５を露光する。感光層５の露光された部分９は、光硬化
反応により感光性物質３の硬度が上昇すると同時に発泡
物質４がガスを放出し、連続的な毛細管構造を持つ発泡
体部１０に形態が変化する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、印字体を形成する印字
体形成方法に関する。
体形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、スタンプなどに使用されている多
孔質印字体は、以下に示す方法で形成されている。ま
ず、版下を作製し、これをもとに印刷用シルクスクリー
ンを作製する。次に、シルクスクリーンを使用してアル
ミ板上にレジストインクを印刷し加熱して、アルミ板上
にパターンを焼き付ける。次に、パターンが焼き付けら
れたアルミ板をエッチング、レジストインクを除去して
凹凸パターンを持つ母型を作製する。この母型の凹凸パ
ターンを熱可塑性樹脂板上に加熱転写し、ゴム成形型を
作製する。このゴム成形型に、塩を練り込んだゴムを入
れ加圧加熱成形し、塩出しを経て乾燥させ、多孔質印字
体としていた。この多孔質印字体にスタンプインクを含
浸させることにより、朱肉やスタンプパッドを使用せず
に長期にわたって捺印することができる。
孔質印字体は、以下に示す方法で形成されている。ま
ず、版下を作製し、これをもとに印刷用シルクスクリー
ンを作製する。次に、シルクスクリーンを使用してアル
ミ板上にレジストインクを印刷し加熱して、アルミ板上
にパターンを焼き付ける。次に、パターンが焼き付けら
れたアルミ板をエッチング、レジストインクを除去して
凹凸パターンを持つ母型を作製する。この母型の凹凸パ
ターンを熱可塑性樹脂板上に加熱転写し、ゴム成形型を
作製する。このゴム成形型に、塩を練り込んだゴムを入
れ加圧加熱成形し、塩出しを経て乾燥させ、多孔質印字
体としていた。この多孔質印字体にスタンプインクを含
浸させることにより、朱肉やスタンプパッドを使用せず
に長期にわたって捺印することができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、その形
成工程は非常に煩雑であり、また個別に型を作る必要が
あるためコストアップし、多品種少量生産に対応するの
が困難であった。
成工程は非常に煩雑であり、また個別に型を作る必要が
あるためコストアップし、多品種少量生産に対応するの
が困難であった。
【０００４】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、形成工程が簡単であり、型を必
要としない印字体形成方法を提供することを目的とす
る。
になされたものであり、形成工程が簡単であり、型を必
要としない印字体形成方法を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の印字体形成方法は、感光性物質を含む感光層
を担持した多孔質支持体に像露光する工程を含んでい
る。また前記感光性物質は発泡性物質を含有するとよ
い。更に前記感光性物質は光硬化性物質であるとよい。
に本発明の印字体形成方法は、感光性物質を含む感光層
を担持した多孔質支持体に像露光する工程を含んでい
る。また前記感光性物質は発泡性物質を含有するとよ
い。更に前記感光性物質は光硬化性物質であるとよい。
【０００６】
【作用】上記の構成を有する本発明の印字体形成方法に
おいて、前記工程は、像露光により、感光層内の像に対
応した位置に、化学的もしくは物理的変化を与えて（例
えば発泡や光硬化）印字体を形成する。
おいて、前記工程は、像露光により、感光層内の像に対
応した位置に、化学的もしくは物理的変化を与えて（例
えば発泡や光硬化）印字体を形成する。
【０００７】
【実施例】以下、本発明を具体化した実施例を図面を参
照して説明する。
照して説明する。
【０００８】まず本発明を具体化した第１の実施例につ
いて説明する。図９は、第１の実施例の印字体形成方法
に用いられる印字体形成用シートの構造を表す拡大断面
図である。印字体形成用シート１は、支持体２上に、感
光性物質３と、その中に溶解もしくは分散された発泡性
物質４からなる感光層５が積層され、更にその上に保護
層６が形成された構造を持つ。
いて説明する。図９は、第１の実施例の印字体形成方法
に用いられる印字体形成用シートの構造を表す拡大断面
図である。印字体形成用シート１は、支持体２上に、感
光性物質３と、その中に溶解もしくは分散された発泡性
物質４からなる感光層５が積層され、更にその上に保護
層６が形成された構造を持つ。
【０００９】支持体２としては、透明性の高いフィルム
形状の物が好ましく、材質的には、ポリプロピレン、ポ
リエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、アイオ
ノマー、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリメチルペンテン、アセチルセルロース、セルロ
ースエステル、ポリビニルアセタール、フッ素樹脂、セ
ロハン等のポリマーフィルム、薄層ガラス等が挙げられ
る。
形状の物が好ましく、材質的には、ポリプロピレン、ポ
リエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、アイオ
ノマー、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリメチルペンテン、アセチルセルロース、セルロ
ースエステル、ポリビニルアセタール、フッ素樹脂、セ
ロハン等のポリマーフィルム、薄層ガラス等が挙げられ
る。
【００１０】感光性物質３のとしては、ケイ皮酸残基、
シンナミリデン残基、クマリン残基、スチルベン残基等
の感光基を持つ光二量化型樹脂、ジアゾニウム塩残基、
キノンジアジド残基、アジド残基、ジチオカルバメート
残基、ベンゾイン残基等の感光基を持つ光分解型樹脂、
アクリロイル基、アリル基、ビニル基、エポキシ基、ア
クリルアミド基、不飽和ポリエステル基などを持つ光重
合型樹脂等が任意に用いられるが、好ましくは光重合型
樹脂である。形状としては液体状、ワックス状のものが
用いられる。
シンナミリデン残基、クマリン残基、スチルベン残基等
の感光基を持つ光二量化型樹脂、ジアゾニウム塩残基、
キノンジアジド残基、アジド残基、ジチオカルバメート
残基、ベンゾイン残基等の感光基を持つ光分解型樹脂、
アクリロイル基、アリル基、ビニル基、エポキシ基、ア
クリルアミド基、不飽和ポリエステル基などを持つ光重
合型樹脂等が任意に用いられるが、好ましくは光重合型
樹脂である。形状としては液体状、ワックス状のものが
用いられる。
【００１１】また、感光性物質３にバインダを加えて使
用してもよい。バインダとして用いられるものとしては
ポリマーが挙げられ、好ましくはアクリル系樹脂、オレ
フィン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、石
油樹脂、ロジンなどが挙げられる。また、ワックス類を
使用することもできる。
用してもよい。バインダとして用いられるものとしては
ポリマーが挙げられ、好ましくはアクリル系樹脂、オレ
フィン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、石
油樹脂、ロジンなどが挙げられる。また、ワックス類を
使用することもできる。
【００１２】また、感光性物質３を重合させる光重合開
始剤として、通常用いられている公知の化合物でよい
が、例えばベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン類、チオキサントン類、アセトフェ
ノン類を、また重合開始剤の増感波長域を広げる効果の
ある光増感助剤として例えばアントラキノン、５ーニト
ロフルオレノン等を、そして保存性を向上させるために
熱重合防止剤等の安定剤、改質剤、比較的低分子量のオ
リゴマーまたはモノマー等の希釈剤等を同時に内包させ
る場合もある。
始剤として、通常用いられている公知の化合物でよい
が、例えばベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン類、チオキサントン類、アセトフェ
ノン類を、また重合開始剤の増感波長域を広げる効果の
ある光増感助剤として例えばアントラキノン、５ーニト
ロフルオレノン等を、そして保存性を向上させるために
熱重合防止剤等の安定剤、改質剤、比較的低分子量のオ
リゴマーまたはモノマー等の希釈剤等を同時に内包させ
る場合もある。
【００１３】発泡性物質４としては、加熱により気体を
発生する物質、露光により気体を発生する物質等が使用
可能である。
発生する物質、露光により気体を発生する物質等が使用
可能である。
【００１４】加熱により気体を発生する物質としては、
ニトロソ系化合物、スルホヒドラジド系化合物、ヒドラ
ゾ化合物およびアゾ化合物を使用することができる。
ニトロソ系化合物、スルホヒドラジド系化合物、ヒドラ
ゾ化合物およびアゾ化合物を使用することができる。
【００１５】ニトロソ系化合物の具体例としては、ジニ
トロソペンタメチレンテトラミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−
Ｎ，Ｎ−ジニトロソテレフタラミド、トリニトロソトリ
メチレントリアミンなどが挙げられる。
トロソペンタメチレンテトラミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−
Ｎ，Ｎ−ジニトロソテレフタラミド、トリニトロソトリ
メチレントリアミンなどが挙げられる。
【００１６】スルホヒドラジド系化合物の具体例として
は、ｐ−トルエンスルホヒドラジド、ベンゼンスルホヒ
ドラジド、ｐ，ｐ−オキシビス（ベンゼンスルホヒドラ
ジド）、ベンゼン−１，３−ジスルホヒドラジド、３，
３−ジスルホヒドラジドフェニルスルホン、トルエン−
２，４−ジスルホヒドラジド、ｐ，ｐ−チオビス（ベン
ゼンスルホヒドラジド）などが挙げられる。
は、ｐ−トルエンスルホヒドラジド、ベンゼンスルホヒ
ドラジド、ｐ，ｐ−オキシビス（ベンゼンスルホヒドラ
ジド）、ベンゼン−１，３−ジスルホヒドラジド、３，
３−ジスルホヒドラジドフェニルスルホン、トルエン−
２，４−ジスルホヒドラジド、ｐ，ｐ−チオビス（ベン
ゼンスルホヒドラジド）などが挙げられる。
【００１７】ヒドラゾ化合物の具体例としては、ヒドラ
ゾジカルボアミド、Ｎ，Ｎ−ジベンゾイルヒドラジン、
β−アセチルフェニルヒドラジン、１，１−ジフェニル
ヒドラジンなどが挙げられる。
ゾジカルボアミド、Ｎ，Ｎ−ジベンゾイルヒドラジン、
β−アセチルフェニルヒドラジン、１，１−ジフェニル
ヒドラジンなどが挙げられる。
【００１８】アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイ
ソブチリロニトリル、アゾビスホルムアミド、ジアゾア
ミノベンゼン、アゾカルボン酸ジエチルエステルなどが
挙げられる。これらの化合物は、加熱により窒素ガスを
放出する。
ソブチリロニトリル、アゾビスホルムアミド、ジアゾア
ミノベンゼン、アゾカルボン酸ジエチルエステルなどが
挙げられる。これらの化合物は、加熱により窒素ガスを
放出する。
【００１９】露光により気体を発生する物質としては、
ジアゾニウム化合物、アジド化合物、ジアジド化合物お
よび有機ジカルボン酸が使用できる。
ジアゾニウム化合物、アジド化合物、ジアジド化合物お
よび有機ジカルボン酸が使用できる。
【００２０】ジアゾニウム化合物の具体例としては、
２，５−ジエトキシ−ベンゼンジアゾニウムクロライ
ド、ｐ−ジメチルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロラ
イド、ｐ−ジエチルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロ
ライド、２，５−ジクロロ−４−ベンジルアミノ−ベン
ゼンジアゾニウムクロライド、２，５−ジブトキシ−４
−モルホリノ−ベンゼンジアゾニウムクロライドおよび
４−フェニルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロライド
などが挙げられる。これらの化合物は、露光により分解
し窒素ガスを放出する。
２，５−ジエトキシ−ベンゼンジアゾニウムクロライ
ド、ｐ−ジメチルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロラ
イド、ｐ−ジエチルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロ
ライド、２，５−ジクロロ−４−ベンジルアミノ−ベン
ゼンジアゾニウムクロライド、２，５−ジブトキシ−４
−モルホリノ−ベンゼンジアゾニウムクロライドおよび
４−フェニルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロライド
などが挙げられる。これらの化合物は、露光により分解
し窒素ガスを放出する。
【００２１】アジド化合物の具体例としては、４，４’
−ジアジド−スチルベン−２，２’−ジスルホン酸およ
びそのナトリウム塩、４，４’−ジアジドカルコンなら
びに２−アジド−１，４−ナフタレン−ジベンゼン−ス
ルホンアミドがある。
−ジアジド−スチルベン−２，２’−ジスルホン酸およ
びそのナトリウム塩、４，４’−ジアジドカルコンなら
びに２−アジド−１，４−ナフタレン−ジベンゼン−ス
ルホンアミドがある。
【００２２】ジアジド化合物の具体例としては、２−ジ
アゾ１−ナフトール−５−スルホン酸エチルエーテルな
どがある。以上の化合物は、露光により分解し窒素ガス
を放出する。
アゾ１−ナフトール−５−スルホン酸エチルエーテルな
どがある。以上の化合物は、露光により分解し窒素ガス
を放出する。
【００２３】有機ジカルボン酸の具体例としては、シュ
ウ酸第２鉄、シュウ酸第２鉄アンモニウムがあり、これ
らの化合物は、露光により分解して二酸化炭素を放出す
る。
ウ酸第２鉄、シュウ酸第２鉄アンモニウムがあり、これ
らの化合物は、露光により分解して二酸化炭素を放出す
る。
【００２４】保護層６の具体例としては、ポリプロピレ
ン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、
アイオノマー、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリメチルペンテン、アセチルセルロース、
セルロースエステル、ポリビニルアセタール、フッ素樹
脂、セロハン等のポリマーフィルム、金属箔、紙、樹脂
材料によってラミネートされた紙等が挙げられる。必要
に応じて、上記の保護層の片面または両面に濡れ性の悪
い材料例えばシリコーン樹脂、フッ素樹脂等を用いた薄
層を形成してもよい。
ン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、
アイオノマー、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリメチルペンテン、アセチルセルロース、
セルロースエステル、ポリビニルアセタール、フッ素樹
脂、セロハン等のポリマーフィルム、金属箔、紙、樹脂
材料によってラミネートされた紙等が挙げられる。必要
に応じて、上記の保護層の片面または両面に濡れ性の悪
い材料例えばシリコーン樹脂、フッ素樹脂等を用いた薄
層を形成してもよい。
【００２５】次に、上記印字体形成用シート１を用いた
印字体形成方法について図面を参照しながら説明する。
印字体形成方法について図面を参照しながら説明する。
【００２６】まず図１に示すように、印字体形成用シー
ト１の保護層６を剥離する。保護層６の表面は濡れ性が
悪いので保護層６は感光層５との界面で容易に剥離でき
る。次に図２に示すように、多孔質基材７上に感光層５
が相対するように重ね合わせ加圧して固定する。感光層
５は粘着性を持っており、その粘着力で多孔質基材７に
固定されることができる。
ト１の保護層６を剥離する。保護層６の表面は濡れ性が
悪いので保護層６は感光層５との界面で容易に剥離でき
る。次に図２に示すように、多孔質基材７上に感光層５
が相対するように重ね合わせ加圧して固定する。感光層
５は粘着性を持っており、その粘着力で多孔質基材７に
固定されることができる。
【００２７】多孔質基材７の具体例としては、その内に
連続した毛細管状の細孔を持ち、この細孔中にスタンプ
インクを含浸させる機能を有しており、材質的には、織
布、不織布、紙、延伸されて細孔を有している樹脂フィ
ルム、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン
などの樹脂の発泡体、エラストマーの発泡体、金属・金
属酸化物・金属窒化物・金属炭化物・熱硬化性樹脂など
の微粒子を焼き固めたさせた焼結体が使用できる。
連続した毛細管状の細孔を持ち、この細孔中にスタンプ
インクを含浸させる機能を有しており、材質的には、織
布、不織布、紙、延伸されて細孔を有している樹脂フィ
ルム、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン
などの樹脂の発泡体、エラストマーの発泡体、金属・金
属酸化物・金属窒化物・金属炭化物・熱硬化性樹脂など
の微粒子を焼き固めたさせた焼結体が使用できる。
【００２８】次に図３に示すように、透過型の原稿８を
重ね合わせランプ（図示せず）で支持体２側から露光す
る。ここで、原稿の透明部分においてはランプからの光
が原稿を透過し、感光層５を露光する。感光層５の露光
された部分は、光硬化反応により感光性物質３の硬度が
上昇すると同時に発泡物質４がガスを放出し、図４に示
すように連続的な毛細管構造を持つ発泡体部１０に形態
が変化する。一方、原稿の不透明部分では、ランプから
の光が透過せず、対応する感光層５の露光されない部分
では、光硬化反応、ガス放出ともおこらないので、感光
層の形態は変化しない。
重ね合わせランプ（図示せず）で支持体２側から露光す
る。ここで、原稿の透明部分においてはランプからの光
が原稿を透過し、感光層５を露光する。感光層５の露光
された部分は、光硬化反応により感光性物質３の硬度が
上昇すると同時に発泡物質４がガスを放出し、図４に示
すように連続的な毛細管構造を持つ発泡体部１０に形態
が変化する。一方、原稿の不透明部分では、ランプから
の光が透過せず、対応する感光層５の露光されない部分
では、光硬化反応、ガス放出ともおこらないので、感光
層の形態は変化しない。
【００２９】この後、図５に示すように、支持体２を剥
離し、続いて図６に示すようにアルカリ水やアルコール
等の特定の溶媒１２で感光層５の表面を洗浄する。この
工程に於て、発泡体部１０では、発泡が起こると同時に
感光層５も硬化しているので、感光層５は溶媒で溶解し
ないが、露光されない部分１１では感光層５が硬化して
いないので感光層５が溶媒１２で溶解、除去され、その
結果図７に示すように、多孔質基材７上に毛細管構造を
持つ発泡体部１０が形成された印版１３が形成される。
離し、続いて図６に示すようにアルカリ水やアルコール
等の特定の溶媒１２で感光層５の表面を洗浄する。この
工程に於て、発泡体部１０では、発泡が起こると同時に
感光層５も硬化しているので、感光層５は溶媒で溶解し
ないが、露光されない部分１１では感光層５が硬化して
いないので感光層５が溶媒１２で溶解、除去され、その
結果図７に示すように、多孔質基材７上に毛細管構造を
持つ発泡体部１０が形成された印版１３が形成される。
【００３０】上記の手順で作製された印版１３を図８に
示すように印版保持体１４にセットし、印版保持体１４
内にインク１５を導入する。インク１５は印版の発泡体
部１０中に形成されている連続的な毛細管構造に沿って
浸透する。この状態で、発泡体部１０と被捺印物１６と
を重ね合わせ加圧すると、発泡体部１０に浸透したイン
クが被捺印物１６に転写される。
示すように印版保持体１４にセットし、印版保持体１４
内にインク１５を導入する。インク１５は印版の発泡体
部１０中に形成されている連続的な毛細管構造に沿って
浸透する。この状態で、発泡体部１０と被捺印物１６と
を重ね合わせ加圧すると、発泡体部１０に浸透したイン
クが被捺印物１６に転写される。
【００３１】次に本発明を具体化した第２の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【００３２】図１５は、第２の実施例の印字体形成方法
に用いられる印字体形成用シートの構造を表す拡大断面
図である。印字体形成用シート１８は、支持体１９上
に、感光性物質２０、その中に分散された充填材２１か
らなる感光層２２が積層され、更にその上に保護層２３
が形成された構造を持つ。
に用いられる印字体形成用シートの構造を表す拡大断面
図である。印字体形成用シート１８は、支持体１９上
に、感光性物質２０、その中に分散された充填材２１か
らなる感光層２２が積層され、更にその上に保護層２３
が形成された構造を持つ。
【００３３】図１６は感光層２２内の微細構造を示す図
であり、充填材２１は、糸状になった感光性物質２０に
よってつなぎ留められ、充填材粒子間に連続的な細孔が
形成されている。
であり、充填材２１は、糸状になった感光性物質２０に
よってつなぎ留められ、充填材粒子間に連続的な細孔が
形成されている。
【００３４】支持体１９、感光性物質２０、保護層２３
の具体例としては、第１の実施例の発泡物質を含む印字
体形成用シートの場合と全く同様のものが使用できるた
め、その説明は省略する。
の具体例としては、第１の実施例の発泡物質を含む印字
体形成用シートの場合と全く同様のものが使用できるた
め、その説明は省略する。
【００３５】充填材２１としては、粒子状の無機化合
物、有機化合物が使用可能である。無機化合物の例とし
ては、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物等
が、有機化合物との例しては、アクリル系樹脂、オレフ
ィン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ス
チレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ゴムシリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、石油樹脂、
ロジン等のポリマー類、ワックス類等が使用可能であ
る。
物、有機化合物が使用可能である。無機化合物の例とし
ては、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物等
が、有機化合物との例しては、アクリル系樹脂、オレフ
ィン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ス
チレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ゴムシリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、石油樹脂、
ロジン等のポリマー類、ワックス類等が使用可能であ
る。
【００３６】次に、第２の実施例の印字体形成用シート
１８を用いた印字体形成方法について図を参照しながら
説明する。
１８を用いた印字体形成方法について図を参照しながら
説明する。
【００３７】多孔質基材上に感光層、支持体を固定する
手順は、上記第１の実施例と全く同様であるため、その
説明を省略する。
手順は、上記第１の実施例と全く同様であるため、その
説明を省略する。
【００３８】次に図１０に示すように、透過型の原稿２
４を重ね合わせランプ（図示せず）で支持体１９側から
露光する。ここで、原稿の透明部分においてはランプか
らの光が原稿を透過し、感光層２２を露光する。感光層
２２の露光された部分は、光硬化反応により感光性物質
２０の硬度が上昇し、充填材２１をつなぎ留める力が増
大すると同時に、アルカリ水、アルコール等の特定の溶
剤に溶解し難くなる。一方、原稿の不透明部分では、ラ
ンプからの光が透過せず、対応する感光層２２の露光さ
れない部分では、光硬化反応がおこらないので、充填材
２１をつなぎ留める力は増大せず、アルカリ水、アルコ
ール等の特定の溶剤に対する溶解度にも変化はない。
４を重ね合わせランプ（図示せず）で支持体１９側から
露光する。ここで、原稿の透明部分においてはランプか
らの光が原稿を透過し、感光層２２を露光する。感光層
２２の露光された部分は、光硬化反応により感光性物質
２０の硬度が上昇し、充填材２１をつなぎ留める力が増
大すると同時に、アルカリ水、アルコール等の特定の溶
剤に溶解し難くなる。一方、原稿の不透明部分では、ラ
ンプからの光が透過せず、対応する感光層２２の露光さ
れない部分では、光硬化反応がおこらないので、充填材
２１をつなぎ留める力は増大せず、アルカリ水、アルコ
ール等の特定の溶剤に対する溶解度にも変化はない。
【００３９】この後、図１１に示すように、支持体１９
を剥離し、続いて図１２に示すようにアルカリ水やアル
コール等の特定の溶媒２７で感光層２２の表面を洗浄す
る。この工程に於て、露光された部分では、感光層２２
が硬化しているので、感光層２２は溶媒２７で溶解しな
いが、露光されない部分では感光層２２が硬化していな
いので感光層２２が溶媒２７で溶解、除去され、その結
果図１３に示すように、多孔質基材７上に毛細管構造を
持つ凸部２８が形成された印版２９が形成される。
を剥離し、続いて図１２に示すようにアルカリ水やアル
コール等の特定の溶媒２７で感光層２２の表面を洗浄す
る。この工程に於て、露光された部分では、感光層２２
が硬化しているので、感光層２２は溶媒２７で溶解しな
いが、露光されない部分では感光層２２が硬化していな
いので感光層２２が溶媒２７で溶解、除去され、その結
果図１３に示すように、多孔質基材７上に毛細管構造を
持つ凸部２８が形成された印版２９が形成される。
【００４０】上記の手順で作製された印版２９を図１４
に示すように印版保持体３０にセットし、印版保持体３
０中にインク３１を導入する。インク３１は印版２９の
凸部２８中に形成されている連続的な毛細管構造に沿っ
て浸透する。この状態で、凸部２８と被捺印物３２とを
重ね合わせ加圧すると、凸部２８に浸透したインクが被
捺印物３２に転写される。
に示すように印版保持体３０にセットし、印版保持体３
０中にインク３１を導入する。インク３１は印版２９の
凸部２８中に形成されている連続的な毛細管構造に沿っ
て浸透する。この状態で、凸部２８と被捺印物３２とを
重ね合わせ加圧すると、凸部２８に浸透したインクが被
捺印物３２に転写される。
【００４１】以上、説明したことから明かなように、上
記第１及び第２の実施例の印字体形成方法を用いること
により、従来の製法に比べて非常に少ない工程で、且つ
型を使用せずに、多孔質印版を形成することが可能とな
り、多品種少量生産に対応することができる。
記第１及び第２の実施例の印字体形成方法を用いること
により、従来の製法に比べて非常に少ない工程で、且つ
型を使用せずに、多孔質印版を形成することが可能とな
り、多品種少量生産に対応することができる。
【００４２】尚、本発明の内容は、その趣旨を逸脱しな
い限りに於て変更が可能であることは言うまでもなく、
例えば、上記光硬化型の感光性物質に替えて、露光され
た部分の溶解度が増大する光軟化型の感光性物質を使用
することも可能であり、また上記洗浄工程を省いて印版
を形成することも可能である。
い限りに於て変更が可能であることは言うまでもなく、
例えば、上記光硬化型の感光性物質に替えて、露光され
た部分の溶解度が増大する光軟化型の感光性物質を使用
することも可能であり、また上記洗浄工程を省いて印版
を形成することも可能である。
【００４３】また、印字体形成用シートを用いて多孔質
基材上に感光層を固定する工程を用いずに、予め多孔質
基材上に感光層が設けられたものを使用して印版を形成
することも可能である。
基材上に感光層を固定する工程を用いずに、予め多孔質
基材上に感光層が設けられたものを使用して印版を形成
することも可能である。
【００４４】
【発明の効果】以上、説明したことから明かなように、
本発明の印字体形成方法を用いることにより、従来の製
法に比べて非常に少ない工程で、且つ型を使用せずに、
多孔質印版を形成することが可能となり、多品種少量生
産に対応することができる。
本発明の印字体形成方法を用いることにより、従来の製
法に比べて非常に少ない工程で、且つ型を使用せずに、
多孔質印版を形成することが可能となり、多品種少量生
産に対応することができる。
【図１】印字体形成用シートから保護層を剥離する工程
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図２】保護層を剥離した印字体形成用シートを多孔質
基材に固定する工程を示す説明図である。
基材に固定する工程を示す説明図である。
【図３】多孔質基材に固定した印字体形成用シートに露
光する工程を示す説明図である。
光する工程を示す説明図である。
【図４】露光後の感光層の状態を示す説明図である。
【図５】支持体を剥離する工程を示す説明図である。
【図６】感光層を溶媒で洗浄する工程を示す説明図であ
る。
る。
【図７】印版の表面状態を示す説明図である。
【図８】印版を印版保持体にセットし、捺印した状態を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図９】印字体形成用シートの構造を示す拡大断面図で
ある。
ある。
【図１０】多孔質基材に固定した印字体形成用シートに
露光する工程を示す説明図である。
露光する工程を示す説明図である。
【図１１】支持体を剥離する工程を示す説明図である。
【図１２】感光層を溶媒で洗浄する工程を示す説明図で
ある。
ある。
【図１３】印版の断面構造を示す説明図である。
【図１４】印版を印版保持体にセットし、捺印した状態
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図１５】印字体形成用シートの構造を示す拡大断面図
である。
である。
【図１６】感光層内の微細構造を示す説明図である。
３ 感光性物質 ５ 感光層 ７ 多孔質基材 ２０ 感光性物質 ２２ 感光層
Claims (3)
- 【請求項１】 感光性物質を含む感光層を担持した多孔
質基材に像露光する工程を含むことを特徴とする印字体
形成方法。 - 【請求項２】 前記感光性物質は発泡性物質を含有する
ことを特徴とする請求項１記載の印字体形成方法。 - 【請求項３】 前記感光性物質は光硬化性物質であるこ
とを特徴とする請求項１記載の印字体形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34863192A JP3339710B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 浸透型印字体の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34863192A JP3339710B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 浸透型印字体の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06198832A true JPH06198832A (ja) | 1994-07-19 |
| JP3339710B2 JP3339710B2 (ja) | 2002-10-28 |
Family
ID=18398298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34863192A Expired - Fee Related JP3339710B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 浸透型印字体の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3339710B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002283693A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Ikuzo Matsushita | 浸透印版の製造方法および製造装置 |
| CN100354143C (zh) * | 2005-04-05 | 2007-12-12 | 张志华 | 适用于印章的光敏垫及其制备方法 |
| JP5643417B1 (ja) * | 2013-12-24 | 2014-12-17 | 互応化学工業株式会社 | 白色ソルダーレジスト層の製造方法、白色ソルダーレジスト層、及び白色ソルダーレジスト層の製造に用いられる白色ソルダーレジスト組成物 |
| JP5643416B1 (ja) * | 2013-12-24 | 2014-12-17 | 互応化学工業株式会社 | 被覆配線板の製造方法 |
| WO2016102185A1 (en) * | 2014-12-22 | 2016-06-30 | Koninklijke Philips N.V. | Patterned stamp manufacturing method, patterned stamp and imprinting method |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP34863192A patent/JP3339710B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002283693A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-03 | Ikuzo Matsushita | 浸透印版の製造方法および製造装置 |
| JP4712999B2 (ja) * | 2001-03-28 | 2011-06-29 | 幾三 松下 | 浸透印版の製造方法および製造装置 |
| CN100354143C (zh) * | 2005-04-05 | 2007-12-12 | 张志华 | 适用于印章的光敏垫及其制备方法 |
| JP5643417B1 (ja) * | 2013-12-24 | 2014-12-17 | 互応化学工業株式会社 | 白色ソルダーレジスト層の製造方法、白色ソルダーレジスト層、及び白色ソルダーレジスト層の製造に用いられる白色ソルダーレジスト組成物 |
| JP5643416B1 (ja) * | 2013-12-24 | 2014-12-17 | 互応化学工業株式会社 | 被覆配線板の製造方法 |
| JP2015121653A (ja) * | 2013-12-24 | 2015-07-02 | 互応化学工業株式会社 | 被覆配線板の製造方法 |
| JP2015120841A (ja) * | 2013-12-24 | 2015-07-02 | 互応化学工業株式会社 | 白色ソルダーレジスト層の製造方法、白色ソルダーレジスト層、及び白色ソルダーレジスト層の製造に用いられる白色ソルダーレジスト組成物 |
| WO2016102185A1 (en) * | 2014-12-22 | 2016-06-30 | Koninklijke Philips N.V. | Patterned stamp manufacturing method, patterned stamp and imprinting method |
| US11086217B2 (en) | 2014-12-22 | 2021-08-10 | Koninklijke Philips N.V. | Patterned stamp manufacturing method, patterned stamp and imprinting method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3339710B2 (ja) | 2002-10-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES2443493T3 (es) | Elementos de fotopolímero con formación de imagen digital sin procesamiento usando microesferas | |
| US3615435A (en) | Photohardenable image reproduction element with integral pigmented layer and process for use | |
| CN104272186B (zh) | 清洁柔性印刷版及其制备方法 | |
| CN1938162A (zh) | 中空圆柱状印刷基材 | |
| EP0096572A2 (en) | Photosensitive materials for use in making dry transfers | |
| JP4933539B2 (ja) | 一体型印刷面を有する印刷要素 | |
| US7074358B2 (en) | Polymer casting method and apparatus | |
| JPH06198832A (ja) | 印字体形成方法 | |
| US5443938A (en) | Photosensitive printing member having ink-receptive capillary structures in the support and photosensitive layer | |
| JP3352478B2 (ja) | 印字体形成用シート | |
| JP3042210B2 (ja) | 感光性印字体 | |
| JPH0128932B2 (ja) | ||
| GB2241352A (en) | Photopolymer printing plates having a dimpled printing surface | |
| US5429907A (en) | Method for making an imaging element and for obtaining an image therefrom | |
| JPH06127100A (ja) | 印字体形成用シート | |
| JP2001521208A (ja) | 画像の凸版印刷を行なうための複合印刷版 | |
| JP2006334904A (ja) | 印刷用樹脂凸版の製造方法および凸版印刷版の製造方法 | |
| EP0559248B1 (en) | An imaging element comprising a photopolymerizable composition as photosensitive element | |
| JPH06135109A (ja) | 感光性印字体 | |
| JPH02179783A (ja) | 印判の製造方法 | |
| JP5042493B2 (ja) | 印刷基材 | |
| JP7501047B2 (ja) | インク膜形成用原版、パターン形成方法、パターン膜形成方法、およびパターン膜形成装置 | |
| Schift et al. | Easy mask-mold fabrication for combined nanoimprint and photolithography | |
| US3243843A (en) | Apparatus for preparation of images | |
| JPWO2005085953A1 (ja) | フレキソ印刷用感光性構成体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |