CN100354143C - 适用于印章的光敏垫及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种适用于印章的光敏垫及其制备方法。本发明光敏垫材料为一种微孔泡沫材料，组分包括：聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂和其他助剂。本发明的用于印章的光敏垫，孔径尺寸小、均匀性好，产品质量稳定。能够满足有关方面的需要。
Description
技术领域
本发明涉及一种人造树脂为主的微孔泡沫材料及其制备方法，具体说是光敏印章用的印章垫及其制备方法。
技术背景
随着印章业的不断发展，制作印章用材料要求越来越高。目前，制作万次印章(一次加油墨，可使用万次以上的渗透型印章)使用最广泛的材料为聚氯乙稀粉末烧结材料，即原子印章。其报道有：JP8011882、JP8022962、JP81151586、JP8037331所述，该方法是聚氯乙烯粉状原料和增塑剂、稳定剂、填料及其他助剂混合后，制成粒料，粒料经低温粉碎得到大部分超过200目的微小颗粒，微小颗粒加入到相应模具中，经加热烧结得到多孔材料，该多孔材料可作为储存印油的印章材料。中国专利93114619采用软质聚氯乙烯，经粉碎到60～150目通过，将粉料加入模具中，经加热烧结，得到多孔材料，用于储油印章材料。上述几种方法都需要经低温粉碎，得到微小粉末，再将粉末加入到模具中加温烧结而成。这种方法得到储油印章材料工艺复杂、投资大(需低温粉碎设备)、多孔材料孔径尺寸大、均匀性差，产品质量不稳定。用该材料制作印章工序复杂，印章解晰度低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种稳定性好、图文制作简单方便、经济、适用于印章的光敏垫及其制备方法，以克服现有技术存在的上述缺陷。
本发明光敏垫材料为一种微孔泡沫材料，组分和重量百分比包括：
聚烯烃或其共聚物树脂 70～90％
有机颜料光敏助剂 0.1～5％
酚类抗氧剂 0.5～3％
非离子表面活性剂 0.5～3％
其他助剂 5～25％。
优选的重量百分比为：
聚烯烃或其共聚物树脂 75～85％
有机颜料光敏助剂 0.5～5％
酚类抗氧剂 1～2％
非离子表面活性剂 1～2％
其他助剂 10～20％
更优选的为：
聚烯烃或其共聚物树脂 78～82％
有机颜料光敏助剂 1～3％
酚类抗氧剂 1～2％
非离子表面活性剂 1～2％
其他助剂 12～18％。
微孔尺寸为3微米～100微米，最好微孔尺寸为10微米～40微米，微孔为开孔结构，其开孔率为70～99％，最好开孔率为95～99％。
所述及的有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂的具体品种，行业内技术人员都是公知的。
有机颜料光敏助剂选自色淀颜料中的一种或其混合物，优选炭黑、黑色素或深色颜料，如：兰色、棕色、绿色、红色等；
所说的酚类抗氧剂优选2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧剂246)、2，2’-甲撑双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)(抗氧剂2246)或四[3-(3’5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)丙烯]季戊四醇酯(抗氧剂1010)。
非离子表面活性剂选自高级醇环氧乙烷加成物、烷基酚环氧乙烷加成物、脂肪酸环氧乙烷加成物及多元醇类非离子表面活性剂等，优选脂肪醇聚氧乙烯醚(如平平加O-20)、烷基酚聚氧乙烯醚(如乳化剂OP)、脂肪酸聚氧乙烯醚(如乳化剂A110、A115)或失水山梨醇脂肪酸酯(如斯潘20、60、80)。
所述及的聚烯烃或其共聚物树脂选自聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚丁烯、乙烯丙烯共聚物、乙烯醋酸乙烯共聚物、乙烯丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯丁二烯共聚物、聚氯乙稀、氯化聚乙烯、氯磺化聚乙烯、聚异戊二烯、聚丁二烯、聚氨酯中的一种或一种以上；
所述及的其他助剂为加工助剂，选自硬脂酸、石蜡、油酸酰胺、芥酸酰胺、双硬脂酸酰胺、聚乙烯蜡、氧化聚乙烯蜡、硬脂酸锌、硬脂酸钡或硬脂酸钙中的一种或一种以上。
本发明的适用于印章的光敏垫的制备方法包括如下步骤：
将聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂和其他助剂经初步混合，并加入上述总重量3～5倍的无机填料，混合均匀，采用常规的模压、挤出或注塑等方法，制备型材，即料胚，将料胚浸渍于溶剂中，常温下溶解，除去料胚中的无机填料，形成微孔开孔泡沫材料，得到微孔尺寸在3～100微米的光敏垫。
所说的无机填料选自碳酸钾、碳酸钙、碳酸钠、碳酸镁、氢氧化铝、氢氧化镁、氢氧化钡、硝酸钾、硝酸钠、氯化钾、氯化钠、氯化钙、氯化镁、磷酸钾、磷酸钠或硫酸钠中的一种或其混合物；
所说的溶剂选自盐酸、硫酸、水、碳酸、硝酸或醋酸中的一种或其混合物。
本发明的用于印章的光敏垫，性能优良，将其制备成为光敏印章在众多性能上均优于原子印章。
由上述公开的技术方案看见，本发明的用于印章的光敏垫，多孔材料孔径尺寸小、均匀性好，产品质量稳定。能够满足有关方面的需要。
具体实施方式
实施例1
将聚乙烯树脂70质量份，色素碳黑5.0质量份，四[3-(3’5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)丙烯]季戊四醇酯(抗氧剂1010)3.0质量份，失水山梨醇单月桂酸酯(斯潘20)3.0质量份，硬脂酸5质量份，石蜡8质量份，聚乙烯蜡3质量份，硬脂酸钙2质量份，石蜡油7质量份、碳酸钙400质量份，用混合均匀，模压、挤出、注塑成型得到料胚)，料胚浸渍于重量浓度为1％的盐酸水溶液中洗涤，去除碳酸钙，得到较软微孔光敏垫。
微孔尺寸为10微米，微孔为开孔结构，其开孔率为95％。
采用本方法制备成为光敏印章，与万次印章性能比较，其结果如下：
| 一次加油墨使用次数 | 解晰度 | 制章方法 | 施压盖章时字迹变形率 | |
| 本发明 | 1万次左右 | 133dpi | 简易 | 变形度小 |
| 万次印章 | 1万次左右 | 40dpi | 复杂、有污染 | 变形度大 |
实施例2
将聚乙烯树脂90质量份，色素碳黑0.1质量份，2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧剂246)0.5质量份，脂肪醇聚氧乙烯(20)醚(平平加O-20)0.5质量份，硬脂酸1质量份，石蜡1质量份，聚乙烯蜡1质量份，石蜡油2质量份、碳酸钙400质量份，用混合均匀，模压、挤出、注塑成型得到型材(料胚)，料胚浸渍于重量浓度为0.5％的硝酸水溶液中洗涤，去除碳酸钙，得到比实例1中较硬微孔光敏垫。
微孔尺寸为40微米，微孔为开孔结构，其开孔率为99％。
采用本方法制备成为的光敏印章，与万次印章性能比较，其结果如下：
| 一次加油墨使用次数 | 解晰度 | 制章方法 | 施压盖章时字迹变形率 | |
| 本发明 | 8千次左右 | 100dpi | 简易 | 变形度小 |
| 万次印章 | 1万次左右 | 40dpi | 复杂、有污染 | 变形度大 |
实施例3
将实施例1中聚乙烯树脂改用共聚聚丙烯树脂，制得与实例2相似软硬微孔光敏垫。
实施例4
将实施例1中聚乙烯树脂改用乙烯醋酸乙烯共聚物，制得比实例1更软微孔光敏垫。
实施例5
将实施例1中碳酸钙改用硫酸钠，料胚浸渍于水中洗涤，除去硫酸钠，制得与实例1相似软硬微孔光敏垫。
Claims (10)
1.一种适用于印章的光敏垫，其特征在于，为一种微孔泡沫材料，组分和重量百分比包括：
聚烯烃或其共聚物树脂 70～90％
有机颜料光敏助剂 0.1～5％
酚类抗氧剂 0.5～3％
非离子表面活性剂 0.5～3％
加工助剂 5～25％。
2.根据权利要求1所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，组分和重量百分比为：
聚烯烃或其共聚物树脂 75～85％
有机颜料光敏助剂 0.5～5％
酚类抗氧剂 1～2％
非离子表面活性剂 1～2％
加工助剂 10～20％。
3.根据权利要求2所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，组分和重量百分比为：
聚烯烃或其共聚物树脂 78～82％
有机颜料光敏助剂 1～3％
酚类抗氧剂 1～2％
非离子表面活性剂 1～2％
加工助剂 12～18％。
4.根据权利要求1所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，微孔尺寸为3微米～100微米，微孔为开孔结构，其开孔率为70～99％。
5.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，有机颜料光敏助剂选自色淀颜料中的一种或其混合物。
6.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，所说的酚类抗氧剂选自2，4，6-三叔丁基苯酚、2，2’-甲撑双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)或四[3-(3’5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)丙烯]季戊四醇酯。
7.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，非离子表而活性剂选自高级醇环氧乙烷加成物、烷基酚环氧乙烷加成物、脂肪酸环氧乙烷加成物或多元醇类非离子表面活性剂。
8.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，所述及的聚烯烃或其共聚物树脂选自聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚丁烯、乙烯丙烯共聚物、乙烯醋酸乙烯共聚物、乙烯丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯丁二烯共聚物、聚氯乙稀、氯化聚乙烯、氯磺化聚乙烯、聚异戊二烯、聚丁二烯、聚氨酯中的一利或一种以上。
9.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，所述及的加工助剂选自硬脂酸、石蜡、油酸酰胺、芥酸酰胺、双硬脂酸酰胺、聚乙烯蜡、氧化聚乙烯蜡、硬脂酸锌、硬脂酸钡或硬脂酸钙中的一种或一种以上。
10.根据权利要求1所述的用于印章的光敏垫的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
将聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂和加工助剂经初步混合，并加入上述聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表而活性剂和加工助剂的混合物总重量3～5倍的无机填料，混合均匀，采用常规的模压、挤出或注塑方法，制备型材，即料胚，将料胚浸渍于溶剂中溶解，除去料胚中的无机填料，形成微孔开孔泡沫材料，得到微孔尺寸在3～100微米的光敏垫。
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