CN1672953A - 适用于印章的光敏垫及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种适用于印章的光敏垫及其制备方法。本发明光敏垫材料为一种微孔泡沫材料，组分包括：聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂和其他助剂。本发明的用于印章的光敏垫，孔径尺寸小、均匀性好，产品质量稳定。能够满足有关方面的需要。

Description

适用于印章的光敏垫及其制备方法

技术领域

本发明涉及一种人造树脂为主的微孔泡沫材料及其制备方法，具体说是光敏印章用的印章垫及其制备方法。

技术背景

随着印章业的不断发展，制作印章用材料要求越来越高。目前，制作万次印章(一次加油墨，可使用万次以上的渗透型印章)使用最广泛的材料为聚氯乙稀粉末烧结材料，即原子印章。其报道有：JP8011882、JP8022962、JP81151586、JP8037331所述，该方法是聚氯乙烯粉状原料和增塑剂、稳定剂、填料及其他助剂混合后，制成粒料，粒料经低温粉碎得到大部分超过200目的微小颗粒，微小颗粒加入到相应模具中，经加热烧结得到多孔材料，该多孔材料可作为储存印油的印章材料。中国专利93114619采用软质聚氯乙烯，经粉碎到60～150目通过，将粉料加入模具中，经加热烧结，得到多孔材料，用于储油印章材料。上述几种方法都需要经低温粉碎，得到微小粉末，再将粉末加入到模具中加温烧结而成。这种方法得到储油印章材料工艺复杂、投资大(需低温粉碎设备)、多孔材料孔径尺寸大、均匀性差，产品质量不稳定。用该材料制作印章工序复杂，印章解晰度低。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种稳定性好、图文制作简单方便、经济、适用于印章的光敏垫及其制备方法，以克服现有技术存在的上述缺陷。

本发明光敏垫材料为一种微孔泡沫材料，组分和重量百分比包括：

聚烯烃或其共聚物树脂    70～90％

有机颜料光敏助剂        0.1～5％

酚类抗氧剂              0.5～3％

非离子表面活性剂        0.5～3％

其他助剂                5～25％。

优选的重量百分比为：

聚烯烃或其共聚物树脂    75～85％

有机颜料光敏助剂        0.5～5％

酚类抗氧剂              1～2％

非离子表面活性剂        1～2％

其他助剂                10～20％

更优选的为：

聚烯烃或其共聚物树脂    78～82％

有机颜料光敏助剂        1～3％

酚类抗氧剂              1～2％

非离子表面活性剂        1～2％

其他助剂                12～18％。

微孔尺寸为3微米～100微米，最好微孔尺寸为10微米～40微米，微孔为开孔结构，其开孔率为70～99％，最好开孔率为95～99％。

所述及的有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂的具体品种，行业内技术人员都是公知的。

有机颜料光敏助剂选自色淀颜料中的一种或其混合物，优选炭黑、黑色素或深色颜料，如：兰色、棕色、绿色、红色等；

所说的酚类抗氧剂优选2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧剂246)、2，2’-甲撑双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)(抗氧剂2246)或四[3-(3’5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)丙烯]季戊四醇酯(抗氧剂1010)。

非离子表面活性剂选自高级醇环氧乙烷加成物、烷基酚环氧乙烷加成物、脂肪酸环氧乙烷加成物及多元醇类非离子表面活性剂等，优选脂肪醇聚氧乙烯醚(如平平加O-20)、烷基酚聚氧乙烯醚(如乳化剂OP)、脂肪酸聚氧乙烯醚(如乳化剂A110、A115)或失水山梨醇脂肪酸酯(如斯潘20、60、80)。

所述及的聚烯烃或其共聚物树脂选自聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚丁烯、乙烯丙烯共聚物、乙烯醋酸乙烯共聚物、乙烯丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯丁二烯共聚物、聚氯乙稀、氯化聚乙烯、氯磺化聚乙烯、聚异戊二烯、聚丁二烯、聚氨酯中的一种或一种以上；

所述及的其他助剂为加工助剂，选自硬脂酸、石蜡、油酸酰胺、芥酸酰胺、双硬脂酸酰胺、聚乙烯蜡、氧化聚乙烯蜡、硬脂酸锌、硬脂酸钡或硬脂酸钙中的一种或一种以上。

本发明的适用于印章的光敏垫的制备方法包括如下步骤：

将聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂和其他助剂经初步混合，并加入上述总重量3～5倍的无机填料，混合均匀，采用常规的模压、挤出或注塑等方法，制备型材，即料胚，将料胚浸渍于溶剂中，常温下溶解，除去料胚中的无机填料，形成微孔开孔泡沫材料，得到微孔尺寸在3～100微米的光敏垫。

所说的无机填料选自碳酸钾、碳酸钙、碳酸钠、碳酸镁、氢氧化铝、氢氧化镁、氢氧化钡、硝酸钾、硝酸钠、氯化钾、氯化钠、氯化钙、氯化镁、磷酸钾、磷酸钠或硫酸钠中的一种或其混合物；

所说的溶剂选自盐酸、硫酸、水、碳酸、硝酸或醋酸中的一种或其混合物。

本发明的用于印章的光敏垫，性能优良，将其制备成为光敏印章在众多性能上均优于原子印章。

由上述公开的技术方案看见，本发明的用于印章的光敏垫，多孔材料孔径尺寸小、均匀性好，产品质量稳定。能够满足有关方面的需要。

具体实施方式

                        实施例1

将聚乙烯树脂70质量份，色素碳黑5.0质量份，四[3-(3’5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)丙烯]季戊四醇酯(抗氧剂1010)3.0质量份，失水山梨醇单月桂酸酯(斯潘20)3.0质量份，硬脂酸5质量份，石蜡8质量份，聚乙烯蜡3质量份，硬脂酸钙2质量份，石蜡油7质量份、碳酸钙400质量份，用混合均匀，模压、挤出、注塑成型得到料胚)，料胚浸渍于重量浓度为1％的盐酸水溶液中洗涤，去除碳酸钙，得到较软微孔光敏垫。

微孔尺寸为10微米，微孔为开孔结构，其开孔率为95％。

采用本方法制备成为光敏印章，与万次印章性能比较，其结果如下：

	一次加油墨使用次数	解晰度	制章方法	施压盖章时字迹变形率
					本发明	1万次左右	133dpi	简易	变形度小
万次印章	1万次左右	40dpi	复杂、有污染	变形度大

                        实施例2

将聚乙烯树脂90质量份，色素碳黑0.1质量份，2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧剂246)0.5质量份，脂肪醇聚氧乙烯(20)醚(平平加O-20)0.5质量份，硬脂酸1质量份，石蜡1质量份，聚乙烯蜡1质量份，石蜡油2质量份、碳酸钙400质量份，用混合均匀，模压、挤出、注塑成型得到型材(料胚)，料胚浸渍于重量浓度为0.5％的硝酸水溶液中洗涤，去除碳酸钙，得到比实例1中较硬微孔光敏垫。

微孔尺寸为40微米，微孔为开孔结构，其开孔率为99％。

采用本方法制备成为的光敏印章，与万次印章性能比较，其结果如下：

	一次加油墨使用次数	解晰度	制章方法	施压盖章时字迹变形率
					本发明	8千次左右	100dpi	简易	变形度小
万次印章	1万次左右	40dpi	复杂、有污染	变形度大

                        实施例3

将实施例1中聚乙烯树脂改用共聚聚丙烯树脂，制得与实例2相似软硬微孔光敏垫。

                        实施例4

将实施例1中聚乙烯树脂改用乙烯醋酸乙烯共聚物，制得比实例1更软微孔光敏垫。

                        实施例5

将实施例1中碳酸钙改用硫酸钠，料胚浸渍于水中洗涤，除去硫酸钠，制得与实例1相似软硬微孔光敏垫。

Claims (10)

1.一种适用于印章的光敏垫，其特征在于，为一种微孔泡沫材料，组分和重量百分比包括：

聚烯烃或其共聚物树脂      70～90％

有机颜料光敏助剂          0.1～5％

酚类抗氧剂                0.5～3％

非离子表面活性剂          0.5～3％

其他助剂                  5～25％。

2.根据权利要求1所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，优选的重量百分比为：

聚烯烃或其共聚物树脂      75～85％

有机颜料光敏助剂          0.5～5％

酚类抗氧剂                1～2％

非离子表面活性剂          1～2％

其他助剂                  10～20％。

3.根据权利要求2所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，更优选的为：

聚烯烃或其共聚物树脂      78～82％

有机颜料光敏助剂          1～3％

酚类抗氧剂                1～2％

非离子表面活性剂          1～2％

其他助剂                  12～18％。

4.根据权利要求1所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，微孔尺寸为3微米～100微米，微孔为开孔结构，其开孔率为70～99％。

5.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，有机颜料光敏助剂选自色淀颜料中的一种或其混合物。

6.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，所说的酚类抗氧剂选自2，4，6-三叔丁基苯酚(抗氧剂246)、2，2’-甲撑双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)(抗氧剂2246)或四[3-(3’5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)丙烯]季戊四醇酯(抗氧剂1010)。

7.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，非离子表面活性剂选自高级醇环氧乙烷加成物、烷基酚环氧乙烷加成物、脂肪酸环氧乙烷加成物或多元醇类非离子表面活性剂。

8.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，所述及的聚烯烃或其共聚物树脂选自聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚丁烯、乙烯丙烯共聚物、乙烯醋酸乙烯共聚物、乙烯丙烯酸乙酯共聚物、苯乙烯丁二烯共聚物、聚氯乙稀、氯化聚乙烯、氯磺化聚乙烯、聚异戊二烯、聚丁二烯、聚氨酯中的一种或一种以上。

9.根据权利要求1～4任一项所述的用于印章的光敏垫，其特征在于，所述及的其他助剂为加工助剂，选自硬脂酸、石蜡、油酸酰胺、芥酸酰胺、双硬脂酸酰胺、聚乙烯蜡、氧化聚乙烯蜡、硬脂酸锌、硬脂酸钡或硬脂酸钙中的一种或一种以上。

10.根据权利要求1～9任一项所述的用于印章的光敏垫的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

将聚烯烃或其共聚物树脂、有机颜料光敏助剂、酚类抗氧剂、非离子表面活性剂和其他助剂经初步混合，并加入上述总重量3～5倍的无机填料，混合均匀，采用常规的模压、挤出或注塑等方法，制备型材，即料胚，将料胚浸渍于溶剂中溶解，除去料胚中的无机填料，形成微孔开孔泡沫材料，得到微孔尺寸在3～100微米的光敏垫。