JP3339710B2 - 浸透型印字体の形成方法 - Google Patents
浸透型印字体の形成方法Info
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- JP3339710B2 JP3339710B2 JP34863192A JP34863192A JP3339710B2 JP 3339710 B2 JP3339710 B2 JP 3339710B2 JP 34863192 A JP34863192 A JP 34863192A JP 34863192 A JP34863192 A JP 34863192A JP 3339710 B2 JP3339710 B2 JP 3339710B2
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、浸透型印字体を形成す
る浸透型印字体の形成方法に関する。
る浸透型印字体の形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、スタンプなどに使用されている多
孔質の浸透型印字体は、以下に示す方法で形成されてい
る。まず、版下を作製し、これをもとに印刷用シルクス
クリーンを作製する。次に、シルクスクリーンを使用し
てアルミ板上にレジストインクを印刷し加熱して、アル
ミ板上にパターンを焼き付ける。次に、パターンが焼き
付けられたアルミ板をエッチング、レジストインクを除
去して凹凸パターンを持つ母型を作製する。この母型の
凹凸パターンを熱可塑性樹脂板上に加熱転写し、ゴム成
形型を作製する。このゴム成形型に、塩を練り込んだゴ
ムを入れ加圧加熱成形し、塩出しを経て乾燥させ、多孔
質の浸透型印字体としていた。この多孔質の浸透型印字
体にスタンプインクを含浸させることにより、朱肉やス
タンプパッドを使用せずに長期にわたって捺印すること
ができる。
孔質の浸透型印字体は、以下に示す方法で形成されてい
る。まず、版下を作製し、これをもとに印刷用シルクス
クリーンを作製する。次に、シルクスクリーンを使用し
てアルミ板上にレジストインクを印刷し加熱して、アル
ミ板上にパターンを焼き付ける。次に、パターンが焼き
付けられたアルミ板をエッチング、レジストインクを除
去して凹凸パターンを持つ母型を作製する。この母型の
凹凸パターンを熱可塑性樹脂板上に加熱転写し、ゴム成
形型を作製する。このゴム成形型に、塩を練り込んだゴ
ムを入れ加圧加熱成形し、塩出しを経て乾燥させ、多孔
質の浸透型印字体としていた。この多孔質の浸透型印字
体にスタンプインクを含浸させることにより、朱肉やス
タンプパッドを使用せずに長期にわたって捺印すること
ができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
浸透型印字体の形成においては、その形成方法が非常に
煩雑であるため、大量生産には適するものの、多品種少
量生産には適さないという問題があった。
浸透型印字体の形成においては、その形成方法が非常に
煩雑であるため、大量生産には適するものの、多品種少
量生産には適さないという問題があった。
【0004】また、従来の浸透型印字体の形成方法にお
いては、個別に型を作製する必要があったため、その型
の費用も含めた浸透型印字体自体のコストがアップする
という問題があった。
いては、個別に型を作製する必要があったため、その型
の費用も含めた浸透型印字体自体のコストがアップする
という問題があった。
【0005】さらに、ユーザが浸透型印字体を使用する
場合には、浸透型印字体には多様な外力が加わるため、
浸透型印字体自体には、その外力に耐えうるだけの強度
が必要とされる。
場合には、浸透型印字体には多様な外力が加わるため、
浸透型印字体自体には、その外力に耐えうるだけの強度
が必要とされる。
【0006】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、多品種少量生産に適するように
安価で簡単な工程で形成できるとともに、従来の浸透型
印字体と同等の強度を有する浸透型印字体の形成方法を
提供することを目的としている。
になされたものであり、多品種少量生産に適するように
安価で簡単な工程で形成できるとともに、従来の浸透型
印字体と同等の強度を有する浸透型印字体の形成方法を
提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の請求項1に記載の浸透型印字体の形成方法
は、発泡剤を含む感光性物質が塗布された透明シートを
前記感光性物質が接するように多孔質基材上に加圧して
載置し、所定の画像が描画された原稿を前記透明シート
上に載置し、前記原稿に向かって前記透明シートの反対
側から光を照射し、前記原稿及び前記透明シートを前記
多孔質基材から剥離し、前記感光性物質を溶媒で洗浄し
て形成されることを特徴としている。
に本発明の請求項1に記載の浸透型印字体の形成方法
は、発泡剤を含む感光性物質が塗布された透明シートを
前記感光性物質が接するように多孔質基材上に加圧して
載置し、所定の画像が描画された原稿を前記透明シート
上に載置し、前記原稿に向かって前記透明シートの反対
側から光を照射し、前記原稿及び前記透明シートを前記
多孔質基材から剥離し、前記感光性物質を溶媒で洗浄し
て形成されることを特徴としている。
【0008】
【0009】
【作用】上記の構成を有する本発明の請求項1に記載の
浸透型印字体の形成方法は、まず、発泡剤を含む感光性
物質が塗布された透明シートが多孔質基材上に感光性物
質が接するように加圧して載置され、所定の画像が描画
された原稿が透明シート上に載置された後、光が透明シ
ートの反対側から原稿に向かって照射されると、照射さ
れた感光性物質は硬化する。そして、原稿及び透明シー
トを多孔質基材から剥離し、感光性物質を溶媒で洗浄す
ると、硬化していない感光性物質が洗浄され、硬化した
感光性物質のみが加圧して載置された効果も含めて多孔
質基材上にアンカー効果によって強固に接着されて残る
ので、従来の浸透型印字体と同様の強度を有する浸透型
印字体を形成することができる。また、特定の型を使用
せずに安価で簡単な工程で浸透型印字体を形成できるの
で、多品種少量生産に適した浸透型印字体を形成するこ
とができる。
浸透型印字体の形成方法は、まず、発泡剤を含む感光性
物質が塗布された透明シートが多孔質基材上に感光性物
質が接するように加圧して載置され、所定の画像が描画
された原稿が透明シート上に載置された後、光が透明シ
ートの反対側から原稿に向かって照射されると、照射さ
れた感光性物質は硬化する。そして、原稿及び透明シー
トを多孔質基材から剥離し、感光性物質を溶媒で洗浄す
ると、硬化していない感光性物質が洗浄され、硬化した
感光性物質のみが加圧して載置された効果も含めて多孔
質基材上にアンカー効果によって強固に接着されて残る
ので、従来の浸透型印字体と同様の強度を有する浸透型
印字体を形成することができる。また、特定の型を使用
せずに安価で簡単な工程で浸透型印字体を形成できるの
で、多品種少量生産に適した浸透型印字体を形成するこ
とができる。
【0010】
【0011】
【実施例】以下、本発明を具体化した実施例を図面を参
照して説明する。
照して説明する。
【0012】まず本発明を具体化した第1の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【0013】なお、本発明の浸透型印字体とは、後述す
るインク等の印字媒体を貯留した印版保持体に装着され
て使用する印字体であって、印版保持体に貯留された印
字媒体を一方側から他方側へ浸透させて後述する被捺印
物に転写する印字体をいう。図9は、第1の実施例の浸
透型印字体の形成方法に用いられる透明シートとしての
印字体形成用シートの構造を表す拡大断面図である。印
字体形成用シート1は、支持体2上に、感光性物質3
と、その中に溶解もしくは分散された発泡剤としての発
泡性物質4からなる感光層5が積層され、更にその上に
保護層6が形成された構造を持つ。
るインク等の印字媒体を貯留した印版保持体に装着され
て使用する印字体であって、印版保持体に貯留された印
字媒体を一方側から他方側へ浸透させて後述する被捺印
物に転写する印字体をいう。図9は、第1の実施例の浸
透型印字体の形成方法に用いられる透明シートとしての
印字体形成用シートの構造を表す拡大断面図である。印
字体形成用シート1は、支持体2上に、感光性物質3
と、その中に溶解もしくは分散された発泡剤としての発
泡性物質4からなる感光層5が積層され、更にその上に
保護層6が形成された構造を持つ。
【0014】支持体2としては、透明性の高いフィルム
形状の物が好ましく、材質的には、ポリプロピレン、ポ
リエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、アイオ
ノマー、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリメチルペンテン、アセチルセルロース、セルロ
ースエステル、ポリビニルアセタール、フッ素樹脂、セ
ロハン等のポリマーフィルム、薄層ガラス等が挙げられ
る。
形状の物が好ましく、材質的には、ポリプロピレン、ポ
リエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、アイオ
ノマー、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリメチルペンテン、アセチルセルロース、セルロ
ースエステル、ポリビニルアセタール、フッ素樹脂、セ
ロハン等のポリマーフィルム、薄層ガラス等が挙げられ
る。
【0015】感光性物質3のとしては、ケイ皮酸残基、
シンナミリデン残基、クマリン残基、スチルベン残基等
の感光基を持つ光二量化型樹脂、ジアゾニウム塩残基、
キノンジアジド残基、アジド残基、ジチオカルバメート
残基、ベンゾイン残基等の感光基を持つ光分解型樹脂、
アクリロイル基、アリル基、ビニル基、エポキシ基、ア
クリルアミド基、不飽和ポリエステル基などを持つ光重
合型樹脂等が任意に用いられるが、好ましくは光重合型
樹脂である。形状としては液体状、ワックス状のものが
用いられる。
シンナミリデン残基、クマリン残基、スチルベン残基等
の感光基を持つ光二量化型樹脂、ジアゾニウム塩残基、
キノンジアジド残基、アジド残基、ジチオカルバメート
残基、ベンゾイン残基等の感光基を持つ光分解型樹脂、
アクリロイル基、アリル基、ビニル基、エポキシ基、ア
クリルアミド基、不飽和ポリエステル基などを持つ光重
合型樹脂等が任意に用いられるが、好ましくは光重合型
樹脂である。形状としては液体状、ワックス状のものが
用いられる。
【0016】また、感光性物質3にバインダを加えて使
用してもよい。バインダとして用いられるものとしては
ポリマーが挙げられ、好ましくはアクリル系樹脂、オレ
フィン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、石
油樹脂、ロジンなどが挙げられる。また、ワックス類を
使用することもできる。
用してもよい。バインダとして用いられるものとしては
ポリマーが挙げられ、好ましくはアクリル系樹脂、オレ
フィン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、石
油樹脂、ロジンなどが挙げられる。また、ワックス類を
使用することもできる。
【0017】また、感光性物質3を重合させる光重合開
始剤として、通常用いられている公知の化合物でよい
が、例えばベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン類、チオキサントン類、アセトフェ
ノン類を、また重合開始剤の増感波長域を広げる効果の
ある光増感助剤として例えばアントラキノン、5ーニト
ロフルオレノン等を、そして保存性を向上させるために
熱重合防止剤等の安定剤、改質剤、比較的低分子量のオ
リゴマーまたはモノマー等の希釈剤等を同時に内包させ
る場合もある。
始剤として、通常用いられている公知の化合物でよい
が、例えばベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノ
ン、ミヒラーケトン類、チオキサントン類、アセトフェ
ノン類を、また重合開始剤の増感波長域を広げる効果の
ある光増感助剤として例えばアントラキノン、5ーニト
ロフルオレノン等を、そして保存性を向上させるために
熱重合防止剤等の安定剤、改質剤、比較的低分子量のオ
リゴマーまたはモノマー等の希釈剤等を同時に内包させ
る場合もある。
【0018】発泡性物質4としては、加熱により気体を
発生する物質、露光により気体を発生する物質等が使用
可能である。
発生する物質、露光により気体を発生する物質等が使用
可能である。
【0019】加熱により気体を発生する物質としては、
ニトロソ系化合物、スルホヒドラジド系化合物、ヒドラ
ゾ化合物およびアゾ化合物を使用することができる。
ニトロソ系化合物、スルホヒドラジド系化合物、ヒドラ
ゾ化合物およびアゾ化合物を使用することができる。
【0020】ニトロソ系化合物の具体例としては、ジニ
トロソペンタメチレンテトラミン、N,N−ジメチル−
N,N−ジニトロソテレフタラミド、トリニトロソトリ
メチレントリアミンなどが挙げられる。
トロソペンタメチレンテトラミン、N,N−ジメチル−
N,N−ジニトロソテレフタラミド、トリニトロソトリ
メチレントリアミンなどが挙げられる。
【0021】スルホヒドラジド系化合物の具体例として
は、p−トルエンスルホヒドラジド、ベンゼンスルホヒ
ドラジド、p,p−オキシビス(ベンゼンスルホヒドラ
ジド)、ベンゼン−1,3−ジスルホヒドラジド、3,
3−ジスルホヒドラジドフェニルスルホン、トルエン−
2,4−ジスルホヒドラジド、p,p−チオビス(ベン
ゼンスルホヒドラジド)などが挙げられる。
は、p−トルエンスルホヒドラジド、ベンゼンスルホヒ
ドラジド、p,p−オキシビス(ベンゼンスルホヒドラ
ジド)、ベンゼン−1,3−ジスルホヒドラジド、3,
3−ジスルホヒドラジドフェニルスルホン、トルエン−
2,4−ジスルホヒドラジド、p,p−チオビス(ベン
ゼンスルホヒドラジド)などが挙げられる。
【0022】ヒドラゾ化合物の具体例としては、ヒドラ
ゾジカルボアミド、N,N−ジベンゾイルヒドラジン、
β−アセチルフェニルヒドラジン、1,1−ジフェニル
ヒドラジンなどが挙げられる。
ゾジカルボアミド、N,N−ジベンゾイルヒドラジン、
β−アセチルフェニルヒドラジン、1,1−ジフェニル
ヒドラジンなどが挙げられる。
【0023】アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイ
ソブチリロニトリル、アゾビスホルムアミド、ジアゾア
ミノベンゼン、アゾカルボン酸ジエチルエステルなどが
挙げられる。これらの化合物は、加熱により窒素ガスを
放出する。
ソブチリロニトリル、アゾビスホルムアミド、ジアゾア
ミノベンゼン、アゾカルボン酸ジエチルエステルなどが
挙げられる。これらの化合物は、加熱により窒素ガスを
放出する。
【0024】露光により気体を発生する物質としては、
ジアゾニウム化合物、アジド化合物、ジアジド化合物お
よび有機ジカルボン酸が使用できる。
ジアゾニウム化合物、アジド化合物、ジアジド化合物お
よび有機ジカルボン酸が使用できる。
【0025】ジアゾニウム化合物の具体例としては、
2,5−ジエトキシ−ベンゼンジアゾニウムクロライ
ド、p−ジメチルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロラ
イド、p−ジエチルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロ
ライド、2,5−ジクロロ−4−ベンジルアミノ−ベン
ゼンジアゾニウムクロライド、2,5−ジブトキシ−4
−モルホリノ−ベンゼンジアゾニウムクロライドおよび
4−フェニルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロライド
などが挙げられる。これらの化合物は、露光により分解
し窒素ガスを放出する。
2,5−ジエトキシ−ベンゼンジアゾニウムクロライ
ド、p−ジメチルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロラ
イド、p−ジエチルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロ
ライド、2,5−ジクロロ−4−ベンジルアミノ−ベン
ゼンジアゾニウムクロライド、2,5−ジブトキシ−4
−モルホリノ−ベンゼンジアゾニウムクロライドおよび
4−フェニルアミノ−ベンゼンジアゾニウムクロライド
などが挙げられる。これらの化合物は、露光により分解
し窒素ガスを放出する。
【0026】アジド化合物の具体例としては、4,4’
−ジアジド−スチルベン−2,2’−ジスルホン酸およ
びそのナトリウム塩、4,4’−ジアジドカルコンなら
びに2−アジド−1,4−ナフタレン−ジベンゼン−ス
ルホンアミドがある。
−ジアジド−スチルベン−2,2’−ジスルホン酸およ
びそのナトリウム塩、4,4’−ジアジドカルコンなら
びに2−アジド−1,4−ナフタレン−ジベンゼン−ス
ルホンアミドがある。
【0027】ジアジド化合物の具体例としては、2−ジ
アゾ1−ナフトール−5−スルホン酸エチルエーテルな
どがある。以上の化合物は、露光により分解し窒素ガス
を放出する。
アゾ1−ナフトール−5−スルホン酸エチルエーテルな
どがある。以上の化合物は、露光により分解し窒素ガス
を放出する。
【0028】有機ジカルボン酸の具体例としては、シュ
ウ酸第2鉄、シュウ酸第2鉄アンモニウムがあり、これ
らの化合物は、露光により分解して二酸化炭素を放出す
る。
ウ酸第2鉄、シュウ酸第2鉄アンモニウムがあり、これ
らの化合物は、露光により分解して二酸化炭素を放出す
る。
【0029】保護層6の具体例としては、ポリプロピレ
ン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、
アイオノマー、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリメチルペンテン、アセチルセルロース、
セルロースエステル、ポリビニルアセタール、フッ素樹
脂、セロハン等のポリマーフィルム、金属箔、紙、樹脂
材料によってラミネートされた紙等が挙げられる。必要
に応じて、上記の保護層の片面または両面に濡れ性の悪
い材料例えばシリコーン樹脂、フッ素樹脂等を用いた薄
層を形成してもよい。
ン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、
アイオノマー、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサル
ファイド、ポリメチルペンテン、アセチルセルロース、
セルロースエステル、ポリビニルアセタール、フッ素樹
脂、セロハン等のポリマーフィルム、金属箔、紙、樹脂
材料によってラミネートされた紙等が挙げられる。必要
に応じて、上記の保護層の片面または両面に濡れ性の悪
い材料例えばシリコーン樹脂、フッ素樹脂等を用いた薄
層を形成してもよい。
【0030】次に、上記印字体形成用シート1を用いた
浸透型印字体の形成方法について図面を参照しながら説
明する。
浸透型印字体の形成方法について図面を参照しながら説
明する。
【0031】まず図1に示すように、印字体形成用シー
ト1の保護層6を剥離する。保護層6の表面は濡れ性が
悪いので保護層6は感光層5との界面で容易に剥離でき
る。次に図2に示すように、多孔質基材7上に感光層5
が相対するように重ね合わせ加圧して固定する。感光層
5は粘着性を持っており、その粘着力で多孔質基材7に
固定されることができる。
ト1の保護層6を剥離する。保護層6の表面は濡れ性が
悪いので保護層6は感光層5との界面で容易に剥離でき
る。次に図2に示すように、多孔質基材7上に感光層5
が相対するように重ね合わせ加圧して固定する。感光層
5は粘着性を持っており、その粘着力で多孔質基材7に
固定されることができる。
【0032】多孔質基材7の具体例としては、その内に
連続した毛細管状の細孔を持ち、この細孔中にスタンプ
インクを含浸させる機能を有しており、材質的には、織
布、不織布、紙、延伸されて細孔を有している樹脂フィ
ルム、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン
などの樹脂の発泡体、エラストマーの発泡体、金属・金
属酸化物・金属窒化物・金属炭化物・熱硬化性樹脂など
の微粒子を焼き固めたさせた焼結体が使用できる。
連続した毛細管状の細孔を持ち、この細孔中にスタンプ
インクを含浸させる機能を有しており、材質的には、織
布、不織布、紙、延伸されて細孔を有している樹脂フィ
ルム、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン
などの樹脂の発泡体、エラストマーの発泡体、金属・金
属酸化物・金属窒化物・金属炭化物・熱硬化性樹脂など
の微粒子を焼き固めたさせた焼結体が使用できる。
【0033】次に図3に示すように、所定の画像が描画
された透過型の原稿8を重ね合わせランプ(図示せず)
で支持体2側から露光する。ここで、原稿の透明部分に
おいてはランプからの光が原稿を透過し、感光層5を露
光する。感光層5の露光された部分は、光硬化反応によ
り感光性物質3の硬度が上昇すると同時に発泡物質4が
ガスを放出し、図4に示すように連続的な毛細管構造を
持つ発泡体部10に形態が変化する。一方、原稿の不透
明部分では、ランプからの光が透過せず、対応する感光
層5の露光されない部分では、光硬化反応、ガス放出と
もおこらないので、感光層の形態は変化しない。
された透過型の原稿8を重ね合わせランプ(図示せず)
で支持体2側から露光する。ここで、原稿の透明部分に
おいてはランプからの光が原稿を透過し、感光層5を露
光する。感光層5の露光された部分は、光硬化反応によ
り感光性物質3の硬度が上昇すると同時に発泡物質4が
ガスを放出し、図4に示すように連続的な毛細管構造を
持つ発泡体部10に形態が変化する。一方、原稿の不透
明部分では、ランプからの光が透過せず、対応する感光
層5の露光されない部分では、光硬化反応、ガス放出と
もおこらないので、感光層の形態は変化しない。
【0034】この後、図5に示すように、支持体2を剥
離し、続いて図6に示すようにアルカリ水やアルコール
等の特定の溶媒12で感光層5の表面を洗浄する。この
工程に於て、発泡体部10では、発泡が起こると同時に
感光層5も硬化しているので、感光層5は溶媒で溶解し
ないが、露光されない部分11では感光層5が硬化して
いないので感光層5が溶媒12で溶解、除去され、その
結果図7に示すように、多孔質基材7上に毛細管構造を
持つ発泡体部10が形成された印版13が形成される。
離し、続いて図6に示すようにアルカリ水やアルコール
等の特定の溶媒12で感光層5の表面を洗浄する。この
工程に於て、発泡体部10では、発泡が起こると同時に
感光層5も硬化しているので、感光層5は溶媒で溶解し
ないが、露光されない部分11では感光層5が硬化して
いないので感光層5が溶媒12で溶解、除去され、その
結果図7に示すように、多孔質基材7上に毛細管構造を
持つ発泡体部10が形成された印版13が形成される。
【0035】上記の手順で作製された印版13を図8に
示すように印版保持体14にセットし、印版保持体14
内にインク15を導入する。インク15は印版の発泡体
部10中に形成されている連続的な毛細管構造に沿って
浸透する。この状態で、発泡体部10と被捺印物16と
を重ね合わせ加圧すると、発泡体部10に浸透したイン
クが被捺印物16に転写される。
示すように印版保持体14にセットし、印版保持体14
内にインク15を導入する。インク15は印版の発泡体
部10中に形成されている連続的な毛細管構造に沿って
浸透する。この状態で、発泡体部10と被捺印物16と
を重ね合わせ加圧すると、発泡体部10に浸透したイン
クが被捺印物16に転写される。
【0036】次に本発明を具体化した第2の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【0037】図15は、第2の実施例の浸透型印字体の
形成方法に用いられる印字体形成用シートの構造を表す
拡大断面図である。印字体形成用シート18は、支持体
19上に、感光性物質20、その中に分散された充填材
21からなる感光層22が積層され、更にその上に保護
層23が形成された構造を持つ。
形成方法に用いられる印字体形成用シートの構造を表す
拡大断面図である。印字体形成用シート18は、支持体
19上に、感光性物質20、その中に分散された充填材
21からなる感光層22が積層され、更にその上に保護
層23が形成された構造を持つ。
【0038】図16は感光層22内の微細構造を示す図
であり、充填材21は、糸状になった感光性物質20に
よってつなぎ留められ、充填材粒子間に連続的な細孔が
形成されている。
であり、充填材21は、糸状になった感光性物質20に
よってつなぎ留められ、充填材粒子間に連続的な細孔が
形成されている。
【0039】支持体19、感光性物質20、保護層23
の具体例としては、第1の実施例の発泡物質を含む印字
体形成用シートの場合と全く同様のものが使用できるた
め、その説明は省略する。
の具体例としては、第1の実施例の発泡物質を含む印字
体形成用シートの場合と全く同様のものが使用できるた
め、その説明は省略する。
【0040】充填材21としては、粒子状の無機化合
物、有機化合物が使用可能である。無機化合物の例とし
ては、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物等
が、有機化合物との例しては、アクリル系樹脂、オレフ
ィン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ス
チレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ゴムシリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、石油樹脂、
ロジン等のポリマー類、ワックス類等が使用可能であ
る。
物、有機化合物が使用可能である。無機化合物の例とし
ては、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物等
が、有機化合物との例しては、アクリル系樹脂、オレフ
ィン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ス
チレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ゴムシリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、石油樹脂、
ロジン等のポリマー類、ワックス類等が使用可能であ
る。
【0041】次に、第2の実施例の印字体形成用シート
18を用いた浸透型印字体の形成方法について図を参照
しながら説明する。
18を用いた浸透型印字体の形成方法について図を参照
しながら説明する。
【0042】多孔質基材上に感光層、支持体を固定する
手順は、上記第1の実施例と全く同様であるため、その
説明を省略する。
手順は、上記第1の実施例と全く同様であるため、その
説明を省略する。
【0043】次に図10に示すように、透過型の原稿2
4を重ね合わせランプ(図示せず)で支持体19側から
露光する。ここで、原稿の透明部分においてはランプか
らの光が原稿を透過し、感光層22を露光する。感光層
22の露光された部分は、光硬化反応により感光性物質
20の硬度が上昇し、充填材21をつなぎ留める力が増
大すると同時に、アルカリ水、アルコール等の特定の溶
剤に溶解し難くなる。一方、原稿の不透明部分では、ラ
ンプからの光が透過せず、対応する感光層22の露光さ
れない部分では、光硬化反応がおこらないので、充填材
21をつなぎ留める力は増大せず、アルカリ水、アルコ
ール等の特定の溶剤に対する溶解度にも変化はない。
4を重ね合わせランプ(図示せず)で支持体19側から
露光する。ここで、原稿の透明部分においてはランプか
らの光が原稿を透過し、感光層22を露光する。感光層
22の露光された部分は、光硬化反応により感光性物質
20の硬度が上昇し、充填材21をつなぎ留める力が増
大すると同時に、アルカリ水、アルコール等の特定の溶
剤に溶解し難くなる。一方、原稿の不透明部分では、ラ
ンプからの光が透過せず、対応する感光層22の露光さ
れない部分では、光硬化反応がおこらないので、充填材
21をつなぎ留める力は増大せず、アルカリ水、アルコ
ール等の特定の溶剤に対する溶解度にも変化はない。
【0044】この後、図11に示すように、支持体19
を剥離し、続いて図12に示すようにアルカリ水やアル
コール等の特定の溶媒27で感光層22の表面を洗浄す
る。この工程に於て、露光された部分では、感光層22
が硬化しているので、感光層22は溶媒27で溶解しな
いが、露光されない部分では感光層22が硬化していな
いので感光層22が溶媒27で溶解、除去され、その結
果図13に示すように、多孔質基材7上に毛細管構造を
持つ凸部28が形成された印版29が形成される。
を剥離し、続いて図12に示すようにアルカリ水やアル
コール等の特定の溶媒27で感光層22の表面を洗浄す
る。この工程に於て、露光された部分では、感光層22
が硬化しているので、感光層22は溶媒27で溶解しな
いが、露光されない部分では感光層22が硬化していな
いので感光層22が溶媒27で溶解、除去され、その結
果図13に示すように、多孔質基材7上に毛細管構造を
持つ凸部28が形成された印版29が形成される。
【0045】上記の手順で作製された印版29を図14
に示すように印版保持体30にセットし、印版保持体3
0中にインク31を導入する。インク31は印版29の
凸部28中に形成されている連続的な毛細管構造に沿っ
て浸透する。この状態で、凸部28と被捺印物32とを
重ね合わせ加圧すると、凸部28に浸透したインクが被
捺印物32に転写される。
に示すように印版保持体30にセットし、印版保持体3
0中にインク31を導入する。インク31は印版29の
凸部28中に形成されている連続的な毛細管構造に沿っ
て浸透する。この状態で、凸部28と被捺印物32とを
重ね合わせ加圧すると、凸部28に浸透したインクが被
捺印物32に転写される。
【0046】以上、説明したことから明かなように、上
記第1及び第2の実施例の浸透型印字体の形成方法を用
いることにより、従来の製法に比べて非常に少ない工程
で、且つ型を使用せずに、多孔質印版を形成することが
可能となり、多品種少量生産に対応することができる。
記第1及び第2の実施例の浸透型印字体の形成方法を用
いることにより、従来の製法に比べて非常に少ない工程
で、且つ型を使用せずに、多孔質印版を形成することが
可能となり、多品種少量生産に対応することができる。
【0047】尚、本発明の内容は、その趣旨を逸脱しな
い限りに於て変更が可能であることは言うまでもなく、
例えば、上記光硬化型の感光性物質に替えて、露光され
た部分の溶解度が増大する光軟化型の感光性物質を使用
することも可能であり、また上記洗浄工程を省いて印版
を形成することも可能である。
い限りに於て変更が可能であることは言うまでもなく、
例えば、上記光硬化型の感光性物質に替えて、露光され
た部分の溶解度が増大する光軟化型の感光性物質を使用
することも可能であり、また上記洗浄工程を省いて印版
を形成することも可能である。
【0048】また、印字体形成用シートを用いて多孔質
基材上に感光層を固定する工程を用いずに、予め多孔質
基材上に感光層が設けられたものを使用して印版を形成
することも可能である。
基材上に感光層を固定する工程を用いずに、予め多孔質
基材上に感光層が設けられたものを使用して印版を形成
することも可能である。
【0049】
【発明の効果】以上、説明したことから明かなように、
本発明の請求項1に記載の浸透型印字体の形成方法によ
れば、発泡剤を含む感光性物質が塗布された透明シート
が多孔質基材上に感光性物質が接するように加圧して載
置され、所定の画像が描画された原稿が透明シート上に
載置された後、光が透明シートの反対側から原稿に向か
って照射されると、照射された感光性物質は硬化する。
そして、原稿及び透明シートを多孔質基材から剥離し、
感光性物質を溶媒で洗浄すると、硬化していない感光性
物質が洗浄され、硬化した感光性物質のみが加圧して載
置された効果も含めて多孔質基材上にアンカー効果によ
って強固に接着されて残るので、従来の浸透型印字体と
同様の強度を有する浸透型印字体を形成することができ
る。また、特定の型を使用せずに安価で簡単な工程で浸
透型印字体を形成できるので、多品種少量生産に適した
浸透型印字体を形成することができる。
本発明の請求項1に記載の浸透型印字体の形成方法によ
れば、発泡剤を含む感光性物質が塗布された透明シート
が多孔質基材上に感光性物質が接するように加圧して載
置され、所定の画像が描画された原稿が透明シート上に
載置された後、光が透明シートの反対側から原稿に向か
って照射されると、照射された感光性物質は硬化する。
そして、原稿及び透明シートを多孔質基材から剥離し、
感光性物質を溶媒で洗浄すると、硬化していない感光性
物質が洗浄され、硬化した感光性物質のみが加圧して載
置された効果も含めて多孔質基材上にアンカー効果によ
って強固に接着されて残るので、従来の浸透型印字体と
同様の強度を有する浸透型印字体を形成することができ
る。また、特定の型を使用せずに安価で簡単な工程で浸
透型印字体を形成できるので、多品種少量生産に適した
浸透型印字体を形成することができる。
【0050】
【図1】印字体形成用シートから保護層を剥離する工程
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図2】保護層を剥離した印字体形成用シートを多孔質
基材に固定する工程を示す説明図である。
基材に固定する工程を示す説明図である。
【図3】多孔質基材に固定した印字体形成用シートに露
光する工程を示す説明図である。
光する工程を示す説明図である。
【図4】露光後の感光層の状態を示す説明図である。
【図5】支持体を剥離する工程を示す説明図である。
【図6】感光層を溶媒で洗浄する工程を示す説明図であ
る。
る。
【図7】印版の表面状態を示す説明図である。
【図8】印版を印版保持体にセットし、捺印した状態を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図9】印字体形成用シートの構造を示す拡大断面図で
ある。
ある。
【図10】多孔質基材に固定した印字体形成用シートに
露光する工程を示す説明図である。
露光する工程を示す説明図である。
【図11】支持体を剥離する工程を示す説明図である。
【図12】感光層を溶媒で洗浄する工程を示す説明図で
ある。
ある。
【図13】印版の断面構造を示す説明図である。
【図14】印版を印版保持体にセットし、捺印した状態
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図15】印字体形成用シートの構造を示す拡大断面図
である。
である。
【図16】感光層内の微細構造を示す説明図である。
3 感光性物質 5 感光層 7 多孔質基材 20 感光性物質 22 感光層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41K 1/50 G03F 7/00 502
Claims (1)
- 【請求項1】 発泡剤を含む感光性物質が塗布された透
明シートを前記感光性物質が接するように多孔質基材上
に加圧して載置し、 所定の画像が描画された原稿を前記透明シート上に載置
し、 前記原稿に向かって前記透明シートの反対側から光を照
射し、 前記原稿及び前記透明シートを前記多孔質基材から剥離
し、 前記感光性物質を溶媒で洗浄して形成されることを特徴
とする浸透型印字体の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34863192A JP3339710B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 浸透型印字体の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34863192A JP3339710B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 浸透型印字体の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06198832A JPH06198832A (ja) | 1994-07-19 |
JP3339710B2 true JP3339710B2 (ja) | 2002-10-28 |
Family
ID=18398298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34863192A Expired - Fee Related JP3339710B2 (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 浸透型印字体の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3339710B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4712999B2 (ja) * | 2001-03-28 | 2011-06-29 | 幾三 松下 | 浸透印版の製造方法および製造装置 |
CN100354143C (zh) * | 2005-04-05 | 2007-12-12 | 张志华 | 适用于印章的光敏垫及其制备方法 |
JP5643416B1 (ja) * | 2013-12-24 | 2014-12-17 | 互応化学工業株式会社 | 被覆配線板の製造方法 |
JP5643417B1 (ja) * | 2013-12-24 | 2014-12-17 | 互応化学工業株式会社 | 白色ソルダーレジスト層の製造方法、白色ソルダーレジスト層、及び白色ソルダーレジスト層の製造に用いられる白色ソルダーレジスト組成物 |
EP3237971B1 (en) | 2014-12-22 | 2021-11-17 | Koninklijke Philips N.V. | Patterned stamp manufacturing method, patterned stamp and imprinting method |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP34863192A patent/JP3339710B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06198832A (ja) | 1994-07-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |