JPH06195672A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電磁変換特性に優れ、走行耐久性、スチル寿
命等の信頼性にも優れている金属蒸着型磁気記録媒体を
提供する。 【構成】 平坦な基板上に微小突起を設け、その上に磁
気記録層４を蒸着した磁気記録媒体において、微小突起
を、平均粒子径が３０Ａ〜３５０Ａの無機粒子２と、平
均粒子径がこの無機粒子より小さく、粒子個数が無機粒
子より多い粒状の有機化合物３とによって形成する。無
機粒子２と有機化合物３とが共働してスペーシングに寄
与するのでロスファクターが少なく、電磁変換特性の低
下が少ない。走行耐久性やスチル寿命は、有機化合物の
存在によって良好に維持される。粒状有機化合物は、有
機化合物を溶媒で溶解したエマルジョンを基板に薄く塗
布し、乾燥して溶媒を蒸発させて形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、映像機器や情報機器の
分野等で使用される金属薄膜型磁気記録媒体およびその
製造方法に関し、特に、電磁変換特性および走行耐久性
の両面において優れている製品を作り出している。

【０００２】

【従来の技術】近年の磁気記録媒体の技術的発展は目覚
ましく、磁気記録密度の大幅な向上が図られている。

【０００３】従来のオ−デイオ、ビデオ用テ−プとして
用いられる磁気記録媒体は、酸化鉄粉末、酸化クロム粉
末、純鉄粉末等を研磨剤、樹脂等のバインダ−と共に高
分子フイルム上に塗布した、塗布型の磁気記録媒体が主
力であった。

【０００４】しかし、現在、塗布型テ−プより保持力、
記録密度、電磁変換特性が優れているテープとして、真
空蒸着法、イオン・プレイティイング、スパッタリング
法等でＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｒ等の磁性金属を単独また
は合金の形態で高分子フイルム上に蒸着する金属薄膜型
磁気記録媒体の検討が進められ、斜方蒸着法よるオ−デ
ィオ用、ビデオ用金属薄膜型磁気記録媒体が既に実用化
されている。また、コンピュ−タのメモリ−として用い
られるハ−ドディスク用磁気記録媒体では、アルミニュ
ウム、ガラス基板上にスッパタ−法によりコバルト系酸
化物を蒸着することが行われている。

【０００５】この種の金属薄膜型磁気記録媒体では、記
録密度の一層の向上および高画質化の追求と併せて、金
属薄膜型磁気記録媒体の弱点である走行耐久性等の信頼
性の改善が大きな課題となっている。

【０００６】この走行耐久性には、磁気記録層表面の平
滑度が影響しており、金属薄膜型磁気記録媒体の金属薄
膜のように、平滑度が極めて高い場合には、磁気ヘッド
と媒体とが凝着して、走行時の媒体の摩耗を引き起こ
し、走行耐久性が悪化する。

【０００７】こうした事態を防ぐため、従来の金属薄膜
型磁気記録媒体では、高分子フィルム上に無機物質の微
粒子を配置し、その上から金属薄膜を蒸着することによ
り、薄膜表面に適度の凹凸を設け、薄膜表面と磁気ヘッ
ドとの間の隙間を確保するスペーシングが行なわれてい
る。

【０００８】図５には、スペーシングのために、金属薄
膜型磁気記録媒体に使用する高分子フイルムの表面に、
平均粒子径２００Ａの粒子を付与した状態を拡大して示
している。

【０００９】この高分子フイルム上には、図６に示す真
空蒸着装置により、磁気記録層が蒸着される。この装置
は、高分子フイルム５を送り出す送り軸６と、巻き取る
巻取り軸８と、高分子フィルム５を沿わせて回転するク
−リング・キャン７と、磁性金属10を溜めるセラミック
るつぼ９と、磁性金属を溶解し蒸発させる電子銃11と、
磁性金属蒸気流の基板への入射角を規制するマスク12
と、金属蒸気流の不要箇所への回り込みを遮断する遮蔽
板13とを備えており、高分子フイルム５を送り軸６から
送り出し、ク−リング・キャン７を経て巻取り軸８で巻
取る間に、ク−リング・キャン７の下方から、セラミッ
クるつぼ９内の磁性金属10を電子銃11で溶解し蒸発させ
て、高分子フイルム５上に磁気記録層を形成する。この
時、蒸着に不要な金属蒸気流は、マスク12、遮蔽板13で
マスキングされる。通常の蒸着テ−プ（ＭＥ）では、フ
ィルムに対する蒸着の角度が４０度から９０度位となる
ように、金属蒸気流が規制される。

【００１０】金属薄膜磁気記録媒体の製造では、このよ
うに、真空蒸着装置内で磁性金属を高分子フィルム上に
連続的に蒸着する方法が最も現実的であり、量産性の面
で他の方法を凌いでいる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】金属蒸着型磁気記録媒
体では、ビデオ・テ−プにおいて小型化、高画質化が要
望され、また、情報機器において高記録密度化が求めら
れており、それらに応えるため磁気特性、電磁変換特性
の向上が必要である。また、同時に、走行耐久性、スチ
ル寿命等の信頼性の一層の改善が重要課題となってい
る。

【００１２】しかし、従来の金属蒸着型磁気記録媒体で
は、走行耐久性改善のためにスペーシングの措置を講ず
ると、スペーシングによるロス・ファクターによって電
磁変換特性が悪化し、一方、電磁変換特性を上げるため
にスペーシングによるロス・ファクターを小さくしよう
とすると、耐久走行性能が低下し、スチル寿命が短くな
るという問題点があった。

【００１３】本発明は、こうした従来の問題点を解決す
るものであり、電磁変換特性に優れ、また、走行耐久
性、スチル寿命等の信頼性にも優れている金属蒸着型磁
気記録媒体およびその製造方法を提供することを目的と
している。

【００１４】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明では、平
坦な基板上に微小突起を設け、その上に磁気記録層を蒸
着した磁気記録媒体において、微小突起を、平均粒子径
が３０Ａ以上３５０Ａ以下の無機物質粒子と、平均粒子
径がこの無機物質粒子より小さく、粒子個数がこの無機
物質粒子より多い粒状の有機化合物とによって形成して
いる。

【００１５】また、前記微小突起を、表面に導電層を形
成した基板上に設けている。

【００１６】また、磁気記録層を、非磁性層と、その上
に積層された磁性層とで構成している。

【００１７】また、平坦な基板上に微小突起を形成し、
その上から磁気記録層を蒸着する磁気記録媒体の製造方
法において、前記微小突起を形成するために、基板上
に、平均粒子径が３０Ａ以上３５０Ａ以下の無機物質粒
子と、有機化合物のエマルジョンとを混合した混合液
を、前記エマルジョンの塗布厚が１００Ａ以下となるよ
うに塗布し、乾燥させている。

【００１８】また、前記基板の帯電量を変えることによ
り、微小突起の分布状態を調整している。

【００１９】さらに、磁気記録層を蒸着した後、蒸着温
度より高温で加熱処理している。

【００２０】

【作用】本発明の磁気記録媒体では、無機物質粒子と、
無機物質粒子よりも形状の小さい粒状の有機化合物と
が、共働してスペーシングに寄与しているため、スペー
シングによるロスファクターが少なく、電磁変換特性の
低下が少ない。一方、走行耐久性やスチル寿命は、数多
い粒状の有機化合物の存在によって良好に維持される。

【００２１】基板上の無機物質粒子および粒状有機化合
物の分散状態は、基板の帯電量を変えることによって調
整することができる。基板上に導電層を形成した場合に
は、それらの粒子の分散性が高まり、スペーシングによ
るロスファクターを一層下げることができる。

【００２２】粒状の有機化合物は、有機化合物を有機溶
媒で溶解して成るエマルジョンを基板上に薄く塗布し、
乾燥して有機溶媒を蒸発させることにより形成すること
ができる。

【００２３】また、磁気記録層を蒸着した後、蒸着温度
より高い温度で熱処理することにより、電磁変換特性を
落とさずに、磁気記録層の走行耐久性およびスチル寿命
を高めることができる。

【００２４】

【実施例】

（第１実施例）第１実施例では、帯電除去を充分に行な
った高分子フィルムを基板に使用して金属蒸着型磁気記
録媒体を作成している。

【００２５】先ず、基板を次のように作成した。汚れ除
去と帯電除去とを充分に行なった厚さ１０μｍの平坦な
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フイルムの磁性
金属を蒸着する側の表面に、平均粒子径５０Ａの球形の
酸化珪素と、ポリエチレンを有機溶媒のアルコールで溶
解したエマルジョンとの混合液を、エマルジョンの塗布
厚が７０Ａとなるように調整して、塗布し乾燥した。

【００２６】この乾燥によって有機溶媒が蒸発し、フィ
ルム表面には、酸化珪素粒子と、この酸化珪素粒子より
形状が小さい粒状のポリエチレンとが付着して残った。
このフィルム表面の状態を拡大して図１（ａ）に示して
いる。フィルム表面には、酸化珪素粒子２が平方μｍ当
り３０個、粒状のポリエチレン３がその５倍の数付着し
ている。

【００２７】こうして作成したフィルム基板の上に、図
２に示す真空蒸着装置を用いて磁性金属薄膜を形成し
た。この真空蒸着装置は、磁性金属薄膜に含ませるため
の酸素を導入する酸素ガス・ノズル14と、蒸着した膜を
加熱処理するための加熱ローラ16および酸素ガス室15と
を備えている。その他の点は、従来の装置（図６）と変
わりが無い。

【００２８】酸化珪素粒子および粒状ポリエチレンの付
着したＰＥＴフィルム５は、送り軸６にセットし、巻取
り軸８で巻取る。この間にフィルム上に磁性膜を蒸着す
る。セラミックるつぼ９には、磁性金属材料のコバルト
を入れ、これを電子ビ−ム11で溶解して蒸発させる。コ
バルト金属蒸気は、ノズル14から導入された酸素ガスの
雰囲気中を通って基板５に到達し、この反応性蒸着によ
り、基板上には酸素原子を含むコバルト磁性膜（Ｃｏ−
Ｏ磁性膜）が形成される。このときの蒸発原子の入射角
（基板５の法線方向と蒸発原子の入射方向とのなす角）
は、高入射角９０度から低入射角４０度までの斜法蒸着
となるように、マスク12により蒸着区域が制限されてい
る。遮蔽板13は、金属蒸気流の不必要な部分への回り込
みを防ぐ働きをしている。

【００２９】磁性層が蒸着された基板５に対して、酸化
状態を安定化するために、酸素ガス室15を通る過程で酸
素雰囲気中での加熱ローラ16による熱処理が行なわれ
る。

【００３０】こうして得られた磁気テープの断面図を図
１（ｂ）に示している。磁性膜表面には、基板１上の無
機粒子２および粒状有機化合物３に応じた凹凸が形成さ
れている。磁性層４の厚さは、２０００Ａに設定し、ま
た、磁性層形成時の電子ビーム蒸発源からの平均膜堆積
速度を３０００ｎｍ／秒、回転ドラム５の温度設定を−
２０度、加熱ローラ16の温度を１２０度に設定した。

【００３１】なお、Ｃｏ−Ｏ磁性膜の蒸着に先立って、
前記真空蒸着装置により、ＣｏＯから成る非磁性層を第
１層として形成し、その上に前記Ｃｏ−Ｏ磁性膜を形成
することもできる。このＣｏＯ非磁性層を形成するとき
は、バブル14からの酸素ガスの導入量を必要理論上の２
倍に設定する。その他の手順は、磁性膜の形成の場合と
変わりが無い。

【００３２】こうして得られた磁気記憶媒体の走行耐久
性、スチル寿命および電磁変換特性を、従来例の特性と
比較して、図４の表に示している。後に詳しく説明する
ように、第１実施例において得られた磁気記憶媒体は、
従来例に比べて電磁変換特性、走行耐久性およびスチル
寿命のいずれの面においても勝っている。

【００３３】（第２実施例）第２実施例では、表面の帯
電除去を行なわない高分子フィルムを基板に使用して金
属蒸着型磁気記録媒体を作成した。

【００３４】基板を形成するため、帯電除去を行わない
厚さ７μｍの平坦なポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）フイルムの磁性金属を蒸着する側の表面に、平均粒
子径３０Ａの酸化チタンと、ポリアミドを有機溶媒のア
ルコールで溶解したエマルジョンとの混合液を、エマル
ジョンの塗布厚が５０Ａとなるように調整して、塗布し
乾燥した。

【００３５】この乾燥によって有機溶媒が蒸発し、フィ
ルム表面には、酸化チタン粒子と、この酸化チタン粒子
より形状の小さい粒状ポリアミドとが付着して残った。
これらの粒子は、基板の帯電の影響で凝集しており、そ
の数は、フィルム表面の１平方μｍ当り酸化チタンの凝
集物が１０個、粒状有機化合物がその３倍の個数であっ
た。

【００３６】次に、この基板の上に図３の真空蒸着装置
を用いて、ＣｏＯから成る第１層の非磁性膜と、Ｃｏ−
Ｎｉの酸化膜から成る第２層の磁性膜とを形成した。第
１層の非磁性ＣｏＯ層は、ノズル14から過剰の酸素ガス
を導入した状態でＣｏ金属蒸気をフイルム上に斜方蒸着
し、また、第２層の磁性層は、るつぼ９にコバルトとニ
ッケルとを溶解すると共に、ノズル14から導入する酸化
ガスの量を制御しながら、第１層の上にＣｏ−Ｎｉの酸
化膜を斜法蒸着した。

【００３７】斜法蒸着における蒸着入射角は、第１層、
第２層共、高入射角７０度、低入射角２０度に設定し
た。また、磁性層の厚さは、第１層が５００Ａ、第２層
が１５００Ａ、全膜厚２０００Ａに設定し、磁性層形成
時の電子ビーム蒸発源からの平均膜堆積速度を３０００
ｎｍ／秒、蒸着時の回転ドラム７の温度８０度、加熱ロ
−ラ16の温度を１４０度に設定した。

【００３８】こうして得られた磁気記憶媒体の断面形状
は、図１（ｂ）と同様である。また、その走行耐久性、
スチル寿命および電磁変換特性については、従来例の特
性と比較した結果を図４の表に示している。後に詳しく
説明するように、第２実施例で得られた磁気記憶媒体
は、従来例に比べて電磁変換特性、走行耐久性およびス
チル寿命のいずれの面においても勝っており、特に、走
行耐久性、スチル寿命の向上が著しい。

【００３９】（実施例３）第３実施例では、基板に付着
する粒子の分散性を高めるため、表面に導電金属層を形
成した高分子フィルムを基板に使用して金属蒸着型磁気
記録媒体を作成している。

【００４０】厚さ１０μｍの平坦なポリイミド（ＰＩ）
フィルムの表面にアルミニュウムを２００Ａの厚さに蒸
着し、その表面の磁性金属を蒸着する側の面に、平均粒
子径４０Ａの球形の酸化珪素と、ポリエチレンを有機溶
媒のアルコールで溶解したエマルジョンとの混合液を、
エマルジョンの塗布厚が７０Ａとなるように調整して、
塗布し乾燥した。この乾燥によって有機溶媒が蒸発し、
高分子フイルム上には、酸化珪素が平方μｍ当り４０
個、酸化珪素粒子より形状の小さい粒状ポリエチレンが
その５倍の数付着した。

【００４１】次いで、図３に示す真空蒸着装置を用い
て、前記高分子フイルム上にＣｏ−Ｃｒ磁性金属を蒸着
した。

【００４２】この真空蒸着装置は、蒸着入射角が入り側
入射角０度、出側入射角−２０度となるようにマスク12
によって設定されている。また、るつぼ９では、所定比
率のコバルトとクロムとを溶解し、蒸発させる。蒸着金
属膜中には酸素原子を含ませないため、酸素ガス・ノズ
ルは必要としない。それに伴い、加熱ローラ16による熱
処理も、真空中で行われる。

【００４３】この装置を用いて、磁性層を厚さ２０００
Ａに形成した。磁性層形成時の、電子ビーム蒸発源から
の平均膜堆積速度を３０００ｎｍ／秒、蒸着時の回転ド
ラム７の温度を２５０度、加熱ローラ16の温度を２８０
度に設定した。

【００４４】こうして得られた磁気記憶媒体の断面形状
は、図１（ｂ）に示す形状と同様である。また、その走
行耐久性、スチル寿命および電磁変換特性については、
従来例の特性と比較した結果を図４の表に示している。
後述するように、第３実施例の磁気記憶媒体は、それら
の各特性において従来例より優れ、特に、電磁変換特性
の向上が著しい。

【００４５】以上の第１、第２および第３実施例で形成
した金属薄膜型磁気記録媒体の電磁変換特性、耐久走行
性およびスチル寿命の３種類の特性について、図４の表
に纏めている。各特性は、各実施例において形成された
金属薄膜型磁気記録媒体を８ｍｍテ−プに調製して調べ
ている。電磁変換特性については、８ｍｍテ−プを特性
評価装置に改造した市販の８ｍｍビデオデッキに装着
し、記録周波数７ＭＨＺ近傍の出力のＣ／Ｎ（単一周波
数の信号対ノイズの比）を測定した値によって評価して
いる。なお、テープへの記録再生にはメタルヘッドを使
用した。図４の表では、従来例に対する相対出力として
比較している。

【００４６】また、走行耐久性は、前記ビデオデッキに
装着した８ｍｍテ−プを５００パス繰り返し走行させた
後、テープ表面のダメイジを光学顕微鏡で観察して評価
しており、図４の表では、従来例に比べてダメイジ数が
少ない場合に丸、極めて少ない場合に二重丸で表示して
いる。

【００４７】また、スチル寿命は、４０度の高温、１０
％の低湿度の特殊環境下でテープに４０ｇｒの荷重を加
えたときの寿命を測定して評価しており、図４の表で
は、従来例に比べて寿命が長い場合に丸、極めて長い場
合に二重丸で表示している。

【００４８】本発明の各実施例によって形成された磁気
記録媒体の電磁変換特性は、従来例と比較して記録波長
全域に渡って優れており、特に短波長領域においてはＣ
／Ｎ値が３ｄＢ以上改善されている。また、走行耐久性
およびスチル寿命の評価結果も、本発明の実施例の方が
従来例より優れている。

【００４９】本発明の磁気記録媒体が従来例と比較して
電磁変換特性において優れている理由は、本発明の磁気
記録媒体では、スペーシングのために基板に付与してい
る突起の形状が従来例に比べて低く、したがって、スペ
ーシングによるロスファクターが少ないためである。

【００５０】従来の媒体では、スペ−シングによるロス
ファクターを小さくすると電磁変換特性は改善できる
が、走行耐久性、スチル寿命の悪化する傾向がある。本
発明の磁気記録媒体では、高分子フイルム表面に無機粒
子と共に、それより形状の小さな粒状有機化合物が無機
粒子より数多く付着しているため、この粒状の有機化合
物の働きによって、走行耐久性およびスチル寿命の低下
を免れている。

【００５１】また、フイルム表面に無機粒子と有機化合
物のエマルジョンとを塗布する場合に、第３実施例のよ
うに、予め基板上にアルミニュウム等の導電性金属を蒸
着しておけば、基板に付着する粒子の分散度が大幅に改
善され、突起が均一化され、電磁変換特性の優れたエン
ベロップの良い磁気記録媒体を得ることができる。

【００５２】逆に、第２実施例に見られるように、基板
表面をチャージアップした帯電状態にして無機粒子と有
機化合物のエマルジョンとを塗布すると、基板に付着す
る無機粒子の凝集が見られ、帯電量によって凝集状態を
調整することができる。特に本発明の様に無機粒子の形
状が小さな場合には効果があり、凝集により若干ロスフ
ァクターが大きくなるが、走行耐久性、スチル寿命は改
善できる。

【００５３】基板に付着する無機粒子の大きさは、電磁
変換特性と耐久性とのバランスから３５０Ａ以下３０Ａ
以上が良く、２００Ａから３０Ａの範囲が最適である。
有機化合物のエマルジョンの塗布厚は、１００Ａ以下、
最適には２０Ａから８０Ａの範囲が良い。

【００５４】また、磁気記録媒体の製造に当たって、磁
性金属蒸着後、酸化膜については酸素ガス、金属膜につ
いては、真空中、あるいは不活性ガス中で加熱処理する
ことにより、電磁変換特性の劣化を伴なうことなく走行
耐久性、スチル寿命を高めることができる。

【００５５】これは、コバルト酸化膜の加熱処理を蒸着
直後に行なうことで、コバルト酸化物が高次の酸化物に
なり、かつ酸化状態が安定化するためであり、また、Ｃ
ｏ−Ｃｒ等金属膜については、蒸着に引き続いて行われ
る加熱処理により柱造構造のコラムが成長するためであ
る。この柱状構造の成長は、ＴＥＭによる観察でもはっ
きりと見て取れる。加熱条件は、いずれの場合も蒸着時
の回転ドラム７の設定温度より加熱ローラ16の温度の方
を高く設定する必要がある。

【００５６】なお、本発明では、無機粒子として、酸化
珪素、酸化チタンの他に、アルミナ、ジルコニヤ、或
は、Ｃｏ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｒの単独或は複合酸化物、そ
れらの混合物等を使用することができる。また、有機化
合物としては、ポリエチレン、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリウレ
タン等が使用でき、この有機化合物のエマルジョンを形
成する有機溶剤としては、アルコール、ベンゼン等の一
般有機溶剤が使用できる。

【００５７】また、強磁性材料としては、Ｃｏ−Ｃｒ以
外にＣｏ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｃｒ，の混合物または合金を使
用することができる。基板となる高分子フイルムは、実
施例において示したポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、ポリイミド以外に、アラミド等
の他のフイルムも使用できる。

【００５８】その他、磁性層蒸着時の入射角、蒸着温
度、蒸着膜厚、酸素ガス導入などについては、実施例に
記載した製造法だけに限定されるものではなく、他の方
法を採ることも可能である。また、無機粒子と有機化合
物とを付着させた高分子フィルムは、磁気記録媒体の基
板としてだけで無く、液晶配向膜、そのほかの各種機能
性薄膜にも応用することができる。

【００５９】

【発明の効果】以上の実施例の説明から明らかなよう
に、本発明によって得られた磁気記録媒は、電磁変換特
性に優れると共に、走行耐久性、スチル寿命等の信頼性
の面でも優れている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体における基板表面の拡大
図（ａ）と磁気記録媒体の断面図（ｂ）、

【図２】本発明の第１、第２実施例における磁気記録媒
体を製造する装置を示す図、

【図３】本発明の第３実施例における磁気記録媒体を製
造する装置を示す図、

【図４】本発明の実施例において製造した磁気記録媒体
の特性を示す図、

【図５】従来の磁気記録媒体における基板表面の拡大
図、

【図６】従来の磁気記録媒体を製造する装置を示す図で
ある。

【符号の説明】

１ 高分子フイルム ２ 無機粒子 ３ 有機化合物 ４ 磁性金属薄膜 ５ 高分子フイルム ６ 送り軸 ７ 回転キャン ８ 巻き取り軸 ９ るつぼ 10 磁性金属 11 電子銃 12 マスク 13 遮蔽板 14 酸素ガスノズル 15 ガス室 16 加熱ローラ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平坦な基板上に微小突起を設け、その上
   に磁気記録層を蒸着した磁気記録媒体において、 前記微小突起を、平均粒子径が３０Ａ以上３５０Ａ以下
   の無機物質粒子と、平均粒子径が前記無機物質粒子より
   小さく、粒子個数が前記無機物質粒子より多い粒状の有
   機化合物とによって形成したことを特徴とする磁気記録
   媒体。
2. 【請求項２】 前記微小突起を、表面に導電層を形成し
   た基板上に設けたことを特徴とする請求項１に記載の磁
   気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記磁気記録層を、非磁性層とその上に
   積層された磁性層とで構成したことを特徴とする請求項
   １または２に記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 平坦な基板上に微小突起を形成し、その
   上から磁気記録層を蒸着する磁気記録媒体の製造方法に
   おいて、 前記微小突起を形成するために、前記基板上に、平均粒
   子径が３０Ａ以上３５０Ａ以下の無機物質粒子と、有機
   化合物のエマルジョンとを混合した混合液を、前記エマ
   ルジョンの塗布厚が１００Ａ以下となるように塗布し、
   乾燥させることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】 前記基板の帯電量を変えることにより、
   前記微小突起の分布状態を調整することを特徴とする請
   求項４に記載の磁気記録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】 前記磁気記録層を蒸着した後、蒸着温度
   より高温で加熱処理することを特徴とする請求項４また
   は５に記載の磁気記録媒体の製造方法。