JPH0469811A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPH0469811A JPH0469811A JP18230390A JP18230390A JPH0469811A JP H0469811 A JPH0469811 A JP H0469811A JP 18230390 A JP18230390 A JP 18230390A JP 18230390 A JP18230390 A JP 18230390A JP H0469811 A JPH0469811 A JP H0469811A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする金属薄膜型
の磁気記録媒体に関する。
の磁気記録媒体に関する。
(ロ)従来の技術
鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性金属材料或いはそれ
らを主成分とする合金を真空蒸着、スパッタリング、イ
オンブレーティング等の成膜法でポリエステルフィルム
、ポリイミドフィルム等の高分子フィルムや非磁性金属
薄板等よりなる非磁性基体上に形成した金属薄膜型の磁
気記録媒体は、磁性粉を甜脂バインダー中に分散し非磁
性基体上にコーティングして形成する塗布型の磁気記録
媒体と比較して時速密度が大きく短波長記録に適してい
ることが知られている。このため、上記金属薄膜型の磁
気記録媒体は、小型VTR(ビデオテープレコーダ)、
高画質VTR、デジタルVTR等の高密度記録が要求さ
れる磁気記録分野で実用化が検討されている。
らを主成分とする合金を真空蒸着、スパッタリング、イ
オンブレーティング等の成膜法でポリエステルフィルム
、ポリイミドフィルム等の高分子フィルムや非磁性金属
薄板等よりなる非磁性基体上に形成した金属薄膜型の磁
気記録媒体は、磁性粉を甜脂バインダー中に分散し非磁
性基体上にコーティングして形成する塗布型の磁気記録
媒体と比較して時速密度が大きく短波長記録に適してい
ることが知られている。このため、上記金属薄膜型の磁
気記録媒体は、小型VTR(ビデオテープレコーダ)、
高画質VTR、デジタルVTR等の高密度記録が要求さ
れる磁気記録分野で実用化が検討されている。
一方、記録密度を高くするためには、磁気ヘッドのギャ
ップを小さくすると同時に磁気記録媒体の表面を平滑化
してスペーシングクロスを極力減少させる必要がある。
ップを小さくすると同時に磁気記録媒体の表面を平滑化
してスペーシングクロスを極力減少させる必要がある。
しかし乍ら、磁気記録媒体の表面を平滑化しすぎると却
って磁気ヘッドとの走行性が悪化するという問題が生じ
る。
って磁気ヘッドとの走行性が悪化するという問題が生じ
る。
上述の問題を解決する方法としては、例えば特開昭63
−34718号公報(G11B5/66)等に示されて
いるように高分子フィルム基板の表面に凹部形状を形成
し、その表面に微粒子を分散塗布して下地層を形成する
ことにより磁性層の表面に微細突起を形成する方法があ
る。
−34718号公報(G11B5/66)等に示されて
いるように高分子フィルム基板の表面に凹部形状を形成
し、その表面に微粒子を分散塗布して下地層を形成する
ことにより磁性層の表面に微細突起を形成する方法があ
る。
しかし乍ら この方法においても蒸着テープ等のよう
な磁性層が極めて薄い磁気媒体では、下地層の表面粗さ
が直接磁性層表面に現われ、磁性層の表面粗さを適量に
制御するのが難しくなる。
な磁性層が極めて薄い磁気媒体では、下地層の表面粗さ
が直接磁性層表面に現われ、磁性層の表面粗さを適量に
制御するのが難しくなる。
また、真空中で磁性層を形成する際、下地層からガスが
発生巳、真空度が低下して磁性層の角形比等の磁気特性
が劣化するという問題が生じる。
発生巳、真空度が低下して磁性層の角形比等の磁気特性
が劣化するという問題が生じる。
(ハ)発明が解決しようとする課題
本発明は上記従来例の欠点に鑑み為されたものであり、
耐久性に優れ、且つスペーシングロス等による記録再生
特性の劣化を防止した磁気記録媒体を提供することを目
的とするものである。
耐久性に優れ、且つスペーシングロス等による記録再生
特性の劣化を防止した磁気記録媒体を提供することを目
的とするものである。
(ニ)課題を解決するための手段
本発明は非磁性基体上にカーボン微粒子よりなる下地層
を被着形成し、該下地層上に強磁性金属薄膜層を被着形
成した磁気記録媒体であって、前記下地層の膜厚は18
0〜300人であり、前記強磁性金属薄膜層の表面の突
起の高さは100〜150人であり、前記突起の分布が
500〜1000個/mm’であることを特徴とする。
を被着形成し、該下地層上に強磁性金属薄膜層を被着形
成した磁気記録媒体であって、前記下地層の膜厚は18
0〜300人であり、前記強磁性金属薄膜層の表面の突
起の高さは100〜150人であり、前記突起の分布が
500〜1000個/mm’であることを特徴とする。
(ホ)作 用
上記構成に依れば、スチル寿命が長く、且つ目づまりが
なく、しかも高い再生出力を得ることが出来る。
なく、しかも高い再生出力を得ることが出来る。
(へ)実施例
第1図は本発明の磁気テープの構造を示す断面図である
。
。
本発明の磁気テープは、PET(ポリエチレンテレフタ
レート)、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド等よ
りなる非磁性基体(1)の上面にカーボン微粒子(2)
を電子線照射により付着してなる下地層(3)が形成さ
れており、該下地層(3)上にはCo−Ni合金等より
なる強磁性金属薄膜層(4)が被着形成されている。前
記強磁性金属薄膜層(4)の表面は、前記下地層(3)
のカーボン微粒子(2)により粒子状の突起が形成され
ており、その上には潤滑層(5)が塗布形成されている
。また、前記非磁性基体(1)の下面には、7<・ンク
コート層(6)が塗布形成されている。
レート)、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド等よ
りなる非磁性基体(1)の上面にカーボン微粒子(2)
を電子線照射により付着してなる下地層(3)が形成さ
れており、該下地層(3)上にはCo−Ni合金等より
なる強磁性金属薄膜層(4)が被着形成されている。前
記強磁性金属薄膜層(4)の表面は、前記下地層(3)
のカーボン微粒子(2)により粒子状の突起が形成され
ており、その上には潤滑層(5)が塗布形成されている
。また、前記非磁性基体(1)の下面には、7<・ンク
コート層(6)が塗布形成されている。
次に、上記実施例の磁気テープの製造方法について説明
する。
する。
第2図は製造装置の概略断面図である。
本実施例の製造装置の真空1’1l(7)は分離板(8
1)(82)(83)により第1室(9)、第2室(1
0)、第3室(11)に分離されている。(12)(1
3)(14)は排気系に連結されている真空排気口であ
り、前記第1、第2、第3室(9)(10)(11)は
夫々10−”Torr以下の真空度に保たれている。第
1室(9)と第2室(10)との間には第1の冷却ドラ
ムロール(15)が、第3室(11)と第1室(9)と
の間には第2の冷却ドラムロール(16)が夫々取り付
けられている。
1)(82)(83)により第1室(9)、第2室(1
0)、第3室(11)に分離されている。(12)(1
3)(14)は排気系に連結されている真空排気口であ
り、前記第1、第2、第3室(9)(10)(11)は
夫々10−”Torr以下の真空度に保たれている。第
1室(9)と第2室(10)との間には第1の冷却ドラ
ムロール(15)が、第3室(11)と第1室(9)と
の間には第2の冷却ドラムロール(16)が夫々取り付
けられている。
前記第1室(9)内には、送出しロール(17)、巻取
りロール(18)、ガイドロール(19)(20)が配
設されている。(21)は非磁性基体よりなるフィルム
基板であり、該フィルム基板(21)は送出しロール(
17)から送出されて第2の冷却ドラムロール(15)
に巻き付けられ、ガイドロール(19)(20)を介し
て第2の冷却ドラムロール(16)に巻き付けられ、巻
取90−ル(18)に巻き取られる。
りロール(18)、ガイドロール(19)(20)が配
設されている。(21)は非磁性基体よりなるフィルム
基板であり、該フィルム基板(21)は送出しロール(
17)から送出されて第2の冷却ドラムロール(15)
に巻き付けられ、ガイドロール(19)(20)を介し
て第2の冷却ドラムロール(16)に巻き付けられ、巻
取90−ル(18)に巻き取られる。
前記第2室(10)内にはるつぼ(22)及び電子銃(
23)が配設されている。前記るつぼ(22)内には蒸
着源であるグラファイトカーボン(24)が入っており
、該グラファイトカーボン(24)は電子銃(23)か
らの電子ビーム(25)により溶融し、その蒸気(26
)が前記第1の冷却ドラムロール(15)に巻き付けら
れたフィルム基板(21)上に蒸着する。(27)(2
7)は蒸気(26)の入射角を規定するマスクである。
23)が配設されている。前記るつぼ(22)内には蒸
着源であるグラファイトカーボン(24)が入っており
、該グラファイトカーボン(24)は電子銃(23)か
らの電子ビーム(25)により溶融し、その蒸気(26
)が前記第1の冷却ドラムロール(15)に巻き付けら
れたフィルム基板(21)上に蒸着する。(27)(2
7)は蒸気(26)の入射角を規定するマスクである。
前記第3室(11)内にはるつぼ(28)及び電子銃(
29)が配設されている。前記るつぼ(28)内には蒸
着源であるCo−Ni合金等の磁性材料(30)が入っ
ており、該磁性材料(30)は電子銃(29)からの電
子ビーム(31)により溶融し、その蒸気(32)が第
2の冷却ドラムロール(16)に巻き付けられたフィル
ム基板(21)上に蒸着する。(33)は蒸気(32)
の入射角を規定するマスクである。
29)が配設されている。前記るつぼ(28)内には蒸
着源であるCo−Ni合金等の磁性材料(30)が入っ
ており、該磁性材料(30)は電子銃(29)からの電
子ビーム(31)により溶融し、その蒸気(32)が第
2の冷却ドラムロール(16)に巻き付けられたフィル
ム基板(21)上に蒸着する。(33)は蒸気(32)
の入射角を規定するマスクである。
前記第1室(9)内にはプラズマ処理部(34)が配設
されている。前記プラズマ処理部(34)はフード(3
5)内にRFt極(36)を備えている。前記フード(
35)内にはガス導入パイプ(37)を通して酸素が導
入され、前記RFt極(36)はRFt源(38)から
電力印加される。これにより前記フード(35)内には
グロー放電が生じ、前記第2の冷却ドラムロール(16
)に巻き付けられているフィルム基板(21)の表面は
グロー放電プラズマ処理される。
されている。前記プラズマ処理部(34)はフード(3
5)内にRFt極(36)を備えている。前記フード(
35)内にはガス導入パイプ(37)を通して酸素が導
入され、前記RFt極(36)はRFt源(38)から
電力印加される。これにより前記フード(35)内には
グロー放電が生じ、前記第2の冷却ドラムロール(16
)に巻き付けられているフィルム基板(21)の表面は
グロー放電プラズマ処理される。
即ち、この製造装置では、送出しローラ(17)より送
出されたフィルム基板(2])は第2室(10)で非磁
性基体(1)上にカーボン微粒子(2)よりなる下地層
(3)が形成され、第3室(11)で前記下地層(3)
上に強磁性金属薄膜層(4)が形成され、第1室(9)
で前記強磁性金属薄膜層(4)表面がグロー放電プラズ
マ処理され前記強磁性金属薄膜層(4)が酸化される。
出されたフィルム基板(2])は第2室(10)で非磁
性基体(1)上にカーボン微粒子(2)よりなる下地層
(3)が形成され、第3室(11)で前記下地層(3)
上に強磁性金属薄膜層(4)が形成され、第1室(9)
で前記強磁性金属薄膜層(4)表面がグロー放電プラズ
マ処理され前記強磁性金属薄膜層(4)が酸化される。
次に、上述の第2図の製造装置を用いて、厚さ9μmの
PETよりなるフィルム基板(21)を速度10m/m
inで移送させ、電子ビーム(25)の加速電圧1.0
に〜′、電流値400−800mA、電子ビーム(25
)のグラファイトカーボン(24)に対する照射面積が
1〜4cm”の条件でカーボン微粒子(2)よりなる所
望の厚さの下地層(3)を形成し、更に2、該下地層(
3)上に(o−Ni合金(Co:80wtZ、N i
: 20wtZllよりなる厚さ2000人の強磁性金
属薄膜層(4)を形成して試料1〜】2の磁気テープを
作成した。そして、上記試料1〜12の磁気テープにつ
いて強磁性金属薄膜層(4)表面の突起の高さ及び突起
の分布を測定した。尚、突起の高さは強磁性金属薄膜層
(4)表面の凹凸の山頂から谷底までの距離であり、触
針式表面粗さ測定装置により測定した。また、突起の分
布は微分干渉付光学顕微鏡または走査型電子顕微鏡で少
なくともlO視野またはそれ以上観察し、視野内にある
突起の数を測定しll1lI]12当りの平均値として
求めた。
PETよりなるフィルム基板(21)を速度10m/m
inで移送させ、電子ビーム(25)の加速電圧1.0
に〜′、電流値400−800mA、電子ビーム(25
)のグラファイトカーボン(24)に対する照射面積が
1〜4cm”の条件でカーボン微粒子(2)よりなる所
望の厚さの下地層(3)を形成し、更に2、該下地層(
3)上に(o−Ni合金(Co:80wtZ、N i
: 20wtZllよりなる厚さ2000人の強磁性金
属薄膜層(4)を形成して試料1〜】2の磁気テープを
作成した。そして、上記試料1〜12の磁気テープにつ
いて強磁性金属薄膜層(4)表面の突起の高さ及び突起
の分布を測定した。尚、突起の高さは強磁性金属薄膜層
(4)表面の凹凸の山頂から谷底までの距離であり、触
針式表面粗さ測定装置により測定した。また、突起の分
布は微分干渉付光学顕微鏡または走査型電子顕微鏡で少
なくともlO視野またはそれ以上観察し、視野内にある
突起の数を測定しll1lI]12当りの平均値として
求めた。
以上の結果を下記の第1表に示す。
以下余白
第 1 表
一方、比較例として厚さ9νmのPETよりなるフィル
ム基板(21)上に粒径0.02−0.03umのカー
ボンブラック超微細粒子を添加したノくインダー入り希
薄i8液を厚さ0,08〜0.1amの厚さで塗布乾燥
した後、斜め蒸着法により酸素導入しなからCoN i
磁性層を2000人の厚さで形成し、磁性層表面に突起
高さが300〜600人の山伏突起を有する試料13.
14の磁気テープを作製した。
ム基板(21)上に粒径0.02−0.03umのカー
ボンブラック超微細粒子を添加したノくインダー入り希
薄i8液を厚さ0,08〜0.1amの厚さで塗布乾燥
した後、斜め蒸着法により酸素導入しなからCoN i
磁性層を2000人の厚さで形成し、磁性層表面に突起
高さが300〜600人の山伏突起を有する試料13.
14の磁気テープを作製した。
尚、上述のバインダー入り希薄溶液の組成は下記に示す
とおりである。
とおりである。
試料13
カーボンブラック(ケッチエンブラック)1重量部
甜 脂(ポリウレタン) 1重量部分散剤(
リン酸エステル) 0.02重量部溶 剤(NI
EK、)ルエン、アノノ混含1) 100重
量部試料14 カーボンブラック(アセチレンブラ・ンク)1重量部 樹 脂(塩化酢酸ビニール) 1重量部分散剤(
リン酸エステル) 0.02重量部溶 剤(!1
lEK、)ルエノ、アl/混合液) 100重
量部次に、上述の試料13,1.4の磁気テープについ
て試料1〜12と同様にして磁性層表面の突起の高さ及
び突起の分布を測定した。その結果を下記の第2表に示
す。
リン酸エステル) 0.02重量部溶 剤(NI
EK、)ルエン、アノノ混含1) 100重
量部試料14 カーボンブラック(アセチレンブラ・ンク)1重量部 樹 脂(塩化酢酸ビニール) 1重量部分散剤(
リン酸エステル) 0.02重量部溶 剤(!1
lEK、)ルエノ、アl/混合液) 100重
量部次に、上述の試料13,1.4の磁気テープについ
て試料1〜12と同様にして磁性層表面の突起の高さ及
び突起の分布を測定した。その結果を下記の第2表に示
す。
であり、目づまり回数は同一部分の1分間記録再生を1
00回繰り返した時の出力の低下が6dB以上の場合の
回数である。尚、スチル寿命は20℃、359にR1−
1の条件で、繰り返し再生テストは25℃、70%RH
の条件で夫々で行った。
00回繰り返した時の出力の低下が6dB以上の場合の
回数である。尚、スチル寿命は20℃、359にR1−
1の条件で、繰り返し再生テストは25℃、70%RH
の条件で夫々で行った。
以上の結果を下記の第3表に示す。
第 2 表
次に、上述の試料1〜14の磁気テープにおいて、磁性
層の上面とフィルム基板の下面に潤滑層とバックコート
層とを形成した後、各試料の表面の摩擦係数を測定する
と共に8 mm V T Rを使用してスチル寿命及び
目づまり回数について測定した。摩擦係数は表面性測定
器を用いて測定し、スチル寿命は初期出力から3dB低
下するまでの時間第 3 表 上記第3表から判るように、スチル寿命が長く、目づま
りのない実用耐久性の優れた磁気テープは試料3,6.
7の磁気テープである。
層の上面とフィルム基板の下面に潤滑層とバックコート
層とを形成した後、各試料の表面の摩擦係数を測定する
と共に8 mm V T Rを使用してスチル寿命及び
目づまり回数について測定した。摩擦係数は表面性測定
器を用いて測定し、スチル寿命は初期出力から3dB低
下するまでの時間第 3 表 上記第3表から判るように、スチル寿命が長く、目づま
りのない実用耐久性の優れた磁気テープは試料3,6.
7の磁気テープである。
次に、上述の実用耐久性の優れた試料5.6゜7の磁気
テープと比較例である試料13.14の磁気テープとに
ついて電磁変換特性を評価し、その結果を下記の第4表
に示す。
テープと比較例である試料13.14の磁気テープとに
ついて電磁変換特性を評価し、その結果を下記の第4表
に示す。
第 4 表
上記第4表から判るように試料5. 6. 7は各周波
数において試料13.1.4に比べ再生出力が高く、ヘ
ッド、媒体間のスペーシングロスが小さいようである。
数において試料13.1.4に比べ再生出力が高く、ヘ
ッド、媒体間のスペーシングロスが小さいようである。
以上の結果から判るようにカーボン微粒子(2)よりな
る下地層(3)の膜厚が180〜300人であり、強磁
性金属薄膜層(4)表面の突起の高さが100〜150
人であり、前記突起の分布が500〜1000個/mm
”である試料5. 6. 7の磁気テープはスチル耐久
性に優れ、且つ電磁変換特性にも優れている。
る下地層(3)の膜厚が180〜300人であり、強磁
性金属薄膜層(4)表面の突起の高さが100〜150
人であり、前記突起の分布が500〜1000個/mm
”である試料5. 6. 7の磁気テープはスチル耐久
性に優れ、且つ電磁変換特性にも優れている。
(ト)発明の効果
本発明に依れば、耐久性に優れ、且つ電磁変換特性にも
優れた磁気記録媒体を提供し得る。
優れた磁気記録媒体を提供し得る。
図面は何れも本発明に係り、第1図は磁気テープの概略
断面図、第2図は製造装置の概略断面図である。 (1)・・・非磁性基体、(2)・・・カーボン微粒子
、(3)・・・下地層、(4)・・・強磁性金属薄膜層
。
断面図、第2図は製造装置の概略断面図である。 (1)・・・非磁性基体、(2)・・・カーボン微粒子
、(3)・・・下地層、(4)・・・強磁性金属薄膜層
。
Claims (1)
- (1)非磁性基体上にカーボン微粒子よりなる下地層を
被着形成し、該下地層上に強磁性金属薄膜層を被着形成
した磁気記録媒体であって、前記下地層の膜厚は180
〜300Åであり、前記強磁性金属薄膜層の表面の突起
の高さは100〜150Åであり、前記突起の分布が5
00〜1000個/mm^2であることを特徴とする磁
気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18230390A JPH0469811A (ja) | 1990-07-10 | 1990-07-10 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18230390A JPH0469811A (ja) | 1990-07-10 | 1990-07-10 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0469811A true JPH0469811A (ja) | 1992-03-05 |
Family
ID=16115934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18230390A Pending JPH0469811A (ja) | 1990-07-10 | 1990-07-10 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0469811A (ja) |
-
1990
- 1990-07-10 JP JP18230390A patent/JPH0469811A/ja active Pending
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