JPH0617360B2 - アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法 - Google Patents
アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0617360B2 JPH0617360B2 JP2142721A JP14272190A JPH0617360B2 JP H0617360 B2 JPH0617360 B2 JP H0617360B2 JP 2142721 A JP2142721 A JP 2142721A JP 14272190 A JP14272190 A JP 14272190A JP H0617360 B2 JPH0617360 B2 JP H0617360B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkylbenzene
- mmol
- disulfonyl
- general formula
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/78—Halides of sulfonic acids
- C07C309/86—Halides of sulfonic acids having halosulfonyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
- C07C303/04—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof by substitution of hydrogen atoms by sulfo or halosulfonyl groups
- C07C303/08—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof by substitution of hydrogen atoms by sulfo or halosulfonyl groups by reaction with halogenosulfonic acids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、医薬品、染料、エンジニアリングプラステイ
ックなどの原料として有用な、新規なアルキルベンゼン
ジスルホニルハライド及びその製造方法に関し、更に詳
しくは、アルキルベンゼンに二つのハロゲン化スルホニ
ル基を導入した新規化合及びその製造方法に関する。
ックなどの原料として有用な、新規なアルキルベンゼン
ジスルホニルハライド及びその製造方法に関し、更に詳
しくは、アルキルベンゼンに二つのハロゲン化スルホニ
ル基を導入した新規化合及びその製造方法に関する。
従来の技術 芳香族スルホニル化合物は、医薬品や染料等の合成中間
体として、また透明で耐熱性の高いポリスルホン系樹脂
の製造原料として、工業上重要な化合物である。
体として、また透明で耐熱性の高いポリスルホン系樹脂
の製造原料として、工業上重要な化合物である。
従来よりアルキルベンゼンとハロゲン化スルホン酸とを
反応させて、アルキルベンゼンに一つのハロゲン化スル
ホン基を導入する方法はよく知られている。
反応させて、アルキルベンゼンに一つのハロゲン化スル
ホン基を導入する方法はよく知られている。
しかしながら、アルキルベンゼンに二つのハロゲン化ス
ルホニル基が導入された化合物及びその合成方法は知ら
れていない。
ルホニル基が導入された化合物及びその合成方法は知ら
れていない。
発明の開示 本発明の目的とするところは、アルキルベンゼンにハロ
ゲン化スルホニル基を二つ導入した新規化合物を合成す
ることにある。
ゲン化スルホニル基を二つ導入した新規化合物を合成す
ることにある。
本発明者は、アルキルベンゼンのスルホニル化反応に関
して鋭意研究を進めた結果、アルキルベンゼンとハロゲ
ン化スルホン酸とを、加熱下もしくはルイス酸の存在
下、或いは双方の下に反応させることにより、アルキル
ベンゼンに二つのハロゲン化スルホニル基を導入し得る
ことを見出し、本発明を完成するに至つた。
して鋭意研究を進めた結果、アルキルベンゼンとハロゲ
ン化スルホン酸とを、加熱下もしくはルイス酸の存在
下、或いは双方の下に反応させることにより、アルキル
ベンゼンに二つのハロゲン化スルホニル基を導入し得る
ことを見出し、本発明を完成するに至つた。
即ち、本発明は、下記の化合物及びその製造法に係る： 一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。またＸはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライド。
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。またＸはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライド。
一般式 ＨＳＯ３Ｘ （２） （式中、Ｘはハロゲンを示す。） で表わされるハロゲン化スルホン酸と一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。）で表されるアルキルベンゼンと
を、加熱下もしくはルイス酸の存在下、或いは双方の下
に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。）で表されるアルキルベンゼンと
を、加熱下もしくはルイス酸の存在下、或いは双方の下
に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。
一般式 ＨＳＯ３Ｘ （２） （式中、Ｘはハロゲンを示す。） で表わされるハロゲン化スルホン酸と一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。）で表されるアルキルベンゼンモノ
スルホニルハライドとを、加熱下もしくはルイス酸の存
在下、或いは双方の下に反応させることを特徴とする一
般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。）で表されるアルキルベンゼンモノ
スルホニルハライドとを、加熱下もしくはルイス酸の存
在下、或いは双方の下に反応させることを特徴とする一
般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。
ハロゲン化スルホン酸は、強酸として知られており、１
００％硫酸よりも遥かに強い酸である。このハロゲン化
スルホン酸にアルキルベンゼンを加えると反応が生じ
て、ハロゲン化スルホニル基がアルキルベンゼンに導入
される。この場合、ハロゲン化スルホニル基は一つしか
導入されず、アルキルベンゼンのアルキル基のパラ位又
はオルト位に導入される。
００％硫酸よりも遥かに強い酸である。このハロゲン化
スルホン酸にアルキルベンゼンを加えると反応が生じ
て、ハロゲン化スルホニル基がアルキルベンゼンに導入
される。この場合、ハロゲン化スルホニル基は一つしか
導入されず、アルキルベンゼンのアルキル基のパラ位又
はオルト位に導入される。
本発明によれば、上記のハロゲン化スルホン酸とアルキ
ルベンゼンとの反応を、加熱下又はルイス酸の存在下、
或いは双方の下に行なつたときは、通常の撹拌をするだ
けで二つのハロゲン化スルホニル基が導入され、目的の
アルキルベンゼンジスルホニルハライドを得ることがで
きる。この場合、一方のハロゲン化スルホニル基は上記
と同様アルキル基のパラ位もしくはオルト位に導入され
るが、もう一方のハロゲン化スルホニル基は前者のメタ
位に導入される。反応の一例を次式に示す。
ルベンゼンとの反応を、加熱下又はルイス酸の存在下、
或いは双方の下に行なつたときは、通常の撹拌をするだ
けで二つのハロゲン化スルホニル基が導入され、目的の
アルキルベンゼンジスルホニルハライドを得ることがで
きる。この場合、一方のハロゲン化スルホニル基は上記
と同様アルキル基のパラ位もしくはオルト位に導入され
るが、もう一方のハロゲン化スルホニル基は前者のメタ
位に導入される。反応の一例を次式に示す。
上記一般式（３）で表わされるアルキルベンゼンとして
は、モノアルキルベンゼン、ジアルキルベンゼン、トリ
アルキルベンゼン、テトラアルキルベンゼンが挙げられ
る。より具体的には、モノアルキルベンゼンとしては、
例えばトルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、
ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ドデシルベンゼン
等のベンゼン核に一つのアルキル置換基を有する化合
物、ジアルキルベンゼンとしては、例えばｏ−キシレ
ン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、ｏ−ジエチルベンゼ
ン、ｍ−ジエチルベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、ｏ
−ジプロピルベンゼン、ｍ−ジプロピルベンゼン、ｐ−
ジプロピルベンゼン、ｏ−ジブチルベンゼン、ｍ−ジブ
チルベンゼン、ｐ−ジブチルベンゼン等のベンゼン核に
二つのアルキル置換基を有する化合物、トリアルキルベ
ンゼンとしては、例えば１，２，３−トリメチルベンゼ
ン、１，２，４−トリメチルベンゼン、１，３，５−ト
リメチルベンゼン、１，３，５−トリエチルベンゼン、
１，３，５−トリプロピルベンゼン等のベンゼン核に三
つのアルキル置換基を有する化合物、テトラアルキルベ
ンゼンとしては、例えば１，２，３，４−テトラメチル
ベンゼン、１，２，３，５−テトラメチルベンゼン、
１，２，４，５−テトラメチルベンゼン等のベンゼン核
に四つのアルキル基換基を有する化合物が挙げられる。
また、本発明では、これらアルキルベンゼンに代わつて
一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。） で表されるアルキルベンゼンモノスルホニルハライドを
原料として使用することもできる。
は、モノアルキルベンゼン、ジアルキルベンゼン、トリ
アルキルベンゼン、テトラアルキルベンゼンが挙げられ
る。より具体的には、モノアルキルベンゼンとしては、
例えばトルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、
ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ドデシルベンゼン
等のベンゼン核に一つのアルキル置換基を有する化合
物、ジアルキルベンゼンとしては、例えばｏ−キシレ
ン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、ｏ−ジエチルベンゼ
ン、ｍ−ジエチルベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、ｏ
−ジプロピルベンゼン、ｍ−ジプロピルベンゼン、ｐ−
ジプロピルベンゼン、ｏ−ジブチルベンゼン、ｍ−ジブ
チルベンゼン、ｐ−ジブチルベンゼン等のベンゼン核に
二つのアルキル置換基を有する化合物、トリアルキルベ
ンゼンとしては、例えば１，２，３−トリメチルベンゼ
ン、１，２，４−トリメチルベンゼン、１，３，５−ト
リメチルベンゼン、１，３，５−トリエチルベンゼン、
１，３，５−トリプロピルベンゼン等のベンゼン核に三
つのアルキル置換基を有する化合物、テトラアルキルベ
ンゼンとしては、例えば１，２，３，４−テトラメチル
ベンゼン、１，２，３，５−テトラメチルベンゼン、
１，２，４，５−テトラメチルベンゼン等のベンゼン核
に四つのアルキル基換基を有する化合物が挙げられる。
また、本発明では、これらアルキルベンゼンに代わつて
一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。） で表されるアルキルベンゼンモノスルホニルハライドを
原料として使用することもできる。
上記一般式（２）で示されるハロゲン化スルホン酸とし
ては、例えばフルオロスルホン酸、クロロスルホン酸等
が挙げられる。
ては、例えばフルオロスルホン酸、クロロスルホン酸等
が挙げられる。
本発明方法の合成反応における一般式（２）のハロゲン
化スルホン酸と一般式（３）のアキルベンゼンの使用割
合としては、特に限定されないが、通常後者に対して前
者を２〜２０倍モル量程度、好ましくは５〜１０倍モル
量用いるのがよい。またアルキルベンゼンに代えて一般
式（４）のアルキルベンモノスルホニルハライドを使用
するときも上記と同量を使用することができる。
化スルホン酸と一般式（３）のアキルベンゼンの使用割
合としては、特に限定されないが、通常後者に対して前
者を２〜２０倍モル量程度、好ましくは５〜１０倍モル
量用いるのがよい。またアルキルベンゼンに代えて一般
式（４）のアルキルベンモノスルホニルハライドを使用
するときも上記と同量を使用することができる。
本発明において、加熱下に反応を進める場合、一般に反
応系を５０〜１５０℃程度、より好ましくは７０〜１１
０℃の温度とするのが望ましい。しかしながら、原料の
ハロゲン化スルホン酸として特にクロロスルホン酸を用
いたときには、室温付近の反応温度でもゆつくりと反応
が進む。従つて、本発明における加熱とは、２０〜１５
０℃程度の温度にすることを指す。アルキルベンゼンジ
スルホニルハライドの生成速度は、反応温度に依存し、
該反応温度を上記範囲内で高くすればするほど速くな
る。反応時間は、原料化合物の種類、反応温度などの製
造条件に応じて適切な時間とされる。
応系を５０〜１５０℃程度、より好ましくは７０〜１１
０℃の温度とするのが望ましい。しかしながら、原料の
ハロゲン化スルホン酸として特にクロロスルホン酸を用
いたときには、室温付近の反応温度でもゆつくりと反応
が進む。従つて、本発明における加熱とは、２０〜１５
０℃程度の温度にすることを指す。アルキルベンゼンジ
スルホニルハライドの生成速度は、反応温度に依存し、
該反応温度を上記範囲内で高くすればするほど速くな
る。反応時間は、原料化合物の種類、反応温度などの製
造条件に応じて適切な時間とされる。
上記合成反応は、必要に応じ、例えばクロロホルム、四
塩化炭素等の溶媒中で行なわれ得る。
塩化炭素等の溶媒中で行なわれ得る。
また、ルイス酸の存在下に反応を行なう場合、反応速度
は、ルイス酸の添加量に依存し、該添加量の増加にとも
ない速くなる。従つて、ルイス酸の添加量が多ければア
ルキルベンゼンジスルホニルハライドの生成量は多くな
るが、効果的且つ実用的にはルイス酸をハロゲン化スル
ホン酸に対して０．０５〜０．５倍モル量程度、好まし
くは０．１〜０．３倍モル量添加するのが望ましい。こ
のときの反応時間も加熱によるときと同様、適宜選択る
ことができる。上記ルイス酸としては、例えば五フッ化
アンチモン、五塩化アンチモン等のハロゲン化アンチモ
ンが挙げられる。
は、ルイス酸の添加量に依存し、該添加量の増加にとも
ない速くなる。従つて、ルイス酸の添加量が多ければア
ルキルベンゼンジスルホニルハライドの生成量は多くな
るが、効果的且つ実用的にはルイス酸をハロゲン化スル
ホン酸に対して０．０５〜０．５倍モル量程度、好まし
くは０．１〜０．３倍モル量添加するのが望ましい。こ
のときの反応時間も加熱によるときと同様、適宜選択る
ことができる。上記ルイス酸としては、例えば五フッ化
アンチモン、五塩化アンチモン等のハロゲン化アンチモ
ンが挙げられる。
更に本発明では、ルイス酸の存在下に加熱して反応を進
行させてもよく、より効果的に目的物を得ることができ
る。
行させてもよく、より効果的に目的物を得ることができ
る。
本発明では、反応途中又は反応終了後、例えば反応混合
物を水中に注ぎ、ベンゼン抽出して目的物のアルキルベ
ンゼンジスルホニルハライドを回収することができる。
また、得られたアルキルベンゼンジスルホニルハライド
は、再結晶又は蒸留することにより精製され得る。
物を水中に注ぎ、ベンゼン抽出して目的物のアルキルベ
ンゼンジスルホニルハライドを回収することができる。
また、得られたアルキルベンゼンジスルホニルハライド
は、再結晶又は蒸留することにより精製され得る。
実施例 次に実施例により本発明を更に詳細に説明する。尚、生
成物の構造は、ＮＭＲ、ＩＲ、質量分析により確認され
た。
成物の構造は、ＮＭＲ、ＩＲ、質量分析により確認され
た。
実施例１ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、１０
０℃でトルエン１．８４ｇ（２０mmol）を滴下し、１５
時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼンで抽出
して、４−メチルベンゼン−１，３−ジスルホニルフル
オライド１．５９ｇ（収率３１％）を得た。
０℃でトルエン１．８４ｇ（２０mmol）を滴下し、１５
時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、ベンゼンで抽出
して、４−メチルベンゼン−１，３−ジスルホニルフル
オライド１．５９ｇ（収率３１％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１５９０，１４００，１２００，８５
０，７５０１ Ｈ−ＮＭＲ （δＣＤＣｌ３）： ２．９０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ７．７−８．９（ｍ，３Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＋１＝２５７ 融点：８３−８４℃ 実施例２ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、１０
０℃でｏ−キシレン２．１２ｇ（２０mmol）を滴下し、
５時間撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、４，
５−ジメチルベンゼン−１，３−ジスルホニルフルオラ
イド１．８１ｇ（収率３３％）を得た。
０，７５０１ Ｈ−ＮＭＲ （δＣＤＣｌ３）： ２．９０（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ７．７−８．９（ｍ，３Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＋１＝２５７ 融点：８３−８４℃ 実施例２ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、１０
０℃でｏ−キシレン２．１２ｇ（２０mmol）を滴下し、
５時間撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、４，
５−ジメチルベンゼン−１，３−ジスルホニルフルオラ
イド１．８１ｇ（収率３３％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１４１０，１３９０，１２３０，１２
００，８４０，７６５１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．５８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ２．７７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ８．２５（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ８．６５（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＋１＝２５８ 融点：５７−５８℃ 実施例３ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、８０
℃でｍ−キシレン２．１２ｇ（２０mmol）を滴下し、５
時間撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、２，４
−ジメチルベンゼン−１，５−ジスルホニルフルオライ
ド２．０３ｇ（収率３８％）を得た。
００，８４０，７６５１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．５８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ２．７７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ８．２５（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ８．６５（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＋１＝２５８ 融点：５７−５８℃ 実施例３ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、８０
℃でｍ−キシレン２．１２ｇ（２０mmol）を滴下し、５
時間撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、２，４
−ジメチルベンゼン−１，５−ジスルホニルフルオライ
ド２．０３ｇ（収率３８％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１５９０，１４０５，１２０５，１２
００，９７０，７７０１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．７９（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３） ７．６０（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ８．７０（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２７０ 融点：１０８−１０９℃ 実施例４ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、１０
０℃でｐ−キシレン２．１２ｇ（２０mmol）を滴下し、
３時間撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、２，
５−ジメチルベンゼン−１，３−ジスルホニルフルオラ
イド１．６９ｇ（収率３１％）を得た。
００，９７０，７７０１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．７９（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３） ７．６０（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ８．７０（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２７０ 融点：１０８−１０９℃ 実施例４ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、１０
０℃でｐ−キシレン２．１２ｇ（２０mmol）を滴下し、
３時間撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、２，
５−ジメチルベンゼン−１，３−ジスルホニルフルオラ
イド１．６９ｇ（収率３１％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１４６５，１４００，１２３０，１２
００，８１０，７７０１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．５９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ３．０１（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ８．３８（ｓ，２Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２７０ 融点：８５−８６℃ 実施例５ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、８０
℃でメシチレン２．４０ｇ（２０mmol）を滴下し、６時
間撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、２，４，
６−トリメチルベンゼン−１，３−ジスルホニルフルオ
ライド３．６４ｇ（収率３２％）を得た。
００，８１０，７７０１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．５９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ３．０１（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ８．３８（ｓ，２Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２７０ 融点：８５−８６℃ 実施例５ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、８０
℃でメシチレン２．４０ｇ（２０mmol）を滴下し、６時
間撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、２，４，
６−トリメチルベンゼン−１，３−ジスルホニルフルオ
ライド３．６４ｇ（収率３２％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１５６５，１４０５，１１９５，６８
５，８４５１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．７８（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３） ３．０５（ｔ，３Ｈ，−ＣＨ３，Ｊ＝３Ｈｚ） ７．４２（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２８４ 融点：７０−７１℃ 実施例６ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、１０
０℃でドデシルベンゼン４．９３ｇ（２０mmol）を滴下
し、６時間撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、
４−ドデシルベンゼン−１，３−ジスルホニルフルオラ
イド２．４１ｇ（収率２９％）を得た。
５，８４５１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．７８（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３） ３．０５（ｔ，３Ｈ，−ＣＨ３，Ｊ＝３Ｈｚ） ７．４２（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２８４ 融点：７０−７１℃ 実施例６ フルオロスルホン酸１０．０ｇ（１００mmol）に、１０
０℃でドデシルベンゼン４．９３ｇ（２０mmol）を滴下
し、６時間撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、
４−ドデシルベンゼン−１，３−ジスルホニルフルオラ
イド２．４１ｇ（収率２９％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１５８５，１４０５，１１９０，８４
５，７４５１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： １．５〜３．０（ｍ，２５Ｈ，−ＣＨ２−，−ＣＨ３） ７．６−９．０（ｍ，３Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝４１０ 融点：１１７−１１８℃ 実施例７ クロロスルホン酸６．９９ｇ（６０mmol）に、２５℃で
トルエン１．８４ｇ（２０mmol）を滴下し、６４時間撹
拌した後、実施例１と同様にして処理し、４−メチルベ
ンゼン−１，３−ジスルホニルクロライド３．０１ｇ
（収率５２％）を得た。
５，７４５１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： １．５〜３．０（ｍ，２５Ｈ，−ＣＨ２−，−ＣＨ３） ７．６−９．０（ｍ，３Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝４１０ 融点：１１７−１１８℃ 実施例７ クロロスルホン酸６．９９ｇ（６０mmol）に、２５℃で
トルエン１．８４ｇ（２０mmol）を滴下し、６４時間撹
拌した後、実施例１と同様にして処理し、４−メチルベ
ンゼン−１，３−ジスルホニルクロライド３．０１ｇ
（収率５２％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１５８５，１３７５，１１８０，１１
６０，８２５，７００１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．９２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ７．６−８．８（ｓ，３Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２８８，２９０，２９２ 融点：５０−５１℃ 実施例８ クロロスルホン酸６．９９ｇ（６０mmol）に、２５℃で
ｍ−キシレン２．１２ｇ（２０mmol）を滴下し、４時間
撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、２，４−ジ
メチルベンゼン−１，５−ジスルホニルクロライド３．
４０ｇ（収率５６％）を得た。
６０，８２５，７００１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．９２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ７．６−８．８（ｓ，３Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２８８，２９０，２９２ 融点：５０−５１℃ 実施例８ クロロスルホン酸６．９９ｇ（６０mmol）に、２５℃で
ｍ−キシレン２．１２ｇ（２０mmol）を滴下し、４時間
撹拌した後、実施例１と同様にして処理し、２，４−ジ
メチルベンゼン−１，５−ジスルホニルクロライド３．
４０ｇ（収率５６％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１５９０，１３６５，１１７５，１１
５５，７００１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．８５（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３） ７．５２（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ８．７３（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝３０２，３０４，３０６ 融点：１１５−１１６℃ 実施例９ フルオロスルホン酸１７．４ｇ（１７４mmol）と五フッ
化アンチモン７．４８ｇ（３４．５mmol）の混合溶液
に、２５℃でメシチレン４．８０ｇ（４０mmol）を滴下
し、１６時間撹拌した後、実施例１と同様にして処理
し、２，４，６−トリメチルベンゼン−１，３−ジスル
ホニルフルオライド７．５０ｇ（収率６６％）を得た。
５５，７００１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．８５（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３） ７．５２（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ８．７３（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝３０２，３０４，３０６ 融点：１１５−１１６℃ 実施例９ フルオロスルホン酸１７．４ｇ（１７４mmol）と五フッ
化アンチモン７．４８ｇ（３４．５mmol）の混合溶液
に、２５℃でメシチレン４．８０ｇ（４０mmol）を滴下
し、１６時間撹拌した後、実施例１と同様にして処理
し、２，４，６−トリメチルベンゼン−１，３−ジスル
ホニルフルオライド７．５０ｇ（収率６６％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１５６５，１４０５，１１９５，６８
５，８４５１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．７８（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３） ３．０５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３，Ｊ＝３Ｈｚ） ７．４２（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２８４ 融点：７０−７１℃ 実施例１０ 攪拌時間を５時間、五フッ化アンチモンの使用料を０、
１３．８、２０．７、２７．６、３４．５mmolとした以
外は実施例９と同様にして２，４，６−トリメチルベン
ゼン−１，３−ジスルホニルフルオライドを得た。
５，８４５１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．７８（ｓ，６Ｈ，−ＣＨ３） ３．０５（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３，Ｊ＝３Ｈｚ） ７．４２（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２８４ 融点：７０−７１℃ 実施例１０ 攪拌時間を５時間、五フッ化アンチモンの使用料を０、
１３．８、２０．７、２７．６、３４．５mmolとした以
外は実施例９と同様にして２，４，６−トリメチルベン
ゼン−１，３−ジスルホニルフルオライドを得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１５６５，１４０５，１１９５，６８
５，８４５１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．７８（ｓ，６Ｈ−ＣＨ３） ３．０５（ｔ，３Ｈ，−ＣＨ３，Ｊ＝３Ｈｚ） ７．４２（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２８４ 融点：７０−７０℃ 収率を第１表に示す。
５，８４５１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．７８（ｓ，６Ｈ−ＣＨ３） ３．０５（ｔ，３Ｈ，−ＣＨ３，Ｊ＝３Ｈｚ） ７．４２（ｓ，１Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２８４ 融点：７０−７０℃ 収率を第１表に示す。
実施例１１ フルオロスルホン酸１７．４ｇ（１７４mmol）と五フッ
化アンチモン１４．９５ｇ（６９．０mmol）の混合溶液
に、２５℃で２，５−ジメチルベンゼンスルホニルフル
オライド７．５２ｇ（４０mmol）を滴下し、６時間撹拌
した後、実施例１と同様にして処理し、２，５−ジメチ
ルベンゼン−１，３−ジスルホニルフルオライド１０．
３８ｇ（収率９６％）を得た。
化アンチモン１４．９５ｇ（６９．０mmol）の混合溶液
に、２５℃で２，５−ジメチルベンゼンスルホニルフル
オライド７．５２ｇ（４０mmol）を滴下し、６時間撹拌
した後、実施例１と同様にして処理し、２，５−ジメチ
ルベンゼン−１，３−ジスルホニルフルオライド１０．
３８ｇ（収率９６％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１４６５，１４００，１２３０，１２
００，８１０，７７０１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．５９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ３．０１（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ８．３８（ｓ，２Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２７０ 融点：８５−８６℃ 実施例１２ クロロスルホン酸１１．６５ｇ（１００mmol）と五塩化
アンチモン２．３９（８mmol）の混合溶液に、５０℃で
トルエン１．８４ｇ（２０mmol）を滴下し、２時間撹拌
した後、実施例１と同様にして処理し、４−メチルベン
ゼン−１，３−ジスルホニルクロライド１．３９ｇ（収
率２４％）を得た。
００，８１０，７７０１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．５９（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ３．０１（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ８．３８（ｓ，２Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２７０ 融点：８５−８６℃ 実施例１２ クロロスルホン酸１１．６５ｇ（１００mmol）と五塩化
アンチモン２．３９（８mmol）の混合溶液に、５０℃で
トルエン１．８４ｇ（２０mmol）を滴下し、２時間撹拌
した後、実施例１と同様にして処理し、４−メチルベン
ゼン−１，３−ジスルホニルクロライド１．３９ｇ（収
率２４％）を得た。
物性値 ＩＲ（cm−１）：１５８５，１３７５，１１８０，１１
６０，８２５，７００１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．９２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ７．６−８．８（ｓ，３Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２８８，２９０，２９２ 融点：５０−５１℃
６０，８２５，７００１ Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）： ２．９２（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ３） ７．６−８．８（ｓ，３Ｈ，aromatic Ｈ） ＭＳ：Ｍ＋＝２８８，２９０，２９２ 融点：５０−５１℃
Claims (3)
- 【請求項１】一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライド。 - 【請求項２】一般式 ＨＳＯ３Ｘ （式中、Ｘはハロゲンを示す。） で表わされるハロゲン化スルホン酸と一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。）で表されるアルキルベンゼンと
を、加熱下もしくはルイス酸の存在下、或いは双方の下
に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。 - 【請求項３】一般式 ＨＳＯ３Ｘ （式中、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるハロゲン化スルホン酸と一般式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。）で表されるアルキルベンゼンモス
ルホニルハライドとを、加熱下もしくはルイス酸の存在
下、或いは双方の下に反応させることを特徴とする一般
式 （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＨもしくはＣ１〜Ｃ
１２のアルキル基を示す。但し、Ｒ１〜Ｒ４の全てがＨ
である場合を除く。また、Ｘはハロゲンを示す。） で表されるアルキルベンゼンジスルホニルハライドの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2142721A JPH0617360B2 (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2142721A JPH0617360B2 (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0436265A JPH0436265A (ja) | 1992-02-06 |
| JPH0617360B2 true JPH0617360B2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=15322035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2142721A Expired - Lifetime JPH0617360B2 (ja) | 1990-05-30 | 1990-05-30 | アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0617360B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5158586B2 (ja) * | 2007-10-19 | 2013-03-06 | 凸版印刷株式会社 | 黒色固体状スルホン化物質、その製造方法およびそれを用いたイオン交換体、電解質膜、触媒、膜電極接合体、燃料電池 |
-
1990
- 1990-05-30 JP JP2142721A patent/JPH0617360B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0436265A (ja) | 1992-02-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI695824B (zh) | 製備３-氯-２-乙烯基苯基磺酸酯之方法 | |
| JPH0617360B2 (ja) | アルキルベンゼンジスルホニルハライド及びその製造方法 | |
| JP7324082B2 (ja) | カルボン酸無水物またはスルホン酸無水物の製造方法 | |
| US3052708A (en) | Process for the preparation of aromatic sulfones | |
| JP4619602B2 (ja) | ジフェニルエーテル化合物の製造方法 | |
| JP2590436B2 (ja) | ジフェニルジスルホニルフルオライドの合成方法 | |
| JPH0688963B2 (ja) | ジ（フェニル）スルホンスルホニルフルオライド化合物 | |
| JPH0474346B2 (ja) | ||
| JP2526413B2 (ja) | アルキレンジフェニルジスルホニルフルオライドおよびその合成方法 | |
| SU529148A1 (ru) | Способ получени замещенных производных хлорбензола | |
| US5095150A (en) | Formylated alklbenzenesulfonyl halide compound and process for preparing the same | |
| US3878242A (en) | Process for the production of trihalogenomethyl benzene sulphonic acid halides | |
| JP4159022B2 (ja) | ジホスゲン及びトリホスゲンを使用したジアゾナフトキノンスルホニルクロリドの調製法 | |
| JPH062728B2 (ja) | ホルミルアルキルベンゼンスルホニルフルオライド及びその製造方法 | |
| JP4695742B2 (ja) | 塩素化されたピリジンスルホン酸クロリドの製造方法 | |
| JP2001122847A (ja) | ビナフチル誘導体の製造方法 | |
| JPS58210058A (ja) | 高純度なプロモベンゼンスルホニルクロリドの製造法 | |
| TW202329943A (zh) | 異噁唑衍生物的製備方法及其中間體 | |
| KR20230072437A (ko) | 아이속사졸 유도체의 제조 방법 및 그의 중간체 | |
| JPH06104655B2 (ja) | ナフタレンジスルホニルフルオライドおよびその合成方法 | |
| JPH05271103A (ja) | メチル芳香族化合物の遊離基塩素化または臭素化方法 | |
| JPH09227518A (ja) | ２−アミノ−３，３−ジアリールイソインドール類の製造法 | |
| JP2006282542A (ja) | クロコン酸またはその塩の製造方法 | |
| JPS5857335A (ja) | ２−（１−インダノイル）酢酸類の製造方法 | |
| JPH1160550A (ja) | スルホニルオキシトロポン類の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |