JPH0617282Y2 - リアクティブイオンエッチング装置 - Google Patents
リアクティブイオンエッチング装置Info
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- JPH0617282Y2 JPH0617282Y2 JP7163487U JP7163487U JPH0617282Y2 JP H0617282 Y2 JPH0617282 Y2 JP H0617282Y2 JP 7163487 U JP7163487 U JP 7163487U JP 7163487 U JP7163487 U JP 7163487U JP H0617282 Y2 JPH0617282 Y2 JP H0617282Y2
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- JP
- Japan
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- etching
- rod lens
- chamber
- reactive ion
- ion etching
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- Expired - Lifetime
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7163487U JPH0617282Y2 (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | リアクティブイオンエッチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7163487U JPH0617282Y2 (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | リアクティブイオンエッチング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63180924U JPS63180924U (enExample) | 1988-11-22 |
| JPH0617282Y2 true JPH0617282Y2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=30914364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7163487U Expired - Lifetime JPH0617282Y2 (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | リアクティブイオンエッチング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0617282Y2 (enExample) |
-
1987
- 1987-05-15 JP JP7163487U patent/JPH0617282Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63180924U (enExample) | 1988-11-22 |
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