JPH0617202B2 - 塩素の製造方法 - Google Patents

塩素の製造方法

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JPH0617202B2
JPH0617202B2 JP61151749A JP15174986A JPH0617202B2 JP H0617202 B2 JPH0617202 B2 JP H0617202B2 JP 61151749 A JP61151749 A JP 61151749A JP 15174986 A JP15174986 A JP 15174986A JP H0617202 B2 JPH0617202 B2 JP H0617202B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、塩素の製造方法、より詳細には、流動層反応
器を用いて塩化水素ガスを含酸素ガスで酸化し塩素を製
造する方法に関するものである。
〔発明の技術背景〕 塩素は食塩電解により大規模に製造されており、塩素の
需要は年々増大するにもかかわらず、食塩電解の際に同
時に生成する苛性ソーダの需要は塩素のそれよりも少な
いために、各々の不均衡をうまく調整するのは困難な状
況が生じている。
一方、有機化合物の塩素化反応またはホスゲン化反応の
際に、大量の塩化水素が副生しており、副生塩化水素の
量は、塩酸の需要量より大巾に多いために、大量の塩化
水素が未利用のままで無駄に廃棄されている。また廃棄
のための処理コストもかなりの額に達する。
上記のように大量に廃棄されている塩化水素から効率よ
く塩素を回収出来れば、苛性ソーダ生産量とのアンバラ
ンスを生じることなく、塩素の需要を満たすことが出来
る。
〔従来の技術〕 塩化水素を酸化して塩素を製造する反応は古くからDeac
on反応として知られる。1868年Deaconの発明による銅系
の触媒が、従来最も優れた活性を示す触媒とされ、塩化
銅と塩化カリウムに第三成分として種々な化合物を添加
した触媒が、多数提案されている。しかしながら、これ
らの触媒で工業的に充分な反応速度で塩化水素を酸化す
るためには、反応温度を400℃以上にする必要があり、
触媒成分の飛散に伴う触媒寿命の低下等が問題となる。
以上の観点から、銅系以外の触媒として、酸化クロムは
銅系に比較すると高温に対する安定性、耐久性があるの
で、酸化クロムを塩化水素の酸化に触媒として用いる提
案もあるが、未だ充分な活性を示す結果は報告されてい
ない。例えば、英国特許第584790号、英国特許第676667
号等が提案されているが、断続運転を余儀なくされた
り、又転化率が低い等で充分な活性を示すものはない。
また、英国特許第846832号では反応系中のガス相にクロ
ミルクロライドを加えて高い転化率を得ている。
このように、酸化クロムを触媒に用いても、上記のよう
に新たな反応試薬を加えない限り、従来公知の方法は反
応温度も高く、空間速度も低いために工業的な操作に耐
え得る状態にはなかった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、これらの従来技術の欠点がなく、高い空間速
度かつ、高い転化率で塩素を工業的に取得する方法、と
くに酸化クロム触媒を用いて塩化水素に対して過剰量の
酸素を加えた塩素の製造方法を提供することを課題とす
るものである。
本発明者らは、上記課題を達成するべく種々検討した結
果、水酸化クロムを焼成して得られた酸化クロム触媒が
高活性を有し、この触媒を使用し、塩化水素に対して過
剰量の酸素を用いて、300〜500℃の温度で反応させると
高い空間速度で、高い転化率で塩素を製造できることを
見出し先に出願した。
しかしながら、この方法に於いて酸化クロム触媒を長期
間反応に使用した場合、触媒活性の低下が問題であり、
触媒活性を長期間維持しながら反応を継続できることが
必要である。
本発明の課題は流動層反応による塩素の製造方法におい
て、触媒活性を長期に維持しながら反応を実施する方法
を提供することである。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の課題を達成するため、本発明者らは鋭意検討を重
ねた。その結果、塩化水素の酸化反応を流動床反応器で
行う方法において、流動層への原料ガスの供給に特定の
方法を採ることにより上記の課題を解決しうることを見
出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は三価クロムの塩を塩基性化合物によ
り沈澱させて得られた水酸化クロムを、焼成して調整し
た酸化クロムを主成分とする触媒を用い流動層反応器に
より塩化水素と酸素を反応させて塩素を製造する方法に
おいて、流動層に供給する原料ガスを酸素源となる原料
ガスと塩化水素源となる原料ガスに分け、前者を後者の
下部に供給することを特徴とする流動層反応器を用いる
塩素の製造方法である。
本発明の方法において用いる触媒は、三価クロム塩と塩
基性化合物により沈澱させて合成した水酸化クロムを、
800℃に満たない温度で焼成した後の酸化クロムを粉砕
粒化し、通常バインダーとして酸化珪素を加えてスラリ
ー状にして、スプレードライヤー等で造粒乾燥して用い
るか、又は三価クロム塩に塩基性化合物を加えて沈澱生
成した水酸化クロムスラリーに酸化珪素を加えた後、造
粒乾燥焼成したものである。
このように調整された触媒のなかで流動層反応として使
用するには、平均粒径が40〜100μの範囲であるものが
このましい。中でも最大粒径が、200μを越えず、40μ
以下の粒径を持つものが10重量%以上含むものが更に好
ましい。
このような性状の触媒であれば、長期にわたって使用す
ることを目的とする本発明の方法においては、流動状態
を安定させ特に好ましい。平均粒径が40μ未満では、触
媒が反応器から飛出すのが多くなり、また本触媒の活性
成分のクロムの揮散がさらに大巾に増加し触媒の寿命が
短くなり好ましくない。しかし、40μ以下の微粒子を少
なくとも10重量%存在させるのは流動状態を安定化させ
る上で好ましい。また本触媒は酸化クロムが主成分であ
るため非常に固く、容易に粉化しないが、このため反応
器の摩耗が著しい。長期にわたる運転をするには、200
μを越える粒子が多数存在する時には、反応器の一部の
摩耗が無視できなくなる。
用いる反応器は接ガス部において鉄の含有率が1重量%
以下である材料により製作されたものを使用する。すな
わち、本触媒は鉄によって被毒を受け易く使用する材料
中の鉄分によってさえも被毒され、そのため高活性を長
期間維持することができないためである。材料としては
ニッケル鋼や、チタン鋼などが良い。
反応器内を通過するガスの空塔速度は、反応を促進させ
るために大きいほど好ましいが、触媒による反応器の摩
耗が急速に大きくなるので、実用的には1m/secが限界で
ある。
ガス空塔速度は0.1m/sec以下でも反応成績に大きな差を
もたらさないが、0.1m/secより小さくなると長期間運転
した時の活性低下が著しい。これは単なるガス空塔速度
不足による流動性の低下のみならず、触媒そのものの物
性等の変化による流動性の低下が生じているためであ
る。従って、ガス空塔速度は0.1〜1m/secが最適であ
る。
反応時の圧力は常圧以上であれば特に支障はなく、常圧
より5atgまでの範囲で特に反応上問題となることはな
く、勿論これを越えてもよいが、実用的に、操作圧力を
どのように設定するかは、プラントコスト、安全対策な
ど経済上の問題から定めることができる。
使用する触媒量は、原料として使用する塩化水素ガスの
負荷でほぼ決まり、触媒1kg当り、毎時200〜1800N
、望ましくは200〜800Nの塩化水素ガス負荷が適当
である。負荷が1800N/Hr・cat-1Kg以上では塩化水素
の転化率が低く実用的な範囲ではない。負荷が200N/H
r・cat-1Kg未満の場合には塩化水素の転化率は高い数値
を示すが、触媒使用量が増大し、また反応器も巨大とな
るため経済的ではない。
更に、流動床反応器にて触媒粒子を用いて反応を行う場
合、揮散するクロム分を補充するために反応を継続しな
がら反応器内に連続、又は断続的に新しい触媒粒子を送
入することができ、又触媒入替時の触媒抜出も行うこと
ができる。
本発明の方法では流動層への原料ガスの供給は、原料ガ
スを酸素源となる原料ガスと塩化水素源となる原料ガス
に分け、前者を後者の下部に供給する。
触媒の高活性を長期間維持するには、酸素は塩化水素に
対し化学量論量以上使用しなければならない。しかし、
大過剰に酸素を使用するには生成する塩素と酸素とを分
離するのが困難であり経済的ではない。このためなるべ
く酸素使用量を減少させる必要がある。酸素源となる原
料ガスを塩化水素源となる原料ガスの下部に供給する
と、両者の供給口間の流動層(以下、再生部とする)の
酸素分圧が高くなるので酸素/塩化水素モル比率を増加
させたのと同様の効果をもたらす。
この酸素源となる原料ガスを供給する再生部では、上方
の反応部と同じく接ガス部において鉄の含有率が1重量
%以下である材料を用いて製作し、温度と圧力は反応部
の反応温度、圧力と同一となるので、350〜450℃、0/
5atgにするのが一般的である。ガス空塔速度は反応部と
同じく、0.1〜1m/secが望ましい。また酸素源となるガ
スのガス中の酸素濃度15〜100モル%、触媒とガスとの
接触時間は1秒以上必要である。酸素濃度が15%以下と
なると接触時間を長時間取っても触媒の活性低下の程度
は大きく、長期間の高活性維持は適さない。
さらに、原料ガス中に不活性ガスを含有していても良
い。通常酸素ガスや塩化水素ガス中に不活性ガスが存在
すると触媒の高活性をより長期間維持できることができ
る。すなわち、窒素および/または二酸化炭素を添加し
て流動層反応を行うと空塔速度を除く他の条件を同一と
した場合と比較し活性低下の程度が少ない。この傾向は
不活性ガスを添加したことによる空塔速度の増加では説
明できず、不活性ガスが触媒の流動に良い影響を与えて
いる結果である。不活性ガスの添加量は多いほど良い結
果を与えるが、前記したように生成塩素との経済的な分
離を考慮すると、大過剰に用いるのは実用的ではなく、
使用する酸素に対し5倍モル量以上添加してもその効果
は大差なく5倍モル量が実用的には上限である。
〔作用および発明の効果〕
本発明によれば、酸化クロム触媒粒子を流動床反応器に
て用い、流動層の下部に酸素源ガスを供給し、その上部
に塩化水素源ガスを供給することにより、活性の低下を
生じた触媒を、再生し流動循環するので触媒活性を長期
間維持しながら連続運転を行う事ができ、高空間速度、
高転化率で長期間、塩化水素から連続的に塩素を安定的
に製造できる工業的に価値ある製造方法である。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。
実施例 硝酸クロム16.9kgを脱イオン水750に溶解させ、よく
攪拌しながら25%のアンモニア水31.3kgを6時間を要し
て滴下注入した。
生じた沈澱スラリーに脱イオン水を加え1500に希釈
し、一晩放置後デカンテーションを繰返し沈澱を洗浄し
た。焼成後の全重量の25%にあたるコロイダルシリカを
加えた。この混合スラリーをスプレードライヤーで乾燥
して得られた粒状粉末を、空気雰囲気中600℃で3時間
焼成した。
その後、JIS標準ふるいを用いて微粒子状触媒をふるい
平均粒径(中位径)50〜60μの触媒を得た。
流動層部の内径54.5mm、高さ1000mmのインターナルのな
い純ニッケル(JIS規格NNC)製で底部より320mm位置に
吹込みノズルを作製した、反応器に上記で得た触媒176
8.8g(静止層高64cm)を充填し、外部を砂動浴により380
℃に加熱した。塩化水素ガス7.38N/minを上段の吹込
みノズルより、酸素3.69N/minを底部より触媒床に導
入し、0.1〜0.3atgの圧力下に流動させながら反応させ
た。触媒層の温度は発熱により400℃となった。
反応器流出ガスをヨウ化カリ水溶液の吸収瓶と苛性ソー
ダ水溶液の吸収瓶を直列につないだトラップで捕集し、
チオ硫酸ソーダおよび塩酸で滴定し、未反応塩化水素と
生成した塩素を定量した。
反応開始直後の塩化水素の転化率は75%、7日後で転化
率74%であった。
比較例 塩化水素ガス7.38N/min及び酸素3.69N/minを共に
反応器の底部より触媒床に導入した以外は実施例と同様
の方法で反応を行った。
生成した塩素の定量も実施例1と同様の方法で行ったと
ころ、反応開始直後の塩化水素の転化率は73%であった
が、7日後では66%に低下していた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】三価クロムの塩を塩基性化合物により沈澱
    させて得られた水酸化クロムを、焼成して調整した酸化
    クロムを主成分とする触媒を用い流動層反応器により塩
    化水素と酸素を反応させて塩素を製造する方法におい
    て、流動層に供給する原料ガスを酸素源となる原料ガス
    と塩化水素源となる原料ガスに分け、前者を後者の下部
    に供給することを特徴とする流動層反応器を用いる塩素
    の製造方法。
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