JPH06159047A - 2サイクル内燃機関 - Google Patents

2サイクル内燃機関

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JPH06159047A
JPH06159047A JP31205092A JP31205092A JPH06159047A JP H06159047 A JPH06159047 A JP H06159047A JP 31205092 A JP31205092 A JP 31205092A JP 31205092 A JP31205092 A JP 31205092A JP H06159047 A JPH06159047 A JP H06159047A
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JP
Japan
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exhaust
exhaust passage
gas
valve
exhaust gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP31205092A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuo Kobayashi
辰夫 小林
Hiroaki Nihei
裕昭 仁平
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Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
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Publication date
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Publication of JPH06159047A publication Critical patent/JPH06159047A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
    • F02BINTERNAL-COMBUSTION PISTON ENGINES; COMBUSTION ENGINES IN GENERAL
    • F02B75/00Other engines
    • F02B75/02Engines characterised by their cycles, e.g. six-stroke
    • F02B2075/022Engines characterised by their cycles, e.g. six-stroke having less than six strokes per cycle
    • F02B2075/025Engines characterised by their cycles, e.g. six-stroke having less than six strokes per cycle two

Landscapes

  • Exhaust Silencers (AREA)
  • Valve-Gear Or Valve Arrangements (AREA)
  • Exhaust Gas After Treatment (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 排気ガス温度が低いときにも三元触媒の触媒
活性を確保する。 【構成】 給気弁6および排気弁7を具備した2サイク
ル内燃機関の排気ポート13内に既燃ガス導入管17を
配置すると共に既燃ガス導入口20を排気ポート13の
軸線上に配置する。このため第1の排気通路18が形成
されると共にその周りに環状をなす第2の排気通路19
が形成される。排気弁7のみを開弁すると新気を含まな
い既燃ガスが排気ポート13の軸線周辺部を流れ第1の
排気通路18内に流入し次いで三元触媒21に流入す
る。次いで排気弁7を開弁しつつ給気弁6を開弁すると
新気を含んだ掃気ガスが第1の排気通路18よりも圧力
の低い第2の排気通路19内に流入する。このため三元
触媒21は流入する既燃ガスによって加熱されると共に
第2の排気通路19を通る掃気ガスによっても加熱され
る。また三元触媒21には新気が導入されないので三元
触媒21における排気ガスの良好な浄化が確保される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は2サイクル内燃機関に関
する。
【0002】
【従来の技術】シリンダ側壁の一側に給気口を形成して
給気通路に連通し、シリンダ側壁の他側に第1排気口を
形成して第1排気通路に連通すると共に第1排気口より
も下方に位置するシリンダ側壁に第2排気口を形成して
第2排気通路に連通し、給気口、第1排気口および第2
排気口の開閉制御をピストンにより制御し、還元触媒が
配置された第1排気通路と第1排気通路に並行して延び
前記還元触媒をバイパスする第2排気通路とを合流せし
め次いで酸化触媒に連結し、燃焼室から排気ガスを排出
するときにはまずピストンが下降し第1排気口のみを開
口して新気を含まない既燃ガスを第1排気通路内に排出
し、次いでさらにピストンが下降して第1排気口を開口
しつつ給気口および第2排気口を開口して新気により燃
焼室内を掃気するようにしたシュニーレ式2サイクル内
燃機関が公知である(特開平2−11814号公報参
照)。排気ガス中に多量の酸素が存在すると三元触媒ま
たは還元触媒による還元作用が低下するためにこの2サ
イクル内燃機関では新気を含まない既燃ガスを還元触媒
に導入すると共に新気を含んだ掃気ガスを酸化触媒に導
入している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで触媒には活性
温度があり触媒温度がこの活性温度よりも低いときには
触媒活性が低下する。通常内燃機関では高温の排気ガス
が触媒に流入するためにこの排気ガスにより触媒を加熱
して触媒の活性温度を維持している。しかしながら、前
記記載の2サイクル内燃機関におけるように還元触媒を
この還元触媒に流入する排気ガスのみにより加熱して触
媒の活性温度を維持するようにすると、例えば機関始動
時のように排気ガス温度が低いときには触媒温度が触媒
の活性温度まで加熱されないためにこのとき還元触媒に
流入した排気ガスを良好に浄化できないという問題があ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記問題点を解決するた
めに本発明によれば、シリンダヘッドの一側に給気通路
を形成して給気弁を配置すると共にシリンダヘッドの他
側に排気通路を形成して排気弁を配置し、燃焼室から排
気ガスを排出するときにはまず排気弁が開弁して新気を
含まない既燃ガスを排気通路内に排出し次いで排気弁を
開弁しつつ給気弁を開弁して新気により燃焼室内を掃気
するようにした2サイクル内燃機関において、排気通路
内に該排気通路の軸線方向に延びる既燃ガス導入管を配
置すると共に既燃ガス導入口を排気通路の軸線上に配置
して前記既燃ガス導入管内周面により画定された第1の
排気通路を形成すると共に既燃ガス導入管外周面と排気
通路内周面間に環状をなす第2の排気通路を形成し、新
気を含まない既燃ガスが既燃ガス導入口から第1の排気
通路内に流入し次いで第1の排気通路内に配置された三
元触媒または還元触媒に流入すると共に新気を含んだ排
気ガスが少なくとも第2の排気通路内に流入するように
し、少なくとも第2の排気通路内に流入した排気ガスが
酸化触媒に流入するようにしている。
【0005】
【作用】三元触媒または還元触媒が第1の排気通路を流
れる排気ガスにより加熱されると共に第2の排気通路内
を流れる排気ガスによっても加熱される。
【0006】
【実施例】図1および図2を参照すると、1はシリンダ
ブロック、2はシリンダブロック1内で往復動するピス
トン、3はシリンダブロック1上に固定されたシリンダ
ヘッド、4はシリンダヘッド3の内壁面3aとピストン
2の頂面間に形成された燃焼室をそれぞれ示す。シリン
ダヘッド内壁面3a上には凹溝5が形成され、この凹溝
5の底壁面をなすシリンダヘッド内壁面部分3b上に一
対の給気弁6が配置される。一方、凹溝5を除くシリン
ダヘッド内壁面部分3cは傾斜したほぼ平坦をなし、こ
のシリンダヘッド内壁面部分3c上に3個の排気弁7が
配置される。シリンダヘッド内壁面部分3bとシリンダ
ヘッド内壁面部分3cは凹溝5の周壁8を介して互いに
接続されている。
【0007】この凹溝周壁8は給気弁6の周縁部に極め
て近接配置されかつ給気弁6の周縁部に沿って円弧状に
延びる一対のマスク壁8aと、給気弁6間に位置する新
気ガイド壁8bと、シリンダヘッド内壁面3aの周壁と
給気弁6間に位置する一対の新気ガイド壁8cとにより
構成される。各マスク壁8aは最大リフト位置にある給
気弁6よりも下方まで燃焼室4に向けて延びており、従
って排気弁7側に位置する給気弁6周縁部と弁座9間の
開口は給気弁6の開弁期間全体にわたってマスク壁8a
により閉鎖されることになる。また、各新気ガイド壁8
b,8cはほぼ同一平面内に位置しており、更にこれら
の新気ガイド壁8b,8cは両給気弁6の中心を結ぶ線
に対してほぼ平行に延びている。点火栓10はシリンダ
ヘッド内壁面3aの中心に位置するようにシリンダヘッ
ド内壁面部分3c上に配置されている。一方、排気弁7
に対しては排気弁7と弁座11間の開口を覆うマスク壁
が設けられておらず、従って排気弁7が開弁すると排気
弁7と弁座11間に形成される開口はその全体が燃焼室
4内に開口することになる。
【0008】図1および図3に示されるようにシリンダ
ヘッド3内には各給気弁6に対して給気ポート12が形
成され、各排気弁7に対して排気ポート13が形成され
る。排気ポート13は各排気ポート13に対して共通な
排気マニホルド14に連結され、次いで各気筒15に対
して共通な排気管16に連結される。各排気ポート13
内には排気ポート13の軸線方向に延びる既燃ガス導入
管17が配置され、その結果既燃ガス導入管17の内周
面により画定された第1の排気通路18が形成されると
共に既燃ガス導入管17外周面と排気ポート13あるい
は排気マニホルド14内周面間に環状をなす第2の排気
通路19が形成される。また排気弁7側に位置する既燃
ガス導入管17の開口から成る既燃ガス導入口20は排
気ポート13の軸線上に配置される。図3に示されるよ
うに第1の排気通路18内に流入した排気ガスは合流せ
しめられ次いで第1の排気通路18内に配置された三元
触媒21に流入せしめられる。三元触媒21から流出し
た排気ガスは第2の排気ガス19を通ってきた排気ガス
と合流せしめられ、次いで排気管16内に配置された酸
化触媒22に流入せしめられる。
【0009】また、各給気弁6近傍のシリンダヘッド内
壁面3aの周縁部に一対の燃料噴射弁、即ち第1燃料噴
射弁23aと第2燃料噴射弁23bとが配置され、図4
からわかるようにこれら燃料噴射弁23a,23bから
はシリンダ軸線方向に向けて燃料が噴射される。一方、
図4に示されるようにピストン2の頂面上には点火栓1
0の下方から第1燃料噴射弁23aの先端部の下方まで
延びる凹溝24が形成される。この凹溝24は点火栓1
0下方の凹溝端部24aから第1燃料噴射弁23a側に
向けて次第に拡開しつつほぼまっすぐに延びる一対の側
壁面24b,24cと、ほぼ平坦をなす底壁面24dと
により画定され、図4に示されるように凹溝端部24a
は第1燃料噴射弁23aと反対側に向けて凹んだ凹状断
面形状を有する。また、図4からわかるように凹溝端部
24aは点火栓10と第1燃料噴射弁23aの先端部と
を含む垂直平面K−K上に形成されており、各側壁面2
4b,24cはこの垂直平面K−Kに関して対称的な形
状を有する。したがって凹溝24は垂直平面K−Kに関
して対称的な形状を有することになる。また、図1に示
されるようにピストン2が上死点に達すると点火栓10
に関し凹溝24と反対側に位置するピストン2の頂面部
分とシリンダヘッド内壁面部分3cとの間にはスキッシ
ュエリア25が形成される。
【0010】ところで通常2サイクル内燃機関では排気
通路内に三元触媒を設けて排気ガスを浄化している。三
元触媒におけるNOX の浄化率は図5に示されるように
排気ガス中の酸素濃度に依存し、排気ガス中の酸素濃度
が或るしきい値を越えると三元触媒における浄化率は急
激に低下する。また、2サイクル内燃機関では排気弁7
を開弁しつつ給気弁6を開弁し、給気弁6を介して燃焼
室4内に導入された新気により燃焼室4内を掃気するよ
うにしている。ところがこのように排気弁7を開弁しつ
つ新気を導入して燃焼室4内を掃気するようにした場合
に掃気ガスを三元触媒に導入するとこの掃気ガス中には
多量の酸素が含まれているために三元触媒におけるNO
X の浄化が良好に行えなくなる。そこで本実施例ではま
ず排気弁7のみを開弁して酸素濃度が高くない排気ガス
が三元触媒21に連通された第1の排気通路19内を主
として通るようにしている。次いで排気弁7を開弁しつ
つ給気弁6を開弁して燃焼室4内に新気を導入し燃焼室
4内を掃気すると共に、多量の酸素を含んだ掃気ガスが
酸化触媒に連通された第2の排気通路を主として通るよ
うにしている。このため三元触媒21における排気ガス
中の酸素濃度が高くなることがなくなるために三元触媒
21における排気ガスの良好な浄化が確保できるように
なる。
【0011】図6から図8を参照して排気通路内におけ
る排気ガスおよび新気の流れを説明する。なお本実施例
では図6に示されるように排気弁7が給気弁6よりも先
に開弁し、排気弁7が給気弁6よりも先に閉弁する。
【0012】図7を参照すると給気弁6が閉弁したまま
で排気弁7が開弁を開始するとき燃焼室4内の圧力は排
気ポート13内の圧力に比べて極めて高くなっているた
めに燃焼室4内の既燃ガスが高速度で排気ポート13内
に流入する。このとき排気ポート13内に流入する既燃
ガスの一部は排気弁7の周面に沿って流れ排気ポート1
3の軸線方向に向かいまた排気ポート13の内周面に沿
って流れた既燃ガスは排気ポート13内周面との摩擦に
より減速されるために、その結果このとき排気ポート1
3内に流入した既燃ガスは排気ポート13の軸線上にお
いて最も高速度になると共に図7においてEで示される
ように既燃ガスが排気ポート13の軸線周辺部を流れる
ようになる。次いでこの既燃ガスは排気ポート13の軸
線上に配置された既燃ガス導入口20を介して既燃ガス
導入管17内周面により画定された第1の排気通路18
内に流入し、次いで第1の排気通路18内に配置された
三元触媒21に流入する。三元触媒21に流入する既燃
ガスには多量の酸素が含まれていないために三元触媒2
1におけるNOX の還元能力が低下されるのが阻止でき
る。
【0013】次いで図8に示されるように排気弁7を開
弁しつつ給気弁6を開弁して燃焼室4内に新気を導入
し、燃焼室4底部に残留している既燃ガスを掃気する。
このときの排気弁7の開度は大きくまた燃焼室4内と排
気弁13内間の圧力差は小さくなっているためにこのと
き排気ポート13内に流入する掃気ガスの速度は低くな
っている。また図8においてE′で示されるように排気
ポート13の半径方向に関する掃気ガスの速度勾配も小
さくなっている。次いでこの掃気ガスは既燃ガス導入口
20に向かうが、三元触媒21における既燃ガスの浄化
反応は発熱反応であるので三元触媒21に既燃ガスが導
入され浄化反応が行われると第1の排気通路18内の温
度が上昇すると共に第1の排気通路18内の圧力が上昇
するためにこの掃気ガスは第1の排気通路18内に流入
しにくくなり、その結果掃気ガスは第2の排気通路19
に流入するようになる。したがって酸素を多量に含んだ
掃気ガスが三元触媒21に流入するのが阻止でき、三元
触媒21におけるNOX の良好な還元が確保される。
【0014】また、図1および図3に示されるように第
2の排気通路19は第1の排気通路18周りに環状をな
すように形成されているので第2の排気通路19内に掃
気ガスが流入することによって三元触媒21を外側から
加熱することができる。その結果三元触媒21は第1の
排気通路18を介して三元触媒21内に流入する既燃ガ
スによって加熱されると共に第2の排気通路19内に流
入する掃気ガスによっても加熱されるようになる。した
がって、例えば機関始動時のように排気ガス温度が低い
ときであっても三元触媒21をその活性温度まで加熱す
ることができるために三元触媒21における排気ガスの
良好な浄化が確保できる。
【0015】第1の排気通路18および第2の排気通路
19内をそれぞれ流れた排気ガスは図3に示されるよう
に三元触媒21の下流で合流せしめられ、次いで酸化触
媒22に導入される。酸化触媒22では特にCOおよび
未燃HCが浄化せしめられる。
【0016】図9および図10を参照して燃焼室4内に
おける新気の流れを説明する。図9を参照すると給気弁
6および排気弁7が開弁すると矢印Wで示されるように
各給気弁6を介して燃焼室4内に空気が流入する。この
とき、排気弁7側の各給気弁6の開口はマスク壁8aに
よって覆われているので空気はマスク壁8aと反対側の
各給気弁6の開口から燃焼室4内に流入する。この空気
は矢印W1およびW2で示すように互いに並列して流動
する一対の空気流の形で各給気弁6下方のシリンダボア
内壁面に沿いつつ下降し、次いで図9および図10に示
されるように各空気流W1およびW2は互いに並列して
ピストン2の頂面上を排気弁7下方のシリンダボア内壁
面に向けて流れる。
【0017】このときに一方の空気流W1は凹溝24内
に流入し、次いで凹溝側壁面24bにより案内されて凹
溝端部24aに向かう。次いでこの空気流W1は凹溝端
部24aにおいて上方に向きを変え、燃焼室4の中央部
を上方に向けて流れる。これに対して他方の空気流W2
はほとんど凹溝24内に流入することなくピストン2の
頂面上をまっすぐに流れ、排気弁7下方のシリンダボア
内壁面に達する。図10からわかるようにこの空気流W
2は燃焼室4の周辺方向に沿って流れており、したがっ
てこの空気流W2は排気弁7下方のシリンダボア内壁面
に達するとシリンダボア内壁面に沿って旋回しつつ上昇
する。
【0018】すなわち、空気流W1も空気流W2と同様
にピストン2の頂面上をまっすぐに流れたとすると空気
流W2が旋回しようとしても空気流W1に阻まれて旋回
することができず、したがってこの場合には空気流W1
およびW2は旋回することなく互いに並列をなして排気
弁7下方のシリンダボア内壁面に沿って上昇する。しか
しながら一方の空気流W1の流動を側壁面24bによっ
て阻止すると他方の空気流W2がシリンダボア内壁面に
達したときにはこの空気流W2の旋回運動はもはや空気
流W1によって阻止されず、その結果この空気流W2は
シリンダボア内壁面に沿って旋回することになる。
【0019】このように旋回する空気流W2が発生する
と給気弁6から空気が流入するにつれてピストン2の頂
面上に形成される空気層が徐々に増大していき、このた
め燃焼室4の上部領域に存在する既燃ガスから順次排出
されていく。その結果、良好な掃気作用が確保されるこ
とになる。なお、ピストン2が下死点BDCを過ぎて上
昇を開始するとその後各燃料噴射弁23a,23bから
の燃料噴射作用が開始されるが空気流W2の旋回運動は
排気弁7が閉弁した後、圧縮行程未期まで持続する。
【0020】これまで述べてきた実施例では第1の排気
通路18内に三元触媒21が配置されたが三元触媒の代
わりに還元触媒を配置してもよい。また、第2の排気通
路19内に流入した排気ガスのみを酸化触媒22に導入
するようにしてもよい。
【0021】
【発明の効果】三元触媒の周りに環状をなす第2の排気
通路を設けてこの第2の排気通路内に排気ガスを流入せ
しめるようにして三元触媒を外周面からも加熱するよう
にしているので排気ガス温度が低いときにも三元触媒の
触媒活性を確保できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】2サイクル機関の断面図である。
【図2】シリンダヘッドの底面図である。
【図3】2サイクル機関の全体図である。
【図4】ピストン頂面の平面図である。
【図5】三元触媒におけるNOX の浄化率と排気ガス中
の酸素濃度との関係を示す線図である。
【図6】給気弁の開閉時期と排気弁の開閉時期との関係
を示す線図である。
【図7】排気行程時を示す2サイクル機関の側面断面図
である。
【図8】掃気行程時を示す2サイクル機関の側面断面図
である。
【図9】掃気行程時を示す2サイクル機関の側面断面図
である。
【図10】掃気行程を示すピストン頂面の平面図であ
る。
【符号の説明】
6…給気弁 7…排気弁 13…排気ポート 18…第1の排気通路 19…第2の排気通路 20…既燃ガス導入口 21…三元触媒 22…酸化触媒
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 F02B 25/20 B 7114−3G

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シリンダヘッドの一側に給気通路を形成
    して給気弁を配置すると共にシリンダヘッドの他側に排
    気通路を形成して排気弁を配置し、燃焼室から排気ガス
    を排出するときにはまず排気弁が開弁して新気を含まな
    い既燃ガスを排気通路内に排出し次いで排気弁を開弁し
    つつ給気弁を開弁して新気により燃焼室内を掃気するよ
    うにした2サイクル内燃機関において、排気通路内に該
    排気通路の軸線方向に延びる既燃ガス導入管を配置する
    と共に既燃ガス導入口を排気通路の軸線上に配置して前
    記既燃ガス導入管内周面により画定された第1の排気通
    路を形成すると共に既燃ガス導入管外周面と排気通路内
    周面間に環状をなす第2の排気通路を形成し、新気を含
    まない既燃ガスが既燃ガス導入口から第1の排気通路内
    に流入し次いで第1の排気通路内に配置された三元触媒
    または還元触媒に流入すると共に新気を含んだ排気ガス
    が少なくとも第2の排気通路内に流入するようにし、少
    なくとも第2の排気通路内に流入した排気ガスが酸化触
    媒に流入するようにした2サイクル内燃機関。
JP31205092A 1992-11-20 1992-11-20 2サイクル内燃機関 Pending JPH06159047A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5569441A (en) * 1993-12-04 1996-10-29 Degussa Aktiengesellschaft System for accelerating the heating rate of a fixed bed catalyst by supplying supplemental energy
JP2012077651A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Toyota Motor Corp エンジン

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