JPH06150363A - 光ピックアップヘッド装置 - Google Patents
光ピックアップヘッド装置Info
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- JPH06150363A JPH06150363A JP4301917A JP30191792A JPH06150363A JP H06150363 A JPH06150363 A JP H06150363A JP 4301917 A JP4301917 A JP 4301917A JP 30191792 A JP30191792 A JP 30191792A JP H06150363 A JPH06150363 A JP H06150363A
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Abstract
の情報読出しにおけるクロストークを抑圧して高密度読
出しが可能な光ピックアップヘッド装置を実現する。 【構成】 直線偏光の第1のコヒーレント光源1Aから
出射する光ビームは主ビームとして対物レンズ5Aを介
して光ディスク6Aの面上に集光される。第2のコヒー
レント光源1Bから出射する光ビームは主ビームとは偏
光面が互いに直交する直線偏光ビームであり、同じく光
ディスク6Aの面上に主ビームと中心が一致する双峰状
ビームとして集光される。主ビーム及び副ビームは光デ
ィスクの情報記録面上を重畳された様態のもとに走査さ
れた後、復路においては、偏光性ホログラム素子7Aを
通過することにより主ビームと副ビームとに分離され
る。分離された主ビーム及び副ビームは集積化光検出器
8において別々に検出される。図示しない読出し信号演
算手段は、集積化光検出器8からの出力信号によりクロ
ストークが抑圧された情報読出し信号を演算する。
Description
高密度の情報読出しを行なう光ピックアップヘッド装置
に関し、特に光ディスク用の光ピックアップヘッド装置
に関する。
ては、情報読み出し性能は基本的には集光ビームの半値
幅εで制約される。ここに、εは光源の波長λと集光用
の対物レンズの開口数NAで与えられる。すなわち、 ε=α×(λ/NA)……………(1) 但し、αは対物レンズの開口形状及び開口面におけるビ
ームの複数振幅分布によって決まる定数である。
図21のようにピット状に形成された離散的なパターン
50a,50b,50c,……によって構成されてい
る。ここで読出しビーム50Aのビームサイズは(1)
式で律則されているため、εがトラックピッチpt に比
べて充分に小さくない場合には、読出しビームが隣接す
るトラックの信号をも読み出してしまい、このクロスト
ークによって正確で且つ安定した信号の読出しができな
くなるという問題がある。
特開昭57−58248号公報に示されるように高密度
読出しが可能な光ピックアップヘッド装置が提案されて
いる。この光ピックアップヘッド装置は、図21に示す
ように、読出し用ビームとして、中心に位置する第1の
光ビーム50Aと、該第1の光ビーム50Aの両側に位
置する第2の光ビーム50B及び第3の光ビーム50C
とからなる3個の光ビームを用い、第2及び第3の光ビ
ーム50B,50Cを第1の光ビーム50Aからトラッ
クの直交方向へトラックピッチpt だけ離している。
図22に示すようなものである。すなわち、光源として
は、第1の半導体レーザ51、第2の半導体レーザ52
及び第3の半導体レーザ53が用いられている。第1の
半導体レーザ51から出射された光ビームは第1のビー
ムスプリッタ54、コリメートレンズ55及び第2のビ
ームスプリッタ56を通過した後、対物レンズ57によ
り集光されて光ディスク58の情報記録面に至る。第2
の半導体レーザ52から出射されたビーム及び第3の半
導体レーザ53から出射されたビームは、それぞれ第3
のビームスプリッタ59、第1のビームスプリッタ5
4、コリメートレンズ55及び第2のビームスプリッタ
56を通過した後、対物レンズ57により集光されて光
ディスク58の情報記録面に至る。第1〜第3の半導体
レーザ51,52,53から出射された3つの光ビーム
は所定の位置関係をもって光ディスク58の情報記録面
に結像される。各光ビームの反射光はそれぞれ逆進して
再び第1〜第3の半導体レーザ51,52,53側に戻
り、その自己結合効果によってそれぞれの光ビームによ
り読出された信号が検出される。
0Cの隣接トラックへのクロストーク量をkとすると、
第1〜第3の光ビーム50A,50B,50Cから得ら
れる信号光量SA ,SB ,SC は次のようになる。すな
わち、 SA =kS-1+S0 +kS+1 (2) SB =kS-2+S-1+kS0 (3) SC =kS0 +S-1+kS+2 (4) ここに、S-2,S-1,S0 ,S+1,S+2は各トラック−
2,−1,0,+1,+2の中心部にビームを入射した
ときに得られる信号光量を表わしており、第2の隣接ト
ラックからの寄与は小さいために、無視している。
トーク抑圧の演算処理方式としては、以下の関係式が得
られる。
2kのオーダであったが、(5)式のように演算処理す
ればクロストーク量を2k2 /(1−2k2 )にまで、
つまり略2k2 のオーダにまで減らすことができる。こ
のため、記録したピットのトラックピッチpt を狭くす
ることができる。
チpt の程度にまで互いに接近した第1〜第3の光ビー
ム50A,50B,50Cを正確に光ディスク58の情
報記録面に集光するには、3個の独立した第1〜第3の
半導体レーザ51,52,53からの光ビームをそれぞ
れ高精度に調整して1つの光束にまとめる必要がある。
また、互いに部分的に重畳した状態で光ディスク58か
ら反射して戻ってくる光ビームを互いに分離して独立の
光検出器に導くことができないため、第1〜第3の半導
体レーザ51,52,53の自己結合効果によって信号
読出しをしている。
の半導体レーザ51,52,53に生じる固有の戻り光
雑音の影響を避けることが困難であり、安定したS/N
比の高い信号が得られなかった。
Optical Disk Drive for HighData Transfer Rate Sys
tems, ”Proc.Int.Symp.on Optical Memory,1991,pp.26
8-272 に示されているように、独立した光検出器を用い
て隣接トラック上の情報読出しを行なうことができる方
法が提案されている。すなわち、図23に示すように、
主ビーム60と副ビーム60A,60Bとの間にそれぞ
れ充分な大きさのトラック方向の距離lを設け、主ビー
ム60及び副ビーム60A,60Bの光電変換出力信号
を適応型ディジタルフィルタを用いて演算処理を行な
い、隣接するトラックからの再生信号及び記録線密度方
向の符号間干渉を抑圧する方法である。尚、図23にお
いて、61は遅延回路、62は演算回路、63は読出し
信号出力である。
においては、十数μm以上離れた主ビーム60及び副ビ
ーム60A,60Bが光ディスクの内周側と外周側との
いずれにおいても正確な距離lを保ちつつトラック上を
走査するように、主ビーム60及び副ビーム60A,6
0Bのスポット位置を調整するための複雑な光学系及び
制御機構を必要とするので、光ピックアップヘッド装置
の小型化及び安定化の面で問題がある。
0Bとの間の時間遅れを補償するタイミング制御やその
他の複雑な信号処理も必要である。
によって、隣接するトラック間のクロストーク及び記録
線密度方向のクロストークつまり符号間干渉を抑圧する
ことができる光ピックアップヘッド装置を提供すること
を目的とする。
め、請求項1の発明は、互いに偏光面が直交する一対の
光ビームを、例えば一方の光ビームは通常のAiryパ
ターン状に集光されたスポット形状で、他方の光ビーム
は双峰状をなす光軸対称状で、光ディスクのピット面上
に重畳して集光させ、光ディスクのピット面で反射され
た集光ビームを主ビームの偏光面と副ビームの偏光面と
が互いに直交することを利用して分離した後、光検出器
により別々に検出するものである。
光ピックアップヘッド装置を、主ビームとなるコヒーレ
ント光を発する第1のコヒーレント光源と、該第1のコ
ヒーレント光源から発せられるコヒーレント光の偏光面
と直交する偏光面を有するコヒーレント光を発する第2
のコヒーレント光源と、該第2のコヒーレント光源から
発せられたコヒーレント光の入射を受け上記主ビームの
中心の少なくとも両側にピーク値を持つ光強度分布を有
する副ビームを出射する位相板と、上記主ビームと上記
位相板から出射された副ビームとを重畳せしめて光ディ
スクの情報記録面に集光する集光手段と、上記光ディス
クの情報記録面から反射されてきた集光ビームの入射を
受け、該集光ビームを主ビームと副ビームとに分離して
出射する偏光分離手段と、該偏光分離手段から出射され
てきた主ビーム及び副ビームの光強度を別々に検出して
出力する光検出手段と、該光検出手段からの出力信号に
基づきクロストークが抑圧された情報読出し信号を演算
する読出し信号演算手段とを備えている構成とするもの
である。
第2のコヒーレント光源を簡易に得るために、請求項1
の構成に、上記第1及び第2のコヒーレント光源は、そ
れぞれの偏光面が互いに直交するように配置された一対
の直線偏光レーザであるという構成を付加するものであ
る。
手段を簡易且つ確実に得るため、請求項1又は2の構成
に、上記偏光分離手段は、屈折率一軸異方性を有する基
板と、該基板の上に形成された偏光性ホログラムとから
なる偏光性ホログラム素子であるという構成を付加する
ものである。
果を一層向上させるため、請求項1〜3の構成に、上記
光検出手段は主ビームの光強度を検出する主ビーム検出
器と副ビームの光強度を検出する副ビーム検出器とから
なり、該副ビーム検出器は上記光ディスクのトラック接
線方向と平行な方向に分割された2つの光検出器からな
り、該2つの光検出器から得られる差動出力信号をトラ
ッキング誤差信号として出力する誤差信号出力手段を備
えているという構成を付加するものである。
源から発せられた光ビームを、偏光性位相板によって、
例えば、互いに直交する偏光面を有し、通常のAiry
パターン状に集光されたスポット形状の光ビームと双峰
状をなす光軸対称の光ビームとに分離した後、光ディス
クのピット面上に重畳して集光させ、光ディスクのピッ
ト面で反射された集光ビームを主ビームの偏光面と副ビ
ームの偏光面とが互いに直交することを利用して分離し
光検出器により別々に検出するものである。
は、光ピックアップヘッド装置は、コヒーレント光を発
するコヒーレント光源と、該コヒーレント光源から発せ
られたコヒーレント光の入射を受け、主ビームと該主ビ
ームの偏光面と直交する偏光面を有し且つ上記主ビーム
の中心の少なくとも両側にピーク値を持つ光強度分布を
有する副ビームとを出射する偏光性位相板と、該偏光性
位相板から出射された主ビーム及び副ビームを重畳せし
めて光ディスクの情報記録面に集光する集光手段と、上
記光ディスクの情報記録面から反射されてきた集光ビー
ムの入射を受け、該集光ビームを主ビームと副ビームと
に分離して出射する偏光分離手段と、該偏光分離手段か
ら出射されてきた主ビーム及び副ビームの光強度を別々
に検出して出力する光検出手段と、該光検出器からの出
力信号に基づきクロストークが抑圧された情報読出し信
号を演算する読出し信号演算手段とを備えている構成と
するものである。
相板を具体化するものであって、請求項5の構成に、上
記偏光性位相板は、上記コヒーレント光源から発せられ
たコヒーレント光を一の方向の偏光面を有する光成分と
該一の方向と直交する偏光面を有する光成分とに分離
し、上記一の方向の偏光面を有する光成分を主ビームと
して出射し、上記一の方向と直交する方向の偏光面を有
する光成分に対して相対的位相差を与えない第1の領域
とπの相対的位相差を与える第2の領域とを有しており
該第1及び第2の領域を通過する光成分を上記副ビーム
として出射するという構成を付加するものである。
間のクロストークのみならず、記録線密度方向のクロス
トークをも抑圧し、トラック間干渉及び符号間干渉が共
に抑圧された信号読出しを可能にするため、請求項6の
構成に、上記第1の領域及び第2の領域は、上記偏光性
位相板における中心回りに分割された4領域に交互に2
領域づつ形成されているという構成を付加するものであ
る。
板を簡易且つ確実に得るために、請求項5の構成に、上
記偏光性位相板は、上記コヒーレント光源から発せられ
たコヒーレント光のうち一の方向の偏光面を有する光成
分は相対的位相差を与えることなく出射し、上記コヒー
レント光源から発せられたコヒーレント光のうち上記一
の方向と直交する方向の偏光面を有する光成分にπ/2
の相対的位相差を与える第1の領域と、上記コヒーレン
ト光源から発せられたコヒーレント光のうち上記一の方
向と直交する方向の偏光面を有する光成分にπの相対的
位相差を与える第2の領域とを備えており、上記第1及
び第2の領域を通過する光成分を副ビームとして出射す
るという構成を付加するものである。
に、光ディスクのトラック間のクロストークのみなら
ず、記録線密度方向のクロストークをも抑圧し、トラッ
ク間干渉及び符号間干渉が共に抑圧された信号読出しを
可能にするため、請求項5の構成に、上記偏光性位相板
は、上記コヒーレント光源から発せられたコヒーレント
光のうち一の方向の偏光面を有する光成分を相対的位相
差を与えることなく上記主ビームとして出射し、上記コ
ヒーレント光源から発せられたコヒーレント光のうち、
上記一の方向と直交する方向の偏光成分には基準の位相
差零を与えて出射する第1の領域、上記コヒーレント光
源から発せられたコヒーレント光のうち上記一の方向と
直交する方向の偏光面を有する光成分にπ/2の相対的
位相差を与える第2の領域、及び上記コヒーレント光源
から発せられたコヒーレント光のうち上記一の方向と直
交する方向の偏光面を有する光成分にπの相対的位相差
を与える第3の領域が互いに平行な領域境界線を介して
形成された一対の位相板により構成され、各位相板はそ
れぞれの領域境界線が互いに直交するように配設されて
いるという構成を付加するものである。
光分離手段を簡易且つ確実に得るため、請求項5〜9の
構成に、上記偏光分離手段は、屈折率一軸異方性を有す
る基板と、該基板の上に形成された偏光性ホログラムと
からなる偏光性ホログラム素子であるという構成を付加
するものである。
号検出並びにクロストーク抑圧の効果を一層向上させる
ため、請求項5〜10の構成に、上記光検出手段は主ビ
ームの光強度を検出する主ビーム検出器と副ビームの光
強度を検出する副ビーム検出器とからなり、該副ビーム
検出器は上記光ディスクのトラック方向に分割された2
つの光検出器からなり、該2つの光検出器から得られる
差動出力信号をトラッキング誤差信号として出力する誤
差信号出力手段を備えているという構成を付加するもの
である。
ry disc状パターンのプロファイルを形成する
が、主ビームと偏光面が直交する副ビームは集光面で主
ビームの半値幅よりやや大きい半値幅を有するプロファ
イルを有するので、光ディスクの情報記録面における隣
接するトラック上の情報をより多く含むビームとして反
射される。
た集光ビームは偏光分離手段によって主ビームと副ビー
ムとに分離された後、光検出手段によって主ビームの光
強度と副ビームの光強度とが別々に検出される。
交する直線偏光のコヒーレント光源を簡易且つ確実に得
ることができる。
により形成される偏光性ホログラムを用いて請求項1に
記載された位相板を簡易且つ確実に得ることができる。
を検出する副ビーム検出器を、光ディスクのトラック接
線方向と平行な方向に分割された2つの光検出器から構
成したため、トラッキング誤差信号検出及びより精度の
高いクロストーク抑圧を行なうことができる。
ト光源から発した光ビームが偏光性位相板を通過する
と、主ビームと、該主ビームの偏光面と直交する偏光面
を有し且つ上記主ビームの中心の少なくとも両側にピー
ク値を持つ光強度分布を有する副ビームとが出射される
ので、単一のコヒーレント光源によって偏光面が互いに
直交する一対のコヒーレント光を得ることができる。
スクの情報記録面において回折限界の半値幅を有するビ
ームとなり、副ビームは偏光性位相板を通過することに
より開口面1/2の領域でπの相対的位相差を与えら
れ、光ディスクの情報記録面において回折限界の略2倍
の半値幅を有する双峰状のビームとなる。この場合、主
ビーム及び副ビームが各ビーム中心が一致した状態で集
光されて光ディスクの情報記録面の所定トラック上を走
査されるとき、副ビームによって得られる読出し信号に
おけるクロストーク比は、主ビームによって得られる読
出し信号におけるクロストーク比よりも格段に大きくな
るので、主ビームに含まれるクロストーク量に等しいク
ロストーク量を含む水準にまで副ビームを減衰させるか
又は回路処理によって等価の演算を施すことによってク
ロストークが抑圧された高密度情報読出しを行なうこと
が可能になる。
ビームの中心の両側にピーク値を持つ双峰状の光強度分
布を有するビームが互いに直交することにより形成され
る四峰状の光強度分布を有する副ビームとを単一のコヒ
ーレント光源から得ることができるので、光ディスクの
トラック間のクロストークのみならず、記録線密度方向
のクロストークをも抑圧し、トラック間干渉及び符号間
干渉が共に抑圧された信号読出しが可能になる。
する副ビームの光成分を基準として、第2及び第3の領
域を通過する光成分はπ/2及びπの相対的位相差をそ
れぞれ与えられた副ビームとして出射されるので、請求
項6の構成と略等価な双峰状の集光ビームを得ることが
できる。
ビームの中心の両側にピーク値を持つ双峰状の光強度分
布を有するビームが互いに直交することにより形成され
る四峰状の光強度分布を有する副ビームとを単一のコヒ
ーレント光源から得ることができるので、光ディスクの
トラック間のクロストークのみならず、記録線密度方向
のクロストークをも抑圧し、トラック間干渉及び符号間
干渉が共に抑圧された信号読出しが可能になる。
術により形成される偏光性ホログラムを用いて請求項5
に記載された位相板を簡易且つ確実に得ることができ
る。
度を検出する副ビーム検出器を、光ディスクのトラック
接線方向と平行な方向に分割された2つの光検出器から
構成したため、トラッキング誤差信号検出及びより精度
の高いクロストーク抑圧を行なうことができる。
る。
クアップヘッド装置の概略構成を示している。
直線偏光の第1のコヒーレント光源1Aから出射された
光ビームは、第1のコリメートレンズ2A、偏光ビーム
スプリッタ3及びビームスプリッタ4Aを通過した後、
集光用の対物レンズ5Aにより集光されて光ディスク6
のピット面(光情報記録面)に結像する。光ディスク6
のピット面に結像した後反射された光ビームは、復路に
おいて、対物レンズ5A、ビームスプリッタ4A、偏光
性ホログラム素子7Aを通過した後、第2のコリメート
レンズ2Bにより集光されて9つの光検出器からなる集
積化光検出器8に至る。尚、図1において5aは対物レ
ンズ5Aを駆動するアクチュエータである。
ォーカシング及びトラッキング誤差信号を検出するため
のスポットサイズディテクション(SSD)法及びプッ
シュプル法を実現するサーボ信号検出用ホログラム素子
(特開昭50−78341号、特開昭62−25102
5号、特開昭62−251026号及びUSP4,92
9,823を参照)の作用により、集積化光検出器8に
おける光軸上に位置する光検出器8a以外の8個の光検
出器8b,8c,8d,8e,8f,8g,8h,8i
(図2に詳細を示す)上にそれぞれ集光し検出される。
示しており、該偏光性ホログラム素子7Aは、ニオブ酸
リチウム(LiNbO3 )の結晶からなる屈折率一軸異
方性の基板7aにおける上記結晶のLiをHで置換する
プロトン交換を利用した屈折率異方性ホログラム素子で
ある。図3に示すように、X板カットの基板7a上にリ
ソグラフィー技術を用いて格子状パターンのプロトン交
換領域7bを形成すると、偏光性ホログラム素子7A
は、Y方向の偏光面を有する偏光成分(常光と称する)
に対しては(0,π)型の位相格子となり、Z方向の偏
光面を有する偏光成分(異常光と称する)に対しては一
様な透明体基板となる。図1における第1のコヒーレン
ト光源1Aからの光ビームは、上述した常光(図1にお
いて◎で示す)に相当し、偏光性ホログラム素子7Aに
よって回折される。
子7Aに形成されるパターンの例を示している。(a)
は、ニオブ酸リチウムからなる基板7a上に形成された
プロトン交換領域7b及びプロトン非交換領域7cによ
って構成されるフォーカシング誤差信号用フレネルゾー
ンプレート(off-axis Fresnel Zone-Plate )の格子パ
ターン、並びにトラッキング誤差信号検出用の格子パタ
ーン7d,7e(同じくプロトン交換領域とプロトン非
交換領域とが交互に繰返される領域)の配置を概念的に
示し、(b)は(a)におけるb−b線の断面構造を模
式的に示している。
常光を回折させない条件は、プロトン交換領域の厚さd
3 及び位相補償溝(後述)の深さd2 が (2π/λ){Δno ×d3 +(1−n0 )×d2 }=−π……(7) (2π/λ){Δne ×d3 +(1−ne )×d2 }=0………(8) を満足することにより実現される。ここに、λは入射光
の波長、Δno は常光に対するプロトン交換による屈折
率の減少分、Δne は異常光に対するプロトン交換によ
る屈折率の増加分である。
及びプロトン交換による屈折率変化のデータ例を示して
いる。
らなる直線偏光の第2のコヒーレント光源1Bから出射
された光ビームは、第3のコリメートレンズレンズ2
C、図6に詳細を示す(0,π)の2位相領域を有する
位相板9、偏光ビームスプリッタ3及びビームスプリッ
タ4Aを通過した後、対物レンズ5Aにより集光されて
光ディスク6のピット面に結像する。光ディスク6のピ
ット面に結像した後反射された光は、復路において、対
物レンズ5A、ビームスプリッタ4A、偏光性ホログラ
ム素子7Aを通過した後、第2のコリメートレンズ2B
によって集光されて集積化光検出器8に至る。
る光ビームの偏光面は、第1のコヒーレント光源1Aか
ら出射される光ビームの偏光面と互いに直交している。
つまり、偏光性ホログラム素子7の基板7aの結晶軸に
関し、第1のコヒーレント光源1Aからの光ビームを常
光とすれば、第2のコヒーレント光源1Bからの光ビー
ムは異常光である。
のプロファイルを説明する模式図である。屈折率nの透
明基板(例えば石英ガラスの場合ならば、nは略1.4
1である)に段差d1 を設け、(1−n)×d1 =λ/
2とする。いま簡単のために一次元のモデルで示すなら
ば、開口幅2aの位相板7を波長λの平行光で照明した
ときに対物レンズ5Aの焦点面に得られる複素振幅分布
u(ξ)は、
fは対物レンズ5Aの焦点距離である。
れる。
におけるsinc〔(2π/λf)×(a/λ)×ξ〕
を、破線22は(10)式におけるsin〔(2π/λ
f)×(a/λ)×ξ〕を参考のために示しており、細
い実線23はsinc〔(2π/λf)×(a/λ)×
ξ〕とsin〔(2π/λf)×(a/λ)×ξ〕との
積の項を示し、太い実線24は(11)式のI(ξ)を
示している。1点鎖線25は位相板同一の開口幅2aに
より決まる回折限界の集光ビームのプロファイルを比較
のために示している(ピーク値は任意尺度である)。
し集光された双峰状ビーム24の半値幅は、回折限界の
集光ビーム25の半値幅に比べて2倍程度に広がってお
り、双峰状ビーム24は、集光ビーム25を主ビームと
して情報読出しに使った場合に生じるクロストークを抑
圧できる副ビームとして効果的であることが容易に理解
できる。
ることが好ましい。すなわち、位相板9の位相境界線9
aが読取点における光ディスク6のトラックの接線方向
と平行になるようにすると、副ビームである双峰状ビー
ム24は、主ビームである集光ビーム25が走査するト
ラックに隣接するトラック上を、双峰状ビーム24のピ
ークが主ビームである集光ビーム25のプロファイルの
裾野部分と重なり合う位置関係を有しつつ走査するた
め、トラック間のクロストークを抑圧するのに適した配
置となる。
における光ディスク6のトラックの接線方向と直交する
方向に向けた場合には、記録線密度方向における符号間
干渉を抑圧するのに適する。この場合には、主ビームと
副ビームとは時間的な遅れが生じることなく同時に検出
されるので、図7に示すような簡単な演算処理によって
クロストーク抑圧の目的を達することが可能となる。
26Bは第2の増幅回路、27は差動演算回路である。
副ビームを受光した集積化光検出器8の光検出器8aの
出力S0 は第2の増幅回路26Bに、主ビームを受光し
た集積化光検出器8の光検出器8b,8c,8d,8
f,8g,8hの出力信号の総和S4 は第1の増幅回路
26Aに入力される。第1及び第2の増幅回路26A,
26Bの増幅率G1 ,G2 は、差動演算回路27からの
出力S5 においてクロストーク成分が最も小さくなるよ
うに設定すればよく、例えば、主ビームを受光した光検
出器8b,8c,8d,8f,8g,8hの出力信号の
総和S4 におけるクロストーク成分と、副ビームを受光
した光検出器8aの出力S0 における上記出力信号の総
和S4 に含まれるクロストーク成分と同じ信号成分との
比が0.1:1.0であれば、第1の増幅回路26Aの
増幅率G1 と、第2の増幅回路26Bの増幅率G2 との
比を1:0.1にすればよい。
てクロストークを抑圧する方法について述べたが、複数
の遅延回路及びメモリー回路を設けて多段の信号処理を
行なうことにより、クロストーク成分のいっそうの抑圧
や波形等化が実現可能であることは言うまでもない。従
来から広く用いられているトランスバーサルフィルター
(上述したR.Katayama et al,の文献を参照)を本発明
に適用することができるのはもちろんである。
す高密度記録が容易なランドグルーブ型の溝付光ディス
クを用いており、一設計例としてランド(グルーブ)の
ピッチが通常のディスクで用いられる1.6μmに設定
された基板を用いる場合、トラッキング誤差信号はプッ
シュプル方式で充分に検出可能である。尚、図8におい
て、30は主ビーム32のビームスポット、31A,3
1Bは偏光分離された副ビーム33のビームスポットで
ある。
て、集積化光検出器8における光検出器8a(図2を参
照)に代えて、該光検出器8aを、Y方向(読出し点で
のトラック接線方向と平行な方向)に2分割してなる第
1の光検出器8aa及び第2の光検出器8abによって
構成する例を示している。このようにすると、第1及び
第2の光検出器8aa,8abからの出力信号Saa,S
abをそれぞれ演算処理して、より精度の高いクロストー
ク抑圧の効果を上げることが可能になる。すなわち、図
23に基づき説明した適応型ディジタルフィルタと同様
の演算も可能である。
ビームを用いるときには、4分割の光検出器を用いて、
同様に高精度の情報読出しを実行することが可能とな
る。この場合には、図23に示す構成と異なり、3ビー
ム間の時間遅れの補償は不要である。また、上記2分割
又は4分割の光検出器からの差動出力を用いて、副ビー
ムからのトラッキング誤差信号を得ることも可能であ
る。このようにすると、主ビームによるフォーカシング
誤差の影響を受けることなく、トラッキング誤差信号が
得られ、安定したトラッキングサーボが可能になる。ト
ラッキング誤差信号の安定検出はトラック間距離がより
狭くなるに従い困難となるが、本第1実施例において
は、副ビームによるトラッキング制御は双峰状又は4峰
状のビームパターンの特質を利用することによって狭ト
ラック化された光ディスクの安定した読出しが可能とな
る。
ット列のみで構成される光ディスク6の情報パターンの
例を示す。同図に示すように、トラックピッチpのピッ
トの幅wが略(1/4)×pである光ディスク6に対し
ては、図9に示すような2分割された第1及び第2光検
出器8aa,8abから出力される信号成分の差動をと
ると、3ビーム法として知られるトラッキング誤差信号
の検出を副ビームから安定して得ることができる。
副ビームは、光ディスク6のピット面上で中心が常に一
致した安定な状態で走査される。副ビームは、復路にお
いて偏光性ホログラム素子7Aに入射するときには回折
されず、図9に示すように偏光分離された副ビーム33
として透過した後、集積化検出器8の光検出器8a(図
2を参照)に集光され検出される。
つの端子Sb 〜Si からの出力合計から端子Sa の出力
を減算処理することによりクロストーク抑圧を実現でき
る。図6においては、ビームパワーのピーク値を主ビー
ム対副ビームの比を4:1程度として図示したが、図8
のような倍トラック密度の光ディスクの読出しにおいて
は10:1程度でよい。
とによって最適なクロストーク抑圧条件のもとに系を設
計できることは勿論である。第1のコヒーレント光源1
Aと第2のコヒーレント光源1Bとの出力比を調整して
同様の効果を得ることもできる。
変形例に係る位相板9Bを模式的に示しており、該位相
板9Bは4分割された位相領域9b,9b,9c,9c
を有している。また、図11(b)は、該第2変形例に
係る位相板9Bを用いる場合のパワースペクトル面での
集光ビームの概略分布を示している。このような位相板
9Bを用いることによって4つの峰を有する集光ビーム
が得られ、主ビームが光ディスク6のピット面を走査す
るとき被るトラック間干渉及び符号間干渉の両クロスト
ーク成分を並列的且つ同時処理的に相殺することができ
る。
3変形例に係る位相板9Cを模式的に示しており、該位
相板9Cは3分割された位相領域9d,9e,9dを有
している。また、図12(b)は、該第3変形例に係る
位相板9Cを用いる場合の矩形開口2aの対物レンズ系
の焦点面におけるビームプロファイル28(ξ≧0)を
示している。
施例の他の変形例に係る位相板9D,9E,9F,9G
を模式的に示しており、分割領域数が、2,3,4と増
えるに従って、副ビームのピーク位置は光軸から離れ
る。
は、位相板の断面形状が矩形状を示す様に構成されてい
たが、これに代えて、正弦波又は三角波状のものを用い
てもよいと共に振幅分布を有する位相板又は回折型素子
を用いてもよい。
ッドピックアップ装置の概略構成を示している。該第2
実施例は、第1実施例における光学系を更に簡素化して
部品点数を減少せしめたものである。
るコヒーレント光源1Cから出射された光ビームは、屈
折率一軸異方性の基板上に形成された高々数分割程度の
位相領域を有する偏光性位相板(polarized phase plat
e )10(図15に詳細を示す)、コリメートレンズ2
D及びビームスプリッタ4Bを通過した後、対物レンズ
5Bによって光ディスク6Bのピット面上に集光され
る。尚、図14において、5bは対物レンズ5Bを駆動
するアクチュエータである。
ームの偏光成分は、復路において通過する偏光分離のた
めの偏光性ホログラム素子7B(図16に詳細を示す)
の基板に対する常光(◎印で示す)及び異常光(広幅の
矢印で示す)が所定のパワー比で含まれるように設定さ
れており、コヒーレント光源1Cから出射された光ビー
ムは偏光性位相板10により偏光面が分離された2つの
波面W1 ,W2 が生成される。
0が単に一様透過の平板として作用するように、例えば
LiNbO3 のZ軸方向に位相境界を設けている(図1
5を参照)。
けずに一様透過する波面W1 を有する成分を主ビームと
称し、偏光面が波面W1 と直交する波面W2 を有する成
分を副ビームと称する。図17に示すように、前述の往
路における主ビーム及び副ビームは、主ビームが回折限
界のビームプロファイル34をディスク6Bのピット面
に形成するのに対して、副ビームは主ビームのビームプ
ロファイル34と中心が一致した双峰状のビームプロフ
ァイル35A,35Bを形成する。尚、図17におい
て、36は主ビームのビームスポットであり、37A,
37Bは副ビームのビームスポットである。図17にお
いては、主ビームのピーク値と副ビームのピーク値との
比が10:1程度であるとして図示したが、主ビーム及
び副ビームによる読出し信号の差動演算によりクロスト
ークが極小になるように、主ビーム及び副ビームの強度
比を調整するか又は光検出器の出力端以降の電気回路に
よる演算処理の過程で最適化を図ることが好ましい。
性位相板10の概略断面構造とそのパワースペクトル分
布を説明している。同図において、プロトン交換領域1
0a,10cは、異常光に対してπ/2,πの位相変移
を与える一方、常光に対しては10aの領域を基準とし
て相対的な位相差を生じさせないように構成されてい
る。図2に基づいて説明した内容と同様に1次元モデル
として異常光に対する偏光性位相板10の効果を解析す
ると、以下のような双峰状のビームプロファイルが得ら
れることがわかる。まずフーリエスペクトラムは、
イル35Bは(13)式と対応するパワースペクトラム
であり、一点鎖線のプロファイル38は(13)式にお
けるsinc2 ((2π/λf)×(a/3)×ξ)の
項を、同じく一点鎖線のプロファイル39は(13)式
における〔3+4cos((2π/λf)×(2/3)
×a×ξ−π/2)+2cos((2π/λf)×(4
/3)×a×ξ−π)〕の項を、破線のプロファイル4
0は(13)式における4cos((2π/λf)×
(2/3)×a×ξ−π/2)の項を、同じく破線のプ
ロファイル41は(13)式における2cos((2π
/λf)×(4/3)×a×ξ−π)の項をそれぞれ表
している。
相領域を設けることによって、偏光性位相板10のパワ
ースペクトラムは同一開口を有する一様波面の回折限界
ビームプロファイルよりも半値幅(大きい方の半値幅)
が大きく、軸上の強度分布は逆に殆どゼロに近いビーム
を形成することができる。
のではなく、以上示した手段を組合わせたり、或いはさ
らに異なる位相板を構成することによって、クロストー
ク抑圧に適する副ビームを生成し得るものであって、例
えば、図5或いは図11の構成は偏光性位相板にも応用
可能である。
れるので、sinc関数はBessel関数に置換えら
れるべきであるが、クロストーク抑圧の効果は同様に変
らないので重ねて説明は要しないであろう。
簡単のために、コヒーレント光源1Cから射出される光
ビームの強度分布は光軸に関して回転対称なプロファイ
ル(例えばガウス分布)を想定して説明した。しかし、
実際には、半導体レーザの場合、活性層の構造等により
楕円状の光ビームが射出されるので、半導体レーザを光
軸の回りに回転調整すると、光ディスク面上の集光スポ
ット(主ビームなら楕円状)も回転することになって不
都合である。従って、図14において、ビーム整形光学
系をコヒーレント光源1Cとビームスプリッター4Bと
の間に挿入してビームプロファイルの非対称性を補正す
ることが望ましい。
回転する代りに偏光性位相板10に形成する位相境界を
X軸に関して所定角度だけ予め回転させた位置に設けて
おくと、コヒーレント光源1C又は偏光性位相板10の
微小回軸調整のみで目的を達しうるので特に問題は生じ
ない。
偏光レーザを用いたり、又は直線偏光レーザのレーザ光
進行方向前方に2分の1波長板を設けることによって、
コヒーレント光源1Cから出射される光ビームの整形の
必要性を除くことが可能である。
素子を製作する方法について説明する。
例えばUSP5,062,098等において応用例が開
示されていると共に、他の基板材料例えば液晶デバイス
の有する偏光異方性も利用可能である。
ログラム素子を製作するのに用いた方法は、以下に説明
するように製作精度及びコストの点で一段と優れてい
る。すなわち、LNをプロトン交換した素子は表1に示
すようにプロトン交換した領域で異常光の大きな屈折率
変化(Δne )が生じるため、異常光に対して回折効果
の大きな位相型回折格子として作用する。しかし、プロ
トン交換した領域は常光に対しても若干の屈折率差(Δ
no )が生じる。このようにLNをプロトン交換したま
まの回折格子は異常光の屈折率と常光の屈折率変化が同
時に生じるので、上記の偏光分離機能を完全には実現で
きず、何らかの位相補償を加える必要がある。従来の方
法(A.Ohba et al.,Jap.J.Appl.Phys.,28(1989)359)で
はプロトン交換領域に誘電体膜を形成して常光の位相差
を補償していた。このため作製に誘電体の堆積とパター
ンニングの工程を要する他、位置合わせ精度の問題も残
されていた。
の実施例における偏光分離素子は、LN基板(X板)の
表面にプロトン交換領域7bを格子状に形成し偏光異方
性の回折格子を形成しているが、位相補償の方法として
従来とは逆にプロトン交換領域7bのみをエッチング
(以後、これを位相補償溝と称する)し、このプロトン
交換領域7bを通過する異常光に対してプロトン非交換
領域7cとの位相差を相殺している。すなわち、位相補
償溝は屈折率1(=空気の屈折率)であり基板に比べて
小さくなる(常光:1−no ,異常光:1−ne )。従
って異常光のプロトン交換による増加分(Δne )を相
殺し、位相差を無くすときには、常光に対してはプロト
ン交換による屈折率減少分(Δno )に位相補償溝によ
る減少分が加えられ位相差は逆に増大する。常光を最大
効率で回折し、異常光を回折しない条件は、前述の
(7),(8)式で与えられている。
工程図である。
mのLiNbO3 からなるLN基板(X板)40の表面
にスパッタ法によりTa膜41を230オングストロー
ムの膜厚に形成する。
ラフィ及びドライエッチングによりTa膜41に対して
パターンニングすることによって、格子状のプロトン交
換マスク42を形成する。
トン交換マスク42をマスクとして温度260℃のピロ
リン酸(H4 P2 O7 )により熱処理を行ない、深さ
2.38μmのプロトン交換領域43を形成する。
て、(d)に示すような位相補償溝44を形成する。沸
酸エッチングは、プロトン交換領域43に対してはエッ
チングする一方、LN基板40に対してはエッチングし
ない選択性を有しており、この選択性を利用することに
よって、位置合わせすることなく位相補償溝を形成する
ことが可能である。
回折効率(±1次の和)(%)及び透過率(%)との関
係を示し、位相補償溝を順次エッチングしつつ、回折効
率及び透過率を測定した結果である。入射波長は780
nmであって、図20(a)は常光、図20(b)は異
常光の測定結果を示している。位相補償溝の深さが増加
するに伴い、常光では位相差が増大し、回折効率no1は
増加し、透過率no0は減少する。一方異常光では位相補
償溝によりプロトン交換領域の屈折率増加が相殺され、
回折効率ne1が減少し、透過率が増加している。異常光
の透過率ne0はエッチング深さ0.13μmで最小とな
る。このとき、消光比は透過光(異常光)が24dB、
回折光(常光)が17dBであり、良好な特性が得られ
た。
ッド装置によると、光ディスクの情報記録面においては
偏光面が互いに直交する主ビーム及び副ビームからなる
2つビームが重畳した状態で走査され、このうち主ビー
ムは回折限界の情報読出し用に、副ビームは主ビームの
被るクロストーク成分をより多く含む補助ビームとして
用いられ、復路においては主ビームと副ビームとを分離
する偏光分離手段が設けられ、光検出手段により主ビー
ム及び副ビームの光強度は別個に検出され、信号演算手
段によりクロストークが抑圧された情報読出し信号が演
算されるため、高密度光記録媒体からクロストークが抑
圧された情報読出し信号を効果的に得ることができる。
この場合、副ビームは位相板によって、半値幅が主ビー
ムよりも大きい双峰状のプロファイルを有するビームと
して光ディスク面に集光されるので、シンプルで且つ安
定した光学系を実現している。
ム方式に比べてディスクの偏心に強く、調整が容易にな
る。
ド装置によると、偏光面が互いに直交する直線偏光のコ
ヒーレント光源を簡易に得ることができるので、高密度
光記録媒体からクロストークが抑圧された情報読出し信
号を簡易且つ確実に得ることができる。
ド装置によると、リソグラフィ技術により形成される偏
光性ホログラムによって偏光分離手段を構成しているた
め、通常の偏光分離手段としてのウオラストンプリズム
などの屈折型素子に比べて小型であるため、光検出手段
を単一平面内に集積化することができると共に、製作プ
ロセスは研磨を要する従来の光学素子に比べて簡単で低
コストである。
ド装置によると、副ビームの光強度を検出する副ビーム
検出器を、光ディスクのトラック接線方向と平行な方向
に分割された2つの光検出器から構成したため、クロス
トークがより精度高く抑圧された情報読出しを行なうこ
とができる。
ド装置によると、単一のコヒーレント光源から発した光
ビームが偏光性位相板を通過すると、主ビームと、該主
ビームの偏光面と直交する偏光面を有し且つ上記主ビー
ムの中心の少なくとも両側にピーク値を持つ光強度分布
を有する副ビームとが出射されるので、単一のコヒーレ
ント光源によって偏光面が互いに直交する一対のコヒー
レント光を得ることができる。この場合、主ビーム及び
副ビームによる情報読出しにあたっては、互いに干渉し
合うことなく、しかも両ビームは互いに重なり合った状
態で光ディスク面を走査されるが、復路において偏光分
離されるので効果的なクロストーク抑圧の信号処理が可
能である。
ント光源から発せられたビームが偏光性位相板を通過す
ることにより生成されたものであるから、主ビームと副
ビームとのビーム中心は常に一致しており、ずれること
がない。
と、読出しビーム間距離が集光ビーム径に比べて10倍
以上離れるようにしてビーム検出をする場合、光学系及
びその調整・制御機構が極めて複雑になる上に、光ディ
スク自体の回転ムラ、偏心、その他の要因にもとづく不
安定さを伴ったが、請求項5の発明に係る光ピックアッ
プヘッド装置によると、シンプルで安定した並列同時処
理光学系が実現できると共に、調整も容易になる。
ド装置によると、主ビームは光ディスクの情報記録面に
おいて回折限界の半値幅を有するビームとなり、副ビー
ムは偏光性位相板を通過することにより、開口面上の1
/2の領域でπの相対的位相差を与えられ、光ディスク
の情報記録面において回折限界の略2倍の半値幅を有す
る双峰状のビームとなる。このため、主ビームがそのプ
ロファイルの裾野部分でピックアップする光ディスクの
ピット情報は、副ビームのビームがそのプロファイルの
ピーク部分でピックアップする情報により相殺するのに
好都合である。両ビームのパワー比を5:1〜10:1
程度として偏光分離されたビームを各々光検出手段から
出力させ、差動検出をすることによってクロストークが
安定的に抑圧された情報読出しが可能となる。
ド装置によると、主ビームの両側にピーク値を持つ双峰
状の光強度分布を有するビームが互いに直交することに
より形成される四峰状の光強度分布を有する副ビームを
得ることができるので、光強度分布の二峰づつを光ディ
スクのトラック間のクロストークの抑圧と記録線密度方
向のクロストークの抑圧とに用いることができるので、
トラック間干渉及び符号間干渉が共に抑圧された信号読
出しを得ることができる。
ド装置によると、一方の偏光成分は主ビームとして出射
され、第1、第2及び第3の領域をそれぞれ通過する他
方の偏光成分はπ/2の相対的位相差を与えられた副ビ
ームとして出射されるので、請求項6の発明と同様に、
クロストークが安定的に抑圧された情報読出しが可能と
なる。特に、副ビームのプロファイルは、2つのメイン
ローブの外側に減衰して広がる裾野部分はほぼ単調に減
衰し、請求項6の発明に係る位相板のパワースペクトラ
ムの裾野部分の折り返し(半径で1.5×(λf)/a
の近傍)の高さに比べて低く押えられており、主ビーム
の外側に隣接する第2のトラックからのクロストークを
拾い難い構成となっている。
ド装置によると、請求項8の発明の効果に加えて、請求
項7の発明と同様に、主ビームの両側にピーク値を持つ
双峰状の光強度分布を有するビームが互いに直交するこ
とにより形成される四峰状の光強度分布を有する副ビー
ムを得ることができるため、隣接するトラック及びピッ
トの情報を拾い難いと共にトラック間干渉及び符号間干
渉が抑圧された信号読出しを得ることができる。
ッド装置によると、リソグラフィ技術により形成される
偏光性ホログラムによって偏光分離手段を構成している
ため、通常の偏光分離手段としてのウオラストンプリズ
ムなどの屈折型素子に比べて小型であるため、光検出手
段を単一平面内に集積化することができると共に、製作
プロセスは研磨を要する従来の光学素子に比べて簡単で
低コストである。
ッド装置によると、副ビームの光強度を検出する副ビー
ム検出器を、光ディスクのトラック接線方向と平行な方
向に分割された2つの光検出器から構成したため、クロ
ストークがより精度高く抑圧された情報読出しを行なう
ことができる。
ド装置の概略構成図である。
置に用いられる集積化光検出器の平面図である。
置に用いられる偏光性ホログラム素子の斜視図である。
置に用いられる偏光性ホログラム素子に形成されるパタ
ーンを示し、(a)は平面図であり、(b)は(a)に
おけるb−b線の断面図である。
置に用いられる位相板の位相領域を説明する模式図であ
る。
置に用いられる位相板の断面構造及びパワースペクトラ
ムのプロファイルを示す図である。
置に用いられる読出し信号演算装置の構成図である。
置をランドグルーブ型の溝付光ディスクに適用した場合
の光学系を説明する図である。
ップヘッド装置に用いられる集積化光検出器の平面図で
ある。
パターン示す図である。
光ピックアップヘッド装置に用いられる位相板の位相領
域を説明する模式図であり、(b)は、該位相板を用い
る場合のパワースペクトル面での集光ビームの概略分布
を示す図である。
光ピックアップヘッド装置に用いられる位相板の位相領
域を説明する模式図であり、(b)は、該位相板を用い
る場合のパワースペクトル面での集光ビームの概略分布
を示す図である。
の他の変形例に係る光ピックアップヘッド装置に用いら
れる位相板の位相領域を説明する模式図である。
ッド装置の概略構成図である。
ッド装置に用いられる偏光性位相板の位相領域を説明す
る模式図でる。
ッド装置に用いられる偏光性ホログラム素子の構成を示
す概略斜視図である。
装置によって形成される主ビーム及び副ビームが光ディ
スク面上に重畳して該光ディスク面上を走査される状態
を示す概略図である。
装置に用いられる位相板の断面構造及びパワースペクト
ラムのプロファイルを示す図である。
に係る光ピックアップヘッド装置に用いられる偏光性ホ
ログラム素子の製作工程を説明する断面図である。
プヘッド装置に用いられる偏光性ホログラム素子におけ
る位相補償溝の深さと、回折効率及び透過率との関係を
示す図である。
合の問題点を説明する図であって、集光ビームの概略分
布を示す図である。
図である。
ルーブ型の溝付光ディスクに適用した場合の集光ビーム
の分布を説明する図である。
i 光検出器 8aa 第1の光検出器 8ab 第2の光検出器 9A,9B,9C,9D,9E,9F,9G 位相板 10 偏光性位相板 26A 第1の増幅回路 26B 第2の増幅回路 27 差動演算回路
のプロファイルを説明する模式図である。屈折率nの透
明基板(例えば石英ガラスの場合ならば、nは波長λ=
780nmに対して略1.45である)に段差d1 を設
け、(1−n)×d1 =λ/2とする。いま簡単のため
に一次元のモデルで示すならば、開口幅2aの位相板7
を波長λの平行光で照明したときに対物レンズ5Aの焦
点面に得られる複素振幅分布u(ξ)は、
fは対物レンズ5Aの焦点距離である。
26Bは第2の増幅回路、27は差動演算回路である。
副ビームを受光した集積化光検出器8の光検出器8aの
出力S a は第2の増幅回路26Bに、主ビームを受光し
た集積化光検出器8の光検出器8b,8c,8d,8
f,8g,8hの出力信号の総和S4 は第1の増幅回路
26Aに入力される。第1及び第2の増幅回路26A,
26Bの増幅率G1 ,G2 は、差動演算回路27からの
出力S5 においてクロストーク成分が最も小さくなるよ
うに設定すればよく、例えば、主ビームを受光した光検
出器8b,8c,8d,8f,8g,8hの出力信号の
総和S4 におけるクロストーク成分と、副ビームを受光
した光検出器8aの出力S a における上記出力信号の総
和S4 に含まれるクロストーク成分と同じ信号成分との
比が0.1:1.0であれば、第1の増幅回路26Aの
増幅率G1 と、第2の増幅回路26Bの増幅率G2 との
比を1:0.1にすればよい。
3変形例に係る位相板を模式的に示しており、該位相板
は3分割された位相領域9d,9e,9dを有してい
る。また、図12(b)は、該第3変形例に係る位相板
を用いる場合の矩形開口2aの対物レンズ系の焦点面に
おけるビームプロファイル28(ξ≧0)を示してい
る。
性位相板10の概略断面構造とそのパワースペクトル分
布を説明している。同図において、プロトン交換領域1
0b,10cは、異常光に対してπ/2,πの位相変移
を与える一方、常光に対しては10aの領域を基準とし
て相対的な位相差を生じさせないように構成されてい
る。図2に基づいて説明した内容と同様に1次元モデル
として異常光に対する偏光性位相板10の効果を解析す
ると、以下のような双峰状のビームプロファイルが得ら
れることがわかる。まずフーリエスペクトラムは、
Claims (11)
- 【請求項1】 主ビームとなるコヒーレント光を発する
第1のコヒーレント光源と、 該第1のコヒーレント光源から発せられるコヒーレント
光の偏光面と直交する偏光面を有するコヒーレント光を
発する第2のコヒーレント光源と、 該第2のコヒーレント光源から発せられたコヒーレント
光の入射を受け、光軸に垂直な面内でビーム中心の少な
くとも両側にピーク値を持つ光強度分布を有する副ビー
ムを出射する位相板と、 上記主ビームと上記位相板から出射された副ビームとを
重畳せしめて光ディスクの情報記録面に集光する集光手
段と、 上記光ディスクの情報記録面から反射されてきた集光ビ
ームの入射を受け、該集光ビームを主ビームと副ビーム
とに分離して出射する偏光分離手段と、 該偏光分離手段から出射されてきた主ビーム及び副ビー
ムの光強度を別々に検出して出力する光検出手段と、 該光検出手段からの出力信号に基づきクロストークが抑
圧された情報読出し信号を演算する読出し信号演算手段
とを備えていることを特徴とする光ピックアップヘッド
装置。 - 【請求項2】 上記第1及び第2のコヒーレント光源
は、それぞれの偏光面が互いに直交するように配置され
た一対の直線偏光レーザであることを特徴とする請求項
1に記載の光ピックアップヘッド装置。 - 【請求項3】 上記偏光分離手段は、屈折率一軸異方性
を有する基板と、該基板の上に形成された偏光性ホログ
ラムとからなる偏光性ホログラム素子であることを特徴
とする請求項1又は2に記載の光ピックアップヘッド装
置。 - 【請求項4】 上記光検出手段は主ビームの光強度を検
出する主ビーム検出器と副ビームの光強度を検出する副
ビーム検出器とからなり、該副ビーム検出器は上記光デ
ィスクのトラック接線方向と平行な方向に分割された2
つの光検出器からなり、該2つの光検出器から得られる
差動出力信号をトラッキング誤差信号として出力する誤
差信号出力手段を備えていることを特徴とする請求項1
〜3のいずれか1項に記載の光ピックヘッドアップ装
置。 - 【請求項5】 コヒーレント光を発するコヒーレント光
源と、 該コヒーレント光源から発せられたコヒーレント光の入
射を受け、主ビームと、該主ビームの偏光面と直交する
偏光面を有し且つ上記主ビームの中心の少なくとも両側
にピーク値を持つ光強度分布を有する副ビームとを出射
する偏光性位相板と、 該偏光性位相板から出射された主ビーム及び副ビームを
重畳せしめて光ディスクの情報記録面に集光する集光手
段と、 上記光ディスクの情報記録面から反射されてきた集光ビ
ームの入射を受け、該集光ビームを主ビームと副ビーム
とに分離して出射する偏光分離手段と、 該偏光分離手段から出射されてきた主ビーム及び副ビー
ムの光強度を別々に検出して出力する光検出手段と、 該光検出器からの出力信号に基づきクロストークが抑圧
された情報読出し信号を演算する読出し信号演算手段と
を備えていることを特徴とする光ピックアップヘッド装
置。 - 【請求項6】 上記偏光性位相板は、上記コヒーレント
光源から発せられたコヒーレント光を一の方向の偏光面
を有する光成分と該一の方向と直交する偏光面を有する
光成分とに分離し、上記一の方向の偏光面を有する光成
分を主ビームとして出射し、上記一の方向と直交する方
向の偏光面を有する光成分に対して相対的位相差を与え
ない第1の領域とπの相対的位相差を与える第2の領域
とを有しており該第1及び第2の領域を通過する光成分
を上記副ビームとして出射することを特徴とする請求項
5に記載の光ピックアップヘッド装置。 - 【請求項7】 上記第1及び第2の領域は、上記偏光性
位相板における中心回りに分割された4領域に交互に2
領域づつ形成されていることを特徴とする請求項6に記
載の光ピックアップヘッド装置。 - 【請求項8】 上記偏光性位相板は、上記コヒーレント
光源から発せられたコヒーレント光のうち一の方向の偏
光面を有する光成分は相対的位相差を与えることなく出
射し、上記コヒーレント光源から発せられたコヒーレン
ト光のうち上記一の方向と直交する方向の偏光面を有す
る光成分にπ/2の相対的位相差を与える第1の領域
と、上記コヒーレント光源から発せられたコヒーレント
光のうち上記一の方向と直交する方向の偏光面を有する
光成分にπの相対的相差を与える第2の領域とを備えて
おり、上記第1及び第2の領域を通過する光成分を副ビ
ームとして出射することを特徴とする請求項5に記載の
光ピックアップヘッド装置。 - 【請求項9】 上記偏光性位相板は、上記コヒーレント
光源から発せられたコヒーレント光のうち一の方向の偏
光面を有する光成分は相対的位相差を与えることなく上
記主ビームとして出射し、上記コヒーレント光源から発
せられたコヒーレント光のうち、上記一の方向と直交す
る方向の偏光面を有する光成分には位相差零を与えて出
射する第1の領域、上記コヒーレント光源から発せられ
たコヒーレント光のうち上記一の方向と直交する方向の
偏光面を有する光成分にπ/2の相対的位相差を与える
第2の領域、及び上記コヒーレント光源から発せられた
コヒーレント光のうち上記一の方向と直交する方向の偏
光面を有する光成分にπの相対的位相差を与える第3の
領域が互いに平行な領域境界線を介して形成された一対
の位相板により構成され、各位相板はそれぞれの領域境
界線が互いに直交するように配設されていることを特徴
とする請求項5に記載の光ピックアップヘッド装置。 - 【請求項10】 上記偏光分離手段は、屈折率一軸異方
性を有する基板と、該基板の上に形成された偏光性ホロ
グラムとからなる偏光性ホログラム素子であることを特
徴とする請求項5〜9のいずれか1項に記載の光ピック
アップヘッド装置。 - 【請求項11】 上記光検出手段は主ビームの光強度を
検出する主ビーム検出器と副ビームの光強度を検出する
副ビーム検出器とからなり、該副ビーム検出器は上記光
ディスクのトラック方向に分割された2つの光検出器か
らなり、該2つの光検出器から得られる差動出力信号を
トラッキング誤差信号として出力する誤差信号出力手段
を備えていることを特徴とする請求項5〜10のいずれ
か1項に記載の光ピックヘッドアップ装置。
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