JPH0668503A

JPH0668503A - フォーカスエラー検出系

Info

Publication number: JPH0668503A
Application number: JP4221497A
Authority: JP
Inventors: Osamu Nakano; 治中野
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1992-08-20
Filing date: 1992-08-20
Publication date: 1994-03-11

Abstract

(57)【要約】【目的】フォーカスエラー信号の検出系において、２
つのＰＤの調整エラーにより発生するフォーカスエラー
信号のクロストークを低減する。【構成】レーザ素子（１）から出射したレーザビーム
をグレーティング（３）で分離して情報記録媒体（７）
に入射させ、この情報記録媒体で反射したレーザビーム
を分光手段（１０）を用いて２方向に分離し、それぞれ
複数個の光り検出器を具える第１及び第２の光検出手段
で検知して、フォーカスエラー信号を検出するフォーカ
スエラー検出系で、それぞれの光検出器がトラック方向
（ｙ方向）に並列されているとともに、これらの光検出
器がそれぞれ複数の受光領域を具えており、これらの受
光領域を画成している分割線がトラックの延在方向とほ
ぼ直交する方向（ｘ方向）に延在することを特徴とする
フォーカスエラー検出系。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はフォーカスエラー検出系
に関するものであり、特にＣ−ＳＳＤフォーカシングエ
ラー検知法（Complementary Spot Size Detection）を
用いてフォーカスエラーを検出する場合に好適に適用で
きるフォーカスエラー検出系に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】Ｃ−ＳＳＤフォーカシングエラー検知法
に好適に適用できるフォーカスエラー検出方法として
は、例えば特開平２−２１４３１号公報に開示されてい
るビームサイズフォーカス検出法がある。図１１は、こ
のビームサイズフォーカス検出法を適用したフォーカス
エラー検出系の構成を示す図である。

【０００３】半導体レーザ５１から発せられたレーザ光
はコリメータレンズ５２、ビーム整形プリズム５３、ビ
ームスプリッタ５４、対物レンズ５５を介して光磁気デ
ィスク５６へ照射される。光磁気ディスク５６で反射さ
れた反射光は、ビームスプリッタ５４でその光路を９０
°曲げられた後、回折格子５７を通って０次光と±１次
光とに分割される。これらの光ビームは更に、偏光ビー
ムスプリッタ５８でそれぞれ２方向へ分離され、第１の
光検出手段５９と第２の光検出手段６０とに入射する。
第１及び第２の光検出手段５９、６０は、２つの受光素
子（ａ₁，ｂ₁；ａ₂，ｂ₂）からなる２分割光検出器
５９−１、６０−１と、３つの受光素子（ｃ₁，ｄ₁，
ｅ₁；ｃ₂，ｄ₂，ｅ₂）からなる３分割光検出器５９
−２、６０−２とをそれぞれ具えている。各受光素子の
配置、構成は、各光検出手段５９、６０の側方に示すと
おりであり、各光検出器５９−１、６０−１及び５９−
２、６０−２は、光磁気ディスク５６に形成されたトラ
ックの延在方向（ｙ方向）に直交する方向に並設されて
おり、各光検出器の各受光素子を画成する分割線は前記
トラックの延在方向に平行に延在している。フォーカス
エラー信号ＦＥは、

【数１】ＦＥ＝（ｃ₁＋ｅ₁＋ｄ₂）−（ｃ₂＋ｅ₂＋ｄ₁）から算出される。したがって、この検出系では、光磁気
ディスク５６上で光ビームスポットがグルーブを横断し
た場合に生じる光検出手段５９、６０上でのスポットの
強度が変化する方向と、フォーカスエラー信号の演算方
向が同じ方向にとられていることになる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成のフォーカスエラー検出系においては、２つの
ＰＤが理想状態からずれている場合に、ビームスポット
が光磁気ディスク５６上のグルーブを横断するときに発
生するフォーカスエラーのオフセットをキャンセルする
ことができないという問題がある。

【０００５】図１２は、図１１に示す装置において、光
磁気ディスク５６上でビームスポットがグルーブを横切
っている状態を部分的に示す図である。ビームスポット
がグルーブを横切っているため、反射光ビームにはラジ
アル方向に強度分布差が発生する。いま、フォーカスエ
ラー検出用の３分割光検出器５９−２、６０−２は、ト
ラック方向と平行な方向に延在する分割線によって分割
されているため、フォーカスエラーの演算方向はラジア
ル方向になる。ここで２つのＰＤが同一方向にシフトし
ている場合の反射光ビームの光検出器５９−２、６０−
２上でのビームスポットの様子を示す。このように、２
つのＰＤが同一方向にシフトしていると、光検出器５９
−２、６０−２上で、ビームスポットは分割線と直交す
るＸ方向（Ｘ’方向）に存在するが、これらのビームス
ポットは第１及び第２の光検出器５９−２、６０−２上
で同じ方向に同じ量シフトしている。したがって、それ
ぞれの光検出器５９−２、６０−２で発生するオフセッ
トが互いにキャンセルされることになり、フォーカスオ
フセットは発生しない。また、ビームスポットがグルー
ブを横断して、反射光ビームに強度分布が生じた場合に
も、同様に各光検出器５９−２、６０−２で生じるオフ
セットがキャンセルされ、フォーカスオフセットは発生
しない。

【０００６】しかしながら、２つのＰＤが逆方向にシフ
トしている場合を考えると、以下に説明するとおり、フ
ォーカスエラー信号にクロストークが発生してしまう。
２つのＰＤが逆方向にシフトしている場合の反射光ビー
ムの光検出器５９−２、６０−２上のビームスポットの
様子を図１４に示す。図１４に示すように、反射ビーム
は光検出器５９−２、６０−２上でｘ方向（ｘ’方向）
にシフトしているが、図１４から明らかなように、この
場合は、ｘ軸上でそれぞれのビームスポットが逆方向に
同じ量シフトしていることになる。光磁気ディスク５６
上で、ビームスポットがグルーブ上を追従しているとき
には、ビームスポットに強度分布が生じないため反射ビ
ームが光検出器５９−２、６０−２上で逆方向に同じ量
シフトしていても、それぞれの光検出器５９−２、６０
−２で発生するオフセットがキャンセルし合ってフォー
カスオフセットは発生しないが、ビームスポットがグル
ーブを横断するときには、反射光ビームに強度分布が生
じるため、第１及び第２の光検出器５９−２、６０−２
で発生するオフセットの発生量が異なり、互いにキャン
セルできないで残ってしまうことになる。すなわち、ビ
ームスポットがグルーブを横断するときに生じるスポッ
トの強度分布の変化により、フォーカスエラー信号にク
ロストークが発生してしまう。したがって、特に所望の
トラックをシークする時に、デフォーカスが発生すると
いう問題がある。

【０００７】本発明は、このように２つのＰＤ調整のば
らつきで発生するフォーカスエラー信号のクロストーク
を低減させて、シーク中でもデフォーカスが発生せず、
正確にフォーカスサーボを実現することができるフォー
カスエラー検出系を提供することを目的とするものであ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段及び作用】上記課題を解決
するために、本願の第１発明に係るフォーカスエラー検
出系は、レーザ素子から出射したレーザビームを情報記
録媒体に入射させ、この情報記録媒体で反射したレーザ
ビームを分光手段を用いて２方向に分離し、分離したこ
れらのレーザビームを、それぞれが複数個の光検出器を
具える第１及び第２の光検出手段で検知して、フォーカ
スエラー信号を検出するフォーカスエラー検出系におい
て、前記レーザ素子から出射したレーザビームを、該
レーザビームが前記情報記録媒体に入射する前に複数の
レーザビームに分離するようにグレーティングを配置
し、前記第１及び第２の光検出手段が具えるそれぞれの
光検出器が、前記情報記録媒体上に形成されているトラ
ックの延在方向に並列されているとともに、前記光検出
器がそれぞれ複数の受光領域を具えており、これらの受
光領域を画成している分割線が前記トラックの延在方向
とほぼ直交する方向に延在することを特徴とするもので
ある。

【０００９】このように、本願第１発明においては、レ
ーザ素子から出射したレーザビームを、該レーザビーム
が情報記録媒体に入射する前に複数のレーザビームに分
離するようにグレーティングを配置し、第１及び第２の
光検出手段が具えるそれぞれの光検出器が、情報記録媒
体上に形成されているトラックの延在方向に並列されて
いるとともに、それぞれの光検出器が具える複数の受光
領域が前記の延在方向とほぼ直交する方向に延在する分
割線で分割されているため、スポットがＰＤ上でシフト
している場合でもそれぞれの光検出手段で発生するオフ
セットを互いにキャンセルすることができ、フォーカス
エラー信号のクロストークを低減することができる。

【００１０】本願第２発明に係るフォーカスエラー検出
系は、レーザ素子から出射したレーザビームを情報記録
媒体に入射させ、この情報記録媒体で反射したレーザビ
ームを分光手段を用いて２方向に分離し、分離したこれ
らのレーザビームを、それぞれが複数個の光検出器を具
える第１及び第２の光検出手段で検知して、フォーカス
エラー信号を検出するフォーカスエラー検出系におい
て、前記レーザ素子から出射したレーザビームを、該レ
ーザビームが前記情報記録媒体に入射する前に複数のレ
ーザビームに分離するようにグレーティングを配置し、
前記レーザ素子と前記第１及び第２の光検出手段とが共
通の半導体基板上に一体的に形成されているとともに、
前記第１及び第２の光検出手段が具える複数の光検出器
が、前記レーザ素子を挟んで前記トラック方向に直交す
る方向に並設されており、前記グレーティングと前記分
光手段とが一体的に形成されており、前記第１及び第２
の光検出手段が具えるそれぞれの光検出器が、それぞれ
複数の受光領域を具えており、これらの受光領域を画成
している分割線が前記トラックの延在方向に直交する方
向に延在することを特徴とするものである。

【００１１】このように本願第２発明においては、レー
ザ素子と第１及び第２の光検出手段とが共通の半導体基
板上に一体的に形成されており、グレーティングと分光
手段とが一体的に形成されているため、装置の小型化を
図ることができる。

【００１２】本願第３発明にかかるフォーカスエラー信
号検出系は、レーザ素子から出射したレーザビームを情
報記録媒体に入射させ、この情報記録媒体で反射したレ
ーザビームを分光手段を用いて２方向に分離し、分離し
たこれらのレーザビームに非点収差を与え、これらのレ
ーザビームをそれぞれが複数個の光検出器を具える第１
及び第２の光検出手段で検知して、フォーカスエラー信
号を検出するフォーカスエラー検出系において、前記レ
ーザ素子から出射したレーザビームを、該レーザビーム
が前記情報記録媒体に入射する前に複数のレーザビーム
に分離するようにグレーティングを配置し、前記第１及
び第２の光検出手段が具えるそれぞれの光検出器が、前
記情報記録媒体上に形成されているトラックの延在方向
に並列されているとともに、前記光検出器がそれぞれ複
数の受光領域を具えており、これらの受光領域を画成し
ている分割線が前記トラックの延在方向に対してほぼ４
５°をなしていることを特徴とするものである。

【００１３】本願第３発明は、非点収差法を用いて、フ
ォーカスエラー信号を検出するように構成したものであ
り、この場合もレーザ素子から出射したレーザビーム
を、該レーザビームが情報記録媒体に入射する前に複数
のレーザビームに分離するようにグレーティングを配置
し、第１及び第２の光検出手段が具えるそれぞれの光検
出器が、情報記録媒体上に形成されているトラックの延
在方向に並列されているため、スポットがＰＤ上でシフ
トしている場合でもそれぞれの光検出手段で発生するオ
フセットを互いにキャンセルすることができ、フォーカ
スエラー信号のクロストークを低減することができる。

【００１４】

【実施例】図１は、本発明に係るフォーカスエラー検出
系の第１実施例の構成を示す図である。図２に明らかな
とおり、本実施例のフォーカスエラー検出系は、半導体
レーザ１、発散レーザ光源を平行光束にするためのコリ
メータレンズ２、０次、±１次ビームの３つのビームに
分離するための回折格子３、楕円ビームを円形ビームへ
整形させるためのビーム整形プリズム４、ビームスプリ
ッタ、対物レンズ６、集光レンズ８、1/2 波長板９、偏
光ビームスプリッタ１０、第１の光検出手段１１、第２
の光検出手段１２を具え、半導体レーザ１から出射した
光ビームを光磁気ディスク７へ照射し、光磁気ディスク
７からの反射光ビームを第１及び第２の光検出器１１，
１２で検出して、情報の記録／再生を行うものである。
図１に戻り半導体レーザ１から出射した光ビームはコリ
メータレンズ２を介して回折格子３に入射し、ここで０
次光と±１次光とに分離される。これらの０次光及び±
１次光とは、ビーム整形プリズム４、ビームスプリッタ
５及び対物レンズ６を介して光磁気ディスク７上に３つ
のビームスポットとなって照射される。光磁気ディスク
７で反射された反射ビームはビームスプリッタ５で光路
を９０°変えて、集光レンズ８、１／２波長板９を介し
て偏光ビームスプリッタ１０へ入射し、ここでそれぞれ
の光ビームが更に２方向に分離されて、第１の光検出手
段１１および第２の光検出手段１２へ入射する。図２
（ａ）は、図１に示す装置を右側面からみた図である。
回折格子３は、図２（ａ）に示すように、コリメータレ
ンズ２と整形プリズム４との間に、格子方向が光磁気デ
ィスク７のトラック方向に直交するように配設されてい
る。図２（ｂ）は光磁気ディスク７上に形成された３本
の光ビームスポットの配置を示す図である。３本の光ビ
ームは、トラックの延在方向に対して若干斜めに配列さ
れ、メインビーム（０次光）はランド７ａ上に、サブビ
ーム（±１次光）はブルーブ７ｂ上に位置している。

【００１５】光磁気ディスク７からの反射光は、偏光ビ
ームスプリッタ１０でそれぞれ２つの光路に分離され、
一方の光ビームは第１の光路の結像点前に配置した第１
の光検出手段１１に入射し、他方の光ビームは第２の光
路の結像点後に配置した第２の光検出手段１２に入射す
る。第１及び第２の光検出手段１１、１２は、それぞれ
が３個の３分割光検出器１１−１、１１−２、１１−
３；１２−１、１２−２、１２−３を具えており、これ
らの光検出器は、ｙ方向、すなわちディスク７上のトラ
ック方向に平行な方向に並設されている。中央の光検出
器１１−１（１２−１）で０次光スポットを検出し、両
側の２つの光検出器１１−２、１１−３（１２−２、１
２−３）で±１次光をそれぞれ検出する。ここで、光ビ
ームがグルーブ７ａを横切ることによって生じる強度分
布は、±１次光と０次光とでは逆位相で変化する。

【００１６】第１の光検出手段１１の中央の光検出器１
１−１は、受光素子ａ₀，ｂ₀，ｃ ₀から、上側の光検
出器１１−２は、受光素子ａ_-1，ｂ_-1，ｃ_-1から、下側
の光検出器１１−３は、受光素子ａ₊₁，ｂ₊₁，ｃ₊₁から
構成されており、第２の光検出手段１２の中央の光検出
器１２−１はｄ₀，ｅ₀，ｆ₀から、上側の光検出器１
２−２はｄ_-1，ｅ_-1，ｆ_-1から、、下側の光検出器１２
−３は、ｄ₊₁，ｅ₊₁，ｆ₊₁から、それぞれ構成されてい
る。尚、各受光素子を画成する分割線はｙ方向に延在す
る。フォーカスエラー信号ＦＥは

【数２】ＦＥ＝（ａ₀＋ｃ₀＋ｅ₀）−（ｂ₀＋ｄ₀＋ｆ₀）＋Ｇ｛（ａ₊₁＋ｃ₊₁＋ｅ₊₁）−（ｂ₊₁＋ｄ₊₁＋ｆ₊₁）｝＋Ｇ｛（ａ_-1＋ｃ_-1＋ｅ_-1）−（ｂ_-1＋ｄ_-1＋ｆ_-1）｝を演算して得られ、トラッキングエラー信号ＴＥは

【数３】ＴＥ＝（ａ₀−ｃ₀）−Ｇ｛（ａ₊₁−Ｃ₊₁）＋（ａ_-1−ｃ_-1）｝＋［｛（ｄ₀−ｆ₀）−Ｇ｛（ｄ₊₁−ｆ₊₁）＋（ｄ_-1−ｆ_-1）｝］から得ることができる。

【００１７】図３（ａ）は、上記に説明した第１実施例
において、２つのＰＤが同一方向にシフトしている場合
の、第１及び第２の光検出手段１１、１２上でのビーム
スポットの様子を示す図である。図３（ａ）に示すとお
り、２つのＰＤが同一方向にシフトしている場合は、そ
れぞれの光検出手段１１、１２で発生したオフセット
は、従来の検出系と同様に、０次光同士、また±１次光
同士で互いにキャンセルし合い、フォーカスオフセッ
ト、クロストークは発生しない。

【００１８】一方、２つのＰＤが逆方向にシフトしてい
る場合の光検出手段１１、１２上でのビームスポットの
様子を図３（ｂ）に示す。このとき、第１の光検出手段
１１の中央の光検出器１１−１上の０次光のビームスポ
ットと、第２の光検出手段１２の両側の光検出器１２−
２、１２−３上の±１次光のビームスポットとは、分割
線に対してカゲのある方向にシフトしている。また、第
２の光検出手段１２の中央の光検出器１２−１上の０次
光のビームスポットと、第１の光検出手段１１の上下の
光検出器１１−２、１１−３上の±１次光のビームスポ
ットも同様に分割線に対してカゲのある方向と逆方向に
シフトしている。したがって、フォーカスエラー信号を
検出するにあたって、０次光を受光する光検出器１１−
１、１２−１のエラー信号から、±１次光を受光する光
検出器１１−２、１１−３、１２−２、１２−３のエラ
ー信号をゲインを最適化して引くことによって、それぞ
れの光検出器のオフセットをキャンセルさせることがで
き、クロストークの発生が低減する。尚、回折格子３は
半導体レーザ１とコリメータレンズ２との間に配置する
ようにしても良い。

【００１９】図４は、本発明に係るフォーカスエラー検
出系の第２実施例の構成を示す図である。第２実施例に
係るフォーカスエラー検出系は図４に示すとおり、ＬＤ
−ＰＤユニット１３、複合ホログラム１４、コリメータ
レンズ１８、整形ビームスプリットプリズム１９、対物
レンズ２０、1/2 波長板２３、集光レンズ２４、偏光ビ
ームスプリッタ２５、ＲＦ信号用光検出器２６ａ，２６
ｂを具える。ＬＤ−ＰＤユニット１３には半導体レーザ
１５とエラー信号検出用の光検出器２７、２８とが同一
の半導体基板上に一体的に形成されており、複合ホログ
ラム１４にはスリービーム形成用のグレーティング１６
と、ビームサイズ法用のホログラム１７とが一体的に形
成されている。このように、第２実施例では、ユニット
化した素子を使用して、装置全体の小型化を図るように
している。

【００２０】図５は、ＬＤ−ＰＤユニット１３上の各素
子の配置を示す図である。ＬＤ−ＰＤユニット１３は、
シリコン基板１３ａ上にＬＤチップ１５を活性層を下側
にして載置すると共に、ＬＤチップ１５のレーザ光出射
面に対向させて、立ち上げミラー１３ｂがシリコン基板
１３ａ上にエッチングによって形成されている。ＬＤチ
ップ１５の偏光方向は、ディスク上のトラックの延在す
る方向（ｘ方向）である。シリコン基板１３ａ上には、
ＬＤチップ１５のｘ方向の両側に光検出手段２７、２８
が形成されている。光検出手段２７、２８はそれぞれｘ
方向に並設された３つの３分割光検出器２７−１、２７
−２、２７−３、及び２８−１、２８−２、２８−３を
具える。光検出器２７−１は、受光素子ａ₀，ｂ₀，ｃ
₀で、光検出器２７−２は受光素子ａ₊₁，ｂ₊₁，ｃ
₊₁で、光検出器２７−３は受光素子ａ _-1，ｂ_-1，ｃ
_-1で、光検出器２８−１は受光素子ｄ₀，ｅ₀，ｆ
₀で、光検出器２８−２は受光素子ｄ₊₁，ｅ₊₁，ｆ
₊₁で、光検出器２８−３は受光素子ｄ_-1，ｅ _-1，ｆ_-1で
それぞれ構成されており、これらの受光素子はｘ方向に
延在する分割線によって分割されている。

【００２１】ＬＤ−ＰＤユニット１３にマウントされた
ＬＤチップ１５を出射した光ビームは、立ち上げミラー
１３ｂを介して複合ホログラム１４に入射する。複合ホ
ログラム１４は、図６（ａ）に拡大して示すように、Ｌ
Ｄチップ１５側端面に３ビーム用のグレーティング１６
が、コリメータレンズ１８側端面にビームサイズ法用の
ホログラム１７が形成されている。いずれの端面でも格
子方向はｙ方向に設けられており、したがって、レーザ
ビームの波長変動によって、光検出器２７、２８上に形
成されたビームスポットは光検出器２７，２８の分割線
の延在方向（ｘ方向）に分離されることになる。

【００２２】出射光ビームは、３ビーム用グレーティン
グ１６で３本のビームに分けられた後（図６（ａ））、
コリメータレンズ１８を通って平行光となり、整形ビー
ムスプリットプリズム１９を介して、対物レンズ２０に
よりディスク２１上に集光される。３本の光ビームはデ
ィスク２１上では、第１実施例と同様に、０次光がラン
ド上に、±１次光がグルーブ上に配置される。

【００２３】ディスク２１からの戻り光は、整形ビーム
スプリットプリズム１９によって、２方向に分離され
る。すなわち、戻り光の１部を整形ビームスプリットプ
リズム１９で反射し、この反射光は１／２λ板２３及び
集光レンズ２４を通過して、偏向ビームスプリッタ２５
で更に２方向に分離されて、ＲＦ信号検出用光検出器２
６ａ，２６ｂで受光される。これらの光検出器２６ａ，
２６ｂの出力の差動から光磁気信号を、和動からプレピ
ット信号を検出する。

【００２４】一方、整形ビームスプリットプリズム１９
を透過した戻り光は、もとの光路を通って複合ホログラ
ム１４へ入射する。図６（ｂ）は、複合ホログラム１４
を通過する戻り光の光路を示す図である。図６（ｂ）に
示すように、３本の戻り光は、複合ホログラム１４のコ
リメータレンズ１８側端面に設けたビームサイズ法用ホ
ログラム１７によって、それぞれ０次光、±１次光に分
離される。３本の戻り光のうち、０次光の光路を実線
で、＋１次光の光路を破線で、−１次光の光路を一点鎖
線で示す。尚、それぞれの戻り光のビームサイズ用ホロ
グラム１７で分離された０次光は、複合ホログラム１４
のレーザ素子１５側端面に設けた３ビーム用グレーティ
ング１６の方向へ進むが、信号検出には使用しない。図
６（ｂ）から明らかなように、ホログラム１７で分けら
れた各戻り光の＋１次光及び−１次光は、３ビーム用グ
レーティング１６は通らずに、ＰＤ−ＬＤユニット１３
に設けた光検出器２７、２８でそれぞれ受光される。す
なわち、複合ホログラム１４へ戻ってきた０次光の±１
次光は中央の光検出器２７−１、２８−１へ、＋１次光
の±１次光は右側の光検出器２７−２、２８−２へ、−
１次光の±１次光は左側の光検出器２７−３、２８−３
へそれぞれ入射する。各戻り光の−１次光（右側の光検
出器２７−２、２８−２へ入射する）は、結像点の前に
スポットを結び、＋１次光（左側の光検出器２７−３、
２８−３へ入射する）は結像点の後ろでスポットを結
ぶ。

【００２５】第２実施例において、複合ホログラム１４
の組立に際してｚ軸回りの回転位置決め精度により、反
射ビームスポットは光検出器２７、２８上で図７（ａ）
に示すようにシフトする。すなわち、ホログラム１７に
よって分離された各戻り光の−１次光は、第１の光検出
器２７−１、２７−２、２７−３上で図７（ａ）中上方
向へ、＋１次光は、第２の光検出器２８−１、２８−
２、２８−３上で図７（ａ）中下方向へ移動し、これら
±１次光のビームスポットはｙ軸に対して互いに対称な
動きをする。したがって、各光検出器２７、２８に入射
するビームスポットは、光検出器２７−１に入射する０
次光の−１次光と、光検出器２８−２、２８−３に入射
する±１次光の−１次光とが互いにキャンセルし合い、
光検出器２８−１に入射する０次光の＋１次光と光検出
器２７−２、２７−３に入射する±１次光の＋１次光と
が互いにキャンセルし合うため、フォーカスオフセッ
ト、クロストークは発生しない。

【００２６】一方、ＬＤ−ＰＤユニット１３の組み立て
に際して、立ち上げミラー１３ｂのエッチング精度や、
レーザ素子１５の活性層の厚さのバラツキによる発光点
の位置精度によって、戻り光が光検出器２７、２８の分
割線に対して直交する方向（ｘ方向）へシフトする。図
７（ｂ）に示すように、第１の光検出器２７−１、２７
−２、２７−３へ入射する光ビームも、第２の光検出器
２８−１、２８−２、２８−３へ入射する光ビームも同
じ方向（上方向）へシフトする。したがって、光検出器
２７−１へ入射する０次光の−１次光と、光検出器２８
−１へ入射する０次光の＋１次光同士；光検出器２７
−２へ入射する＋１次光の−１次光と光検出器２８−２
へ入射する＋１次光の＋１次光同士；光検出器２７−
３へ入射する−１次光の−１次光と光検出器２８−３へ
入射する＋１次光の−１次光同士とがそれぞれキャンセ
ルし合い、フォーカスオフセット、クロストークを低減
することができる。

【００２７】なお、第２実施例においても、フォーカス
エラー信号、トラッキングエラー信号の演算は第１実施
例と同様にして行う。第２実施例のように、ホログラム
−グレーティング及びＬＤ−ＰＤをユニット化した装置
においては、これらのユニットを組み立てる上で発生す
るバラツキを原因としてビームスポットがシフトするこ
とが考えられるが、本発明の構成によれば、フォーカス
オフセット、クロストークがキャンセルされるため、ユ
ニット組み立て時の各素子の調整が容易になる。

【００２８】尚、複合ホログラム１４は、コリメータレ
ンズ１８と整形−ビームスプリットプリズム１９との間
に配置するようにしても良い。

【００２９】図８は、本発明に係るフォーカスエラー検
出系の第３実施例の構成を示す図である。本実施例で
は、図１に示す第１実施例の構成に、シリンドリカルレ
ンズ３１、３２を加えて、非点収差法を用いてフォーカ
スエラーを検出するようにしている。なお、以下に述べ
る図８、図９、図１０においては、第１実施例の検出系
と同じ構成要素については同じ符号を付して、その説明
は省略する。

【００３０】偏光ビームスプリッタ８の後ろの、それぞ
れの光路にシリンドリカルレンズ３１、３２をそれぞれ
の光路で母線が直交する方向に配置し、いずれか一方の
シリンドリカルレンズの母線をトラック方向と一致させ
るようにする。また、本実施例では、第１実施例で使用
した第１及び第２の光検出手段１１、１２に代えて、４
分割光検出素子を具える光検出手段３３、３４を用い
る。光検出手段３３、３４は、それぞれが３つの４分割
光検出器３３−１、３３−２、３３−３：３４−１、３
４−２、３４−３を具えており、これらの光検出器は、
トラック方向に並列され、それぞれトラック方向に対し
て４５°傾いた分割線で画成された４つの受光素子を具
えている。その他の構成は、第１実施例と同様であるの
でその説明は省略する。

【００３１】図９は、第３実施例の装置において、光検
出手段３３、３４上に形成されるビームスポットの形状
を示す。ディスク７上に照射した光ビームが合焦状態に
あるときは、第１及び第２の光検出手段３３、３４に形
成されるビームスポットは円形になり、一方、デフォー
カス状態の場合には、ディスク７が近いときには、第１
の光検出手段３３に形成されるビームスポットは横長の
楕円形状となり、第２の光検出手段３４に形成されるビ
ームスポットは縦長の楕円形状となる。逆に、ディスク
７が遠い場合には、第１の光検出手段３３に形成される
ビームスポットは縦長の楕円形状となり、第２の光検出
手段３４に形成されるビームスポットは横長の楕円形状
になる。すなわち、第１の光検出手段３３で受光される
０次、±１次光は、第１の光検出手段３３を構成する４
分割光検出器３３−１、３３−２、３３−３の上で同じ
ように変化し、第２の光検出手段３４で受光される０
次、±１次光も、第２の光検出手段３４を構成する４分
割光検出素子３４−１、３４−２、３４−３上で同じよ
うに変化するが、これらの第１の光検出器３３で受光す
る０次、±１次光と、第２の光検出器３４で受光する０
次、±１次光とは、逆相で変化することになる。

【００３２】４分割光検出素子３３−１を構成する受光
素子を、ａ₀，ｂ₀，ｃ₀，ｄ₀，３３−２を構成する
受光素子をａ₊₁，ｂ₊₁，ｃ₊₁，ｄ₊₁，３３−３を構成す
る受光素子をａ_-1，ｂ_-1，ｃ_-1，ｄ_-1、４分割光検出素
子３４−１を構成する受光素子をｅ₀，ｆ₀，ｇ₀，ｈ
₀、３４−２を構成する受光素子をｅ₊₁，ｆ₊₁，ｇ₊₁，
ｈ₊₁，３４−３を構成する受光素子をｅ_-1，ｆ_-1，
ｇ_-1，ｈ_-1とするとき、フォーカスエラー信号ＦＥは

【数４】ＦＥ＝｛（ａ₀＋ｃ₀）−（ｂ₀＋ｄ₀）｝−｛（ｅ₀＋ｇ₀） −（ｆ₀＋ｈ₀）｝＋Ｇ｛（ａ_-1＋ｃ_-1）−（ｂ_-1＋ｄ_-1）｝−｛（ｅ_-1＋ｇ_-1） −（ｆ_-1＋ｈ_-1）｝＋Ｇ｛（ａ₊₁＋ｃ₊₁）−（ｂ₊₁＋ｄ₊₁）｝−｛（ｅ₊₁＋ｇ₊₁） −（ｆ₊₁＋ｈ₊₁）｝を演算することによって得られ、トラッキングエラー信
号ＴＥは

【数５】ＴＥ＝（ａ₀−Ｃ₀）＋（ｅ₀−ｇ₀）−Ｇ｛（ａ_-1−ｃ_-1）＋（ｅ_-1−ｇ_-1）｝ −Ｇ｛（ａ₊₁−ｃ₊₁）−（ｅ₊₁−ｇ₊₁）｝を演算することによって得られる。

【００３３】図１０（ａ）は、２つのＰＤがラジアル方
向へシフトしている場合の、第１及び第２の光検出手段
３３、３４上でのビームスポットの様子を示す図であ
る。図１０（ａ）より明らかな通り、それぞれの光検出
手段３３、３４上で、ビームスポットはｘ軸（ｘ’軸）
上を同じ方向にシフトしているため、４分割光検出器３
３−１、３４−１に形成される０次光のビームスポット
同士、４分割光検出器３３−２、３４−２に形成される
＋１次光同士、及び４分割光検出器３３−３、３４−３
に形成される−１次光同士で、フォーカスオフセット、
クロストークをキャンセルすることができる。

【００３４】図１０（ｂ）は、２つのＰＤがラジアル方
向へ逆方向にシフトしている場合の、光検出手段３３、
３４上でのビームスポットの様子を示す図である。第１
の光検出手段３３を構成する光検出器３３−１に形成さ
れる０次光のビームスポットに対して、第２の光検出手
段３４を構成する光検出器３４−２、３４−３に形成さ
れる±１次光のビームスポットがｙ軸を中心に対照的に
シフトしており一方、第２の光検出手段３４を構成する
光検出器３４−１に形成される０次光のビームスポット
に対して、第１の光検出手段３３を構成する光検出器３
３−２、３３−３に形成される±１次光のビームスポッ
トがｙ軸を中心に対照的にシフトしているため、第１及
び第２の光検出手段３３、３４に入射する０次光（第１
の光検出手段では光検出器３３−１に入射し、第２の光
検出手段では光検出器３４−１に入射する）の差動から
第１及び第２の光検出手段に入射する±１次光（第１の
光検出手段では光検出器３３−２、３３−３に入射し、
第２の光検出手段では光検出器３４−２、３４−３に入
射する）の差動にゲインＧを掛けたものを引くことで、
フォーカスオフセット、クロストークをキャンセルする
ことができる。

【００３５】このように、非点収差光学系と組み合わせ
ても、第１実施例、第２実施例と同様の効果を得ること
ができる。本発明のフォーカスエラー検出系は、上記に
実施例に述べたフォーカス検出法以外の方法とも組み合
わせることができることは言うまでもない。

【００３６】なお、上述した実施例では、それぞれの光
検出手段として３分割光検出器あるいは４分割光検出器
を３個づつトラック方向に並べるようにしたが、＋１次
光あるいは−１次光を受光する光検出器のどちらか一方
を省略しても同様の効果を得ることができる。

【００３７】

【発明の効果】上述したように、本発明のフォーカスエ
ラー検出系によれば、２つのＰＤの調整ばらつきがある
場合にディスク上でビームスポットがグルーブを横断す
るときに光検出器上で発生するクロストークを低減する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のフォーカスエラー検出系の第１実施例
の構成を示す図である。

【図２】図２（ａ）は、図１に示すフォーカスエラー検
出系を右側方からみた図、図２（ｂ）は、ディスク上に
形成されるビームスポットの配置を示す図である。

【図３】（ａ）は、図１に示すフォーカスエラー検出系
において、２つのＰＤが同一方向にシフトしている場合
の光検出手段上でのビームスポットの様子を示す図、
（ｂ）は、２つのＰＤが逆方向にシフトしている場合の
光検出手段上でのビームスポットの様子を示す図であ
る。

【図４】本発明のフォーカスエラー検出系の第２実施例
の構成を示す図である。

【図５】第２実施例におけるＬＤ−ＰＤユニットの構成
を示す図である。

【図６】（ａ）は、第２実施例における複合プリズムに
入射する入射光ビームの光路を示す図、（ｂ）は、複合
プリズムに入射する反射光ビームの光路を示す図であ
る。

【図７】（ａ）は、図４に示すフォーカスエラー検出系
において、２つのＰＤが同一方向にシフトしている場合
の光検出手段上でのビームスポットの様子を示す図、
（ｂ）は、２つのＰＤが逆方向にシフトしている場合の
光検出手段上でのビームスポットの様子を示す図、
（ｃ）は、光検出器の分割線とレーザ素子の発光点との
位置ずれがある場合の光検出手段上でのビームスポット
の動きを示す図である。

【図８】本発明のフォーカスエラー検出系の第３実施例
の構成を示す図である。

【図９】図８に示すフォーカスエラー検出系において、
合焦時、非合焦時の光検出手段上のビームスポットの形
状を示す図である。

【図１０】（ａ）は、図８に示すフォーカスエラー検出
系において、２つのＰＤが同一方向にシフトしている場
合の光検出手段上でのビームスポットの様子を示す図、
（ｂ）は、２つのＰＤが逆方向にシフトしている場合の
光検出手段上でのビームスポットの様子を示す図であ
る。

【図１１】従来のフォーカスエラー検出系の構成を示す
図である。

【図１２】図１１に示すフォーカスエラー検出系におい
て、光ビームに強度分布が生じている状態を部分的に示
す図である。

【図１３】図１３は、フォーカスエラー検出系におい
て、２つのＰＤが同一方向へシフトしている場合の検出
器上でのビームスポットの様子を示す図、

【図１４】図１４は、図１１に示す従来のフォーカスエ
ラー検出系において、２つのＰＤが逆方向のにシフトし
ている場合の検出器上でのビームスポットの様子を示す
図である。

【符号の説明】

１、１５レーザ素子２、１８コリメータレンズ３回折格子４整形プリズム５ビームスプリッタ６、２０対物レンズ７、２１ディスク８、２４集光レンズ９、２３１／２波長板１０偏光ビームスプリッタ１１、２７、３３第１の光検出手段１２、２８、３４第２の光検出手段１３ＬＤ−ＰＤユニット１３ａ半導体基板１３ｂ立ち上げミラー１４複合ホログラム１６３ビーム用グレーティング１７ビームサイズ法用ホログラム１９成形ビームスプリットプリズム３１、３２シリンドリカルレンズ

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成４年１２月２８日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【特許請求の範囲】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００５

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００５】図１２は、図１１に示す装置において、光
磁気ディスク５６上でビームスポットがグルーブを横切
っている状態を部分的に示す図である。ビームスポット
がグルーブを横切っているため、反射光ビームにはトラ
ック方向と直交する方向に強度分布差が発生する。い
ま、フォーカスエラー検出用の３分割光検出器５９−
２、６０−２は、トラック方向と平行な方向に延在する
分割線によって分割されているため、フォーカスエラー
の演算方向はトラック方向と直交する方向になる。ここ
で２つのＰＤが同一方向にシフトしている場合の反射光
ビームの光検出器５９−２、６０−２上でのビームスポ
ットの様子を図１３に示す。このように、２つのＰＤが
同一方向にシフトしていると、光検出器５９−２、６０
−２上で、ビームスポットは分割線と直交するＸ方向
（Ｘ’方向）に存在するが、これらのビームスポットは
第１及び第２の光検出器５９−２、６０−２上で同じ方
向に同じ量シフトしている。したがって、それぞれの光
検出器５９−２、６０−２で発生するオフセットが互い
にキャンセルされることになり、フォーカスオフセット
は発生しない。また、ビームスポットがグルーブを横断
して、反射光ビームに強度分布が生じた場合にも、同様
に各光検出器５９−２、６０−２で生じるオフセットが
キャンセルされ、フォーカスオフセットは発生しない。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００８

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００８】

【課題を解決するための手段及び作用】上記課題を解決
するために、本願の第１発明に係るフォーカスエラー検
出系は、レーザ素子から出射したレーザビームを情報記
録媒体に入射させ、この情報記録媒体で反射したレーザ
ビームを分光手段を用いて２方向に分離し、分離したこ
れらのレーザビームを、それぞれが複数個の光検出器を
具える第１及び第２の光検出手段で検知して、フォーカ
スエラー信号を検出するフォーカスエラー検出系におい
て、前記レーザ素子から出射したレーザビームを、該
レーザビームが前記情報記録媒体に入射する前に複数の
レーザビームに分離するようにグレーティングを配置
し、前記第１及び第２の光検出手段が具えるそれぞれの
光検出器が、前記情報記録媒体上に形成されているトラ
ックの延在方向に並列されているとともに、前記光検出
器がそれぞれ複数の受光領域を具えており、これらの受
光領域を画成している分割線が前記トラックの延在方向
に延在することを特徴とするものである。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００９

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００９】このように、本願第１発明においては、レ
ーザ素子から出射したレーザビームを、該レーザビーム
が情報記録媒体に入射する前に複数のレーザビームに分
離するようにグレーティングを配置し、第１及び第２の
光検出手段が具えるそれぞれの光検出器が、情報記録媒
体上に形成されているトラックの延在方向に並列されて
いるとともに、それぞれの光検出器が具える複数の受光
領域が前記トラックの延在方向に延在する分割線で分割
されているため、スポットがＰＤ上でシフトしている場
合でもそれぞれの光検出手段で発生するオフセットを互
いにキャンセルすることができ、フォーカスエラー信号
のクロストークを低減することができる。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１０

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１０】本願第２発明に係るフォーカスエラー検出
系は、レーザ素子から出射したレーザビームを情報記録
媒体に入射させ、この情報記録媒体で反射したレーザビ
ームを分光手段を用いて２方向に分離し、分離したこれ
らのレーザビームを、それぞれが複数個の光検出器を具
える第１及び第２の光検出手段で検知して、フォーカス
エラー信号を検出するフォーカスエラー検出系におい
て、前記レーザ素子から出射したレーザビームを、該レ
ーザビームが前記情報記録媒体に入射する前に複数のレ
ーザビームに分離するようにグレーティングを配置し、
前記レーザ素子と前記第１及び第２の光検出手段とが共
通の半導体基板上に一体的に形成されているとともに、
前記第１及び第２の光検出手段が具える複数の光検出器
が、前記レーザ素子を挟んで前記トラックの延在方向に
並設されており、前記グレーティングと前記分光手段と
が一体的に形成されており、前記第１及び第２の光検出
手段が具えるそれぞれの光検出器が、それぞれ複数の受
光領域を具えており、これらの受光領域を画成している
分割線が前記トラックの延在方向に延在することを特徴
とするものである。

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１５】光磁気ディスク７からの反射光は、偏光ビ
ームスプリッタ１０でそれぞれ２つの光路に分離され、
一方の光ビームは第１の光路の結像点前に配置した第１
の光検出手段１１に入射し、他方の光ビームは第２の光
路の結像点後に配置した第２の光検出手段１２に入射す
る。第１及び第２の光検出手段１１、１２は、それぞれ
が３個の３分割光検出器１１−１、１１−２、１１−
３；１２−１、１２−２、１２−３を具えており、これ
らの光検出器は、ｙ方向、すなわちディスク７上のトラ
ック方向に平行な方向に並設されている。中央の光検出
器１１−１（１２−１）で０次光スポットを検出し、両
側の２つの光検出器１１−２、１１−３（１２−２、１
２−３）で±１次光をそれぞれ検出する。ここで、光ビ
ームがランド７ａを横切ることによって生じる強度分布
は、±１次光と０次光とでは逆位相で変化する。

【手続補正７】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２５】第２実施例において、複合ホログラム１４
の組立に際してｚ軸回りの回転位置決め精度により、反
射ビームスポットは光検出器２７、２８上で図７（ａ）
に示すようにシフトする。すなわち、ホログラム１７に
よって分離された各戻り光の−１次光は、第１の光検出
器２７−１、２７−２、２７−３上で図７（ａ）中上方
向へ、＋１次光は、第２の光検出器２８−１、２８−
２、２８−３上で図７（ａ）中下方向へ移動する。した
がって、各光検出器２７、２８に入射するビームスポッ
トにより発生するクロストークは、光検出器２７−１に
入射する０次光の−１次光と、光検出器２８−２、２８
−３に入射する±１次光の−１次光とが互いにキャンセ
ルし合い、光検出器２８−１に入射する０次光の＋１次
光と光検出器２７−２、２７−３に入射する±１次光の
＋１次光とが互いにキャンセルし合うため、クロストー
クは発生しない。

【手続補正８】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２６】一方、ＬＤ−ＰＤユニット１３の組み立て
に際して、立ち上げミラー１３ｂのエッチング精度や、
レーザ素子１５の活性層の厚さのバラツキによる発光点
の位置精度によって、戻り光が光検出器２７、２８の分
割線に対して直交する方向（Ｙ方向）へシフトする。図
７（ｂ）に示すように、第１の光検出器２７−１、２７
−２、２７−３へ入射する光ビームも、第２の光検出器
２８−１、２８−２、２８−３へ入射する光ビームも同
じ方向（上方向）へシフトする。したがって、光検出器
２７−１へ入射する０次光の−１次光と、光検出器２８
−１へ入射する０次光の＋１次光同士；光検出器２７
−２へ入射する＋１次光の−１次光と光検出器２８−２
へ入射する＋１次光の＋１次光同士；光検出器２７−
３へ入射する−１次光の−１次光と光検出器２８−３へ
入射する＋１次光の−１次光同士とがそれぞれキャンセ
ルし合い、クロストークを低減することができる。

【手続補正９】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２７】なお、第２実施例においても、フォーカス
エラー信号、トラッキングエラー信号の演算は第１実施
例と同様にして行う。第２実施例のように、ホログラム
−グレーティング及びＬＤ−ＰＤをユニット化した装置
においては、これらのユニットを組み立てる上で発生す
るバラツキを原因としてビームスポットがシフトするこ
とが考えられるが、本発明の構成によれば、クロストー
クがキャンセルされるため、ユニット組み立て時の各素
子の調整が容易になる。

【手続補正１０】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３３】図１０（ａ）は、２つのＰＤがラジアル方
向へシフトしている場合の、第１及び第２の光検出手段
３３、３４上でのビームスポットの様子を示す図であ
る。図１０（ａ）より明らかな通り、それぞれの光検出
手段３３、３４上で、ビームスポットはｘ軸（ｘ’軸）
上を同じ方向にシフトしているため、４分割光検出器３
３−１、３４−１に形成される０次光のビームスポット
同士、４分割光検出器３３−２、３４−２に形成される
＋１次光同士、及び４分割光検出器３３−３、３４−３
に形成される−１次光同士で、クロストークをキャンセ
ルすることができる。

【手続補正１１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３４】図１０（ｂ）は、２つのＰＤがラジアル方
向へ逆方向にシフトしている場合の、光検出手段３３、
３４上でのビームスポットの様子を示す図である。第１
の光検出手段３３を構成する光検出器３３−１に形成さ
れる０次光のビームスポットに対して、第２の光検出手
段３４を構成する光検出器３４−２、３４−３に形成さ
れる±１次光のビームスポットがｙ軸を中心に対照的に
シフトしており一方、第２の光検出手段３４を構成する
光検出器３４−１に形成される０次光のビームスポット
に対して、第１の光検出手段３３を構成する光検出器３
３−２、３３−３に形成される±１次光のビームスポッ
トがｙ軸を中心に対照的にシフトしているため、第１及
び第２の光検出手段３３、３４に入射する０次光（第１
の光検出手段では光検出器３３−１に入射し、第２の光
検出手段では光検出器３４−１に入射する）の差動から
第１及び第２の光検出手段に入射する±１次光（第１の
光検出手段では光検出器３３−２、３３−３に入射し、
第２の光検出手段では光検出器３４−２、３４−３に入
射する）の差動にゲインＧを掛けたものを引くことで、
クロストークをキャンセルすることができる。

【手続補正１２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図７】（ａ）は、図４に示すフォーカスエラー検出系
において、２つのＰＤが同一方向にシフトしている場合
の光検出手段上でのビームスポットの様子を示す図、
（ｂ）は、２つのＰＤが逆方向にシフトしている場合の
光検出手段上でのビームスポットの様子を示す図、

【符号の説明】１、１５レーザ素子２、１８コリメータレンズ３回折格子４整形プリズム５ビームスプリッタ６、２０対物レンズ７、２１ディスク８、２４集光レンズ９、２３１／２波長板１０偏光ビームスプリッタ１１、２７、３３第１の光検出手段１２、２８、３４第２の光検出手段１３ＬＤ−ＰＤユニット１３ａ半導体基板１３ｂ立ち上げミラー１４複合ホログラム１６３ビーム用グレーティング１７ビームサイズ法用ホログラム１９成形ビームスプリットプリズム３１、３２シリンドリカルレンズ

【手続補正１３】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図７

【補正方法】変更

【補正内容】

【図７】

【手続補正１４】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図１３

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１３】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザ素子から出射したレーザビームを
情報記録媒体に入射させ、この情報記録媒体で反射した
レーザビームを分光手段を用いて２方向に分離し、分離
したこれらのレーザビームを、それぞれが複数個の光検
出器を具える第１及び第２の光検出手段で検知して、フ
ォーカスエラー信号を検出するフォーカスエラー検出系
において、前記レーザ素子から出射したレーザビームを、該レーザ
ビームが前記情報記録媒体に入射する前に複数のレーザ
ビームに分離するようにグレーティングを配置し、前記第１及び第２の光検出手段が具えるそれぞれの光検
出器が、前記情報記録媒体上に形成されているトラック
の延在方向に並列されているとともに、前記光検出器が
それぞれ複数の受光領域を具えており、これらの受光領
域を画成している分割線が前記トラックの延在方向とほ
ぼ直交する方向に延在することを特徴とするフォーカス
エラー検出系。
【請求項２】レーザ素子から出射したレーザビームを
情報記録媒体に入射させ、この情報記録媒体で反射した
レーザビームを分光手段を用いて２方向に分離し、分離
したこれらのレーザビームを、それぞれが複数個の光検
出器を具える第１及び第２の光検出手段で検知して、フ
ォーカスエラー信号を検出するフォーカスエラー検出系
において、前記レーザ素子から出射したレーザビームを、該レーザ
ビームが前記情報記録媒体に入射する前に複数のレーザ
ビームに分離するようにグレーティングを配置し、前記レーザ素子と前記第１及び第２の光検出手段とが共
通の半導体基板上に一体的に形成されているとともに、
前記第１及び第２の光検出手段が具える複数の光検出器
が、前記レーザ素子を挟んで前記トラック方向に直交す
る方向に並設されており、前記グレーティングと前記分光手段とが一体的に形成さ
れており、前記第１及び第２の光検出手段が具えるそれぞれの光検
出器が、それぞれ複数の受光領域を具えており、これら
の受光領域を画成している分割線が前記トラックの延在
方向に直交する方向に延在することを特徴とするフォー
カスエラー検出系。
【請求項３】レーザ素子から出射したレーザビームを
情報記録媒体に入射させ、この情報記録媒体で反射した
レーザビームを分光手段を用いて２方向に分離し、分離
したこれらのレーザビームに非点収差を与え、これらの
レーザビームをそれぞれが複数個の光検出器を具える第
１及び第２の光検出手段で検知して、フォーカスエラー
信号を検出するフォーカスエラー検出系において、前記レーザ素子から出射したレーザビームを、該レーザ
ビームが前記情報記録媒体に入射する前に複数のレーザ
ビームに分離するようにグレーティングを配置し、前記第１及び第２の光検出手段が具えるそれぞれの光検
出器が、前記情報記録媒体上に形成されているトラック
の延在方向に並列されているとともに、前記光検出器が
それぞれ複数の受光領域を具えており、これらの受光領
域を画成している分割線が前記トラックの延在方向に対
してほぼ４５°をなしていることを特徴とするフォーカ
スエラー検出系。