JPH06139543A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH06139543A JPH06139543A JP29134692A JP29134692A JPH06139543A JP H06139543 A JPH06139543 A JP H06139543A JP 29134692 A JP29134692 A JP 29134692A JP 29134692 A JP29134692 A JP 29134692A JP H06139543 A JPH06139543 A JP H06139543A
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- magnetic
- magnetic layer
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 出力が大きく、かつ、高密度記録に適してお
り、更には耐久性に富む磁気記録媒体を提供することで
ある。 【構成】 支持体上にＦｅを主成分とした磁性膜が設け
られ、その上にＣｏ−Ｃｒを主成分とした磁性膜が設け
られてなる磁気記録媒体。
り、更には耐久性に富む磁気記録媒体を提供することで
ある。 【構成】 支持体上にＦｅを主成分とした磁性膜が設け
られ、その上にＣｏ−Ｃｒを主成分とした磁性膜が設け
られてなる磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及びその
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
【０００３】すなわち、無電解メッキといった湿式メッ
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されており、この種の磁気記録
媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記録に
適したものである。そして、この種の金属薄膜型の磁気
記録媒体における磁性層は単一層から形成されているも
のが多い。
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されており、この種の磁気記録
媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密度記録に
適したものである。そして、この種の金属薄膜型の磁気
記録媒体における磁性層は単一層から形成されているも
のが多い。
【０００４】ところで、これまでの単一磁性層から構成
されている磁気記録媒体に対してリング型磁気ヘッドで
記録再生を試みると、記録再生特性は必ずしも期待通り
なものではなかった。
されている磁気記録媒体に対してリング型磁気ヘッドで
記録再生を試みると、記録再生特性は必ずしも期待通り
なものではなかった。
【０００５】
【発明の開示】前記の問題点に対する研究が鋭意押し進
められて行った結果、リング型磁気ヘッドからの磁力線
は磁気記録媒体の上層部では面に対して略垂直方向にあ
るものの、磁気記録媒体の中層部から下層部にかけては
面に対して斜めないしは平行方向にあり、この為磁性層
中の磁性粒子の磁化容易軸がリング型磁気ヘッドからの
磁力線の方向と異なるからによることが判って来た。
められて行った結果、リング型磁気ヘッドからの磁力線
は磁気記録媒体の上層部では面に対して略垂直方向にあ
るものの、磁気記録媒体の中層部から下層部にかけては
面に対して斜めないしは平行方向にあり、この為磁性層
中の磁性粒子の磁化容易軸がリング型磁気ヘッドからの
磁力線の方向と異なるからによることが判って来た。
【０００６】このような知見に基づいて本発明が達成さ
れたものであり、本発明の目的は、出力が大きく、か
つ、高密度記録に適しており、更には耐久性に富む磁気
記録媒体を提供することである。この本発明の目的は、
支持体上にＦｅを主成分とした磁性膜が設けられ、その
上にＣｏ−Ｃｒを主成分とした磁性膜が設けられてなる
ことを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
れたものであり、本発明の目的は、出力が大きく、か
つ、高密度記録に適しており、更には耐久性に富む磁気
記録媒体を提供することである。この本発明の目的は、
支持体上にＦｅを主成分とした磁性膜が設けられ、その
上にＣｏ−Ｃｒを主成分とした磁性膜が設けられてなる
ことを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
【０００７】尚、上記の発明において、Ｆｅを主成分と
した磁性膜のコラム構造は斜めであって、磁化容易軸が
斜めであり、Ｃｏ−Ｃｒを主成分とした磁性膜のコラム
構造は垂直であって、磁化容易軸が垂直であるものが好
ましい。又、支持体上にＦｅを主成分とした磁性膜をイ
オンアシスト斜め蒸着法により形成した後、Ｃｏ−Ｃｒ
を主成分とした磁性膜をスパッタ法で形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
した磁性膜のコラム構造は斜めであって、磁化容易軸が
斜めであり、Ｃｏ−Ｃｒを主成分とした磁性膜のコラム
構造は垂直であって、磁化容易軸が垂直であるものが好
ましい。又、支持体上にＦｅを主成分とした磁性膜をイ
オンアシスト斜め蒸着法により形成した後、Ｃｏ−Ｃｒ
を主成分とした磁性膜をスパッタ法で形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
【０００８】以下、本発明について更に詳しく説明す
る。図１に本発明になる磁気記録媒体の概略断面図を示
す。同図中、１は非磁性の基板であり、この基板１はポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。尚、基板１面上には磁性層の
密着性を向上させる為のアンダーコート層２が必要に応
じて設けられる。すなわち、表面の粗さを適度に粗すこ
とにより乾式メッキにより構成される磁性層の密着性を
向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さを適度な
ものとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒
子を含有させた厚さが０．０１〜０．５μｍの塗膜を設
けることによってアンダーコート層２が構成されてい
る。
る。図１に本発明になる磁気記録媒体の概略断面図を示
す。同図中、１は非磁性の基板であり、この基板１はポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。尚、基板１面上には磁性層の
密着性を向上させる為のアンダーコート層２が必要に応
じて設けられる。すなわち、表面の粗さを適度に粗すこ
とにより乾式メッキにより構成される磁性層の密着性を
向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さを適度な
ものとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒
子を含有させた厚さが０．０１〜０．５μｍの塗膜を設
けることによってアンダーコート層２が構成されてい
る。
【０００９】アンダーコート層２の上には、イオンアシ
スト斜め蒸着装置によって金属薄膜型の第１磁性層３が
設けられる。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真
空雰囲気下でＦｅを抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム
加熱などにより蒸発させ、基板１のアンダーコート層２
面上に堆積（蒸着）させることにより、第１磁性層３が
５００〜５０００Å厚形成される。尚、斜め蒸着の際の
入射角αは３０°〜８０°、望ましくは約４５°〜７０
°であることが好ましい。従って、Ｆｅを主成分とした
第１磁性層３のコラム構造は斜めであって、磁化容易軸
が３０°〜８０°の斜めである。
スト斜め蒸着装置によって金属薄膜型の第１磁性層３が
設けられる。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真
空雰囲気下でＦｅを抵抗加熱、高周波加熱、電子ビーム
加熱などにより蒸発させ、基板１のアンダーコート層２
面上に堆積（蒸着）させることにより、第１磁性層３が
５００〜５０００Å厚形成される。尚、斜め蒸着の際の
入射角αは３０°〜８０°、望ましくは約４５°〜７０
°であることが好ましい。従って、Ｆｅを主成分とした
第１磁性層３のコラム構造は斜めであって、磁化容易軸
が３０°〜８０°の斜めである。
【００１０】第１磁性層３はＦｅを主成分としたもので
あれば良い。すなわち、第１磁性層３はＦｅのみで構成
されていても良いが、磁気特性や耐久性を鑑みたなら
ば、Ｆｅを主成分としながらも、Ｎ，Ｃ，Ｏ等の成分が
含まれていても良い。例えば、これまでに提案されて来
ているＦｅx Ｎ系、Ｆｅ−Ｃ−Ｎ系のものでも良く、そ
の他本願発明者によって提案されているＦｅ−Ｃ−Ｏ系
あるいはＦｅ−Ｎ−Ｏ系、Ｆｅ−Ｃ−Ｎ−Ｏ系のもので
も良い。すなわち、保磁力Ｈｃが８００Ｏｅ以上、か
つ、飽和磁束密度Ｂｓが３５００Ｇ以上であるよう磁気
特性を示すＦｅを主成分とした磁性層であれば、Ｆｅx
Ｎ系、Ｆｅ−Ｃ−Ｎ系、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系、Ｆｅ−Ｎ−Ｏ
系、Ｆｅ−Ｃ−Ｎ−Ｏ系いずれのものでも良い。尚、耐
蝕性及びコストのことを鑑みたならば、すなわちＦｅ源
として用いる材料に高純度なものを用いなくとも済み、
かつ、耐蝕性にも優れた特長を呈するＦｅ−Ｃ−Ｎ−Ｏ
系のものが好ましい。といっても、第１磁性層３の上に
は後述する第２磁性層４が設けられるから、耐蝕性につ
いては過度に考慮する必要もない。
あれば良い。すなわち、第１磁性層３はＦｅのみで構成
されていても良いが、磁気特性や耐久性を鑑みたなら
ば、Ｆｅを主成分としながらも、Ｎ，Ｃ，Ｏ等の成分が
含まれていても良い。例えば、これまでに提案されて来
ているＦｅx Ｎ系、Ｆｅ−Ｃ−Ｎ系のものでも良く、そ
の他本願発明者によって提案されているＦｅ−Ｃ−Ｏ系
あるいはＦｅ−Ｎ−Ｏ系、Ｆｅ−Ｃ−Ｎ−Ｏ系のもので
も良い。すなわち、保磁力Ｈｃが８００Ｏｅ以上、か
つ、飽和磁束密度Ｂｓが３５００Ｇ以上であるよう磁気
特性を示すＦｅを主成分とした磁性層であれば、Ｆｅx
Ｎ系、Ｆｅ−Ｃ−Ｎ系、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系、Ｆｅ−Ｎ−Ｏ
系、Ｆｅ−Ｃ−Ｎ−Ｏ系いずれのものでも良い。尚、耐
蝕性及びコストのことを鑑みたならば、すなわちＦｅ源
として用いる材料に高純度なものを用いなくとも済み、
かつ、耐蝕性にも優れた特長を呈するＦｅ−Ｃ−Ｎ−Ｏ
系のものが好ましい。といっても、第１磁性層３の上に
は後述する第２磁性層４が設けられるから、耐蝕性につ
いては過度に考慮する必要もない。
【００１１】第１磁性層３の上には第２磁性層４がスパ
ッタ手段によって設けられる。例えば、１０-4〜１０-6
Ｔｏｒｒ程度の真空雰囲気下でＣｏ−Ｃｒ合金をターゲ
ットとしたスパッタリングにより第１磁性層３上にＣｏ
−Ｃｒを主成分とした第２磁性層を堆積させることによ
り、第２磁性層４が５０〜１０００Å厚形成される。
尚、このスパッタリングで構成されるＣｏ−Ｃｒを主成
分とした第２磁性層４のコラム構造は膜面に垂直であっ
て、磁化容易軸は垂直方向にある。そして、この磁性層
は保磁力Ｈｃが１０００Ｏｅ以上、かつ、飽和磁束密度
Ｂｓが３０００Ｇ以上であるよう磁気特性を示すもので
あれば良く、Ｃｏ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ａｌ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ−Ａｌ系いずれのも
のでも良い。尚、この第２磁性層４はＣｏ−Ｃｒを主成
分（Ｃｏは７０〜９５原子％、Ｃｒは３０〜５原子％）
としたものであるから、第１磁性層３のような耐蝕性の
問題は少ないものである。
ッタ手段によって設けられる。例えば、１０-4〜１０-6
Ｔｏｒｒ程度の真空雰囲気下でＣｏ−Ｃｒ合金をターゲ
ットとしたスパッタリングにより第１磁性層３上にＣｏ
−Ｃｒを主成分とした第２磁性層を堆積させることによ
り、第２磁性層４が５０〜１０００Å厚形成される。
尚、このスパッタリングで構成されるＣｏ−Ｃｒを主成
分とした第２磁性層４のコラム構造は膜面に垂直であっ
て、磁化容易軸は垂直方向にある。そして、この磁性層
は保磁力Ｈｃが１０００Ｏｅ以上、かつ、飽和磁束密度
Ｂｓが３０００Ｇ以上であるよう磁気特性を示すもので
あれば良く、Ｃｏ−Ｃｒ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ａｌ系、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ−Ａｌ系いずれのも
のでも良い。尚、この第２磁性層４はＣｏ−Ｃｒを主成
分（Ｃｏは７０〜９５原子％、Ｃｒは３０〜５原子％）
としたものであるから、第１磁性層３のような耐蝕性の
問題は少ないものである。
【００１２】上記第１磁性層３及び第２磁性層４の形成
は、図２に示されるようなイオンアシスト斜め蒸着機構
とスパッタ機構とが組み込まれた装置が用いられる。図
２中、１１は冷却キャン、１２はＰＥＴフィルム１０の
供給側ロール、１３はＰＥＴフィルム１０の巻取側ロー
ル、１４は仕切板、１５はルツボ、１６は純度が９９％
程度のＦｅ、１７はシャッター、１８はイオン銃、１９
はＣｏ−Ｃｒをターゲットとしたスパッタ装置、２０は
加熱用ランプ、２１はマスフローコントローラ、２２は
真空計、２３は膜厚計、２４は遮蔽板、２５はガス導入
ノズルであり、イオン銃１８に炭酸ガス等のＣ含有ガ
ス、窒素ガス等のＮ含有ガスや酸素ガスが供給される
と、炭素イオン、窒素イオンや酸素イオンが放出され、
これらのイオンがＰＥＴフィルム１０上に蒸着したＦｅ
膜に衝突し、ＦｅがＦｅ−Ｃ−Ｎ−Ｏ系のものに変換す
る。尚、イオン銃としてはＥＣＲ形（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ
Ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）やカウフ
マン形などのものが有り、いずれのタイプのものをも用
いることが出来る。そして、一つの銃に複数種のガスを
入れても良く、又、複数の銃の各々に各々のガスを入
れ、独立して各々のイオンを照射するようにしても良
い。
は、図２に示されるようなイオンアシスト斜め蒸着機構
とスパッタ機構とが組み込まれた装置が用いられる。図
２中、１１は冷却キャン、１２はＰＥＴフィルム１０の
供給側ロール、１３はＰＥＴフィルム１０の巻取側ロー
ル、１４は仕切板、１５はルツボ、１６は純度が９９％
程度のＦｅ、１７はシャッター、１８はイオン銃、１９
はＣｏ−Ｃｒをターゲットとしたスパッタ装置、２０は
加熱用ランプ、２１はマスフローコントローラ、２２は
真空計、２３は膜厚計、２４は遮蔽板、２５はガス導入
ノズルであり、イオン銃１８に炭酸ガス等のＣ含有ガ
ス、窒素ガス等のＮ含有ガスや酸素ガスが供給される
と、炭素イオン、窒素イオンや酸素イオンが放出され、
これらのイオンがＰＥＴフィルム１０上に蒸着したＦｅ
膜に衝突し、ＦｅがＦｅ−Ｃ−Ｎ−Ｏ系のものに変換す
る。尚、イオン銃としてはＥＣＲ形（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ
Ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）やカウフ
マン形などのものが有り、いずれのタイプのものをも用
いることが出来る。そして、一つの銃に複数種のガスを
入れても良く、又、複数の銃の各々に各々のガスを入
れ、独立して各々のイオンを照射するようにしても良
い。
【００１３】このようにして磁化容易軸が３０°〜８０
°のＦｅを主成分とした第１磁性層３が形成され、巻取
側ロール１３に巻き取られた後、イオンアシスト斜め蒸
着機構を停止した状態でＰＥＴフィルム１０を逆方向に
走行させ、今度はスパッタ機構を作動させて磁化容易軸
が垂直方向にあるＣｏ−Ｃｒを主成分とした第２磁性層
４を形成すれば良い。
°のＦｅを主成分とした第１磁性層３が形成され、巻取
側ロール１３に巻き取られた後、イオンアシスト斜め蒸
着機構を停止した状態でＰＥＴフィルム１０を逆方向に
走行させ、今度はスパッタ機構を作動させて磁化容易軸
が垂直方向にあるＣｏ−Ｃｒを主成分とした第２磁性層
４を形成すれば良い。
【００１４】勿論、図２に示されるイオンアシスト斜め
蒸着機構の部分とスパッタ機構との部分との真空雰囲気
を各々の雰囲気に独立して設定出来る構造のものにして
おけば、ＰＥＴフィルム１０が一つの走行方向にある時
に第１磁性層３及び第２磁性層４を形成できる。５は第
２磁性層４の上に設けられた潤滑剤層である。すなわ
ち、潤滑剤を含有させた塗料を所定の手段で塗布するこ
とにより、約５〜５０Å、好ましくは約１０〜３０Å程
度の厚さの潤滑剤層５が設けられる。
蒸着機構の部分とスパッタ機構との部分との真空雰囲気
を各々の雰囲気に独立して設定出来る構造のものにして
おけば、ＰＥＴフィルム１０が一つの走行方向にある時
に第１磁性層３及び第２磁性層４を形成できる。５は第
２磁性層４の上に設けられた潤滑剤層である。すなわ
ち、潤滑剤を含有させた塗料を所定の手段で塗布するこ
とにより、約５〜５０Å、好ましくは約１０〜３０Å程
度の厚さの潤滑剤層５が設けられる。
【００１５】６は、基板１の他面に設けられたカーボン
ブラック等を含有させたバックコート層である。以下、
具体的な実施例を挙げて説明する。
ブラック等を含有させたバックコート層である。以下、
具体的な実施例を挙げて説明する。
【００１６】
〔実施例１〜５〕図２に示される如くのイオンアシスト
斜め蒸着−スパッタ装置に厚さ９．３μｍのＰＥＴフィ
ルム１０を装着し、ＰＥＴフィルム１０が２ｍ／分の走
行速度で走行させられている。
斜め蒸着−スパッタ装置に厚さ９．３μｍのＰＥＴフィ
ルム１０を装着し、ＰＥＴフィルム１０が２ｍ／分の走
行速度で走行させられている。
【００１７】そして、酸化マグネシウム製のルツボ１５
に純度が９９％程度のＦｅ１６を入れ、例えば出力３０
ｋＷの電子銃を用いてＦｅを蒸発させ、ＰＥＴフィルム
１０にＦｅ粒子を蒸着（入射角α＝６０°）させると共
に、窒素ガス（純度９９．９９％）及び酸素ガス（純度
９９．９９％）の混合ガス（体積混合比４：１）を出力
５００ＷのＥＣＲ形イオン銃１８に供給し、ＰＥＴフィ
ルム１０のＦｅ蒸着面に向けて窒素イオン及び酸素イオ
ンを照射する。
に純度が９９％程度のＦｅ１６を入れ、例えば出力３０
ｋＷの電子銃を用いてＦｅを蒸発させ、ＰＥＴフィルム
１０にＦｅ粒子を蒸着（入射角α＝６０°）させると共
に、窒素ガス（純度９９．９９％）及び酸素ガス（純度
９９．９９％）の混合ガス（体積混合比４：１）を出力
５００ＷのＥＣＲ形イオン銃１８に供給し、ＰＥＴフィ
ルム１０のＦｅ蒸着面に向けて窒素イオン及び酸素イオ
ンを照射する。
【００１８】このようなイオンアシスト斜め蒸着により
Ｆｅ−Ｎ−Ｏ系磁性膜を１５００Å厚形成した。そし
て、このＦｅ−Ｎ−Ｏ磁性膜上にマグネトロンスパッタ
リングによりＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜を１００Å厚形成し
た。この後、ＰＥＴフィルム１０の裏面にバックコート
層を０．５μｍ厚形成し、そして所定の幅にスリットし
て磁気テープを作成した。
Ｆｅ−Ｎ−Ｏ系磁性膜を１５００Å厚形成した。そし
て、このＦｅ−Ｎ−Ｏ磁性膜上にマグネトロンスパッタ
リングによりＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜を１００Å厚形成し
た。この後、ＰＥＴフィルム１０の裏面にバックコート
層を０．５μｍ厚形成し、そして所定の幅にスリットし
て磁気テープを作成した。
【００１９】又、同様にして表−１に示す組成の磁気テ
ープを作成した。 表 − １ 第 １ 磁 性 層 第 ２ 磁 性 層 組成（原子％） 厚さ 組成（原子％） 厚さ Ｆｅ Ｃ Ｎ Ｏ （Å） Ｃｏ Ｃｒ （Å） 実施例１ ８０ ０ １０ １０ １５００ ９０ １０ １００ 実施例２ ７５ １０ １０ ５ ２０００ ９５ ５ ２００ 実施例３ ８０ ５ １０ ５ １０００ ８５ １５ ５０ 実施例４ ９０ ２ ４ ４ ５０００ ７０ ３０ ５００ 実施例５ ８０ １０ ０ １０ ５００ ９０ １０ １０００ 〔比較例１，２〕実施例１，２において、第１磁性層
（Ｆｅ−Ｎ−Ｏ系磁性膜）と第２磁性層（Ｃｏ−Ｃｒ系
磁性膜）の形成順序を逆にした他は同様に行い、表−２
に示す組成の磁気テープを作成した。
ープを作成した。 表 − １ 第 １ 磁 性 層 第 ２ 磁 性 層 組成（原子％） 厚さ 組成（原子％） 厚さ Ｆｅ Ｃ Ｎ Ｏ （Å） Ｃｏ Ｃｒ （Å） 実施例１ ８０ ０ １０ １０ １５００ ９０ １０ １００ 実施例２ ７５ １０ １０ ５ ２０００ ９５ ５ ２００ 実施例３ ８０ ５ １０ ５ １０００ ８５ １５ ５０ 実施例４ ９０ ２ ４ ４ ５０００ ７０ ３０ ５００ 実施例５ ８０ １０ ０ １０ ５００ ９０ １０ １０００ 〔比較例１，２〕実施例１，２において、第１磁性層
（Ｆｅ−Ｎ−Ｏ系磁性膜）と第２磁性層（Ｃｏ−Ｃｒ系
磁性膜）の形成順序を逆にした他は同様に行い、表−２
に示す組成の磁気テープを作成した。
【００２０】 表 − ２ 第 １ 磁 性 層 第 ２ 磁 性 層 組成（原子％） 厚さ 組成（原子％） 厚さ Ｃｏ Ｃｒ （Å） Ｆｅ Ｃ Ｎ Ｏ （Å） 比較例１ ９０ １０ １００ ８０ ０ １０ １０ １５００ 比較例２ ９５ ５ ２００ ７５ １０ １０ ５ ２０００ 〔比較例３〕実施例１において、イオンアシスト斜め蒸
着法により第１磁性層（Ｆｅ−Ｎ−Ｏ系磁性膜）を１５
００Å厚形成した後、Ｆｅをターゲットとしてのマグネ
トロンスパッタリングによりＦｅ垂直磁化膜を１００Å
厚形成し、磁気テープを作成した。
着法により第１磁性層（Ｆｅ−Ｎ−Ｏ系磁性膜）を１５
００Å厚形成した後、Ｆｅをターゲットとしてのマグネ
トロンスパッタリングによりＦｅ垂直磁化膜を１００Å
厚形成し、磁気テープを作成した。
【００２１】〔特性〕上記各例で得られた磁気テープの
出力特性（市販のソニー社製の蒸着テープを基準）及び
耐蝕性（ΔＢｓ、５％ＮａＣｌ水溶液中に１週間浸漬し
た後のＢｓの変化）について調べたので、その結果を下
記の表１に示す。 表 − ３ 磁 性 層 出力（ｄＢ） ΔＢｓ(%) Ｈｃ(Oe) Ｂｓ(G) １ＭHz ４ＭHz ７ＭHz 10ＭHz 実施例１ ２０００ ５８００ ＋1.0 ＋1.5 ＋3.1 ＋4.7 ５ 実施例２ １８５０ ５２００ ＋0.9 ＋1.7 ＋2.5 ＋4.9 ３ 実施例３ １９００ ６０００ ＋0.5 ＋1.2 ＋2.1 ＋2.5 ７ 実施例４ １８００ ６９００ ＋2.1 ＋2.4 ＋2.7 ＋5.4 ９ 実施例５ １８００ ４８００ ＋0.2 ＋1.1 ＋4.5 ＋7.1 ２ 比較例１ ２０００ ５８００ −0.3 0 ＋0.2 ＋0.4 ７ 比較例２ １８００ ５１００ −0.5 −0.1 ＋0.4 ＋0.7 ５ 比較例３ １９００ ６４００ ＋0.5 ＋0.5 ＋2.0 ＋2.5 14
出力特性（市販のソニー社製の蒸着テープを基準）及び
耐蝕性（ΔＢｓ、５％ＮａＣｌ水溶液中に１週間浸漬し
た後のＢｓの変化）について調べたので、その結果を下
記の表１に示す。 表 − ３ 磁 性 層 出力（ｄＢ） ΔＢｓ(%) Ｈｃ(Oe) Ｂｓ(G) １ＭHz ４ＭHz ７ＭHz 10ＭHz 実施例１ ２０００ ５８００ ＋1.0 ＋1.5 ＋3.1 ＋4.7 ５ 実施例２ １８５０ ５２００ ＋0.9 ＋1.7 ＋2.5 ＋4.9 ３ 実施例３ １９００ ６０００ ＋0.5 ＋1.2 ＋2.1 ＋2.5 ７ 実施例４ １８００ ６９００ ＋2.1 ＋2.4 ＋2.7 ＋5.4 ９ 実施例５ １８００ ４８００ ＋0.2 ＋1.1 ＋4.5 ＋7.1 ２ 比較例１ ２０００ ５８００ −0.3 0 ＋0.2 ＋0.4 ７ 比較例２ １８００ ５１００ −0.5 −0.1 ＋0.4 ＋0.7 ５ 比較例３ １９００ ６４００ ＋0.5 ＋0.5 ＋2.0 ＋2.5 14
【００２２】
【効果】本発明になるものは、長波長領域から短波長領
域にかけて高出力なものである。
域にかけて高出力なものである。
【図１】磁気記録媒体の概略断面図である。
【図２】磁気記録媒体製造装置の概略図である。
１ 非磁性の基板 ３ 第１磁性層 ４ 第２磁性層 １１ 冷却キャン １５ ルツボ １６ Ｆｅ １８ イオン銃 １９ Ｃｏ−Ｃｒをターゲットとしたスパッタ装置
Claims (3)
- 【請求項１】 支持体上にＦｅを主成分とした磁性膜が
設けられ、その上にＣｏ−Ｃｒを主成分とした磁性膜が
設けられてなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 Ｆｅを主成分とした磁性膜のコラム構造
は斜めであって、磁化容易軸が斜めであり、Ｃｏ−Ｃｒ
を主成分とした磁性膜のコラム構造は垂直であって、磁
化容易軸が垂直であることを特徴とする請求項１記載の
磁気記録媒体。 - 【請求項３】 支持体上にＦｅを主成分とした磁性膜を
イオンアシスト斜め蒸着法により形成した後、Ｃｏ−Ｃ
ｒを主成分とした磁性膜をスパッタ法で形成することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29134692A JPH06139543A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29134692A JPH06139543A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06139543A true JPH06139543A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=17767739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29134692A Pending JPH06139543A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06139543A (ja) |
-
1992
- 1992-10-29 JP JP29134692A patent/JPH06139543A/ja active Pending
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