JPH06104119A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH06104119A JPH06104119A JP24935092A JP24935092A JPH06104119A JP H06104119 A JPH06104119 A JP H06104119A JP 24935092 A JP24935092 A JP 24935092A JP 24935092 A JP24935092 A JP 24935092A JP H06104119 A JPH06104119 A JP H06104119A
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- Japan
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- magnetic
- film
- recording medium
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
コストが低廉で、かつ、ＣｏやＣｒを用いた場合のよう
な環境汚染の問題を考慮しなくて済み、さらには耐久性
に富む高密度記録可能な磁気記録媒体を提供することで
ある。 【構成】 ４０原子％≦Ｆｅ≦７５原子％、１０原子％
≦Ｎｉ≦３０原子％、１０原子％≦Ｎ≦３０原子％、５
原子％≦Ｏ≦１０原子％の組成割合からなるＦｅ−Ｎｉ
−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が構成されてなる磁気記録媒体。
な環境汚染の問題を考慮しなくて済み、さらには耐久性
に富む高密度記録可能な磁気記録媒体を提供することで
ある。 【構成】 ４０原子％≦Ｆｅ≦７５原子％、１０原子％
≦Ｎｉ≦３０原子％、１０原子％≦Ｎ≦３０原子％、５
原子％≦Ｏ≦１０原子％の組成割合からなるＦｅ−Ｎｉ
−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が構成されてなる磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及びその
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
【０００３】すなわち、無電解メッキといった湿式メッ
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。ところで、この種の金属薄
膜型の磁気記録媒体における磁性層を構成する磁性材料
としては、例えばＣｏ−Ｃｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金など
の磁性金属が用いられている。しかしながら、Ｃｏは稀
少物質であることからコストの問題が有り、かつ、環境
汚染の問題がある。
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。ところで、この種の金属薄
膜型の磁気記録媒体における磁性層を構成する磁性材料
としては、例えばＣｏ−Ｃｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金など
の磁性金属が用いられている。しかしながら、Ｃｏは稀
少物質であることからコストの問題が有り、かつ、環境
汚染の問題がある。
【０００４】これに対して、Ｆｅには前記のような問題
がないことに鑑み、金属薄膜型の磁気記録媒体の磁性材
料としてＦｅが注目され始めた。すなわち、非Ｃｏ系金
属磁性材料としてはＦｅとＮｉが考えられるものの、飽
和磁化の大きさからはＦｅが好ましいものであると言わ
れている。ところで、ＦｅはＣｏ以上に錆やすいことか
ら、化学的に安定なものとする必要が有る。このような
観点から、磁性膜をＦｅx Ｎで構成することが提案（特
開昭６０−２３６１１３号公報、特開昭６３−２３７２
１９号公報）された。そして、このＦｅx Ｎで磁性膜を
構成した磁気記録媒体は、磁気特性が良好であり、か
つ、耐蝕性に優れ、高密度記録に優れたものであると謳
われている。
がないことに鑑み、金属薄膜型の磁気記録媒体の磁性材
料としてＦｅが注目され始めた。すなわち、非Ｃｏ系金
属磁性材料としてはＦｅとＮｉが考えられるものの、飽
和磁化の大きさからはＦｅが好ましいものであると言わ
れている。ところで、ＦｅはＣｏ以上に錆やすいことか
ら、化学的に安定なものとする必要が有る。このような
観点から、磁性膜をＦｅx Ｎで構成することが提案（特
開昭６０−２３６１１３号公報、特開昭６３−２３７２
１９号公報）された。そして、このＦｅx Ｎで磁性膜を
構成した磁気記録媒体は、磁気特性が良好であり、か
つ、耐蝕性に優れ、高密度記録に優れたものであると謳
われている。
【０００５】しかしながら、これらの提案になるＦｅx
Ｎ磁性膜でも充分なものとは言えず、さらなる改善が待
たれている。
Ｎ磁性膜でも充分なものとは言えず、さらなる改善が待
たれている。
【０００６】
【発明の開示】本発明の目的は、コストが低廉で、か
つ、ＣｏやＣｒを用いた場合のような環境汚染の問題を
考慮しなくて済み、さらには耐久性に富む高密度記録可
能な磁気記録媒体を提供することである。この本発明の
目的は、４０原子％≦Ｆｅ≦７５原子％、１０原子％≦
Ｎｉ≦３０原子％、１０原子％≦Ｎ≦３０原子％、５原
子％≦Ｏ≦１０原子％の組成割合からなるＦｅ−Ｎｉ−
Ｎ−Ｏ系の磁性膜が構成されてなることを特徴とする磁
気記録媒体によって達成される。
つ、ＣｏやＣｒを用いた場合のような環境汚染の問題を
考慮しなくて済み、さらには耐久性に富む高密度記録可
能な磁気記録媒体を提供することである。この本発明の
目的は、４０原子％≦Ｆｅ≦７５原子％、１０原子％≦
Ｎｉ≦３０原子％、１０原子％≦Ｎ≦３０原子％、５原
子％≦Ｏ≦１０原子％の組成割合からなるＦｅ−Ｎｉ−
Ｎ−Ｏ系の磁性膜が構成されてなることを特徴とする磁
気記録媒体によって達成される。
【０００７】又、非磁性の支持体上にイオンアシスト斜
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質としてＦｅ及びＮｉが用い
られての蒸着工程と、窒素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜に
衝突させる衝突工程と、酸素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜
に衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法によって達成される。
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質としてＦｅ及びＮｉが用い
られての蒸着工程と、窒素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜に
衝突させる衝突工程と、酸素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜
に衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法によって達成される。
【０００８】又、非磁性の支持体上にイオンアシスト斜
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質としてＦｅ及びＮｉが用い
られての蒸着工程と、窒素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜に
衝突させる衝突工程と、酸素ガスを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜に
衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法によって達成される。
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質としてＦｅ及びＮｉが用い
られての蒸着工程と、窒素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜に
衝突させる衝突工程と、酸素ガスを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜に
衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法によって達成される。
【０００９】以下、本発明について更に詳しく説明す
る。図１に本発明になる磁気記録媒体の概略断面図を示
す。同図中、１は非磁性の基板であり、この基板１はポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。
る。図１に本発明になる磁気記録媒体の概略断面図を示
す。同図中、１は非磁性の基板であり、この基板１はポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。
【００１０】基板１面上には磁性層の密着性を向上させ
る為のアンダーコート層２が設けられている。すなわ
ち、表面の粗さを適度に粗すことにより乾式メッキによ
り構成される磁性層の密着性を向上させ、さらに磁気記
録媒体表面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善
する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが
０．０１〜０．５μｍの塗膜を設けることによってアン
ダーコート層２が構成されている。
る為のアンダーコート層２が設けられている。すなわ
ち、表面の粗さを適度に粗すことにより乾式メッキによ
り構成される磁性層の密着性を向上させ、さらに磁気記
録媒体表面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善
する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが
０．０１〜０．５μｍの塗膜を設けることによってアン
ダーコート層２が構成されている。
【００１１】アンダーコート層２の上には、イオンアシ
スト斜め蒸着装置によって金属薄膜型の磁性層３が設け
られる。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰
囲気下でＦｅ−Ｎｉ合金を抵抗加熱、高周波加熱、電子
ビーム加熱などにより蒸発させ、基板１のアンダーコー
ト層２面上に堆積（蒸着）させることにより、磁性層３
が０．０４〜１μｍ厚形成される。尚、二元蒸着法を採
用し、ＦｅとＮｉとを各々蒸着源に配置するようにして
も良い。
スト斜め蒸着装置によって金属薄膜型の磁性層３が設け
られる。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰
囲気下でＦｅ−Ｎｉ合金を抵抗加熱、高周波加熱、電子
ビーム加熱などにより蒸発させ、基板１のアンダーコー
ト層２面上に堆積（蒸着）させることにより、磁性層３
が０．０４〜１μｍ厚形成される。尚、二元蒸着法を採
用し、ＦｅとＮｉとを各々蒸着源に配置するようにして
も良い。
【００１２】本発明では、磁性層３の構成に際しては窒
素イオン及び酸素イオン（又は酸素ガス）が蒸着Ｆｅ−
Ｎｉ（Ｆｅ3 Ｎｉ）膜に照射されることから、この磁性
層３はＦｅ−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系のものからなっており、特
に、Ｆｅ成分が４０原子％〜７５原子％、Ｎｉ成分が１
０原子％〜３０原子％、Ｎ成分が１０原子％〜３０原子
％、Ｏ成分が５原子％〜１０原子％の組成割合からなる
ように制御される。
素イオン及び酸素イオン（又は酸素ガス）が蒸着Ｆｅ−
Ｎｉ（Ｆｅ3 Ｎｉ）膜に照射されることから、この磁性
層３はＦｅ−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系のものからなっており、特
に、Ｆｅ成分が４０原子％〜７５原子％、Ｎｉ成分が１
０原子％〜３０原子％、Ｎ成分が１０原子％〜３０原子
％、Ｏ成分が５原子％〜１０原子％の組成割合からなる
ように制御される。
【００１３】ところで、イオンアシスト斜め蒸着装置は
図２に示す如くの構成である。図２中、１１はガイド部
材、１２はＰＥＴフィルム１０の供給側ロール、１３は
ＰＥＴフィルム１０の巻取側ロール、１４は遮蔽板、１
５はルツボ、１６はＦｅ−Ｎｉ（Ｆｅ3 Ｎｉ）合金、１
７は電子銃、１８は真空容器、１９はイオン銃であり、
このイオン銃１９にＮ2 ガスあるいはＮＨ3 ガスといっ
たＮ含有ガス及び酸素ガスが供給されると、窒素イオン
と酸素イオンとが放出され、これらのイオンがＰＥＴフ
ィルム１０上に蒸着したＦｅ−Ｎｉ（Ｆｅ3 Ｎｉ）膜に
衝突し、Ｆｅ−ＮｉがＦｅ−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系のものに変
換する。すなわち、Ｆｅ3 ＮｉＮ膜を安定化の為に酸化
したものである。
図２に示す如くの構成である。図２中、１１はガイド部
材、１２はＰＥＴフィルム１０の供給側ロール、１３は
ＰＥＴフィルム１０の巻取側ロール、１４は遮蔽板、１
５はルツボ、１６はＦｅ−Ｎｉ（Ｆｅ3 Ｎｉ）合金、１
７は電子銃、１８は真空容器、１９はイオン銃であり、
このイオン銃１９にＮ2 ガスあるいはＮＨ3 ガスといっ
たＮ含有ガス及び酸素ガスが供給されると、窒素イオン
と酸素イオンとが放出され、これらのイオンがＰＥＴフ
ィルム１０上に蒸着したＦｅ−Ｎｉ（Ｆｅ3 Ｎｉ）膜に
衝突し、Ｆｅ−ＮｉがＦｅ−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系のものに変
換する。すなわち、Ｆｅ3 ＮｉＮ膜を安定化の為に酸化
したものである。
【００１４】尚、酸素イオンを蒸着したＦｅ−Ｎｉ膜に
照射するのではなく、酸素ガスを蒸着したＦｅ−Ｎｉ膜
に供給してＦｅ−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜を構成するこ
とも出来、このような場合には酸素ガス供給管のノズル
口が蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜の近傍に配設された装置を用いれ
ば良い。ここで、磁性膜がＦｅ−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系の組
成、特に、Ｆｅ成分が４０原子％〜７５原子％、Ｎｉ成
分が１０原子％〜３０原子％、Ｎ成分が１０原子％〜３
０原子％、Ｏ成分が５原子％〜１０原子％の組成割合か
らなるＦｅ−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系金属膜で構成されている
と、保磁力Ｈｃが１１００Ｏｅ以上も有り、かつ、飽和
磁束密度Ｂｓが４０００Ｇ以上も有り、しかも耐蝕性に
も優れており、さらには硬度も高く、磁性層に対する保
護膜を格別に設けなくても済むようになり、Ｃｏ−Ｃｒ
合金やＣｏ−Ｎｉ合金などの磁性金属に代わる高密度記
録が可能な磁気記録媒体となる。
照射するのではなく、酸素ガスを蒸着したＦｅ−Ｎｉ膜
に供給してＦｅ−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜を構成するこ
とも出来、このような場合には酸素ガス供給管のノズル
口が蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜の近傍に配設された装置を用いれ
ば良い。ここで、磁性膜がＦｅ−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系の組
成、特に、Ｆｅ成分が４０原子％〜７５原子％、Ｎｉ成
分が１０原子％〜３０原子％、Ｎ成分が１０原子％〜３
０原子％、Ｏ成分が５原子％〜１０原子％の組成割合か
らなるＦｅ−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系金属膜で構成されている
と、保磁力Ｈｃが１１００Ｏｅ以上も有り、かつ、飽和
磁束密度Ｂｓが４０００Ｇ以上も有り、しかも耐蝕性に
も優れており、さらには硬度も高く、磁性層に対する保
護膜を格別に設けなくても済むようになり、Ｃｏ−Ｃｒ
合金やＣｏ−Ｎｉ合金などの磁性金属に代わる高密度記
録が可能な磁気記録媒体となる。
【００１５】４は磁性層３の上に設けられた潤滑剤層で
ある。すなわち、潤滑剤を含有させた塗料を所定の手段
で塗布することにより、約５〜５０Å、好ましくは約１
０〜３０Å程度の厚さの潤滑剤層４が設けられる。５
は、基板１の他面に設けられたカーボンブラック等を含
有させたバックコート層である。
ある。すなわち、潤滑剤を含有させた塗料を所定の手段
で塗布することにより、約５〜５０Å、好ましくは約１
０〜３０Å程度の厚さの潤滑剤層４が設けられる。５
は、基板１の他面に設けられたカーボンブラック等を含
有させたバックコート層である。
【００１６】以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
【００１７】
〔実施例１〜５〕図２に示される如くのイオンアシスト
斜め蒸着装置に厚さ１０μｍのＰＥＴフィルム１０を装
着し、ＰＥＴフィルム１０が２ｍ／分の走行速度で走行
させられている。
斜め蒸着装置に厚さ１０μｍのＰＥＴフィルム１０を装
着し、ＰＥＴフィルム１０が２ｍ／分の走行速度で走行
させられている。
【００１８】そして、酸化マグネシウム製のルツボ１５
にＦｅ−Ｎｉ（原子比が７５：２５）合金１６を入れ、
例えば３０ｋＷの電子銃１７を作動させてＦｅ及びＮｉ
を蒸発させ、ＰＥＴフィルム１０にＦｅ−Ｎｉを蒸着さ
せると共に、窒素及び酸素ガスを出力４００Ｗのイオン
銃１９に供給（窒素ガス供給速度は３ｃｍ3 ／分、酸素
ガス供給速度は２ｃｍ3 ／分）し、ＰＥＴフィルム１０
に向けて窒素イオン及び酸素イオンを照射する。
にＦｅ−Ｎｉ（原子比が７５：２５）合金１６を入れ、
例えば３０ｋＷの電子銃１７を作動させてＦｅ及びＮｉ
を蒸発させ、ＰＥＴフィルム１０にＦｅ−Ｎｉを蒸着さ
せると共に、窒素及び酸素ガスを出力４００Ｗのイオン
銃１９に供給（窒素ガス供給速度は３ｃｍ3 ／分、酸素
ガス供給速度は２ｃｍ3 ／分）し、ＰＥＴフィルム１０
に向けて窒素イオン及び酸素イオンを照射する。
【００１９】そして、イオンアシスト斜め蒸着により磁
性膜を１０００Å厚形成し、磁気テープを作製した。
又、窒素ガス及び酸素ガスの供給速度を変えて同様に行
い、磁性膜厚が１０００Å厚の磁気テープを作製した。 〔比較例１〜４〕窒素ガス及び酸素ガスの供給速度を変
えて同様に行い、磁性膜厚が１０００Å厚の磁気テープ
を作製した。
性膜を１０００Å厚形成し、磁気テープを作製した。
又、窒素ガス及び酸素ガスの供給速度を変えて同様に行
い、磁性膜厚が１０００Å厚の磁気テープを作製した。 〔比較例１〜４〕窒素ガス及び酸素ガスの供給速度を変
えて同様に行い、磁性膜厚が１０００Å厚の磁気テープ
を作製した。
【００２０】〔比較例５〕非磁性の支持体上にＦｅx Ｎ
磁性膜を設けて磁気テープを作製した。 〔特性〕上記各例で得られた磁気記録媒体の磁気特性及
び耐蝕性について調べたので、その結果を下記の表１に
示す。
磁性膜を設けて磁気テープを作製した。 〔特性〕上記各例で得られた磁気記録媒体の磁気特性及
び耐蝕性について調べたので、その結果を下記の表１に
示す。
【００２１】 表 １ 組成（原子％） 保磁力 飽和磁束密度 ΔＢｓ Ｆｅ Ｎｉ Ｎ Ｏ （Oe） （Ｇ） （％） 実施例１ 55.8 18.6 18.6 7 １６００ ５４００ ５ 実施例２ 40 10 30 10 １２５０ ４１００ ４ 実施例３ 75 10 10 5 １４００ ５９００ ９ 実施例４ 50 30 10 10 １４５０ ４８００ ３ 実施例５ 55 10 30 5 １５００ ５６００ ３ 比較例１ 60 0 30 10 １５５０ ５２００ １１ 比較例２ 60 30 0 10 １４２０ ４９００ １３ 比較例３ 50 25 25 0 １３８０ ４３００ １２ 比較例４ 35 35 15 15 １１０ １２００ ５ 比較例５ 75 0 25 0 ８４０ ５５０ １５ ΔＢｓ：５％ＮａＣｌ水溶液中に１週間浸けておき、飽
和磁束密度の変化率を求め、これによって耐蝕性を判定
する。
和磁束密度の変化率を求め、これによって耐蝕性を判定
する。
【００２２】
【効果】低廉なＦｅやＮｉを用いたことから、コスト面
で好ましく、かつ、ＣｏやＣｒを用いた場合のような環
境汚染の問題を考慮しなくて済み、そして耐蝕性に富ん
だ高密度記録可能な磁気記録媒体が得られる。
で好ましく、かつ、ＣｏやＣｒを用いた場合のような環
境汚染の問題を考慮しなくて済み、そして耐蝕性に富ん
だ高密度記録可能な磁気記録媒体が得られる。
【図１】磁気記録媒体の概略断面図である。
【図２】磁気記録媒体製造装置の概略図である。
１ 非磁性の基板 ２ アンダーコート層 ３ 磁性層 １０ ＰＥＴフィルム １４ 遮蔽板 １５ ルツボ １６ Ｆｅ−Ｎｉ合金 １７ 電子銃 １９ イオン銃
Claims (3)
- 【請求項１】 ４０原子％≦Ｆｅ≦７５原子％、１０原
子％≦Ｎｉ≦３０原子％、１０原子％≦Ｎ≦３０原子
％、５原子％≦Ｏ≦１０原子％の組成割合からなるＦｅ
−Ｎｉ−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が構成されてなることを特徴
とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 非磁性の支持体上にイオンアシスト斜め
蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造する
方法であって、蒸発源物質としてＦｅ及びＮｉが用いら
れての蒸着工程と、窒素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜に衝
突させる衝突工程と、酸素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜に
衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 非磁性の支持体上にイオンアシスト斜め
蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造する
方法であって、蒸発源物質としてＦｅ及びＮｉが用いら
れての蒸着工程と、窒素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜に衝
突させる衝突工程と、酸素ガスを蒸着Ｆｅ−Ｎｉ膜に衝
突させる衝突工程とを具備することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24935092A JPH06104119A (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US08/112,142 US5538802A (en) | 1992-09-18 | 1993-08-26 | Magnetic recording medium and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24935092A JPH06104119A (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06104119A true JPH06104119A (ja) | 1994-04-15 |
Family
ID=17191723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24935092A Pending JPH06104119A (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06104119A (ja) |
-
1992
- 1992-09-18 JP JP24935092A patent/JPH06104119A/ja active Pending
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