JP2668313B2 - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JP2668313B2 JP2668313B2 JP24934692A JP24934692A JP2668313B2 JP 2668313 B2 JP2668313 B2 JP 2668313B2 JP 24934692 A JP24934692 A JP 24934692A JP 24934692 A JP24934692 A JP 24934692A JP 2668313 B2 JP2668313 B2 JP 2668313B2
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及びその
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
【０００３】すなわち、無電解メッキといった湿式メッ
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。ところで、この種の金属薄
膜型の磁気記録媒体における磁性層を構成する磁性材料
としては、例えばＣｏ−Ｃｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金など
の磁性金属が用いられている。しかしながら、Ｃｏは稀
少物質であることからコストの問題が有り、かつ、環境
汚染の問題がある。
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。ところで、この種の金属薄
膜型の磁気記録媒体における磁性層を構成する磁性材料
としては、例えばＣｏ−Ｃｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金など
の磁性金属が用いられている。しかしながら、Ｃｏは稀
少物質であることからコストの問題が有り、かつ、環境
汚染の問題がある。
【０００４】これに対して、Ｆｅには前記のような問題
がないことに鑑み、金属薄膜型の磁気記録媒体の磁性材
料としてＦｅが注目され始めた。すなわち、非Ｃｏ系金
属磁性材料としてはＦｅとＮｉが考えられるものの、飽
和磁化の大きさからはＦｅが好ましいものであると言わ
れている。ところで、ＦｅはＣｏ以上に錆やすいことか
ら、化学的に安定なものとする必要が有る。このような
観点から、磁性膜をＦｅx Ｎで構成することが提案（特
開昭６０−２３６１１３号公報、特開昭６３−２３７２
１９号公報）された。そして、このＦｅx Ｎで磁性膜を
構成した磁気記録媒体は、磁気特性が良好であり、か
つ、耐蝕性に優れ、高密度記録に優れたものであると謳
われている。
がないことに鑑み、金属薄膜型の磁気記録媒体の磁性材
料としてＦｅが注目され始めた。すなわち、非Ｃｏ系金
属磁性材料としてはＦｅとＮｉが考えられるものの、飽
和磁化の大きさからはＦｅが好ましいものであると言わ
れている。ところで、ＦｅはＣｏ以上に錆やすいことか
ら、化学的に安定なものとする必要が有る。このような
観点から、磁性膜をＦｅx Ｎで構成することが提案（特
開昭６０−２３６１１３号公報、特開昭６３−２３７２
１９号公報）された。そして、このＦｅx Ｎで磁性膜を
構成した磁気記録媒体は、磁気特性が良好であり、か
つ、耐蝕性に優れ、高密度記録に優れたものであると謳
われている。
【０００５】又、この他にもＦｅ−Ｃ−Ｎ膜なども提案
（特開平２−８９２１３号公報）されているが、いずれ
のものでも充分なものとは言えず、さらなる改善が待た
れている。
（特開平２−８９２１３号公報）されているが、いずれ
のものでも充分なものとは言えず、さらなる改善が待た
れている。
【０００６】
【発明の開示】本発明の目的は、コストが低廉で、か
つ、ＣｏやＣｒを用いた場合のような環境汚染の問題を
考慮しなくて済み、さらには耐久性に富む高密度記録可
能な磁気記録媒体を提供することである。この本発明の
目的は、６０原子％≦Ｆｅ≦８５原子％、５原子％≦Ｃ
≦３５原子％、５原子％≦Ｏ≦１５原子％の組成割合か
らなるＦｅ−Ｃ−Ｏ系の磁性膜が構成されてなることを
特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
つ、ＣｏやＣｒを用いた場合のような環境汚染の問題を
考慮しなくて済み、さらには耐久性に富む高密度記録可
能な磁気記録媒体を提供することである。この本発明の
目的は、６０原子％≦Ｆｅ≦８５原子％、５原子％≦Ｃ
≦３５原子％、５原子％≦Ｏ≦１５原子％の組成割合か
らなるＦｅ−Ｃ−Ｏ系の磁性膜が構成されてなることを
特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
【０００７】又、非磁性の支持体上にイオンアシスト斜
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質として純度が９９．９５％
以上のＦｅが用いられての蒸着工程と、炭素イオンを蒸
着Ｆｅ膜に衝突させる衝突工程と、酸素イオンを蒸着Ｆ
ｅ膜に衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質として純度が９９．９５％
以上のＦｅが用いられての蒸着工程と、炭素イオンを蒸
着Ｆｅ膜に衝突させる衝突工程と、酸素イオンを蒸着Ｆ
ｅ膜に衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
【０００８】又、非磁性の支持体上にイオンアシスト斜
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質として純度が９９．９５％
以上のＦｅが用いられての蒸着工程と、炭素イオンを蒸
着Ｆｅ膜に衝突させる衝突工程と、酸素ガスを蒸着Ｆｅ
膜に衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質として純度が９９．９５％
以上のＦｅが用いられての蒸着工程と、炭素イオンを蒸
着Ｆｅ膜に衝突させる衝突工程と、酸素ガスを蒸着Ｆｅ
膜に衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法によって達成される。
【０００９】以下、本発明について更に詳しく説明す
る。図１に本発明になる磁気記録媒体の概略断面図を示
す。同図中、１は非磁性の基板であり、この基板１はポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。
る。図１に本発明になる磁気記録媒体の概略断面図を示
す。同図中、１は非磁性の基板であり、この基板１はポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。
【００１０】基板１面上には磁性層の密着性を向上させ
る為のアンダーコート層２が設けられている。すなわ
ち、表面の粗さを適度に粗すことにより乾式メッキによ
り構成される磁性層の密着性を向上させ、さらに磁気記
録媒体表面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善
する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが
０．０１〜０．５μｍの塗膜を設けることによってアン
ダーコート層２が構成されている。
る為のアンダーコート層２が設けられている。すなわ
ち、表面の粗さを適度に粗すことにより乾式メッキによ
り構成される磁性層の密着性を向上させ、さらに磁気記
録媒体表面の表面粗さを適度なものとして走行性を改善
する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含有させた厚さが
０．０１〜０．５μｍの塗膜を設けることによってアン
ダーコート層２が構成されている。
【００１１】アンダーコート層２の上には、イオンアシ
スト斜め蒸着装置によって金属薄膜型の磁性層３が設け
られる。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰
囲気下で純度が９９．９５％以上のＦｅを抵抗加熱、高
周波加熱、電子ビーム加熱などにより蒸発させ、基板１
のアンダーコート層２面上に堆積（蒸着）させることに
より、磁性層３が０．０４〜１μｍ厚形成される。
スト斜め蒸着装置によって金属薄膜型の磁性層３が設け
られる。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰
囲気下で純度が９９．９５％以上のＦｅを抵抗加熱、高
周波加熱、電子ビーム加熱などにより蒸発させ、基板１
のアンダーコート層２面上に堆積（蒸着）させることに
より、磁性層３が０．０４〜１μｍ厚形成される。
【００１２】本発明では、磁性層３の構成に際しては炭
素イオン及び酸素イオン（又は酸素ガス）が蒸着Ｆｅ膜
に照射されることから、この磁性層３はＦｅ−Ｃ−Ｏ系
のものからなっており、特に、Ｆｅ成分が６０原子％〜
８５原子％、Ｃ成分が５原子％〜３５原子％、Ｏ成分が
５原子％〜１５原子％の組成割合からなるように制御さ
れる。
素イオン及び酸素イオン（又は酸素ガス）が蒸着Ｆｅ膜
に照射されることから、この磁性層３はＦｅ−Ｃ−Ｏ系
のものからなっており、特に、Ｆｅ成分が６０原子％〜
８５原子％、Ｃ成分が５原子％〜３５原子％、Ｏ成分が
５原子％〜１５原子％の組成割合からなるように制御さ
れる。
【００１３】ところで、イオンアシスト斜め蒸着装置は
図２に示す如くの構成である。図２中、１１はガイド部
材、１２はＰＥＴフィルム１０の供給側ロール、１３は
ＰＥＴフィルム１０の巻取側ロール、１４は遮蔽板、１
５はルツボ、１６は純度が９９．９５％以上のＦｅ、１
７は電子銃、１８は真空容器、１９はイオン銃であり、
このイオン銃１９にメタン、エタン、プロパン、……、
エチレン、……、アセチレン、……等の炭化水素ガス及
び酸素ガスが供給されると、炭素イオン及び酸素イオン
が放出され、これらのイオンがＰＥＴフィルム１０上に
蒸着したＦｅ膜に衝突し、ＦｅがＦｅ−Ｃ−Ｏ系のもの
に変換する。
図２に示す如くの構成である。図２中、１１はガイド部
材、１２はＰＥＴフィルム１０の供給側ロール、１３は
ＰＥＴフィルム１０の巻取側ロール、１４は遮蔽板、１
５はルツボ、１６は純度が９９．９５％以上のＦｅ、１
７は電子銃、１８は真空容器、１９はイオン銃であり、
このイオン銃１９にメタン、エタン、プロパン、……、
エチレン、……、アセチレン、……等の炭化水素ガス及
び酸素ガスが供給されると、炭素イオン及び酸素イオン
が放出され、これらのイオンがＰＥＴフィルム１０上に
蒸着したＦｅ膜に衝突し、ＦｅがＦｅ−Ｃ−Ｏ系のもの
に変換する。
【００１４】ここで、磁性膜がＦｅ−Ｃ−Ｏ系の組成、
特に、Ｆｅ成分が６０原子％〜８５原子％、Ｃ成分が５
原子％〜３５原子％、Ｏ成分が５原子％〜１５原子％の
組成割合からなるＦｅ−Ｃ−Ｏ系金属膜で構成されてい
ると、保磁力Ｈｃが１１００Ｏｅ以上も有り、かつ、飽
和磁束密度Ｂｓが４０００Ｇ以上も有り、しかも耐蝕性
にも優れており、さらには硬度も高く、磁性層に対する
保護膜を格別に設けなくても済むようになり、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金などの磁性金属に代わる高密度
記録が可能な磁気記録媒体となる。
特に、Ｆｅ成分が６０原子％〜８５原子％、Ｃ成分が５
原子％〜３５原子％、Ｏ成分が５原子％〜１５原子％の
組成割合からなるＦｅ−Ｃ−Ｏ系金属膜で構成されてい
ると、保磁力Ｈｃが１１００Ｏｅ以上も有り、かつ、飽
和磁束密度Ｂｓが４０００Ｇ以上も有り、しかも耐蝕性
にも優れており、さらには硬度も高く、磁性層に対する
保護膜を格別に設けなくても済むようになり、Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金などの磁性金属に代わる高密度
記録が可能な磁気記録媒体となる。
【００１５】Ｆｅ成分が６０原子％〜８５原子％、Ｃ成
分が５原子％〜３５原子％、Ｏ成分が５原子％〜１５原
子％の組成割合からなるＦｅ−Ｃ−Ｏ系金属膜を構成す
る為には、基本的には、純度が９９．９５％以上のＦｅ
を蒸発源物質として用い、そして炭化水素からの炭素イ
オン及び酸素からの酸素イオン（又は酸素ガス）を蒸着
Ｆｅ膜に衝突させれば達成できるが、蒸発したＦｅがフ
ィルム上に付着すると同時にイオン化された炭素イオン
や酸素イオン（活性酸素）を付着したＦｅに衝突させ、
炭化・酸化反応させることが重要である。そして、この
際、図２におけるガイド部材１１をフィルム１０が熱変
形を起こさない程度の温度下において出来るだけ高い温
度に加熱しておくと、反応性が高まり、好ましい結果が
得られる。
分が５原子％〜３５原子％、Ｏ成分が５原子％〜１５原
子％の組成割合からなるＦｅ−Ｃ−Ｏ系金属膜を構成す
る為には、基本的には、純度が９９．９５％以上のＦｅ
を蒸発源物質として用い、そして炭化水素からの炭素イ
オン及び酸素からの酸素イオン（又は酸素ガス）を蒸着
Ｆｅ膜に衝突させれば達成できるが、蒸発したＦｅがフ
ィルム上に付着すると同時にイオン化された炭素イオン
や酸素イオン（活性酸素）を付着したＦｅに衝突させ、
炭化・酸化反応させることが重要である。そして、この
際、図２におけるガイド部材１１をフィルム１０が熱変
形を起こさない程度の温度下において出来るだけ高い温
度に加熱しておくと、反応性が高まり、好ましい結果が
得られる。
【００１６】４は磁性層３の上に設けられた潤滑剤層で
ある。すなわち、潤滑剤を含有させた塗料を所定の手段
で塗布することにより、約５〜５０Å、好ましくは約１
０〜３０Å程度の厚さの潤滑剤層４が設けられる。５
は、基板１の他面に設けられたカーボンブラック等を含
有させたバックコート層である。
ある。すなわち、潤滑剤を含有させた塗料を所定の手段
で塗布することにより、約５〜５０Å、好ましくは約１
０〜３０Å程度の厚さの潤滑剤層４が設けられる。５
は、基板１の他面に設けられたカーボンブラック等を含
有させたバックコート層である。
【００１７】以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
【００１８】
〔実施例１〜３〕図２に示される如くのイオンアシスト
斜め蒸着装置に厚さ１０μｍのＰＥＴフィルム１０を装
着し、ＰＥＴフィルム１０が２ｍ／分の走行速度で走行
させられている。
斜め蒸着装置に厚さ１０μｍのＰＥＴフィルム１０を装
着し、ＰＥＴフィルム１０が２ｍ／分の走行速度で走行
させられている。
【００１９】そして、酸化マグネシウム製のルツボ１５
に純度が９９．９５％以上のＦｅ１６を入れ、例えば出
力３０ｋＷの電子銃１７を作動させてＦｅを蒸発させ、
ＰＥＴフィルム１０にＦｅ粒子を蒸着させると共に、炭
素イオン源としてＣＨ4 ガスを、かつ、酸素イオン源と
して酸素ガスを用いた混合ガスを出力４００Ｗのイオン
銃１９に供給（ＣＨ4 ガス供給速度は３ｃｍ3 ／分、酸
素ガス供給速度は１ｃｍ3 ／分）し、ＰＥＴフィルム１
０に向けて照射する。
に純度が９９．９５％以上のＦｅ１６を入れ、例えば出
力３０ｋＷの電子銃１７を作動させてＦｅを蒸発させ、
ＰＥＴフィルム１０にＦｅ粒子を蒸着させると共に、炭
素イオン源としてＣＨ4 ガスを、かつ、酸素イオン源と
して酸素ガスを用いた混合ガスを出力４００Ｗのイオン
銃１９に供給（ＣＨ4 ガス供給速度は３ｃｍ3 ／分、酸
素ガス供給速度は１ｃｍ3 ／分）し、ＰＥＴフィルム１
０に向けて照射する。
【００２０】そして、イオンアシスト斜め蒸着により磁
性膜を１０００Å厚形成し、磁気テープを作製した。
又、ＣＨ4 ガス及び酸素ガスの供給速度を変えて同様に
行い、磁性膜厚が１０００Å厚の磁気テープを作製し
た。 〔比較例１〜３〕上記の実施例において、純度が９９．
９％のＦｅを用いて同様に行った。
性膜を１０００Å厚形成し、磁気テープを作製した。
又、ＣＨ4 ガス及び酸素ガスの供給速度を変えて同様に
行い、磁性膜厚が１０００Å厚の磁気テープを作製し
た。 〔比較例１〜３〕上記の実施例において、純度が９９．
９％のＦｅを用いて同様に行った。
【００２１】〔特性〕上記各例で得られた磁気記録媒体
の磁気特性及び耐蝕性について調べたので、その結果を
下記の表１に示す。 表 １ 組成（原子％） 保磁力 飽和磁束密度 ΔＢｓ Ｆｅ Ｃ Ｏ （Oe） （Ｇ） （％） 実施例１ ８０ １０ １０ １１５０ ４５００ ４ 実施例２ ６０ ３５ ５ １１００ ４０００ ３ 実施例３ ８０ ５ １５ １２００ ４３００ ３ 比較例１ ５５ ３５ １５ ７７０ ２９００ １２ 比較例２ ５５ ４０ ５ ７４０ ３６００ １１ 比較例３ ６０ ２０ ２０ ８００ ３５００ １１ ΔＢｓ：５％ＮａＣｌ水溶液中に１週間浸けておき、飽
和磁束密度の変化率を求め、これによって耐蝕性を判定
する。
の磁気特性及び耐蝕性について調べたので、その結果を
下記の表１に示す。 表 １ 組成（原子％） 保磁力 飽和磁束密度 ΔＢｓ Ｆｅ Ｃ Ｏ （Oe） （Ｇ） （％） 実施例１ ８０ １０ １０ １１５０ ４５００ ４ 実施例２ ６０ ３５ ５ １１００ ４０００ ３ 実施例３ ８０ ５ １５ １２００ ４３００ ３ 比較例１ ５５ ３５ １５ ７７０ ２９００ １２ 比較例２ ５５ ４０ ５ ７４０ ３６００ １１ 比較例３ ６０ ２０ ２０ ８００ ３５００ １１ ΔＢｓ：５％ＮａＣｌ水溶液中に１週間浸けておき、飽
和磁束密度の変化率を求め、これによって耐蝕性を判定
する。
【００２２】
【効果】低廉なＦｅを用いたことから、コスト面で好ま
しく、かつ、ＣｏやＣｒを用いた場合のような環境汚染
の問題を考慮しなくて済み、そして耐蝕性に富んだ高密
度記録可能な磁気記録媒体が得られる。
しく、かつ、ＣｏやＣｒを用いた場合のような環境汚染
の問題を考慮しなくて済み、そして耐蝕性に富んだ高密
度記録可能な磁気記録媒体が得られる。
【図１】磁気記録媒体の概略断面図である。
【図２】磁気記録媒体製造装置の概略図である。
１ 非磁性の基板 ２ アンダーコート層 ３ 磁性層 １０ ＰＥＴフィルム １４ 遮蔽板 １５ ルツボ １６ 純度が９９．９５％以上のＦｅ １７ 電子銃 １９ イオン銃
Claims (3)
- 【請求項１】 ６０原子％≦Ｆｅ≦８５原子％、５原子
％≦Ｃ≦３５原子％、５原子％≦Ｏ≦１５原子％の組成
割合からなるＦｅ−Ｃ−Ｏ系の磁性膜が構成されてなる
ことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 非磁性の支持体上にイオンアシスト斜め
蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造する
方法であって、蒸発源物質として純度が９９．９５％以
上のＦｅが用いられての蒸着工程と、炭素イオンを蒸着
Ｆｅ膜に衝突させる衝突工程と、酸素イオンを蒸着Ｆｅ
膜に衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 非磁性の支持体上にイオンアシスト斜め
蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造する
方法であって、蒸発源物質として純度が９９．９５％以
上のＦｅが用いられての蒸着工程と、炭素イオンを蒸着
Ｆｅ膜に衝突させる衝突工程と、酸素ガスを蒸着Ｆｅ膜
に衝突させる衝突工程とを具備することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24934692A JP2668313B2 (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US08/112,142 US5538802A (en) | 1992-09-18 | 1993-08-26 | Magnetic recording medium and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24934692A JP2668313B2 (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06104114A JPH06104114A (ja) | 1994-04-15 |
| JP2668313B2 true JP2668313B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=17191664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24934692A Expired - Lifetime JP2668313B2 (ja) | 1992-09-18 | 1992-09-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2668313B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2761859B2 (ja) * | 1995-09-27 | 1998-06-04 | 花王株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
1992
- 1992-09-18 JP JP24934692A patent/JP2668313B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06104114A (ja) | 1994-04-15 |
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