JPH06140246A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH06140246A JPH06140246A JP29134592A JP29134592A JPH06140246A JP H06140246 A JPH06140246 A JP H06140246A JP 29134592 A JP29134592 A JP 29134592A JP 29134592 A JP29134592 A JP 29134592A JP H06140246 A JPH06140246 A JP H06140246A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 コストが低廉で、かつ、ＣｏやＣｒを多量に
用いた場合のような環境汚染の問題を考慮しなくて済
み、さらには耐久性に富む高密度記録可能な磁気記録媒
体を提供することである。 【構成】 ５０原子％≦Ｆｅ≦９０原子％、２原子％≦
Ｃｏ（又はＮｉ）≦１０原子％、５原子％≦Ｎ≦２５原
子％、２原子％≦Ｏ≦２０原子％の組成割合からなるＦ
ｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が構成
されてなる磁気記録媒体。
用いた場合のような環境汚染の問題を考慮しなくて済
み、さらには耐久性に富む高密度記録可能な磁気記録媒
体を提供することである。 【構成】 ５０原子％≦Ｆｅ≦９０原子％、２原子％≦
Ｃｏ（又はＮｉ）≦１０原子％、５原子％≦Ｎ≦２５原
子％、２原子％≦Ｏ≦２０原子％の組成割合からなるＦ
ｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が構成
されてなる磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及びその
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されていることは周知の通りである。
【０００３】すなわち、無電解メッキといった湿式メッ
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。ところで、この種の金属薄
膜型の磁気記録媒体における磁性層を構成する磁性材料
としては、例えばＣｏ−Ｃｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金など
の磁性金属が用いられている。しかしながら、Ｃｏは稀
少物質であることからコストの問題が有り、かつ、環境
汚染の問題がある。
キ手段、真空蒸着、スパッタリングあるいはイオンプレ
ーティングといった乾式メッキ手段により磁性層を構成
した磁気記録媒体が提案されている。そして、この種の
磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いことから、高密
度記録に適したものである。ところで、この種の金属薄
膜型の磁気記録媒体における磁性層を構成する磁性材料
としては、例えばＣｏ−Ｃｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金など
の磁性金属が用いられている。しかしながら、Ｃｏは稀
少物質であることからコストの問題が有り、かつ、環境
汚染の問題がある。
【０００４】これに対して、Ｆｅには前記のような問題
がないことに鑑み、金属薄膜型の磁気記録媒体の磁性材
料としてＦｅが注目され始めた。すなわち、非Ｃｏ系金
属磁性材料としてはＦｅとＮｉが考えられるものの、飽
和磁化の大きさからはＦｅが好ましいものであると言わ
れている。ところで、ＦｅはＣｏ以上に錆やすいことか
ら、化学的に安定なものとする必要が有る。このような
観点から、磁性膜をＦｅx Ｎで構成することが提案（特
開昭６０−２３６１１３号公報、特開昭６３−２３７２
１９号公報）された。そして、このＦｅx Ｎで磁性膜を
構成した磁気記録媒体は、磁気特性が良好であり、か
つ、耐蝕性に優れ、高密度記録に優れたものであると謳
われている。
がないことに鑑み、金属薄膜型の磁気記録媒体の磁性材
料としてＦｅが注目され始めた。すなわち、非Ｃｏ系金
属磁性材料としてはＦｅとＮｉが考えられるものの、飽
和磁化の大きさからはＦｅが好ましいものであると言わ
れている。ところで、ＦｅはＣｏ以上に錆やすいことか
ら、化学的に安定なものとする必要が有る。このような
観点から、磁性膜をＦｅx Ｎで構成することが提案（特
開昭６０−２３６１１３号公報、特開昭６３−２３７２
１９号公報）された。そして、このＦｅx Ｎで磁性膜を
構成した磁気記録媒体は、磁気特性が良好であり、か
つ、耐蝕性に優れ、高密度記録に優れたものであると謳
われている。
【０００５】又、この他にもＦｅ−Ｃ−Ｎ膜なども提案
（特開平２−８９２１３号公報）されているが、いずれ
のものでも充分なものとは言えず、さらなる改善が待た
れている。
（特開平２−８９２１３号公報）されているが、いずれ
のものでも充分なものとは言えず、さらなる改善が待た
れている。
【０００６】
【発明の開示】本発明の目的は、コストが低廉で、か
つ、ＣｏやＣｒを多量に用いた場合のような環境汚染の
問題を考慮しなくて済み、さらには耐久性に富む高密度
記録可能な磁気記録媒体を提供することである。この本
発明の目的は、５０原子％≦Ｆｅ≦９０原子％、２原子
％≦Ｃｏ（又はＮｉ）≦１０原子％、５原子％≦Ｎ≦２
５原子％、２原子％≦Ｏ≦２０原子％の組成割合からな
るＦｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が
構成されてなることを特徴とする磁気記録媒体によって
達成される。
つ、ＣｏやＣｒを多量に用いた場合のような環境汚染の
問題を考慮しなくて済み、さらには耐久性に富む高密度
記録可能な磁気記録媒体を提供することである。この本
発明の目的は、５０原子％≦Ｆｅ≦９０原子％、２原子
％≦Ｃｏ（又はＮｉ）≦１０原子％、５原子％≦Ｎ≦２
５原子％、２原子％≦Ｏ≦２０原子％の組成割合からな
るＦｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が
構成されてなることを特徴とする磁気記録媒体によって
達成される。
【０００７】又、非磁性の支持体上にイオンアシスト斜
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質としてＦｅが用いられての
蒸着工程と、蒸発源物質としてＣｏ（又は／及びＮｉ）
が用いられての蒸着工程と、窒素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｃ
ｏ（又は／及びＮｉ）膜に衝突させる衝突工程と、酸素
イオンを蒸着Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）膜に衝突さ
せる衝突工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法によって達成される。
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質としてＦｅが用いられての
蒸着工程と、蒸発源物質としてＣｏ（又は／及びＮｉ）
が用いられての蒸着工程と、窒素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｃ
ｏ（又は／及びＮｉ）膜に衝突させる衝突工程と、酸素
イオンを蒸着Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）膜に衝突さ
せる衝突工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法によって達成される。
【０００８】又、非磁性の支持体上にイオンアシスト斜
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質としてＦｅが用いられての
蒸着工程と、蒸発源物質としてＣｏ（又は／及びＮｉ）
が用いられての蒸着工程と、活性窒素を蒸着Ｆｅ−Ｃｏ
（又は／及びＮｉ）膜に衝突させる衝突工程と、活性酸
素を蒸着Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）膜に衝突させる
衝突工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法によって達成される。
め蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造す
る方法であって、蒸発源物質としてＦｅが用いられての
蒸着工程と、蒸発源物質としてＣｏ（又は／及びＮｉ）
が用いられての蒸着工程と、活性窒素を蒸着Ｆｅ−Ｃｏ
（又は／及びＮｉ）膜に衝突させる衝突工程と、活性酸
素を蒸着Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）膜に衝突させる
衝突工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法によって達成される。
【０００９】以下、本発明について更に詳しく説明す
る。図１に本発明になる磁気記録媒体の概略断面図を示
す。同図中、１は非磁性の基板であり、この基板１はポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。尚、基板１面上には磁性層の
密着性を向上させる為のアンダーコート層２が必要に応
じて設けられる。すなわち、表面の粗さを適度に粗すこ
とにより乾式メッキにより構成される磁性層の密着性を
向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さを適度な
ものとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒
子を含有させた厚さが０．０１〜０．５μｍの塗膜を設
けることによってアンダーコート層２が構成されてい
る。
る。図１に本発明になる磁気記録媒体の概略断面図を示
す。同図中、１は非磁性の基板であり、この基板１はポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。尚、基板１面上には磁性層の
密着性を向上させる為のアンダーコート層２が必要に応
じて設けられる。すなわち、表面の粗さを適度に粗すこ
とにより乾式メッキにより構成される磁性層の密着性を
向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さを適度な
ものとして走行性を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒
子を含有させた厚さが０．０１〜０．５μｍの塗膜を設
けることによってアンダーコート層２が構成されてい
る。
【００１０】アンダーコート層２の上には、イオンアシ
スト斜め蒸着装置によって金属薄膜型の磁性層３が設け
られる。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰
囲気下でＦｅやＣｏ（又は／及びＮｉ）を抵抗加熱、高
周波加熱、電子ビーム加熱などにより蒸発させ、基板１
のアンダーコート層２面上に堆積（蒸着）させることに
より、磁性層３が０．０４〜１μｍ厚形成される。尚、
斜め蒸着の際の入射角αは３０°〜８０°、望ましくは
約４５°〜７０°であることが好ましい。
スト斜め蒸着装置によって金属薄膜型の磁性層３が設け
られる。例えば、１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空雰
囲気下でＦｅやＣｏ（又は／及びＮｉ）を抵抗加熱、高
周波加熱、電子ビーム加熱などにより蒸発させ、基板１
のアンダーコート層２面上に堆積（蒸着）させることに
より、磁性層３が０．０４〜１μｍ厚形成される。尚、
斜め蒸着の際の入射角αは３０°〜８０°、望ましくは
約４５°〜７０°であることが好ましい。
【００１１】本発明の磁性層３の構成に際して、蒸発源
のＦｅは、その純度が高いものでなくても良い。但し、
純度が９９％程度はあることが好ましい。すなわち、磁
性層３がＦｅ−Ｃ−Ｏ系あるいはＦｅ−Ｎ−Ｏ系のもの
では、蒸発源に用いたＦｅの純度が高くないと耐蝕性に
問題が有ったものの、本願発明の如く、Ｆｅ−Ｃｏ（又
は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系のものとした場合には、蒸発
源に用いたＦｅの純度が高くない場合でも耐蝕性に問題
が認められず、例えば９９．９５％以上の純度がない場
合でも充分で有った。この為、スリーナイン以上といっ
た純度のものを用いなくても済むようになったことか
ら、コストが大幅に低廉なものとなる。尚、ＣｏやＮｉ
が高価であるとしても、その使用量は少ないから、コス
トアップはそれだけ低く、かつ、環境汚染の問題も大幅
に改善される。
のＦｅは、その純度が高いものでなくても良い。但し、
純度が９９％程度はあることが好ましい。すなわち、磁
性層３がＦｅ−Ｃ−Ｏ系あるいはＦｅ−Ｎ−Ｏ系のもの
では、蒸発源に用いたＦｅの純度が高くないと耐蝕性に
問題が有ったものの、本願発明の如く、Ｆｅ−Ｃｏ（又
は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系のものとした場合には、蒸発
源に用いたＦｅの純度が高くない場合でも耐蝕性に問題
が認められず、例えば９９．９５％以上の純度がない場
合でも充分で有った。この為、スリーナイン以上といっ
た純度のものを用いなくても済むようになったことか
ら、コストが大幅に低廉なものとなる。尚、ＣｏやＮｉ
が高価であるとしても、その使用量は少ないから、コス
トアップはそれだけ低く、かつ、環境汚染の問題も大幅
に改善される。
【００１２】本発明では、磁性層３の構成に際しては窒
素イオン（又は活性窒素）及び酸素イオン（又は活性酸
素）が蒸着Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）膜に照射され
ることから、この磁性層３はＦｅ−Ｃｏ（又は／及びＮ
ｉ）−Ｎ−Ｏ系のものからなっており、特に、Ｆｅ成分
が５０原子％〜９０原子％、Ｃｏ（Ｎｉ）成分が２原子
％〜１０原子％、Ｎ成分が５原子％〜２５原子％、Ｏ成
分が２原子％〜２０原子％の組成割合からなるように制
御される。
素イオン（又は活性窒素）及び酸素イオン（又は活性酸
素）が蒸着Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）膜に照射され
ることから、この磁性層３はＦｅ−Ｃｏ（又は／及びＮ
ｉ）−Ｎ−Ｏ系のものからなっており、特に、Ｆｅ成分
が５０原子％〜９０原子％、Ｃｏ（Ｎｉ）成分が２原子
％〜１０原子％、Ｎ成分が５原子％〜２５原子％、Ｏ成
分が２原子％〜２０原子％の組成割合からなるように制
御される。
【００１３】ところで、イオンアシスト斜め蒸着装置は
図２に示す如くの構成である。図２中、１１は冷却キャ
ン、１２はＰＥＴフィルム１０の供給側ロール、１３は
ＰＥＴフィルム１０の巻取側ロール、１４は遮蔽板、１
５はルツボ、１６ａは純度が９９％程度のＦｅ、１６ｂ
は純度が９９％程度のＣｏ、１６ｃは純度が９９％程度
のＮｉ、１７は電子銃、１８は真空容器、１９はイオン
銃であり、イオン銃１９に窒素ガス、酸化窒素ガスやア
ンモニア等のＮ含有ガスや酸素ガスが供給されると、窒
素イオン及び酸素イオンが放出され、これらのイオンが
ＰＥＴフィルム１０上に蒸着したＦｅ−Ｃｏ（又は／及
びＮｉ）膜に衝突し、Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）が
Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系のものに変換
する。尚、イオン銃としてはＥＣＲ形（Ｅｌｅｃｔｒｏ
ｎ Ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）やカウ
フマン形などのものが有り、いずれのタイプのものをも
用いることが出来る。そして、一つの銃に二種のガスを
入れても良く、又、複数の銃の各々に各々のガスを入
れ、独立して各々のイオンを照射するようにしても良
い。
図２に示す如くの構成である。図２中、１１は冷却キャ
ン、１２はＰＥＴフィルム１０の供給側ロール、１３は
ＰＥＴフィルム１０の巻取側ロール、１４は遮蔽板、１
５はルツボ、１６ａは純度が９９％程度のＦｅ、１６ｂ
は純度が９９％程度のＣｏ、１６ｃは純度が９９％程度
のＮｉ、１７は電子銃、１８は真空容器、１９はイオン
銃であり、イオン銃１９に窒素ガス、酸化窒素ガスやア
ンモニア等のＮ含有ガスや酸素ガスが供給されると、窒
素イオン及び酸素イオンが放出され、これらのイオンが
ＰＥＴフィルム１０上に蒸着したＦｅ−Ｃｏ（又は／及
びＮｉ）膜に衝突し、Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）が
Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系のものに変換
する。尚、イオン銃としてはＥＣＲ形（Ｅｌｅｃｔｒｏ
ｎ Ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）やカウ
フマン形などのものが有り、いずれのタイプのものをも
用いることが出来る。そして、一つの銃に二種のガスを
入れても良く、又、複数の銃の各々に各々のガスを入
れ、独立して各々のイオンを照射するようにしても良
い。
【００１４】ここで、磁性膜がＦｅ−Ｃｏ（又は／及び
Ｎｉ）−Ｎ−Ｏ系の組成、特に、Ｆｅ成分が５０原子％
〜９０原子％、Ｃｏ（Ｎｉ）成分が２原子％〜１０原子
％、Ｎ成分が５原子％〜２５原子％、Ｏ成分が２原子％
〜２０原子％の組成割合からなるＦｅ−Ｃｏ（又は／及
びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系金属膜で構成されていると、保磁力
Ｈｃが１５００Ｏｅ以上も有り、かつ、飽和磁束密度Ｂ
ｓが４０００Ｇ以上も有り、しかも耐蝕性（ΔＢｓ）に
も優れており、さらにはＦｅ源として用いる材料に高純
度なものを用いなくとも済み、低コストで得られるよう
になり、かつ、ＣｏやＮｉ成分を多量に用いないから環
境汚染も少なく、Ｃｏ−Ｃｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金など
の磁性金属に代わる高密度記録が可能な磁気記録媒体と
なる。
Ｎｉ）−Ｎ−Ｏ系の組成、特に、Ｆｅ成分が５０原子％
〜９０原子％、Ｃｏ（Ｎｉ）成分が２原子％〜１０原子
％、Ｎ成分が５原子％〜２５原子％、Ｏ成分が２原子％
〜２０原子％の組成割合からなるＦｅ−Ｃｏ（又は／及
びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系金属膜で構成されていると、保磁力
Ｈｃが１５００Ｏｅ以上も有り、かつ、飽和磁束密度Ｂ
ｓが４０００Ｇ以上も有り、しかも耐蝕性（ΔＢｓ）に
も優れており、さらにはＦｅ源として用いる材料に高純
度なものを用いなくとも済み、低コストで得られるよう
になり、かつ、ＣｏやＮｉ成分を多量に用いないから環
境汚染も少なく、Ｃｏ−Ｃｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金など
の磁性金属に代わる高密度記録が可能な磁気記録媒体と
なる。
【００１５】Ｆｅ成分が５０原子％〜９０原子％、Ｃｏ
（Ｎｉ）成分が２原子％〜１０原子％、Ｎ成分が５原子
％〜２５原子％、Ｏ成分が２原子％〜２０原子％の組成
割合からなるＦｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系
金属膜を構成する為には、純度が９９％程度のＦｅやＣ
ｏ（又は／及びＮｉ）を蒸発源物質として用い、そして
窒素イオンや酸素イオン（又は活性窒素や酸素）を蒸着
Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）膜に衝突させれば達成で
きるが、蒸発したＦｅやＣｏ（又は／及びＮｉ）がフィ
ルム上に付着すると同時にイオン化された窒素イオンや
酸素イオン（又は活性窒素や酸素）を付着したＦｅ−Ｃ
ｏ（又は／及びＮｉ）に衝突させ、窒化・酸化反応させ
ることが重要である。そして、この際、図２における冷
却キャン１１をフィルム１０が熱変形を起こさない程度
の温度下において出来るだけ高い温度に保持しておく
と、反応性が高まり、好ましい結果が得られる。
（Ｎｉ）成分が２原子％〜１０原子％、Ｎ成分が５原子
％〜２５原子％、Ｏ成分が２原子％〜２０原子％の組成
割合からなるＦｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系
金属膜を構成する為には、純度が９９％程度のＦｅやＣ
ｏ（又は／及びＮｉ）を蒸発源物質として用い、そして
窒素イオンや酸素イオン（又は活性窒素や酸素）を蒸着
Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）膜に衝突させれば達成で
きるが、蒸発したＦｅやＣｏ（又は／及びＮｉ）がフィ
ルム上に付着すると同時にイオン化された窒素イオンや
酸素イオン（又は活性窒素や酸素）を付着したＦｅ−Ｃ
ｏ（又は／及びＮｉ）に衝突させ、窒化・酸化反応させ
ることが重要である。そして、この際、図２における冷
却キャン１１をフィルム１０が熱変形を起こさない程度
の温度下において出来るだけ高い温度に保持しておく
と、反応性が高まり、好ましい結果が得られる。
【００１６】４は磁性層３の上に設けられた潤滑剤層で
ある。すなわち、潤滑剤を含有させた塗料を所定の手段
で塗布することにより、約５〜５０Å、好ましくは約１
０〜３０Å程度の厚さの潤滑剤層４が設けられる。５
は、基板１の他面に設けられたカーボンブラック等を含
有させたバックコート層である。
ある。すなわち、潤滑剤を含有させた塗料を所定の手段
で塗布することにより、約５〜５０Å、好ましくは約１
０〜３０Å程度の厚さの潤滑剤層４が設けられる。５
は、基板１の他面に設けられたカーボンブラック等を含
有させたバックコート層である。
【００１７】以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
【００１８】
【実施例】〔実施例１〕図２に示される如くのイオンア
シスト斜め蒸着装置に厚さ９．３μｍのＰＥＴフィルム
１０を装着し、ＰＥＴフィルム１０が２ｍ／分の走行速
度で走行させられている。
シスト斜め蒸着装置に厚さ９．３μｍのＰＥＴフィルム
１０を装着し、ＰＥＴフィルム１０が２ｍ／分の走行速
度で走行させられている。
【００１９】そして、酸化マグネシウム製のルツボ１５
に純度が９９％程度のＦｅ１６ａ，Ｃｏ１６ｂ，Ｎｉ１
６ｃを入れ、例えば出力３０ｋＷの電子銃（日本電子
（株）製のＪＥＢＧ−３０３ＵＡ）１７をトリプルソー
スコントローラー（三元合金作成コントローラー）と共
に用いてＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉを蒸発させ、ＰＥＴフィルム
１０にＦｅ及びＣｏ（Ｎｉ）粒子を蒸着（入射角α＝６
０°）させると共に、窒素ガス（純度９９．９９％）及
び酸素ガス（純度９９．９９％）の混合ガス（体積混合
比４：１）を出力５００Ｗのカウフマン形イオン銃１９
に供給し、ＰＥＴフィルム１０のＦｅ蒸着面に向けて窒
素イオン及び酸素イオンを照射する。
に純度が９９％程度のＦｅ１６ａ，Ｃｏ１６ｂ，Ｎｉ１
６ｃを入れ、例えば出力３０ｋＷの電子銃（日本電子
（株）製のＪＥＢＧ−３０３ＵＡ）１７をトリプルソー
スコントローラー（三元合金作成コントローラー）と共
に用いてＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉを蒸発させ、ＰＥＴフィルム
１０にＦｅ及びＣｏ（Ｎｉ）粒子を蒸着（入射角α＝６
０°）させると共に、窒素ガス（純度９９．９９％）及
び酸素ガス（純度９９．９９％）の混合ガス（体積混合
比４：１）を出力５００Ｗのカウフマン形イオン銃１９
に供給し、ＰＥＴフィルム１０のＦｅ蒸着面に向けて窒
素イオン及び酸素イオンを照射する。
【００２０】このようなイオンアシスト斜め蒸着により
磁性膜を１５００Å厚形成し、磁気テープを作製した。 〔実施例２〜８〕実施例１において、ＣｏやＮｉの蒸発
速度、及び窒素ガスや酸素ガスの混合割合を変化させた
以外は同様に行い、磁気テープを作製した。
磁性膜を１５００Å厚形成し、磁気テープを作製した。 〔実施例２〜８〕実施例１において、ＣｏやＮｉの蒸発
速度、及び窒素ガスや酸素ガスの混合割合を変化させた
以外は同様に行い、磁気テープを作製した。
【００２１】〔比較例１〜３〕実施例１において、Ｃｏ
やＮｉの蒸発速度、及び窒素ガスや酸素ガスの混合割合
を変化させた以外は同様に行い、磁気テープを作製し
た。 〔特性〕上記各例で得られた磁気テープの磁気特性及び
耐蝕性について調べたので、その結果を下記の表１に示
す。
やＮｉの蒸発速度、及び窒素ガスや酸素ガスの混合割合
を変化させた以外は同様に行い、磁気テープを作製し
た。 〔特性〕上記各例で得られた磁気テープの磁気特性及び
耐蝕性について調べたので、その結果を下記の表１に示
す。
【００２２】 表 １ 組成（原子％） 保磁力 飽和磁束密度 ΔＢｓ Ｆｅ Ｃｏ Ｎｉ Ｎ Ｏ （Oe） （Ｇ） （％） 実施例１ ７０ ２ ２ １３ １３ ２０５０ ４２００ ８ 実施例２ ６０ １０ １０ １０ １０ １８５０ ５１００ ４ 実施例３ ７０ １０ ０ １０ １０ １９００ ５９００ ６ 実施例４ ７０ ０ １０ １０ １０ １８００ ５４００ ５ 実施例５ ６０ ２ ０ ２５ １３ ２０００ ５０００ ４ 実施例６ ９０ ０ ２ ５ ３ １５００ ７２００ ８ 実施例７ ５０ １０ １０ １０ ２０ １８００ ４７００ ２ 実施例８ ６０ ５ ８ ２５ ２ １７００ ６４００ ９ 比較例１ ７５ ０ ０ １５ １５ １９５０ ３７００ １１ 比較例２ ４０ ２０ ２０ １０ １０ １７００ ３９００ ２ 比較例３ ７０ ０ ５ ２５ ０ １０５０ ５４００ １６ ΔＢｓ：５％ＮａＣｌ水溶液中に１週間浸けておき、飽
和磁束密度の変化率を求め、これによって耐蝕性を判定
する。
和磁束密度の変化率を求め、これによって耐蝕性を判定
する。
【００２３】
【効果】低廉なＦｅを用いたことから、コスト面で好ま
しく、かつ、ＣｏやＣｒを多量に用いた場合のような環
境汚染の問題やコスト高を考慮しなくて済み、そして耐
蝕性に富んだ高密度記録可能な磁気記録媒体が得られ
る。
しく、かつ、ＣｏやＣｒを多量に用いた場合のような環
境汚染の問題やコスト高を考慮しなくて済み、そして耐
蝕性に富んだ高密度記録可能な磁気記録媒体が得られ
る。
【図１】磁気記録媒体の概略断面図である。
【図２】磁気記録媒体製造装置の概略図である。
１ 非磁性の基板 ２ アンダーコート層 ３ 磁性層 １０ ＰＥＴフィルム １４ 遮蔽板 １５ ルツボ １６ 純度９９％のＦｅ １７ 電子銃 １９ イオン銃
Claims (3)
- 【請求項１】 ５０原子％≦Ｆｅ≦９０原子％、２原子
％≦Ｃｏ（又はＮｉ）≦１０原子％、５原子％≦Ｎ≦２
５原子％、２原子％≦Ｏ≦２０原子％の組成割合からな
るＦｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）−Ｎ−Ｏ系の磁性膜が
構成されてなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 非磁性の支持体上にイオンアシスト斜め
蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造する
方法であって、蒸発源物質としてＦｅが用いられての蒸
着工程と、蒸発源物質としてＣｏ（又は／及びＮｉ）が
用いられての蒸着工程と、窒素イオンを蒸着Ｆｅ−Ｃｏ
（又は／及びＮｉ）膜に衝突させる衝突工程と、酸素イ
オンを蒸着Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）膜に衝突させ
る衝突工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。 - 【請求項３】 非磁性の支持体上にイオンアシスト斜め
蒸着法により磁性膜を形成して磁気記録媒体を製造する
方法であって、蒸発源物質としてＦｅが用いられての蒸
着工程と、蒸発源物質としてＣｏ（又は／及びＮｉ）が
用いられての蒸着工程と、活性窒素を蒸着Ｆｅ−Ｃｏ
（又は／及びＮｉ）膜に衝突させる衝突工程と、活性酸
素を蒸着Ｆｅ−Ｃｏ（又は／及びＮｉ）膜に衝突させる
衝突工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29134592A JPH06140246A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29134592A JPH06140246A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06140246A true JPH06140246A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=17767724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29134592A Pending JPH06140246A (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06140246A (ja) |
-
1992
- 1992-10-29 JP JP29134592A patent/JPH06140246A/ja active Pending
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