JPH06132125A - Ｆｅ基軟磁性薄膜 - Google Patents
Ｆｅ基軟磁性薄膜Info
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- JPH06132125A JPH06132125A JP24454192A JP24454192A JPH06132125A JP H06132125 A JPH06132125 A JP H06132125A JP 24454192 A JP24454192 A JP 24454192A JP 24454192 A JP24454192 A JP 24454192A JP H06132125 A JPH06132125 A JP H06132125A
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
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- H01F1/15308—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals based on Fe/Ni
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、高い飽和磁束密度を有し高周波磁
気特性に優れたＦｅ基軟磁性薄膜およびこれを用いた磁
気記録再生ヘッドに関するものである。 【構成】 一般式 Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘzで表
される（但し、ＭはＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａのう
ちから選択された少なくとも１種または２種以上の元
素、Ｍ′はＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，
Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｇ
ｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，白金族元素，希土類元素のうちから選
択された少なくとも１種または２種以上の元素およびＸ
はＮ，Ｂ，Ｃの少なくとも１種または２種以上の元素で
あり、また組成比ｘ，ｙ，ｚは、原子％で0.1 ＜ｘ≦2
5，０≦ｙ≦50，0.5 ＜ｚ≦40で、且つ0.5 ＜ｘ＋ｙ＋
ｚ≦60である）組成からなることを特徴とするＦｅ基軟
磁性薄膜。
気特性に優れたＦｅ基軟磁性薄膜およびこれを用いた磁
気記録再生ヘッドに関するものである。 【構成】 一般式 Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘzで表
される（但し、ＭはＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａのう
ちから選択された少なくとも１種または２種以上の元
素、Ｍ′はＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，
Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｇ
ｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，白金族元素，希土類元素のうちから選
択された少なくとも１種または２種以上の元素およびＸ
はＮ，Ｂ，Ｃの少なくとも１種または２種以上の元素で
あり、また組成比ｘ，ｙ，ｚは、原子％で0.1 ＜ｘ≦2
5，０≦ｙ≦50，0.5 ＜ｚ≦40で、且つ0.5 ＜ｘ＋ｙ＋
ｚ≦60である）組成からなることを特徴とするＦｅ基軟
磁性薄膜。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高飽和磁束密度を有し
高周波磁気特性に優れたＦｅ基軟磁性薄膜およびこれを
用いた磁気記録再生ヘッドに関するものである。
高周波磁気特性に優れたＦｅ基軟磁性薄膜およびこれを
用いた磁気記録再生ヘッドに関するものである。
【０００２】近年、磁気記録においては、高記録密度化
の強い要望により、磁気記録媒体として用いられる磁性
粉は、高保磁力を有することが必要とされ、現在金属合
金粉末を用いたメタルテープ、蒸着テープ、磁気ディス
ク等が開発されている。上記の高保磁力を有する磁気記
録媒体に十分な記録を行うためには、高い飽和磁束密度
を有し、且つ高周波帯域においても高い実効透磁率を有
する磁気ヘッド材料が必要である。
の強い要望により、磁気記録媒体として用いられる磁性
粉は、高保磁力を有することが必要とされ、現在金属合
金粉末を用いたメタルテープ、蒸着テープ、磁気ディス
ク等が開発されている。上記の高保磁力を有する磁気記
録媒体に十分な記録を行うためには、高い飽和磁束密度
を有し、且つ高周波帯域においても高い実効透磁率を有
する磁気ヘッド材料が必要である。
【０００３】従来、磁気ヘッドの材料としては、パーマ
ロイ、センダスト、Ｃｏ系アモルファス合金などが使用
されている。
ロイ、センダスト、Ｃｏ系アモルファス合金などが使用
されている。
【０００４】上記材料において、高い透磁率を現わす組
成範囲の飽和磁束密度は、パーマロイで約10000 Ｇ、セ
ンダストで約11000 Ｇ、Ｃｏ系アモルファス合金では約
13000 Ｇである。しかしながら、比較的高いＣｏ系アモ
ルファス合金は、磁気ヘッド製造工程における高温加熱
処理などにより、透磁率が劣化するなどの問題がある。
成範囲の飽和磁束密度は、パーマロイで約10000 Ｇ、セ
ンダストで約11000 Ｇ、Ｃｏ系アモルファス合金では約
13000 Ｇである。しかしながら、比較的高いＣｏ系アモ
ルファス合金は、磁気ヘッド製造工程における高温加熱
処理などにより、透磁率が劣化するなどの問題がある。
【０００５】したがって、高密度記録を実現するために
は、飽和磁束密度がより一層高く、且つ高周波帯域にお
いても高い実効透磁率を有する軟磁性材料の開発が必要
である。
は、飽和磁束密度がより一層高く、且つ高周波帯域にお
いても高い実効透磁率を有する軟磁性材料の開発が必要
である。
【０００６】本発明のＦｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz の
Ｆｅ基軟磁性薄膜は、円板状のＦｅのターゲット上に
Ｍ，Ｍ′およびＸの元素の所要量をペレットとして配置
するかあるいはＦｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz の組成か
らなる円板状のターゲットを製造し、これらをアルゴン
ガス単独か、あるいはこれにさらに窒素およびメタン
（ＣＨ4 ）等の炭化水素ガス等を適当量に混合したガス
雰囲気中で、スパッタ法あるいは蒸着法などにより、適
当な厚さの薄膜を製造する。さらに、必要に応じて軟磁
気特性を向上させるため、無磁界あるいは適当な強さの
磁界中で熱処理を施すことにより、耐熱性にすぐれたＦ
ｅ基軟磁性薄膜が得られる。
Ｆｅ基軟磁性薄膜は、円板状のＦｅのターゲット上に
Ｍ，Ｍ′およびＸの元素の所要量をペレットとして配置
するかあるいはＦｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz の組成か
らなる円板状のターゲットを製造し、これらをアルゴン
ガス単独か、あるいはこれにさらに窒素およびメタン
（ＣＨ4 ）等の炭化水素ガス等を適当量に混合したガス
雰囲気中で、スパッタ法あるいは蒸着法などにより、適
当な厚さの薄膜を製造する。さらに、必要に応じて軟磁
気特性を向上させるため、無磁界あるいは適当な強さの
磁界中で熱処理を施すことにより、耐熱性にすぐれたＦ
ｅ基軟磁性薄膜が得られる。
【０００７】本発明の特徴とする所は次の通りである。 第１発明 一般式 Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz で表される（但し、ＭはＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ
のうちから選択された少なくとも１種または２種以上の
元素、Ｍ′はＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃ
ｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｉ，
Ｇｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，白金族元素，希土類元素のうちから
選択された少なくとも１種または２種以上の元素および
ＸはＮ，Ｂ，Ｃの少なくとも１種または２種以上の元素
であり、また組成比ｘ，ｙ，ｚは、原子％で0.1 ＜ｘ≦
25，０≦ｙ≦50，0.5 ＜ｚ≦40で、且つ0.5 ＜ｘ＋ｙ＋
ｚ≦60である）組成からなることを特徴とするＦｅ基軟
磁性薄膜。
のうちから選択された少なくとも１種または２種以上の
元素、Ｍ′はＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃ
ｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｉ，
Ｇｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，白金族元素，希土類元素のうちから
選択された少なくとも１種または２種以上の元素および
ＸはＮ，Ｂ，Ｃの少なくとも１種または２種以上の元素
であり、また組成比ｘ，ｙ，ｚは、原子％で0.1 ＜ｘ≦
25，０≦ｙ≦50，0.5 ＜ｚ≦40で、且つ0.5 ＜ｘ＋ｙ＋
ｚ≦60である）組成からなることを特徴とするＦｅ基軟
磁性薄膜。
【０００８】第２発明 一般式 Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz において、ＸがＮの元素からなる第１発明のＦｅ基軟磁
性薄膜。
性薄膜。
【０００９】第３発明 一般式 Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz において、ＸがＢの元素からなる第１発明のＦｅ基軟磁
性薄膜。
性薄膜。
【００１０】第４発明 一般式 Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz において、ＸがＣの元素からなる第１発明のＦｅ基軟磁
性薄膜。
性薄膜。
【００１１】第５発明 無磁界あるいは磁界中において熱処理したことを特徴と
する請求項１ないし４発明の何れかに記載のＦｅ基軟磁
性薄膜。
する請求項１ないし４発明の何れかに記載のＦｅ基軟磁
性薄膜。
【００１２】第６発明 請求項１ないし５の何れかに記載のＦｅ基軟磁性薄膜を
用いたことを特徴とする磁気記録再生ヘッド。
用いたことを特徴とする磁気記録再生ヘッド。
【００１３】
【作用】従来、高い透磁率は結晶磁気異方性および磁気
歪みを小さくすることによって得られることが知られて
おり、また高い周波数帯域においても高い実効透磁率を
保持するためには、磁性材料を薄板となし、渦電流損失
を小さくすることによって実現できることが知られてい
る。
歪みを小さくすることによって得られることが知られて
おり、また高い周波数帯域においても高い実効透磁率を
保持するためには、磁性材料を薄板となし、渦電流損失
を小さくすることによって実現できることが知られてい
る。
【００１４】本発明のＦｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz の
Ｆｅ基軟磁性薄膜は、Ｆｅの大きな結晶磁気異方性およ
び磁気歪みを小さくするために、先ずＭ（Ｂｅ，Ｍｇ，
Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）のＮ，Ｂ，Ｃとの親和力の大きいll
a 族元素およびＭ′（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔ
ａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｌ，
Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，白金族元素および希土類元
素）を添加し、磁気歪みを小さくするとともに、さらに
Ｘ（Ｎ，Ｂ，Ｃ）を添加して、ＭおよびＭ′元素の窒化
物、硼化物、炭化物を生成させ、結晶粒を微細化し、巨
視的な結晶磁気異方性を小さくするかあるいは非晶質相
となし、結晶磁気異方性を零にすることにより、高い透
磁率が得られる。また、ＭおよびＭ′元素の窒化物、硼
化物、炭化物の微細結晶は、磁壁のピンニングサイトと
して働き、高周波帯域における高い透磁率を得るたるに
有効であるとともに、熱処理による結晶粒の成長を抑制
し、耐熱性を高める効果も大きい。
Ｆｅ基軟磁性薄膜は、Ｆｅの大きな結晶磁気異方性およ
び磁気歪みを小さくするために、先ずＭ（Ｂｅ，Ｍｇ，
Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）のＮ，Ｂ，Ｃとの親和力の大きいll
a 族元素およびＭ′（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔ
ａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｌ，
Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，白金族元素および希土類元
素）を添加し、磁気歪みを小さくするとともに、さらに
Ｘ（Ｎ，Ｂ，Ｃ）を添加して、ＭおよびＭ′元素の窒化
物、硼化物、炭化物を生成させ、結晶粒を微細化し、巨
視的な結晶磁気異方性を小さくするかあるいは非晶質相
となし、結晶磁気異方性を零にすることにより、高い透
磁率が得られる。また、ＭおよびＭ′元素の窒化物、硼
化物、炭化物の微細結晶は、磁壁のピンニングサイトと
して働き、高周波帯域における高い透磁率を得るたるに
有効であるとともに、熱処理による結晶粒の成長を抑制
し、耐熱性を高める効果も大きい。
【００１５】
【実施例】次に本発明の実施例につき説明する。 試料番号８ Ｆｅ85.3 Ｂｅ7.7 Ｎ7 薄膜の製造；-原
料として99.9％純度の電解鉄および99.8％純度のベリリ
ウムを用い、アルミナ坩堝に入れ、真空中で高周波誘導
電気炉によって溶かし、得られた鋳塊から直径76mm、厚
さ２mmの円板を製造した。この円板をターゲットとして
用い、アルゴンガスと窒素ガスの混合ガス雰囲気中で、
高周波マグネトロンスパッター装置により、次の条件で
成膜した。 予備排気 １×10-5Ｐａ 高周波電力 １００Ｗ 全ガス圧 5.3 ×10-1Ｐａ （アルゴンガス圧 5.0 ×10-1Ｐａ） （窒素ガス圧 0.3 ×10-1Ｐａ） 基 板 ガラス基板 電極間距離 ６０mm 成膜速度 ６０Å／min 膜 厚 ０．７μｍ
料として99.9％純度の電解鉄および99.8％純度のベリリ
ウムを用い、アルミナ坩堝に入れ、真空中で高周波誘導
電気炉によって溶かし、得られた鋳塊から直径76mm、厚
さ２mmの円板を製造した。この円板をターゲットとして
用い、アルゴンガスと窒素ガスの混合ガス雰囲気中で、
高周波マグネトロンスパッター装置により、次の条件で
成膜した。 予備排気 １×10-5Ｐａ 高周波電力 １００Ｗ 全ガス圧 5.3 ×10-1Ｐａ （アルゴンガス圧 5.0 ×10-1Ｐａ） （窒素ガス圧 0.3 ×10-1Ｐａ） 基 板 ガラス基板 電極間距離 ６０mm 成膜速度 ６０Å／min 膜 厚 ０．７μｍ
【００１６】次いで得られた膜に、350 Ｏｅの磁界の真
空中において種々な熱処理を施し、次の結果を得た。
空中において種々な熱処理を施し、次の結果を得た。
【００１７】
【表１】 飽和磁束密度は熱処理の如何にかかわらず、ほぼ18.5Ｋ
Ｇで、高い値を示した。尚、本発明の代表的なＦｅ基軟
磁性薄膜の特性値を表２に示す。
Ｇで、高い値を示した。尚、本発明の代表的なＦｅ基軟
磁性薄膜の特性値を表２に示す。
【００１８】
【表２】
【００１９】次に本発明を図面につき説明する。図１
は、Ｆｅ93-xＢｅx Ｎ7 薄膜について、Ｂｅの添加量ｘ
を0.0 ，1.4 ，3.3 ，7.7 ，12.2および18.6に変化さ
せ、Ｎを７％一定とした場合の結晶粒径と焼鈍温度との
関係を示したものである。Ｘ＝0.0 のＦｅ93Ｎ7 薄膜で
は、300 ℃以上の温度で焼鈍すると急速に結晶粒が成長
し粗大化するが、これにＢｅを添加するとＢｅの窒化物
が生成し、結晶粒の成長が著しく抑制され、高温度にお
いても微細な結晶粒組織が保持され、結晶磁気異方性が
小さく高い透磁率が得られる状態にあることを示してい
る。
は、Ｆｅ93-xＢｅx Ｎ7 薄膜について、Ｂｅの添加量ｘ
を0.0 ，1.4 ，3.3 ，7.7 ，12.2および18.6に変化さ
せ、Ｎを７％一定とした場合の結晶粒径と焼鈍温度との
関係を示したものである。Ｘ＝0.0 のＦｅ93Ｎ7 薄膜で
は、300 ℃以上の温度で焼鈍すると急速に結晶粒が成長
し粗大化するが、これにＢｅを添加するとＢｅの窒化物
が生成し、結晶粒の成長が著しく抑制され、高温度にお
いても微細な結晶粒組織が保持され、結晶磁気異方性が
小さく高い透磁率が得られる状態にあることを示してい
る。
【００２０】図２は、同じくＦｅ93-xＢｅx Ｎ7 薄膜の
周波数５ＭＨｚにおいて困難軸方向の実効透磁率μｅと
350 Ｏｅ磁界の真空中における焼鈍温度との関係を示し
たものである。Ｘ＝0.0 のＦｅ93Ｎ7 薄膜は、300 ℃で
焼鈍した場合、μｅ＝750 の極大値が得られるが、これ
以上の温度で焼鈍すると急激に減少し、結晶粒の粗大化
と関係していることを示している。しかし、これにＢｅ
を添加すると、実効透磁率は増大し、高温度においても
高い実効透磁率が安定して得られ、微細な結晶粒組織に
よるものと思われる。
周波数５ＭＨｚにおいて困難軸方向の実効透磁率μｅと
350 Ｏｅ磁界の真空中における焼鈍温度との関係を示し
たものである。Ｘ＝0.0 のＦｅ93Ｎ7 薄膜は、300 ℃で
焼鈍した場合、μｅ＝750 の極大値が得られるが、これ
以上の温度で焼鈍すると急激に減少し、結晶粒の粗大化
と関係していることを示している。しかし、これにＢｅ
を添加すると、実効透磁率は増大し、高温度においても
高い実効透磁率が安定して得られ、微細な結晶粒組織に
よるものと思われる。
【００２１】図３は、Ｂｅがｘ＝7.7 のＦｅ85.3Ｂｅ
7.7 Ｎ7 薄膜を350 Ｏｅ磁界の真空中において、400 ℃
で１時間焼鈍した場合の困難軸方向の実効透磁率と周波
数との関係を示したものである。実効透磁率は約100 Ｍ
Ｈｚの周波数帯域まで高い値を保持しており、Ｂｅの微
細な窒化物が渦電流損失の増大を抑制しているためと考
えられる。
7.7 Ｎ7 薄膜を350 Ｏｅ磁界の真空中において、400 ℃
で１時間焼鈍した場合の困難軸方向の実効透磁率と周波
数との関係を示したものである。実効透磁率は約100 Ｍ
Ｈｚの周波数帯域まで高い値を保持しており、Ｂｅの微
細な窒化物が渦電流損失の増大を抑制しているためと考
えられる。
【００２２】図４は、Ｆｅ93-xＭx Ｎ7 （Ｍ＝Ｍｇ，Ｃ
ａ）薄膜について、５ＭＨｚにおける実効透磁率と350
Ｏｅ磁界の真空中における焼鈍温度との関係を示したも
のである。ＭｇあるいはＣａを適当量添加し焼鈍すると
高い実効透磁率が得られることを示す。
ａ）薄膜について、５ＭＨｚにおける実効透磁率と350
Ｏｅ磁界の真空中における焼鈍温度との関係を示したも
のである。ＭｇあるいはＣａを適当量添加し焼鈍すると
高い実効透磁率が得られることを示す。
【００２３】図５は、Ｆｅ93-xＭx Ｎ7 （Ｍ＝Ｓｒ，Ｂ
ａ）薄膜について、５ＭＨｚにおける実効透磁率と350
Ｏｅ磁界の真空中における焼鈍温度との関係を示したも
のである。ＳｒあるいはＢａを適当量添加し、焼鈍する
と高い実効透磁率が得られる。
ａ）薄膜について、５ＭＨｚにおける実効透磁率と350
Ｏｅ磁界の真空中における焼鈍温度との関係を示したも
のである。ＳｒあるいはＢａを適当量添加し、焼鈍する
と高い実効透磁率が得られる。
【００２４】上記の実施例、表２および図面から明らか
なように、本発明のＦｅ100-x-y-zＭx Ｍ′y Ｘz のＦ
ｅ基軟磁性薄膜は、高い飽和磁束密度と低保磁力を有
し、且つ高周波帯域においても高い実効透磁率を示し、
耐熱性にも優れているので磁気記録再生ヘッド材料とし
て好適であるばかりでなく、他の一般の電磁機器の軟磁
性材料としても好適である。
なように、本発明のＦｅ100-x-y-zＭx Ｍ′y Ｘz のＦ
ｅ基軟磁性薄膜は、高い飽和磁束密度と低保磁力を有
し、且つ高周波帯域においても高い実効透磁率を示し、
耐熱性にも優れているので磁気記録再生ヘッド材料とし
て好適であるばかりでなく、他の一般の電磁機器の軟磁
性材料としても好適である。
【００２５】次に本発明のＦｅ基軟磁性薄膜の組成を、
一般式、Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′yＸz で表わされる組
成からなることを特徴とするＦｅ基軟磁性薄膜、但し、
ＭはＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａのうち少なくとも１
種または２種以上の元素、Ｍ′はＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，
Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，
Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，白金族元素，希
土類元素のうち少なくとも１種または２種以上の元素お
よびＸはＮ，Ｂ，Ｃの少なくとも１種または２種以上の
元素とし、その組成比ｘ，ｙ，ｚを原子％で0.1 ＜ｘ≦
25，０≦ｙ≦50，0.5 ＜ｚ≦40で、且つ0.5 ＜ｘ＋ｙ＋
ｚ≦60と限定したのは、実施例、表２および図面で明ら
かなように、この組成範囲の実効透磁率および飽和磁束
密度は高く、保磁力が小さいので軟磁気特性に優れてい
るが、この組成範囲をはずれると軟磁気特性が得られな
いからである。
一般式、Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′yＸz で表わされる組
成からなることを特徴とするＦｅ基軟磁性薄膜、但し、
ＭはＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａのうち少なくとも１
種または２種以上の元素、Ｍ′はＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，
Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，
Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，白金族元素，希
土類元素のうち少なくとも１種または２種以上の元素お
よびＸはＮ，Ｂ，Ｃの少なくとも１種または２種以上の
元素とし、その組成比ｘ，ｙ，ｚを原子％で0.1 ＜ｘ≦
25，０≦ｙ≦50，0.5 ＜ｚ≦40で、且つ0.5 ＜ｘ＋ｙ＋
ｚ≦60と限定したのは、実施例、表２および図面で明ら
かなように、この組成範囲の実効透磁率および飽和磁束
密度は高く、保磁力が小さいので軟磁気特性に優れてい
るが、この組成範囲をはずれると軟磁気特性が得られな
いからである。
【００２６】
【発明の効果】上記のように、本発明のＦｅ基軟磁性薄
膜は、高飽和磁束密度を有し、高周波帯域における実効
透磁率も高いので、磁気記録再生ヘッド等に用いる軟磁
性材料として好適である。
膜は、高飽和磁束密度を有し、高周波帯域における実効
透磁率も高いので、磁気記録再生ヘッド等に用いる軟磁
性材料として好適である。
【図１】図１は、本発明のＦｅ93-xＢｅx Ｎ7 薄膜の結
晶粒径と焼鈍温度との関係を示す特性図である。
晶粒径と焼鈍温度との関係を示す特性図である。
【図２】図２は本発明のＦｅ93-xＢｅx Ｎ7 薄膜の実効
透磁率と焼鈍温度との関係を示す特性図である。
透磁率と焼鈍温度との関係を示す特性図である。
【図３】図３は本発明のＦｅ85.3Ｂｅ7.7 Ｎ7 薄膜の実
効透磁率と周波数との関係を示す特性図である。
効透磁率と周波数との関係を示す特性図である。
【図４】図４は本発明のＦｅ93-xＭx Ｎ7 （Ｍ＝Ｍｇ，
Ｃａ）薄膜の実効透磁率と焼鈍温度との関係を示す特性
図である。
Ｃａ）薄膜の実効透磁率と焼鈍温度との関係を示す特性
図である。
【図５】図５は本発明のＦｅ93-xＭx Ｎ7 （Ｍ＝Ｓｒ，
Ｂａ）薄膜の実効透磁率と焼鈍温度との関係を示す特性
図である。
Ｂａ）薄膜の実効透磁率と焼鈍温度との関係を示す特性
図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/255 7303−5Ｄ
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式 Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz で表される（但し、ＭはＢｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ
のうちから選択された少なくとも１種または２種以上の
元素、Ｍ′はＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃ
ｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｌ，Ｓｉ，
Ｇｅ，Ｓｎ，Ｓｂ，白金族元素，希土類元素のうちから
選択された少なくとも１種または２種以上の元素および
ＸはＮ，Ｂ，Ｃの少なくとも１種または２種以上の元素
であり、また組成比ｘ，ｙ，ｚは、原子％で0.1 ＜ｘ≦
25，０≦ｙ≦50，0.5 ＜ｚ≦40で、且つ0.5 ＜ｘ＋ｙ＋
ｚ≦60である）組成からなることを特徴とするＦｅ基軟
磁性薄膜。 - 【請求項２】 一般式 Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz において、ＸがＮの元素からなる請求項１のＦｅ基軟磁
性薄膜。 - 【請求項３】 一般式 Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz において、ＸがＢの元素からなる請求項１のＦｅ基軟磁
性薄膜。 - 【請求項４】 一般式 Ｆｅ100-x-y-z Ｍx Ｍ′y Ｘz において、ＸがＣの元素からなる請求項１のＦｅ基軟磁
性薄膜。 - 【請求項５】 無磁界あるいは磁界中において熱処理し
たことを特徴とする請求項１ないし４の何れかに記載の
Ｆｅ基軟磁性薄膜。 - 【請求項６】 請求項１ないし５の何れかに記載のＦｅ
基軟磁性薄膜を用いたことを特徴とする磁気記録再生ヘ
ッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24454192A JPH06132125A (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | Ｆｅ基軟磁性薄膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24454192A JPH06132125A (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | Ｆｅ基軟磁性薄膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06132125A true JPH06132125A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=17120235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24454192A Withdrawn JPH06132125A (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | Ｆｅ基軟磁性薄膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06132125A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102543344A (zh) * | 2012-01-09 | 2012-07-04 | 南京深宁磁电有限公司 | 一种高性能纳米晶软磁复合材料及其制备方法 |
| CN110468353A (zh) * | 2019-08-21 | 2019-11-19 | 江苏中科启航新材料工业研究院有限公司 | 一种高饱和磁感应强度铁基非晶合金及制备方法 |
-
1992
- 1992-09-14 JP JP24454192A patent/JPH06132125A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102543344A (zh) * | 2012-01-09 | 2012-07-04 | 南京深宁磁电有限公司 | 一种高性能纳米晶软磁复合材料及其制备方法 |
| CN110468353A (zh) * | 2019-08-21 | 2019-11-19 | 江苏中科启航新材料工业研究院有限公司 | 一种高饱和磁感应强度铁基非晶合金及制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991130 |