JPH06102726B2 - メタクリルオキシー及び／又はアクリルオキシ基を有する液晶ポリオルガノシロキサンの製法及び製造用出発化合物 - Google Patents
メタクリルオキシー及び／又はアクリルオキシ基を有する液晶ポリオルガノシロキサンの製法及び製造用出発化合物Info
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-
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、アクリルオキシ−及び／又はメタクリルオキ
シ基を有する液晶ポリオルガノシロキサン、その製法並
びにその架橋法及びこうして製造することのできる架橋
された液晶ポリオルガノシロキサンに関する。
シ基を有する液晶ポリオルガノシロキサン、その製法並
びにその架橋法及びこうして製造することのできる架橋
された液晶ポリオルガノシロキサンに関する。
（メタ）アクリルオキシ基を有する液晶ポリオルガノシ
ロキサンは原則として公知である。欧州特許（EP−Ｂ）
第0066137号明細書〔1985年６月31日発行、H.フインケ
ルマン（Finkelmann）その他、コンソルチウム フユウ
エレクトロヒエミツシエ インドウストリー有限会社
（Consortium fuer elektrochemische Industrie Gmb
H）〕には、アクリル−又はメタクリル酸アリルエステ
ルをオルガノ−水素−ポリシロキサンに付加することに
よつて、この種の重合体を製造することが記載されてい
る。
ロキサンは原則として公知である。欧州特許（EP−Ｂ）
第0066137号明細書〔1985年６月31日発行、H.フインケ
ルマン（Finkelmann）その他、コンソルチウム フユウ
エレクトロヒエミツシエ インドウストリー有限会社
（Consortium fuer elektrochemische Industrie Gmb
H）〕には、アクリル−又はメタクリル酸アリルエステ
ルをオルガノ−水素−ポリシロキサンに付加することに
よつて、この種の重合体を製造することが記載されてい
る。
メタクリルオキシ−又はアクリルオキシ基を液晶ポリオ
ルガノシロキサンに導入し、それによつて後者を三次元
的に架橋させることができる。この架橋は（メタ）アク
リルオキシ基のエチレン性二重結合における例えばラジ
カル性又はイオン性反応によつて行われる。従つて高度
に三次元的に架橋された液晶ポリオルガノシロキサンを
得るために、できる限り高い含量の（メタ）アクリルオ
キシ基をポリオルガノシロキサンに導入することが所望
される。
ルガノシロキサンに導入し、それによつて後者を三次元
的に架橋させることができる。この架橋は（メタ）アク
リルオキシ基のエチレン性二重結合における例えばラジ
カル性又はイオン性反応によつて行われる。従つて高度
に三次元的に架橋された液晶ポリオルガノシロキサンを
得るために、できる限り高い含量の（メタ）アクリルオ
キシ基をポリオルガノシロキサンに導入することが所望
される。
しかし、前記の公知技術により高い含量の（メタ）アク
リルオキシ基を有する液晶ポリオルガノシロキサンを製
造する場合には、これらの材料を用いてその配向後に混
濁した粗いフイルムしか製造することができない。
リルオキシ基を有する液晶ポリオルガノシロキサンを製
造する場合には、これらの材料を用いてその配向後に混
濁した粗いフイルムしか製造することができない。
本発明の課題は、（メタ）アクリルオキシ基の含量が高
い場合でも混濁しない（メタ）アクリルオキシ官能性液
晶ポリオルガノシロキサン及びこれを含有する組成物を
提供することであつた。更に本発明の課題は、前記の種
類のポリオルガノシロキサンを準備し、これから平滑な
フイルムを製造することであつた。同様に本発明の課題
は高度に三次元的に架橋した透明な液晶ポリオルガノシ
ロキサンを提供することであつた。
い場合でも混濁しない（メタ）アクリルオキシ官能性液
晶ポリオルガノシロキサン及びこれを含有する組成物を
提供することであつた。更に本発明の課題は、前記の種
類のポリオルガノシロキサンを準備し、これから平滑な
フイルムを製造することであつた。同様に本発明の課題
は高度に三次元的に架橋した透明な液晶ポリオルガノシ
ロキサンを提供することであつた。
前記課題は本発明により、各々珪素原子に直接結合した
水素原子を有するオルガノシロキサン及び／又はオルガ
ノシロキサンに縮合可能なオルガノシランをメソゲン基
を有するアルケン及び／又はアルキンと反応させること
によつて、メタクリオキシ−及び／又はアクリルオキシ
基を有する液晶ポリオルガノシロキサンを製造する方法
によつて解決されるが、メタクリルオキシ−及び／又は
アクリルオキシ基を導入するために前記オルガノシロキ
サンを第一工程で自体公知の保護基によつて保護された
非エノール性ヒドロキシル基少なくとも１個を有するア
ルケン及び／又はアルキンと反応させ、第二工程で前記
の保護基を脱離させ、遊離ヒドロキシル基を自体公知の
方法で（メタ）アクリル酸、そのエステル、無水物及び
／又はハロゲン化物でエステル化し、場合によつてオル
ガノシロキサンに縮合可能なオルガノシランを縮合させ
ることを特徴とする。
水素原子を有するオルガノシロキサン及び／又はオルガ
ノシロキサンに縮合可能なオルガノシランをメソゲン基
を有するアルケン及び／又はアルキンと反応させること
によつて、メタクリオキシ−及び／又はアクリルオキシ
基を有する液晶ポリオルガノシロキサンを製造する方法
によつて解決されるが、メタクリルオキシ−及び／又は
アクリルオキシ基を導入するために前記オルガノシロキ
サンを第一工程で自体公知の保護基によつて保護された
非エノール性ヒドロキシル基少なくとも１個を有するア
ルケン及び／又はアルキンと反応させ、第二工程で前記
の保護基を脱離させ、遊離ヒドロキシル基を自体公知の
方法で（メタ）アクリル酸、そのエステル、無水物及び
／又はハロゲン化物でエステル化し、場合によつてオル
ガノシロキサンに縮合可能なオルガノシランを縮合させ
ることを特徴とする。
珪素原子に直接結合した水素原子を有する前記オルガノ
シロキサンには、有利には、式（Ｉ）： 〔RpHqSiO(4-p-q)/2〕 （Ｉ） 〔式中、Ｒは同一又は異なる、置換されていてもよいC1
−〜C18−炭化水素基を表し、ｐは０〜３の整数を表わ
し、平均値1.8〜2.2であり、ｑは１分子当り少なくとも
３個の直接珪素原子と結合した水素原子が存在するよう
に設定された０〜３の整数の表わし、平均値0.1〜1.2で
あり、ｐとｑの合計は最高３である〕の単位から成るよ
うなものが該当する。
シロキサンには、有利には、式（Ｉ）： 〔RpHqSiO(4-p-q)/2〕 （Ｉ） 〔式中、Ｒは同一又は異なる、置換されていてもよいC1
−〜C18−炭化水素基を表し、ｐは０〜３の整数を表わ
し、平均値1.8〜2.2であり、ｑは１分子当り少なくとも
３個の直接珪素原子と結合した水素原子が存在するよう
に設定された０〜３の整数の表わし、平均値0.1〜1.2で
あり、ｐとｑの合計は最高３である〕の単位から成るよ
うなものが該当する。
非置換の基Ｒの例は、アルキル基、例えばメチル−、エ
チル−、ｎ−プロピル−、イソ−プロピル−、ｎ−ブチ
ル−、イソ−ブチル−、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル−、
イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、ｔ−ペンチル
基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘブチル基、
例えばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えばｎ−オクチ
ル基及びイソ−オクチル基、例えば2,2,4−トリメチル
ペンチル基、ノニル基、例えばｎ−ノニル基、デシル
基、例えばｎ−デシル基、ドデシル基、例えばｎ−ドデ
シル基、オクタデシル基、例えばｎ−オクタデシル基；
アルケニル基、例えばビニル−及びアリル基；シクロア
ルキル基、例えばシクロペンチル−、シクロヘキシル
−、シクロヘプチル基及びメチルシクロヘキシル基；ア
リール基、例えばフエニル−、ナフチル−及びアンスリ
ル−及びフエナンスリル基；アルカリール基、例えばｏ
−、ｍ−、ｐ−トリル基、キシリル基及びエチルフエニ
ル基；アラルキル基、例えばベンジル基、α−及びβ−
フエニルエチル基；である。
チル−、ｎ−プロピル−、イソ−プロピル−、ｎ−ブチ
ル−、イソ−ブチル−、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル−、
イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、ｔ−ペンチル
基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘブチル基、
例えばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えばｎ−オクチ
ル基及びイソ−オクチル基、例えば2,2,4−トリメチル
ペンチル基、ノニル基、例えばｎ−ノニル基、デシル
基、例えばｎ−デシル基、ドデシル基、例えばｎ−ドデ
シル基、オクタデシル基、例えばｎ−オクタデシル基；
アルケニル基、例えばビニル−及びアリル基；シクロア
ルキル基、例えばシクロペンチル−、シクロヘキシル
−、シクロヘプチル基及びメチルシクロヘキシル基；ア
リール基、例えばフエニル−、ナフチル−及びアンスリ
ル−及びフエナンスリル基；アルカリール基、例えばｏ
−、ｍ−、ｐ−トリル基、キシリル基及びエチルフエニ
ル基；アラルキル基、例えばベンジル基、α−及びβ−
フエニルエチル基；である。
置換された基Ｒの例は、シアンアルキル基、例えばβ−
シアンエチル基及びハロゲン化炭化水素基、例えばハロ
ゲンアルキル基、例えば3,3,3−トリフルオル−ｎ−プ
ロピル基、2,2,2,2′,2′,2′−ヘキサフルオルイソプ
ロピル基、ヘプタフルオルイソプロピル基及びハロゲン
アリール基、例えばｏ−、ｍ−及びｐ−クロルフエニル
基である。
シアンエチル基及びハロゲン化炭化水素基、例えばハロ
ゲンアルキル基、例えば3,3,3−トリフルオル−ｎ−プ
ロピル基、2,2,2,2′,2′,2′−ヘキサフルオルイソプ
ロピル基、ヘプタフルオルイソプロピル基及びハロゲン
アリール基、例えばｏ−、ｍ−及びｐ−クロルフエニル
基である。
有利にはＲは各々炭素原子１〜18、有利には１〜10個を
有する場合によりハロゲン化された炭化水素基を表す。
有する場合によりハロゲン化された炭化水素基を表す。
特に基ＲとしてC1〜C4アルキル基及びフエニル基、特に
メチル基が有利である。
メチル基が有利である。
式（Ｉ）のシロキサンとしてその単位の少なくとも約90
％が式：〔(CH3)2SiO〕 （II），〔(CH3)HSiO〕 （II
I），〔H(CH3)2SiO1/2〕 （IV）及び〔(CH3)3SiO1/2〕
（Ｖ）のようなものから成るようなものが特に有利であ
る。
％が式：〔(CH3)2SiO〕 （II），〔(CH3)HSiO〕 （II
I），〔H(CH3)2SiO1/2〕 （IV）及び〔(CH3)3SiO1/2〕
（Ｖ）のようなものから成るようなものが特に有利であ
る。
直接珪素原子と結合した水素原子を有する前記のオルガ
ノシロキサンに縮合可能なオルガノシランには、有利に
は、式（VI）： RrHsSiY(4-r-s) （VI） のようなもの又はその混合物が該当するが、その際、式
（VI）中、Ｒは式（Ｉ）に記載したものを表し、Ｙは縮
合可能な基、有利にはC1〜C4−アルコキシ基又はハロゲ
ン原子を表し、ｒは０〜３の整数を表わし、ｓは０〜３
の整数を表わし、少なくとも0.1の平均値であり、ｒと
ｓの合計は最高３である。
ノシロキサンに縮合可能なオルガノシランには、有利に
は、式（VI）： RrHsSiY(4-r-s) （VI） のようなもの又はその混合物が該当するが、その際、式
（VI）中、Ｒは式（Ｉ）に記載したものを表し、Ｙは縮
合可能な基、有利にはC1〜C4−アルコキシ基又はハロゲ
ン原子を表し、ｒは０〜３の整数を表わし、ｓは０〜３
の整数を表わし、少なくとも0.1の平均値であり、ｒと
ｓの合計は最高３である。
有利には、Ｙは塩素原子又はメトキシ−又はエトキシ基
を表す。有利には、ｓの値は最高１である。
を表す。有利には、ｓの値は最高１である。
メソゲン基を有するアルケン又はアルキンとしては、メ
ソゲン基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和
の、メソゲン基を有する化合物をオルガノシラン及びオ
ルガノ（ポリ）シロキサンの珪素原子と直接結合した水
素原子に付加することによつて液晶オルガノ（ポリ）シ
ロキサンを製造するために従来使用することができたよ
うな全ての化合物を使用することができる。
ソゲン基を有するエチレン性又はアセチレン性不飽和
の、メソゲン基を有する化合物をオルガノシラン及びオ
ルガノ（ポリ）シロキサンの珪素原子と直接結合した水
素原子に付加することによつて液晶オルガノ（ポリ）シ
ロキサンを製造するために従来使用することができたよ
うな全ての化合物を使用することができる。
概念「メソゲン基」は、当業界でよく知られている。こ
れは分子中で液晶特性を惹起させるような基である。メ
ソゲン基は、特にデイートリツヒ・デムス（Dietrich D
emus）その他によつて詳説されている〔“フリユーシゲ
・クリスタレ・イン・タベレン（Fiuessige Kristalle
in Tabellen）”、VEBドイチヤー・フエルラーク・フユ
ア・グルンドユトツフインドウストリー（Deuuscher Ve
rlag fuer Grundstoffindustrie）、ライブツイツヒ、1
974〕が、その際、そこに記載されたメソゲン基は本発
明の開示内容に含まれる。
れは分子中で液晶特性を惹起させるような基である。メ
ソゲン基は、特にデイートリツヒ・デムス（Dietrich D
emus）その他によつて詳説されている〔“フリユーシゲ
・クリスタレ・イン・タベレン（Fiuessige Kristalle
in Tabellen）”、VEBドイチヤー・フエルラーク・フユ
ア・グルンドユトツフインドウストリー（Deuuscher Ve
rlag fuer Grundstoffindustrie）、ライブツイツヒ、1
974〕が、その際、そこに記載されたメソゲン基は本発
明の開示内容に含まれる。
メソゲン基の例は、シクロへキサンの誘導体、例えばシ
クロヘキシルカルボン酸シクロヘキシルエステル、シク
ロヘキシルカルボン酸フエニルエステル、シクロヘキシ
ルフエニルエーテル、シクロヘキシルベンゼン、ジシク
ロヘキシル誘導体、スチルベンの誘導体、安息香酸フエ
ニルエステル及びその誘導体、ステロイド、例えばコレ
ステリン、その誘導体、例えばコレステリンエステル、
コレスタン及びその誘導体、ベンジリデンアニリン、ア
ゾベンゼン及びその誘導体、アゾキシベンゼン及びその
誘導体、ビフエニルのアルキル‐及びアルコキシ‐誘導
体、シツフの塩基である。
クロヘキシルカルボン酸シクロヘキシルエステル、シク
ロヘキシルカルボン酸フエニルエステル、シクロヘキシ
ルフエニルエーテル、シクロヘキシルベンゼン、ジシク
ロヘキシル誘導体、スチルベンの誘導体、安息香酸フエ
ニルエステル及びその誘導体、ステロイド、例えばコレ
ステリン、その誘導体、例えばコレステリンエステル、
コレスタン及びその誘導体、ベンジリデンアニリン、ア
ゾベンゼン及びその誘導体、アゾキシベンゼン及びその
誘導体、ビフエニルのアルキル‐及びアルコキシ‐誘導
体、シツフの塩基である。
しばしば使用技術的な理由から、液晶中で高い誘電性の
アニソトロピー作用を獲得するためにメソゲン基が極性
官能基、例えばニトリル基を含有することが望ましい。
アニソトロピー作用を獲得するためにメソゲン基が極性
官能基、例えばニトリル基を含有することが望ましい。
本発明による方法で使用可能なメソゲン基を有するアル
ケン又はアルキンとしては、式（VII）： CnHm-(X1 a-A1 b-A2 c)d-Ze-(-X2 f-A3 g-A4 h-)i-A5 k（VII） 〔式中、ｎは１〜20までの値の整数を表し、ｍは2n−１
又は2n−３を表し、X1及びX2は、−Ｏ−、−COO−、−C
ONH−、−CO−及び−Ｓ−基から成る同一又は異なる２
価の基を表し、A1、A2、A3及びA4は同一又は異なる２価
の基、即ち1,4-フエニレン−、1,4-シクロヘキシレン
基、炭素原子１〜10個を有する置換されたアリーレン、
炭素原子１〜10個を有する置換されたシクロアルキレン
及び炭素原子１〜10個を有するヘテロアリーレンを表
し、Ｚは同一又は異なる２〜４価のベンゾール−、シク
ロヘキサン−又はシクロペンタン基を表し、A5は各々炭
素原子１〜16個を有する同一又は異なる、飽和又はオレ
フイン性不飽和のアルキル−、アルコキシ−又はシクロ
アルキル基、コレスタン基、コレステリール基、ハロゲ
ン原子、水素原子、ヒドロキシル−、ニトリル−及びト
リアルキルシロキシ基（そのアルキル基は各々炭素原子
１〜８個を有する）を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、
ｈ、ｉ及びｋは各々０〜３の値の同一又は異なる整数を
表し、その際、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋
ｋの合計は少なくとも２であり、ｄとｉの合計は最高４
であり、ｅは０又は１の値の数を表す、但し、２価の酸
素原子が直接相互に結合している場合を除く〕のような
ものが有利である。
ケン又はアルキンとしては、式（VII）： CnHm-(X1 a-A1 b-A2 c)d-Ze-(-X2 f-A3 g-A4 h-)i-A5 k（VII） 〔式中、ｎは１〜20までの値の整数を表し、ｍは2n−１
又は2n−３を表し、X1及びX2は、−Ｏ−、−COO−、−C
ONH−、−CO−及び−Ｓ−基から成る同一又は異なる２
価の基を表し、A1、A2、A3及びA4は同一又は異なる２価
の基、即ち1,4-フエニレン−、1,4-シクロヘキシレン
基、炭素原子１〜10個を有する置換されたアリーレン、
炭素原子１〜10個を有する置換されたシクロアルキレン
及び炭素原子１〜10個を有するヘテロアリーレンを表
し、Ｚは同一又は異なる２〜４価のベンゾール−、シク
ロヘキサン−又はシクロペンタン基を表し、A5は各々炭
素原子１〜16個を有する同一又は異なる、飽和又はオレ
フイン性不飽和のアルキル−、アルコキシ−又はシクロ
アルキル基、コレスタン基、コレステリール基、ハロゲ
ン原子、水素原子、ヒドロキシル−、ニトリル−及びト
リアルキルシロキシ基（そのアルキル基は各々炭素原子
１〜８個を有する）を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、
ｈ、ｉ及びｋは各々０〜３の値の同一又は異なる整数を
表し、その際、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋
ｋの合計は少なくとも２であり、ｄとｉの合計は最高４
であり、ｅは０又は１の値の数を表す、但し、２価の酸
素原子が直接相互に結合している場合を除く〕のような
ものが有利である。
基X1及びX2は、対称的に構成されていない場合には、各
々その末端で各々の結合相手と結合していてもよい。即
ち、例えば上記式（VII）及び下記に記載の式中で基−C
OO−は−OOC−として、基−CONH−は−NHCO−としては
結合していてよい。
々その末端で各々の結合相手と結合していてもよい。即
ち、例えば上記式（VII）及び下記に記載の式中で基−C
OO−は−OOC−として、基−CONH−は−NHCO−としては
結合していてよい。
置換されたアリーレン及びシクロアリーレンA1、A2、A3
及びA4の置換分としては、ハロゲン原子、C1〜C4アルコ
キシ基、ニトロ‐及びシアノ基、C1〜C6‐アルキル基、
カルボキシ−（C1〜C4アルキル）−基及びトリ−（C1〜
C4−アルキル）−シロキシ基が有利である。
及びA4の置換分としては、ハロゲン原子、C1〜C4アルコ
キシ基、ニトロ‐及びシアノ基、C1〜C6‐アルキル基、
カルボキシ−（C1〜C4アルキル）−基及びトリ−（C1〜
C4−アルキル）−シロキシ基が有利である。
有利にはｎは２〜５の値を有する。
基A5の例としては、アルキル基、例えばメチル−、エチ
ル−、ｎ−プロピル−、イソ−プロピル−、ｎ−ブチル
−、イソ−ブチル−、ｔ−ブチル−、ｎ−ペンチル−、
イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル、ｔ−ペンチル基、
ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、例え
ばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えばｎ−オクチル基
及びイソ−オクチル基、例えば2,2,4−トリメチルペン
チル基、ノニル基、例えばｎ−ノニル基、デジル基、例
えばｎ−デシル基、ドデシル基、例えばｎ−ドデシル
基、ヘキサデシル基、例えばｎ−ヘキサデシル基；アル
ケニル基、例えばビニル−及びアリル基、ブテニル−、
ペンテニル−、ヘキセニル−、ヘプテニル−、オクテニ
ル−、オクタジエニル−、デセニル−、ドデセニル−及
びヘキサデセニル基；シクロアルキル基、例えば、シク
ロペンチル−、シクロヘキシル−、シクロヘプチル基及
びメチルシクロヘキシル基；アルキルオキシ基、例え
ば、メトキシ−、エトキシ−、ｎ−プロポキシ−、イソ
プロポキシ−、ｎ−、ｓ−及びｔ−ブトキシ基、ペント
キシ基、ヘキソキシ基、オクトキシ−、デコキシ−、ヘ
キサデコキシ基；アルケンオキシ基、例えばアリルオキ
シ基、ブテニルオキシ基、ペンテニルオキシ基、ヘキセ
ニルオキシ基、オクテニルオキシ−、デセニルオキシ−
及びヘキサデセニルオキシ基；シクロアルキル基、例え
ばシクロペンチル−、シクロヘキシル−，シクロヘプチ
ル基；シクロアルケニル基、例えばシクロペンテニル
−、シクロヘキセニル−、及びシクロヘプテニル基；コ
レスタン基；コレステリール基；弗素−、塩素−又は臭
素原子；水素原子；ヒドロキシル−、ニトリル−及びト
リメチルシリル−、トリエチルシリル基である。
ル−、ｎ−プロピル−、イソ−プロピル−、ｎ−ブチル
−、イソ−ブチル−、ｔ−ブチル−、ｎ−ペンチル−、
イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル、ｔ−ペンチル基、
ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、例え
ばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えばｎ−オクチル基
及びイソ−オクチル基、例えば2,2,4−トリメチルペン
チル基、ノニル基、例えばｎ−ノニル基、デジル基、例
えばｎ−デシル基、ドデシル基、例えばｎ−ドデシル
基、ヘキサデシル基、例えばｎ−ヘキサデシル基；アル
ケニル基、例えばビニル−及びアリル基、ブテニル−、
ペンテニル−、ヘキセニル−、ヘプテニル−、オクテニ
ル−、オクタジエニル−、デセニル−、ドデセニル−及
びヘキサデセニル基；シクロアルキル基、例えば、シク
ロペンチル−、シクロヘキシル−、シクロヘプチル基及
びメチルシクロヘキシル基；アルキルオキシ基、例え
ば、メトキシ−、エトキシ−、ｎ−プロポキシ−、イソ
プロポキシ−、ｎ−、ｓ−及びｔ−ブトキシ基、ペント
キシ基、ヘキソキシ基、オクトキシ−、デコキシ−、ヘ
キサデコキシ基；アルケンオキシ基、例えばアリルオキ
シ基、ブテニルオキシ基、ペンテニルオキシ基、ヘキセ
ニルオキシ基、オクテニルオキシ−、デセニルオキシ−
及びヘキサデセニルオキシ基；シクロアルキル基、例え
ばシクロペンチル−、シクロヘキシル−，シクロヘプチ
ル基；シクロアルケニル基、例えばシクロペンテニル
−、シクロヘキセニル−、及びシクロヘプテニル基；コ
レスタン基；コレステリール基；弗素−、塩素−又は臭
素原子；水素原子；ヒドロキシル−、ニトリル−及びト
リメチルシリル−、トリエチルシリル基である。
特に前記式（VII）中のCnHm-(X1 a-A1 b-A2 c)d‐が式（VI
II）： の基を表すことが有利である。
II）： の基を表すことが有利である。
式（VII）の化合物としては、式（IX）： 〔式中、X2、A3、A5、ｆ、ｇ及びｋは式（VII）に記載
したものと同じものを表し、有利にはｆは値１、ｇは値
０又は１、ｋは値１を有する〕のようなものが特に有利
である。
したものと同じものを表し、有利にはｆは値１、ｇは値
０又は１、ｋは値１を有する〕のようなものが特に有利
である。
本発明による方法で自体公知の保護基によつて保護され
た非エノール性ヒドロキシル基少なくとも１個を有する
アルケン及び／又はアルキンとして直接珪素原子と結合
した水素原子を有する有機珪素化合物に付加することが
でき、そのヒドロキシル基を保護基を脱離させた後、エ
ステル化することができるような前記種類の任意の化合
物を使用することができる。
た非エノール性ヒドロキシル基少なくとも１個を有する
アルケン及び／又はアルキンとして直接珪素原子と結合
した水素原子を有する有機珪素化合物に付加することが
でき、そのヒドロキシル基を保護基を脱離させた後、エ
ステル化することができるような前記種類の任意の化合
物を使用することができる。
入手が簡単であることから、アルケンの方がアルキンよ
り有利である。
り有利である。
ヒドロキシル基の保護基は、極めて公知であり、特にホ
ーベン−ベイル（Houben-Weyl）、メトーデン・デル・
オルガニツシエン・ヒエミ−（Methoden der organisch
en Chemie）、第４版、VI/1b巻、アルコホーレ（Alkoho
le）III、ゲオルグ・シーメ・フエルラーク（Georg Thi
eme Verlag）、シユツツツツガルト、735頁に記載され
ている。即ち、ヒドロキシル基の水素原子は例えばｔ−
ブチル−、ベンジル、トリフエニルメチル−、トリアル
キルシリル−、ホルムアルデヒドアセタール−、アセト
アルデヒドアセタール−、O,N−アセタール−、O,O−ア
セタール−、カルボン酸エステル−、例えばクロル酢酸
エステル−、オルトエステル基で置換されていてよい。
保護基の化学的特性は本発明では自体何の役割も演じな
い。保護基は、アルケン及び／又はアルキンを直接珪素
原子と結合した水素に付加する間安定であるが、この反
応後生成物に対して実質的に不活性の条件下で除去する
ことができることが重要である。
ーベン−ベイル（Houben-Weyl）、メトーデン・デル・
オルガニツシエン・ヒエミ−（Methoden der organisch
en Chemie）、第４版、VI/1b巻、アルコホーレ（Alkoho
le）III、ゲオルグ・シーメ・フエルラーク（Georg Thi
eme Verlag）、シユツツツツガルト、735頁に記載され
ている。即ち、ヒドロキシル基の水素原子は例えばｔ−
ブチル−、ベンジル、トリフエニルメチル−、トリアル
キルシリル−、ホルムアルデヒドアセタール−、アセト
アルデヒドアセタール−、O,N−アセタール−、O,O−ア
セタール−、カルボン酸エステル−、例えばクロル酢酸
エステル−、オルトエステル基で置換されていてよい。
保護基の化学的特性は本発明では自体何の役割も演じな
い。保護基は、アルケン及び／又はアルキンを直接珪素
原子と結合した水素に付加する間安定であるが、この反
応後生成物に対して実質的に不活性の条件下で除去する
ことができることが重要である。
本発明の方法では、酸に安定な保護基、特にトリ−（C1
〜C4アルキル）−シリル基、ｔ−ブチル−、トリフエニ
ルメチル−及び蟻酸オルトエステル基、特にトリ−（C1
〜C4−アルキル）−シリル基が有利である。
〜C4アルキル）−シリル基、ｔ−ブチル−、トリフエニ
ルメチル−及び蟻酸オルトエステル基、特にトリ−（C1
〜C4−アルキル）−シリル基が有利である。
自体公知の保護基により保護された非エノール性ヒドロ
キシル基少なくとも１個を有するアルケン及び／又はア
ルキンとしては、特に炭素原子30個までを有し、保護基
により遮断された非エノール性ヒドロキシル基１個を有
するアルケンが特に有利であるが、その際、アルケンは
炭素原子及び水素原子の他になおその他の原子、有利に
は酸素原子を有することができ、この酸素原子は、アル
ケンの炭素鎖をエーテル−及び／又はエステル結合の方
法で遮断することもできる。
キシル基少なくとも１個を有するアルケン及び／又はア
ルキンとしては、特に炭素原子30個までを有し、保護基
により遮断された非エノール性ヒドロキシル基１個を有
するアルケンが特に有利であるが、その際、アルケンは
炭素原子及び水素原子の他になおその他の原子、有利に
は酸素原子を有することができ、この酸素原子は、アル
ケンの炭素鎖をエーテル−及び／又はエステル結合の方
法で遮断することもできる。
遮断されたヒドロキシル基を有するアルケンとして極め
て有利なのは、式（Ｘ）： CH2=CH-R″-O-SiR′3 （Ｘ） 〔式中、Ｒ′は同一又は異なるC1〜C4−アルキル基、有
利にはメチル基を表し、Ｒ″は式（XI）及び（XII）： -CtH2t- （XI）及び -CH2-A1-X1-A2- （XII） （式中、ｔは１〜18の値の整数を表し、A1、A2及びX1は
式（VII）に記載したものを表す）の化合物の基から成
る２価の基を表す〕のようなものである。前記式（VI
I）中、A1及びA2としては特に1,4−フエニレン基が有利
である。
て有利なのは、式（Ｘ）： CH2=CH-R″-O-SiR′3 （Ｘ） 〔式中、Ｒ′は同一又は異なるC1〜C4−アルキル基、有
利にはメチル基を表し、Ｒ″は式（XI）及び（XII）： -CtH2t- （XI）及び -CH2-A1-X1-A2- （XII） （式中、ｔは１〜18の値の整数を表し、A1、A2及びX1は
式（VII）に記載したものを表す）の化合物の基から成
る２価の基を表す〕のようなものである。前記式（VI
I）中、A1及びA2としては特に1,4−フエニレン基が有利
である。
メソゲン基を有するアルケン及び／又はアルキン及び自
体公知の保護基により保護されたヒドロキシル基少なく
とも１個を有するアルケ及び／又はアルキンのオルガノ
シロキサン及び／又はオルガノシランとの本発明による
反応は、有利には白金金属及び／又はその化合物を含有
する触媒の存在で行われる。白金金属及び／又はその化
合物としては、有利には白金及び／又はその化合物であ
る。この場合に、直接Si原子に結合した水素原子を脂肪
族不飽和化合物に付加するためにこれまでも使用された
全ての触媒を使用することができる。この種の触媒の例
は、担体、例えば二酸化珪素、酸化アルミニウム又は活
性炭上に存在していてもよい金属性及び細分状白金、白
金の化合物又は錯体、例えば白金ハロゲン化物、例えば
PtCl4、 H2PtCl6×6H2O、Na2PtCl4×４H2O、白金−オレフイン−
錯体、白金−アルコール−錯体、白金−アルコラート−
錯体、白金−エーテル−錯体、白金−アルデヒト−錯
体、白金−ケトン−錯体（H2PtCl6×6H2O及びシクロヘ
キサノンからの反応生成物を含めて）、白金−ビニルシ
ロキサン錯体、特に検出可能な無機結合ハロゲンを有す
るか又はそれなしの白金−ジビニルテトラメチルジシロ
キサン錯体、ビス−（ガンマ−ピコリン）−白金ジクロ
リド、トリメチレンジピリジン白金ジクロリド、ジシク
ロペンタジエン白金ジクロリド、ジメチルスルホキシド
エチレン白金（II）ジクロリド並びに四塩化白金とオレ
フイン及び第一アミン又は第二アミン又は第一及び第二
アミンとの反応生成物、例えば１−オクテン中に溶解さ
せた四塩化白金とｓ−ブチルアミンから成る反応生成物
又は欧州特許（EP−Ｂ）第110370号明細書によるアンモ
ニウム−白金錯体である。
体公知の保護基により保護されたヒドロキシル基少なく
とも１個を有するアルケ及び／又はアルキンのオルガノ
シロキサン及び／又はオルガノシランとの本発明による
反応は、有利には白金金属及び／又はその化合物を含有
する触媒の存在で行われる。白金金属及び／又はその化
合物としては、有利には白金及び／又はその化合物であ
る。この場合に、直接Si原子に結合した水素原子を脂肪
族不飽和化合物に付加するためにこれまでも使用された
全ての触媒を使用することができる。この種の触媒の例
は、担体、例えば二酸化珪素、酸化アルミニウム又は活
性炭上に存在していてもよい金属性及び細分状白金、白
金の化合物又は錯体、例えば白金ハロゲン化物、例えば
PtCl4、 H2PtCl6×6H2O、Na2PtCl4×４H2O、白金−オレフイン−
錯体、白金−アルコール−錯体、白金−アルコラート−
錯体、白金−エーテル−錯体、白金−アルデヒト−錯
体、白金−ケトン−錯体（H2PtCl6×6H2O及びシクロヘ
キサノンからの反応生成物を含めて）、白金−ビニルシ
ロキサン錯体、特に検出可能な無機結合ハロゲンを有す
るか又はそれなしの白金−ジビニルテトラメチルジシロ
キサン錯体、ビス−（ガンマ−ピコリン）−白金ジクロ
リド、トリメチレンジピリジン白金ジクロリド、ジシク
ロペンタジエン白金ジクロリド、ジメチルスルホキシド
エチレン白金（II）ジクロリド並びに四塩化白金とオレ
フイン及び第一アミン又は第二アミン又は第一及び第二
アミンとの反応生成物、例えば１−オクテン中に溶解さ
せた四塩化白金とｓ−ブチルアミンから成る反応生成物
又は欧州特許（EP−Ｂ）第110370号明細書によるアンモ
ニウム−白金錯体である。
白金触媒は有利には、各々元素白金に換算して及び反応
混合物中に存在する直接珪素原子と結合した水素原子を
有するシラン及び／又はシロキサンの総重量に関して0.
5〜500重量−ppm（100万重量部当りの重量部）、特に２
〜400重量−ppmの量で使用される。
混合物中に存在する直接珪素原子と結合した水素原子を
有するシラン及び／又はシロキサンの総重量に関して0.
5〜500重量−ppm（100万重量部当りの重量部）、特に２
〜400重量−ppmの量で使用される。
各々直接珪素と結合した水素原子を有するオルガノシロ
キサン及び／又はオルガノシロキサンに縮合可能なオル
ガノシランと一方ではメソゲン基を有するアルケン及び
／又はアルキンとの、他方では自体公知の保護基により
保護されたヒドロキシル基との反応は同時にか又は任意
の順序で順次行われる。有利には同時に行われる。
キサン及び／又はオルガノシロキサンに縮合可能なオル
ガノシランと一方ではメソゲン基を有するアルケン及び
／又はアルキンとの、他方では自体公知の保護基により
保護されたヒドロキシル基との反応は同時にか又は任意
の順序で順次行われる。有利には同時に行われる。
前記反応（以下ヒドロシリル化という）は、溶剤なしで
か又は溶剤の存在で行うことができるが、その際、溶剤
の存在が有利である。
か又は溶剤の存在で行うことができるが、その際、溶剤
の存在が有利である。
溶剤を使用する場合には、反応条件下で十分完全に不活
性である溶剤又は溶剤混合物が有利であり、特に0.1MPa
で120℃までの沸点又は沸点範囲を有するようなものが
有利である。この種の溶剤は例は、エーテル、例えばジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル；塩素化された炭
化水素、例えばジクロルメタン、トリクロルメタン、テ
トラクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、トリクロル
エチレン；炭化水素、例えばペンタン、ｎ−ヘキサン、
ヘキサン−異性体混合物、ヘプタン、オクタン、洗浄ベ
ンジン、石油エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン；ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メ
チル−イソブチルケトン；二硫化炭素及びニトロベンゼ
ン又はこれらの溶剤混合物である。
性である溶剤又は溶剤混合物が有利であり、特に0.1MPa
で120℃までの沸点又は沸点範囲を有するようなものが
有利である。この種の溶剤は例は、エーテル、例えばジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル；塩素化された炭
化水素、例えばジクロルメタン、トリクロルメタン、テ
トラクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、トリクロル
エチレン；炭化水素、例えばペンタン、ｎ−ヘキサン、
ヘキサン−異性体混合物、ヘプタン、オクタン、洗浄ベ
ンジン、石油エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン；ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メ
チル−イソブチルケトン；二硫化炭素及びニトロベンゼ
ン又はこれらの溶剤混合物である。
溶剤の記載は、全反応成分がこの中に溶けなければなら
ないということを意味するわけではない。反応は１種又
は数種の反応成分の懸濁液又はエマルジヨン中で実施す
ることもできる。反応は混合間隙（Mischungsluecke）
を有する溶剤混合物中でも実施することができるが、そ
の際混合相のいずれか中にその都度少なくとも一種類の
反応成分が可溶性である。
ないということを意味するわけではない。反応は１種又
は数種の反応成分の懸濁液又はエマルジヨン中で実施す
ることもできる。反応は混合間隙（Mischungsluecke）
を有する溶剤混合物中でも実施することができるが、そ
の際混合相のいずれか中にその都度少なくとも一種類の
反応成分が可溶性である。
ヒドロキシル化は周囲の大気圧で、従つて約0.1MPa（絶
対）で実施することができるが、これより高い圧又は低
い圧で実施することもできる。0.01MPa（絶対）〜1.0MP
a（絶対）、特に0.09MPa（絶対）〜0.11MPa（絶対）の
圧が有利である。
対）で実施することができるが、これより高い圧又は低
い圧で実施することもできる。0.01MPa（絶対）〜1.0MP
a（絶対）、特に0.09MPa（絶対）〜0.11MPa（絶対）の
圧が有利である。
有利には、ヒドロキシル化は、温度０℃〜150℃、特に6
0〜100℃で実施する。
0〜100℃で実施する。
有利には、ヒドロキシル化の際に、珪素原子に直接結合
した水素原子１グラム原子当り式（VII）及び（Ｘ）の
化合物0.1〜10モル、特に0.5〜２モルを使用する。
した水素原子１グラム原子当り式（VII）及び（Ｘ）の
化合物0.1〜10モル、特に0.5〜２モルを使用する。
有利には、式（Ｘ）の化合物は除き、使用される式（VI
I）の化合物対使用される式（Ｘ）の化合物のモル比
は、0.01〜99、特には0.1〜10、殊に0.5〜２である。
I）の化合物対使用される式（Ｘ）の化合物のモル比
は、0.01〜99、特には0.1〜10、殊に0.5〜２である。
ヒドロシリル化の生成物は反応混合物から単離すべきで
はなく、有利には、単離しない。引続く反応工程−保護
基の脱離及びもはや保護されていないヒドロキシル基の
エステル化−は、ヒドロシリル化と同じ反応容器中で実
施する（単槽法）のが有利である。
はなく、有利には、単離しない。引続く反応工程−保護
基の脱離及びもはや保護されていないヒドロキシル基の
エステル化−は、ヒドロシリル化と同じ反応容器中で実
施する（単槽法）のが有利である。
保護基を分離させるための反応条件は、前記の保護基の
種類に左右され、十分よく知られている。特にこれらの
前記ホウベン−ベイルの引用文及びその引用頁に記載さ
れている。前記のように保護基として有利であるトリ−
（C1〜C4−アルキル−）シリル基は有利には酸又は塩基
の触媒下に除去される。酸及び塩基としては残りの部分
の所望の反応生成物に対して十分に不活性であるような
任意の公知酸及び塩基を使用することができる。
種類に左右され、十分よく知られている。特にこれらの
前記ホウベン−ベイルの引用文及びその引用頁に記載さ
れている。前記のように保護基として有利であるトリ−
（C1〜C4−アルキル−）シリル基は有利には酸又は塩基
の触媒下に除去される。酸及び塩基としては残りの部分
の所望の反応生成物に対して十分に不活性であるような
任意の公知酸及び塩基を使用することができる。
酸の例は、ルイスの酸、例えばBF3、AlCl3、TiCl3、SnC
l4、SO3、PCl5、POCl3、FeCl3及びその水和物及びZnC
l2；ブレンステツト酸（Broenstedt Saeure）、例えば
塩酸、臭化水素酸、硫酸、クロルスルホン酸、燐酸、例
えばオルト−、メタ−及びポリ燐酸、硼酸、亜セレン
酸、硝酸、酢酸、プロピオン酸、ハロゲン酢酸、例えば
トリクロル−及びトリフルオル酢酸、酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、酸性イオン交換体、酸性ゼオライト、酸
性活性化漂白土、酸性活性化カーボンブラツク、弗化水
素、塩化水素等である。
l4、SO3、PCl5、POCl3、FeCl3及びその水和物及びZnC
l2；ブレンステツト酸（Broenstedt Saeure）、例えば
塩酸、臭化水素酸、硫酸、クロルスルホン酸、燐酸、例
えばオルト−、メタ−及びポリ燐酸、硼酸、亜セレン
酸、硝酸、酢酸、プロピオン酸、ハロゲン酢酸、例えば
トリクロル−及びトリフルオル酢酸、酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、酸性イオン交換体、酸性ゼオライト、酸
性活性化漂白土、酸性活性化カーボンブラツク、弗化水
素、塩化水素等である。
塩基の例は、ルイスの塩基、例えばアンモニウム、アミ
ン及びシアン化物；ブレンステツト塩基、例えばNaOH、
KOH、CaOH、トリ（C1〜C4−アルキル−）アンモニウム
ヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムヒドロ
キシド、Mg(OH)2、Ca(OH)2、Li、Na、Ｋ、Rb、Cs、Mg、
Ca、Sr及びBaの炭酸塩及び炭化水素酸等である。容易な
人手性によりNaOH及びKOHが塩基として、かつ塩酸及び
硫酸が酸として有利である。塩基は物体で又は溶剤、有
利にはメタノール又はエタノール中に溶かして使用する
ことができる。前記トリアルキルシロキシ基の分離は有
利には高めた温度で、特に30〜150℃、特に60〜90℃の
温度で実施する。0.09〜0.11MPa（絶対）の圧が有利で
ある。
ン及びシアン化物；ブレンステツト塩基、例えばNaOH、
KOH、CaOH、トリ（C1〜C4−アルキル−）アンモニウム
ヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムヒドロ
キシド、Mg(OH)2、Ca(OH)2、Li、Na、Ｋ、Rb、Cs、Mg、
Ca、Sr及びBaの炭酸塩及び炭化水素酸等である。容易な
人手性によりNaOH及びKOHが塩基として、かつ塩酸及び
硫酸が酸として有利である。塩基は物体で又は溶剤、有
利にはメタノール又はエタノール中に溶かして使用する
ことができる。前記トリアルキルシロキシ基の分離は有
利には高めた温度で、特に30〜150℃、特に60〜90℃の
温度で実施する。0.09〜0.11MPa（絶対）の圧が有利で
ある。
有利には、前記トリアルキルシロキシ基の分離の間に反
応混合物から低沸点の成分が除去される。
応混合物から低沸点の成分が除去される。
次のエステル化は、これまでもヒドロキシル基をエステ
ル化するために使用されてきたようなアクリル酸及び／
又はメタクリル酸の任意の誘導体を用いて実施すること
ができる。これらは特にこれらの酸のエステル、無水物
及び／又はハロゲン化物である。有利には前記酸の塩化
物及び無水物、特に無水物である。
ル化するために使用されてきたようなアクリル酸及び／
又はメタクリル酸の任意の誘導体を用いて実施すること
ができる。これらは特にこれらの酸のエステル、無水物
及び／又はハロゲン化物である。有利には前記酸の塩化
物及び無水物、特に無水物である。
有利には、エステル化すべきヒドロキシル基当り（メ
タ）アクリル酸の誘導体0.1〜100当量、特に１〜２当量
を使用する。
タ）アクリル酸の誘導体0.1〜100当量、特に１〜２当量
を使用する。
前記又は下記の反応混合物成分、触媒、溶剤、光重合開
始剤、UV光源等は、全て個々にか又は混合して使用する
ことができる。例えば、その都度、式（Ｉ）、（VI）、
（VII）、（Ｘ）、（XIII）の化合物、白金触媒、溶剤
等を使用することもできるし、その都度前記物質の混合
物もしくは装置を使用することもできる。
始剤、UV光源等は、全て個々にか又は混合して使用する
ことができる。例えば、その都度、式（Ｉ）、（VI）、
（VII）、（Ｘ）、（XIII）の化合物、白金触媒、溶剤
等を使用することもできるし、その都度前記物質の混合
物もしくは装置を使用することもできる。
本方法で式（VI）のオルガノシランを使用する場合に
は、これを引き続いて自体公知の方法により液晶ポリオ
ルガノシロキサンに重縮合することができる。これは、
特に酸、例えば塩酸水溶液との反応によつて行われる。
このような方法は、w.ノル（Noll）著ケミストリー・ア
ンド・テクノロジー・オブ・シリコンズ（Chemistry an
d Technology pf Silicones）、アカデミツク・プレス
（Academic Press、フロリダ州オーランド）、191〜239
頁（1968）中に記載されている。
は、これを引き続いて自体公知の方法により液晶ポリオ
ルガノシロキサンに重縮合することができる。これは、
特に酸、例えば塩酸水溶液との反応によつて行われる。
このような方法は、w.ノル（Noll）著ケミストリー・ア
ンド・テクノロジー・オブ・シリコンズ（Chemistry an
d Technology pf Silicones）、アカデミツク・プレス
（Academic Press、フロリダ州オーランド）、191〜239
頁（1968）中に記載されている。
本発明により、かつ前記の本発明による方法により製造
可能なメタクリルオキシ−及び／又はアクリルオキシ基
を有する液晶ポリオルガノシロキサンを、三次元的に架
橋させることができる。この架橋は、有利には、過酸化
物、UV光又はUV光よりエネルギーに富む電磁線によつて
か又は熱により惹起されるフリーラジカルによつて起こ
すことができる。しかし架橋は、直接珪素原子に結合し
た水素原子を有する架橋により前記白金金属触媒による
接触反応下に生じさせることもできる。特にUV光による
架橋が有利である。
可能なメタクリルオキシ−及び／又はアクリルオキシ基
を有する液晶ポリオルガノシロキサンを、三次元的に架
橋させることができる。この架橋は、有利には、過酸化
物、UV光又はUV光よりエネルギーに富む電磁線によつて
か又は熱により惹起されるフリーラジカルによつて起こ
すことができる。しかし架橋は、直接珪素原子に結合し
た水素原子を有する架橋により前記白金金属触媒による
接触反応下に生じさせることもできる。特にUV光による
架橋が有利である。
ここでUV光とは、波長13nm〜400nm、特に100nm〜400nm
を有する電磁線のことである。UV光による架橋とは、こ
の場合に地上の普通の太陽光線より強い強度のUV光線を
有する光源による架橋である。UV光源としては、200nm
〜400nmの範囲の最大強度を有するようなものが有利で
ある。この種のUVランプは市販されている。
を有する電磁線のことである。UV光による架橋とは、こ
の場合に地上の普通の太陽光線より強い強度のUV光線を
有する光源による架橋である。UV光源としては、200nm
〜400nmの範囲の最大強度を有するようなものが有利で
ある。この種のUVランプは市販されている。
有利には本発明によるUV光によつて架橋可能な組成物は
本発明による液晶オルガノポリシロキサンの他になお式
（XIII）： CH2＝CQ-COO-（Ｒ′）ｕ‐(X1 a-A1 b-A2 c)d-Ze-(-X2 f-
A3 g-A4 h-)i-A6 l （XIII） 〔式中、A6はA5と同じものを表すか又は式：CH2＝CQ−C
OO−（Ｒ′）ｕ−の基であり、Ｑは水素原子又はメチ
ル基を表し、Ｒ′は基-CH2-、-O-CH2-、-O-CH2-CH
2-、-O-CH2-CH2-CH2-から成る同一又は異なる２価の基
であり、ｕは０〜20の値の整数であり、１は０又は１で
あり及びX1、X2、A1、A2、A3、A4、A5、ａ、ｂ、ｃ、
ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ及びｋは式（VII）と同じもの
を表す〕の化合物を含有する。
本発明による液晶オルガノポリシロキサンの他になお式
（XIII）： CH2＝CQ-COO-（Ｒ′）ｕ‐(X1 a-A1 b-A2 c)d-Ze-(-X2 f-
A3 g-A4 h-)i-A6 l （XIII） 〔式中、A6はA5と同じものを表すか又は式：CH2＝CQ−C
OO−（Ｒ′）ｕ−の基であり、Ｑは水素原子又はメチ
ル基を表し、Ｒ′は基-CH2-、-O-CH2-、-O-CH2-CH
2-、-O-CH2-CH2-CH2-から成る同一又は異なる２価の基
であり、ｕは０〜20の値の整数であり、１は０又は１で
あり及びX1、X2、A1、A2、A3、A4、A5、ａ、ｂ、ｃ、
ｄ、ｅ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ及びｋは式（VII）と同じもの
を表す〕の化合物を含有する。
有利には、本発明による、UV光によつて架橋可能な物質
は、式（XIII）の化合物を各々使用される本発明による
液晶オルガノポリシロキサンの重量に対して0.1重量部
〜90重量部、特に５重量部〜50重量部の量で含有する。
は、式（XIII）の化合物を各々使用される本発明による
液晶オルガノポリシロキサンの重量に対して0.1重量部
〜90重量部、特に５重量部〜50重量部の量で含有する。
式（XIII）の化合物は、第一に本発明による組成物の粘
度を低下させるために役立つ。
度を低下させるために役立つ。
式（XIII）の化合物として有利なのは、式（XIV）： 〔式中Ｑは水素原子又はメチル基を表し、X1、X2、A3、
A6、ａ、ｆ、ｇ及び１は式（VII）と同じものを表し、
有利にはｆは値１であり、ａ及びｇは各々０又は１の値
を有する〕のようなものである。
A6、ａ、ｆ、ｇ及び１は式（VII）と同じものを表し、
有利にはｆは値１であり、ａ及びｇは各々０又は１の値
を有する〕のようなものである。
式（XIV）の化合物として有利なのは、４−メタクリオ
キシ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）
フエニルエステル、４−（プロペ−２−エン−１−オキ
シ）安息香酸−（４−メタクリルオキシ−）フエニルエ
ステル、４−（メタクリルオキシ）安息香酸−（４−メ
タクリルオキシ−）フエニルエステル及び４−（プロピ
ル−１−オキシ）安息香酸−（４−メタクリルオキシ）
−フエニルエステルである。
キシ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）
フエニルエステル、４−（プロペ−２−エン−１−オキ
シ）安息香酸−（４−メタクリルオキシ−）フエニルエ
ステル、４−（メタクリルオキシ）安息香酸−（４−メ
タクリルオキシ−）フエニルエステル及び４−（プロピ
ル−１−オキシ）安息香酸−（４−メタクリルオキシ）
−フエニルエステルである。
本発明による組成物は、有利には光重合開始剤及び／又
は光増感剤の存在でUV光によつて架橋させられる。
は光増感剤の存在でUV光によつて架橋させられる。
好適な光重合開始剤及び光増感剤は、各々場合により置
換されたアセトフエノン、プロピオフエノン、ベンゾフ
エノン、アントラキノン、ベンジル、カルバゾール、キ
サントン、チオキサントン、フルオレン、フルオレノ
ン、ベンゾイン、ナフタリンスルホン酸及びベンズアル
デヒド及び桂皮酸である。
換されたアセトフエノン、プロピオフエノン、ベンゾフ
エノン、アントラキノン、ベンジル、カルバゾール、キ
サントン、チオキサントン、フルオレン、フルオレノ
ン、ベンゾイン、ナフタリンスルホン酸及びベンズアル
デヒド及び桂皮酸である。
この例は、フルオレノン、フルオレン、カルバゾール；
アセトフエノン；置換されたアセトフエノン、例えば３
−メチルアセトフエノン、2,2′−ジメトキシ−２−フ
エニルアセトンフエノン、４−メチルアセトフエノン、
３−ブロムアセトフエノン、４−アリルアセトフエノ
ン、ｐ−ジアセチルベンゼン、ｐ−ｔ−ブチルトリクロ
ルアセトフエノン；プロピオフエノン；置換されたプロ
ピオフエノン、例えば、１−〔４−（メチルチオ）フエ
ニル〕−２−モルフオリン−プロパノン−１、ベンゾフ
エノン；置換されたベンゾフエノン、例えばミクラーの
ケトン、３−メトキシベンゾフエノン、4,4′−ジメチ
ルアミノベンゾフエノン、４−メチルベンゾフエノン、
４−クロルベンゾフエノン、4,4′−ジメトキシベンゾ
フエノン、４−クロル−４′−ベンジルベンゾフエノ
ン；キサントン；置換されたキサントン、例えば３−ク
ロルキサントン、3,9−ジクロルキサントン、３−クロ
ル−８−ノニルキサントン；チオキサントン；置換され
たチオキサントン、例えば、イソプロペニルチオキサン
トン；アントラキノン；置換されたアントラキノン、例
えばクロルアントラキノン及びアントラキノン−1,5−
ジスルホン酸ジナトリウム塩；ベンゾイン；置換された
ベンゾイン、例えばベンゾインメチルエーテル；ベンジ
ル;2−ナフタリンスルホニルクロリド；ベンズアルデヒ
ド；桂皮酸である。
アセトフエノン；置換されたアセトフエノン、例えば３
−メチルアセトフエノン、2,2′−ジメトキシ−２−フ
エニルアセトンフエノン、４−メチルアセトフエノン、
３−ブロムアセトフエノン、４−アリルアセトフエノ
ン、ｐ−ジアセチルベンゼン、ｐ−ｔ−ブチルトリクロ
ルアセトフエノン；プロピオフエノン；置換されたプロ
ピオフエノン、例えば、１−〔４−（メチルチオ）フエ
ニル〕−２−モルフオリン−プロパノン−１、ベンゾフ
エノン；置換されたベンゾフエノン、例えばミクラーの
ケトン、３−メトキシベンゾフエノン、4,4′−ジメチ
ルアミノベンゾフエノン、４−メチルベンゾフエノン、
４−クロルベンゾフエノン、4,4′−ジメトキシベンゾ
フエノン、４−クロル−４′−ベンジルベンゾフエノ
ン；キサントン；置換されたキサントン、例えば３−ク
ロルキサントン、3,9−ジクロルキサントン、３−クロ
ル−８−ノニルキサントン；チオキサントン；置換され
たチオキサントン、例えば、イソプロペニルチオキサン
トン；アントラキノン；置換されたアントラキノン、例
えばクロルアントラキノン及びアントラキノン−1,5−
ジスルホン酸ジナトリウム塩；ベンゾイン；置換された
ベンゾイン、例えばベンゾインメチルエーテル；ベンジ
ル;2−ナフタリンスルホニルクロリド；ベンズアルデヒ
ド；桂皮酸である。
光重合開始剤及び／又は光増感剤は本発明による組成物
中で、各々液晶オルガノポリシロキサンの重量に対して
有利には0.01〜10重量％、特に0.5〜５重量％の量で使
用される。
中で、各々液晶オルガノポリシロキサンの重量に対して
有利には0.01〜10重量％、特に0.5〜５重量％の量で使
用される。
更に本発明による組成物に重合禁止剤を、それぞれ組成
物の全量に対して1ppm〜5000ppm、特に100〜1000ppm添
加することが有利である。
物の全量に対して1ppm〜5000ppm、特に100〜1000ppm添
加することが有利である。
重合禁止剤としては、場合により環でC1〜C6−アルキン
基で置換されているか又は１個又は両方のヒドロキシル
基でエステル化されたジヒドロキシベンゼンが有利であ
る。この種の重合禁止剤の例は、ヒドロキノン、ｐ−メ
トキシフエノール及びｐ−ｔ−ブチルベンズカテキンで
ある。同様にキノン誘導体及びニトロソ化合物が重合禁
止剤として有効である。
基で置換されているか又は１個又は両方のヒドロキシル
基でエステル化されたジヒドロキシベンゼンが有利であ
る。この種の重合禁止剤の例は、ヒドロキノン、ｐ−メ
トキシフエノール及びｐ−ｔ−ブチルベンズカテキンで
ある。同様にキノン誘導体及びニトロソ化合物が重合禁
止剤として有効である。
本発明による組成物は、各々組成物の重量に対して50重
量％まで、有利には0.1〜10重量％まで非メソゲン性単
量体及びオリゴマーを含有することができる。この種の
単量体及びオリゴマーの例は、エタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリエチレン−グリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
及びα，ω−ジビニルシロキサンである。
量％まで、有利には0.1〜10重量％まで非メソゲン性単
量体及びオリゴマーを含有することができる。この種の
単量体及びオリゴマーの例は、エタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリエチレン−グリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
及びα，ω−ジビニルシロキサンである。
更に本発明による組成物は、その重量に対して50％ま
で、特に0.01〜30重量％まで充填料を含有することがで
きる。
で、特に0.01〜30重量％まで充填料を含有することがで
きる。
充填料の例は、非強化性填料、即ち50m2/gまでのBET表
面を有する填料、例えば石英、珪藻士、珪酸カルシウ
ム、珪酸ジルコニウム、沸石、金属酸化物粉末、例えば
酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化鉄又は酸化亜鉛又
はその混合酸化物、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、ギ
ブス、窒化珪素、炭化珪素、窒化硼素、ガラス−及びプ
ラスチツク粉末；強化性填料、即ち50m2/gより大きいBE
T表面を有する填料、例えば高熱法で製造された珪酸、
沈降珪酸、カーボンブラツク、例えば炉−及びアセチレ
ンカーボンブラツク及び大きいBET表面の珪素／アルミ
ニウム／混合酸化物；繊維状填料、例えばアスベスト並
びにプラステイツク繊維である。前記填料は例えばオル
ガノシラン又はオルガノシロキサンで処理することによ
つて又はヒドロキシル基をアルコキシ基にエーテル化す
ることによつて、疎水化されていてよい。一種類の填料
を使用することもできるし、少なくとも２種類の填料の
混合物を使用してもよい。
面を有する填料、例えば石英、珪藻士、珪酸カルシウ
ム、珪酸ジルコニウム、沸石、金属酸化物粉末、例えば
酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化鉄又は酸化亜鉛又
はその混合酸化物、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、ギ
ブス、窒化珪素、炭化珪素、窒化硼素、ガラス−及びプ
ラスチツク粉末；強化性填料、即ち50m2/gより大きいBE
T表面を有する填料、例えば高熱法で製造された珪酸、
沈降珪酸、カーボンブラツク、例えば炉−及びアセチレ
ンカーボンブラツク及び大きいBET表面の珪素／アルミ
ニウム／混合酸化物；繊維状填料、例えばアスベスト並
びにプラステイツク繊維である。前記填料は例えばオル
ガノシラン又はオルガノシロキサンで処理することによ
つて又はヒドロキシル基をアルコキシ基にエーテル化す
ることによつて、疎水化されていてよい。一種類の填料
を使用することもできるし、少なくとも２種類の填料の
混合物を使用してもよい。
更に本発明による組成物は、その他の物質、例えば顔
料、柔軟剤、付着助剤、更に重合体、溶剤、乳化剤、防
錆剤、安定剤等、常用の添加物を含有することができ
る。
料、柔軟剤、付着助剤、更に重合体、溶剤、乳化剤、防
錆剤、安定剤等、常用の添加物を含有することができ
る。
有利には本発明による組成物は−20℃〜＋180℃の温度
で、特に＋20℃〜100℃で基板に塗布し、常法で配向さ
せ、例えばドクターにより溶融塗布することによつて又
は電場又は磁場により及び引き続きUVランプの照射によ
り硬化させることによつて架橋させる。
で、特に＋20℃〜100℃で基板に塗布し、常法で配向さ
せ、例えばドクターにより溶融塗布することによつて又
は電場又は磁場により及び引き続きUVランプの照射によ
り硬化させることによつて架橋させる。
本発明による化合物及び組成物の出発物質として、式
（XV）： 〔式中、Ψはコレステリル基又は式： CH2=CH-CH2-の基であり、Ωは式−COO−又は−OCO−の
カルボキシル基であり、Σは水素原子、C1〜C6−トリ−
（炭化水素）シリル基又は式CH2=CQ-CO-の基であり及び
Ｑは水素原子又はメチル基である〕の新規化合物が特に
好適である。
（XV）： 〔式中、Ψはコレステリル基又は式： CH2=CH-CH2-の基であり、Ωは式−COO−又は−OCO−の
カルボキシル基であり、Σは水素原子、C1〜C6−トリ−
（炭化水素）シリル基又は式CH2=CQ-CO-の基であり及び
Ｑは水素原子又はメチル基である〕の新規化合物が特に
好適である。
有利には、式（XV）中Ｑは水素原子を表す。有利には基
ΣはC1〜C6−トリ−（炭化水素）シリル基である場合に
は、トリメチルシリル基を表す。
ΣはC1〜C6−トリ−（炭化水素）シリル基である場合に
は、トリメチルシリル基を表す。
式（XV）の５つの化合物の合成を下記実施例の前に、
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ及びＥとして詳説してある。
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ及びＥとして詳説してある。
この方法で入手される本発明による三次元的に架橋され
た液晶ポリオルガノシロキサンは、物質混合物を分離す
るため、（例えばガス、例えば酸素及び窒素）の膜を製
造するために、及び目的とされる作用物質遊離（例えば
医薬及び農薬の）のために、電磁場の光学的表示（電子
光学）で、コンピユータ分野で、エレクトログラフ法、
ライトモジユレーシヨンの分野で、分極シート、光学フ
イルター、反射器の成分として被覆で、ラツカー顔料と
して及びガス−及び液体クロマトグラフイーの固定相と
して使用することができる。
た液晶ポリオルガノシロキサンは、物質混合物を分離す
るため、（例えばガス、例えば酸素及び窒素）の膜を製
造するために、及び目的とされる作用物質遊離（例えば
医薬及び農薬の）のために、電磁場の光学的表示（電子
光学）で、コンピユータ分野で、エレクトログラフ法、
ライトモジユレーシヨンの分野で、分極シート、光学フ
イルター、反射器の成分として被覆で、ラツカー顔料と
して及びガス−及び液体クロマトグラフイーの固定相と
して使用することができる。
これらは、特に装飾目的用のシート、物質、革、セラミ
ツク、木、金属又はプラスチツクの被覆用に好適であ
る。
ツク、木、金属又はプラスチツクの被覆用に好適であ
る。
次に実施例で特に記載のない限り、 ａ）量は重量であり； ｂ）圧は全て0.10MPa（絶対）； ｃ）温度は全て20℃である。
式（XV）による新規出発化合物の製造： A.4−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸（４
−ヒドロキシフエニル）エステル。無水テトラヒドロフ
ラン400ml中の４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）
安息香酸クロリド〔西ドイツ特許（DE−Ａ）第2944591
号明細書によい製造可能〕78.8g及びヒドロキノン220.0
gの溶液を４時間還流加熱した。濃縮後、生成物をトル
エン及びエタノール（1:1容量部）から再結晶させた。
−ヒドロキシフエニル）エステル。無水テトラヒドロフ
ラン400ml中の４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）
安息香酸クロリド〔西ドイツ特許（DE−Ａ）第2944591
号明細書によい製造可能〕78.8g及びヒドロキノン220.0
gの溶液を４時間還流加熱した。濃縮後、生成物をトル
エン及びエタノール（1:1容量部）から再結晶させた。
融点:146℃。
B.4−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸（４
−トリメチルシロキシフエニル）エステル。
−トリメチルシロキシフエニル）エステル。
無水トルエン200ml中の４−（プロペ−２−エン−１−
オキシ）安息香酸（４−ヒドロキシフエニル）エステル
（Ａにより製造可能）66.0gの溶液に90℃ヘキサメチル
ジシラザン〔ワツカーヒエミー社（Wacher Chemie Gmb
H）、Ｄ−8000ミユンヒエンで市販されている〕30.0gを
滴加し、こうして得られた混合物を２時間還流加熱し
た。混合物の揮発性成分を蒸発除去し、トルエン及びヘ
キサンから再結晶させた。
オキシ）安息香酸（４−ヒドロキシフエニル）エステル
（Ａにより製造可能）66.0gの溶液に90℃ヘキサメチル
ジシラザン〔ワツカーヒエミー社（Wacher Chemie Gmb
H）、Ｄ−8000ミユンヒエンで市販されている〕30.0gを
滴加し、こうして得られた混合物を２時間還流加熱し
た。混合物の揮発性成分を蒸発除去し、トルエン及びヘ
キサンから再結晶させた。
融点:87℃。
C.4−トリメチルシリルオキシ安息香酸−４−（プロペ
−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル。
−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル。
無水トルエン400ml中の４−（プロペ−２−エン−１−
オキシ）フエノール〔ケミカル・アブストラクツ（Chem
ical Abstracts）66巻、46 168b又はそこに引用されて
いる文献により得られる〕75gの溶液に100℃で窒素雰囲
気下で3.5時間以内に４−トリメチルシロキシ安息香酸
クロリド（ケミカル・アブストラクツ95巻、150 756b又
はそこに引用されている文献により得られる）114gを滴
加し、引き続き更に６時間還流加熱した。冷却後、場合
により沈澱する生成物を濾取濾別し、濾液を溶剤から除
去する。生成物は極めて加水分解されやすい油状物とし
て残留した。
オキシ）フエノール〔ケミカル・アブストラクツ（Chem
ical Abstracts）66巻、46 168b又はそこに引用されて
いる文献により得られる〕75gの溶液に100℃で窒素雰囲
気下で3.5時間以内に４−トリメチルシロキシ安息香酸
クロリド（ケミカル・アブストラクツ95巻、150 756b又
はそこに引用されている文献により得られる）114gを滴
加し、引き続き更に６時間還流加熱した。冷却後、場合
により沈澱する生成物を濾取濾別し、濾液を溶剤から除
去する。生成物は極めて加水分解されやすい油状物とし
て残留した。
D.4−メタクリルオキシ安息香酸−４−（プロペ−２−
エン−１−オキシ）フエニルエステル。
エン−１−オキシ）フエニルエステル。
トルエン15ml及びエタノール10ml中の４−トリメチルシ
リルオキシ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オ
キシ）フエニルエステル（Ｃにより製造できる）16.9g
の溶液を１時間還流加熱し、引き続き揮発性成分を真空
中で除去した。残留４−ヒドロキシ安息香酸−４−（プ
ロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル13.3g
を無水メタクリル酸30g及びトルエンスルホン酸1.2gと
一緒にトルエン15ml中に溶かし、１時間100℃に加熱し
た。冷却後生成物をヘキサンを用いて沈澱させ、エタノ
ールから再結晶させた。熱力学的データを第１表にまと
める。
リルオキシ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オ
キシ）フエニルエステル（Ｃにより製造できる）16.9g
の溶液を１時間還流加熱し、引き続き揮発性成分を真空
中で除去した。残留４−ヒドロキシ安息香酸−４−（プ
ロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル13.3g
を無水メタクリル酸30g及びトルエンスルホン酸1.2gと
一緒にトルエン15ml中に溶かし、１時間100℃に加熱し
た。冷却後生成物をヘキサンを用いて沈澱させ、エタノ
ールから再結晶させた。熱力学的データを第１表にまと
める。
E.4−メタクリルオキシ安息香酸コレステリンエステル ４−ヒドロキシ安息香酸コレステリンエステル（ケミカ
ル・アブストラクツ97巻;1505751a、同書93巻:120270e
により得られる）9.5g、無水メタクリル酸5.1g及びｐ−
トルエンスルホン酸0.4gをトルエン15ml中に溶かし、30
分、100℃に加熱した。冷却後生成物をヘキサンを用い
て沈澱させ、エタノールから再結晶させた。熱力学的デ
ータを第１表にまとめる。
ル・アブストラクツ97巻;1505751a、同書93巻:120270e
により得られる）9.5g、無水メタクリル酸5.1g及びｐ−
トルエンスルホン酸0.4gをトルエン15ml中に溶かし、30
分、100℃に加熱した。冷却後生成物をヘキサンを用い
て沈澱させ、エタノールから再結晶させた。熱力学的デ
ータを第１表にまとめる。
例１ アクリル−又はメタクリル酸含有メソゲン側鎖基を有す
るポリオルガノシロキサン ａ）トルエン400ml中の４−（プロペ−２−エン−１−
オキシ）安息香酸コレステリンエステル〔西ドイツ特許
（DE−Ａ）第3110048号明細書により得られる〕259g、
４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸（４−
トリメチルシロキシフエニル）エステル（Ｃにより得ら
れる）162g及びペンタメチルシクロペンタシロキサン5
6.9gをジシクロペンタジエン白金ジクロリド24mgの存在
で１時間及びエタノール50ml中のNaOH1.2gの溶液の添加
後に更に７時間還流煮沸して、シリルエーテルを脱離さ
せた。反応混合物をその1/3の容量まで濃縮し、ｐ−ト
ルエンスルホン酸7.5g及び無水メタクリル酸154gを加
え、１時間100℃に加熱した。揮発性成分を蒸発除去し
た後、塩化メチレン／エタノールから２回再結晶させ
た。物理的及び熱動力学的データを第２表にまとめる。
るポリオルガノシロキサン ａ）トルエン400ml中の４−（プロペ−２−エン−１−
オキシ）安息香酸コレステリンエステル〔西ドイツ特許
（DE−Ａ）第3110048号明細書により得られる〕259g、
４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸（４−
トリメチルシロキシフエニル）エステル（Ｃにより得ら
れる）162g及びペンタメチルシクロペンタシロキサン5
6.9gをジシクロペンタジエン白金ジクロリド24mgの存在
で１時間及びエタノール50ml中のNaOH1.2gの溶液の添加
後に更に７時間還流煮沸して、シリルエーテルを脱離さ
せた。反応混合物をその1/3の容量まで濃縮し、ｐ−ト
ルエンスルホン酸7.5g及び無水メタクリル酸154gを加
え、１時間100℃に加熱した。揮発性成分を蒸発除去し
た後、塩化メチレン／エタノールから２回再結晶させ
た。物理的及び熱動力学的データを第２表にまとめる。
ｂ）トルエン40ml中のヘキサメチルシクロヘキサシロキ
サン1.76g及びジシクロペンタジエン白金ジクロリド3mg
の溶液にトルエン40mlの４−（プロペ−２−エン−１−
オキシ）安息香酸コレステリンエステル（例1a参照）8.
0g及び４−トリメチルシリルオキシ安息香酸−４−（プ
ロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル（Ｃに
より得られる）5.0gを滴加し、引き続き30分間還流下に
煮沸した。エタノール10ml及び水酸化カリウム0.2gの添
加後、20分間還流下に煮沸し、こうしてシリルエールを
脱離させた。引き続き、溶液をその1/3の容量まで濃縮
し、ｐ−トルエンスルホン酸2.0g及び無水メタクリル酸
9.2gを加え、もう１度30分間還流下に煮沸した。粗生成
物を精製するために、トルエン／エタノールから２回再
結晶させた。物理的及び熱動力学的データを第２表にま
とめる。
サン1.76g及びジシクロペンタジエン白金ジクロリド3mg
の溶液にトルエン40mlの４−（プロペ−２−エン−１−
オキシ）安息香酸コレステリンエステル（例1a参照）8.
0g及び４−トリメチルシリルオキシ安息香酸−４−（プ
ロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル（Ｃに
より得られる）5.0gを滴加し、引き続き30分間還流下に
煮沸した。エタノール10ml及び水酸化カリウム0.2gの添
加後、20分間還流下に煮沸し、こうしてシリルエールを
脱離させた。引き続き、溶液をその1/3の容量まで濃縮
し、ｐ−トルエンスルホン酸2.0g及び無水メタクリル酸
9.2gを加え、もう１度30分間還流下に煮沸した。粗生成
物を精製するために、トルエン／エタノールから２回再
結晶させた。物理的及び熱動力学的データを第２表にま
とめる。
ｃ）トルエン60ml中のポリメチル−ヒドロゲン−シロキ
サン（粘度:16mm/s、25℃で）3.33g及びジシクロペンタ
ジエン白金ジクロリド5mgの溶液にトルエン60ml中の４
−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸コレステ
リンエステル（例1a参照）15.2g及び４−トリメチルシ
リルオキシ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オ
キシ）フエニルエステル（Ｃにより得られる）9.5g80℃
でを滴加し、引き続き30分間還流下に加熱した。エタノ
ール10ml及び水酸化カリウム0.2gの添加後、20分間還流
下に煮沸し、こうしてシリルエールを脱離させた。引き
続き、溶液をその1/3の容量まで濃縮し、ｐ−トルエン
スルホン酸2.0g及び無水メタクリル酸8.5gを加え、なお
30分間還流下に加熱した。粗生成物を精製するために、
トルエン／エタノールから２回再結晶させた。物理的及
び熱動力学的データを第２表にまとめる。
サン（粘度:16mm/s、25℃で）3.33g及びジシクロペンタ
ジエン白金ジクロリド5mgの溶液にトルエン60ml中の４
−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸コレステ
リンエステル（例1a参照）15.2g及び４−トリメチルシ
リルオキシ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オ
キシ）フエニルエステル（Ｃにより得られる）9.5g80℃
でを滴加し、引き続き30分間還流下に加熱した。エタノ
ール10ml及び水酸化カリウム0.2gの添加後、20分間還流
下に煮沸し、こうしてシリルエールを脱離させた。引き
続き、溶液をその1/3の容量まで濃縮し、ｐ−トルエン
スルホン酸2.0g及び無水メタクリル酸8.5gを加え、なお
30分間還流下に加熱した。粗生成物を精製するために、
トルエン／エタノールから２回再結晶させた。物理的及
び熱動力学的データを第２表にまとめる。
ｄ）トルエン20ml中の４−（プロペ−２−エン−１−オ
キシ）安息香酸−４−シアノフエニルエステル（ケミカ
ル・アブストラクツ97巻、110 521f又はそこに引用され
た文献により得られる）2.0g、４−トリメチルシリルオ
キシ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）
フエニルエステル（Ｃにより得られる）5.72g、ヘキサ
メチルシクロヘキサシロキサン1.43g及びジシクロペン
タジエン白金ジクロリド2mgの溶液を、30分間還流下に
煮沸した。エタノール10ml及び水酸化カリウム0.2gの添
加後、20分間還流下に煮沸し、こうしてシリルエールを
脱離させた。引き続き、溶液をその1/3の容量まで濃縮
し、ｐ−トルエンスルホン酸2.0g及び無水メタクリル酸
15.4gを加え、もう１度30分間還流下に煮沸した。冷却
後、トルエン／エタノールから２回再結晶させた。物理
的及び熱動力学的データを第２表にまとめる。
キシ）安息香酸−４−シアノフエニルエステル（ケミカ
ル・アブストラクツ97巻、110 521f又はそこに引用され
た文献により得られる）2.0g、４−トリメチルシリルオ
キシ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）
フエニルエステル（Ｃにより得られる）5.72g、ヘキサ
メチルシクロヘキサシロキサン1.43g及びジシクロペン
タジエン白金ジクロリド2mgの溶液を、30分間還流下に
煮沸した。エタノール10ml及び水酸化カリウム0.2gの添
加後、20分間還流下に煮沸し、こうしてシリルエールを
脱離させた。引き続き、溶液をその1/3の容量まで濃縮
し、ｐ−トルエンスルホン酸2.0g及び無水メタクリル酸
15.4gを加え、もう１度30分間還流下に煮沸した。冷却
後、トルエン／エタノールから２回再結晶させた。物理
的及び熱動力学的データを第２表にまとめる。
ｅ）トルエン10ml中の４−（プロペ−２−エン−１−オ
キシ）安息香酸コレステリンエステル（例1a参照）3.28
g、４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸−
（４−,4′−ビフエニル）エステル〔西ドイツ特許（DE
−Ａ）第3110048号明細書により得られる〕4.62g、６−
トリメチルシロキシヘキセン（１−ヘキセノール−６と
ヘキサメチルジシラザンとの反応により得られる）2.28
g、ジシクロペンタジエン白金ジクロリド3mg及びポリメ
チル−ヒドロゲン−シロキサン（平均重合度８）2.20g
の溶液を30分間還流下に煮沸した。シリルエーテルを脱
離させるために、エタノール10ml及び濃HCl1滴を添加
し、混合物を１時間還流し、最後に溶液をその1/3の容
量まで濃縮した。引き続きｐ−トルエンスルホン酸0.15
g及び無水メタクリル酸6.20gを加え、もう１度30分間還
流下に煮沸した。冷却後、トルエン／エタノールから２
回再結晶させた。物理的及び熱動力学的データを第２表
にまとめる。
キシ）安息香酸コレステリンエステル（例1a参照）3.28
g、４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸−
（４−,4′−ビフエニル）エステル〔西ドイツ特許（DE
−Ａ）第3110048号明細書により得られる〕4.62g、６−
トリメチルシロキシヘキセン（１−ヘキセノール−６と
ヘキサメチルジシラザンとの反応により得られる）2.28
g、ジシクロペンタジエン白金ジクロリド3mg及びポリメ
チル−ヒドロゲン−シロキサン（平均重合度８）2.20g
の溶液を30分間還流下に煮沸した。シリルエーテルを脱
離させるために、エタノール10ml及び濃HCl1滴を添加
し、混合物を１時間還流し、最後に溶液をその1/3の容
量まで濃縮した。引き続きｐ−トルエンスルホン酸0.15
g及び無水メタクリル酸6.20gを加え、もう１度30分間還
流下に煮沸した。冷却後、トルエン／エタノールから２
回再結晶させた。物理的及び熱動力学的データを第２表
にまとめる。
例２ 架橋に好適である調製物の製造 ａ）例1aによるメタクリル化された重合体4.0g、４−メ
タクリルオキシ安息香酸コレステリンエステル（Ｅによ
り得られる）1.0g、４−メタクリルオキシ安息香酸−４
−（プロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル
エステル（Ｄにより得られる）1.0g及びｐ−ｔ−ブチル
ブレンツカテキン200ppmを塩化メチレン中に溶かし、濃
縮した。物理的及び熱動力学的データを第３表にまとめ
る。
タクリルオキシ安息香酸コレステリンエステル（Ｅによ
り得られる）1.0g、４−メタクリルオキシ安息香酸−４
−（プロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル
エステル（Ｄにより得られる）1.0g及びｐ−ｔ−ブチル
ブレンツカテキン200ppmを塩化メチレン中に溶かし、濃
縮した。物理的及び熱動力学的データを第３表にまとめ
る。
ｂ）例1cによるメタクリル化された重合体2.0g、４−メ
タクリルオキシ安息香酸コレステリンエステル（Ｅによ
り得られる）0.2g、４−メタクリルオキシ安息香酸−４
−（プロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル
（Ｄにより得られる）0.6g及びｐ−ｔ−ブチルブレンツ
カテキン200ppmを塩化メチレン中に溶かし、濃縮した。
物理的及び熱動力学的データを第３表にまとめる。
タクリルオキシ安息香酸コレステリンエステル（Ｅによ
り得られる）0.2g、４−メタクリルオキシ安息香酸−４
−（プロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル
（Ｄにより得られる）0.6g及びｐ−ｔ−ブチルブレンツ
カテキン200ppmを塩化メチレン中に溶かし、濃縮した。
物理的及び熱動力学的データを第３表にまとめる。
ｃ）例1dによるメタクリル化された重合体2.0g、４−メ
タクリルオキシ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１
−オキシ）フエニルエステル（Ｄにより得られる）0.8g
及びｐ−ｔ−ブチルブレンツカテキン200ppmを塩化メチ
レン中に溶かし、濃縮した。物理的及び熱動力学的デー
タを第３表にまとめる。
タクリルオキシ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１
−オキシ）フエニルエステル（Ｄにより得られる）0.8g
及びｐ−ｔ−ブチルブレンツカテキン200ppmを塩化メチ
レン中に溶かし、濃縮した。物理的及び熱動力学的デー
タを第３表にまとめる。
例３ 例２による混合物又は例1e）によるポリオルガノシロキ
サンに２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フエニ
ル）−２−モルホリンプロパノン−１〔イルガクレ（Ir
gacure）907、チバ−ガイギマリエンベルグ社（Ciba Ge
igy Marienberg GmbH）Ｄ−6140ベンスハイム１〕３重
量％、イソプロペニルチオキサントン〔クアンタクレ
（Quantacure）ITX、ドイチエ シエル ヒエミー社（D
eutsche Shell Chemie GmbH）Ｄ−6236、エツシユボー
ン/Ts〕0.5重量％、ｐ−ｔ−ブチルブレンツカテキン50
0ppm及びヘキサンジオールジメタクリレート５重量％を
添加し、引き続きドクターで80℃でガラス板上に20μの
厚さのフイルムを塗布し、80w/cmの水銀平均圧力ランプ
により生じさせたUV線を３秒間あてた。各々、自体熱い
状態で非粘着性の平滑なフイルムが生じ、これは第４表
のコレステリン相の反射及び混濁を有した。
サンに２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フエニ
ル）−２−モルホリンプロパノン−１〔イルガクレ（Ir
gacure）907、チバ−ガイギマリエンベルグ社（Ciba Ge
igy Marienberg GmbH）Ｄ−6140ベンスハイム１〕３重
量％、イソプロペニルチオキサントン〔クアンタクレ
（Quantacure）ITX、ドイチエ シエル ヒエミー社（D
eutsche Shell Chemie GmbH）Ｄ−6236、エツシユボー
ン/Ts〕0.5重量％、ｐ−ｔ−ブチルブレンツカテキン50
0ppm及びヘキサンジオールジメタクリレート５重量％を
添加し、引き続きドクターで80℃でガラス板上に20μの
厚さのフイルムを塗布し、80w/cmの水銀平均圧力ランプ
により生じさせたUV線を３秒間あてた。各々、自体熱い
状態で非粘着性の平滑なフイルムが生じ、これは第４表
のコレステリン相の反射及び混濁を有した。
比較例 メタアクリル化された液晶ポリオルガノシロキサンの一
工程合成 ａ）４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸コ
レステリンエステル（例1a）参照）2.25g、４−（プロ
ペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸−（４−メトキシ
フエニル）エステル〔西ドイツ特許（DE−Ａ）第311945
9号明細書により得られる〕1.13g、４−メタクリルオキ
シ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）フ
エニルエステル（Ｄにより得られる）0.34g及びテトラ
メチルシクロテトラシロキサン0.60gをトルエン20ml中
に溶かし、ジシクロペンタジエン白金ジクロリド20mgを
加え、還流下に10分間煮沸した。濃縮後、生成物に例４
に記載したように光重合開始剤、反応希釈剤及び禁止剤
を加え、UV光により架橋させた。試料の状態、最高反射
の半値幅及び混濁は第３表に記載してある。試料は、ド
クター塗布する場合に平滑で透明なフイルムを生じた。
工程合成 ａ）４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸コ
レステリンエステル（例1a）参照）2.25g、４−（プロ
ペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸−（４−メトキシ
フエニル）エステル〔西ドイツ特許（DE−Ａ）第311945
9号明細書により得られる〕1.13g、４−メタクリルオキ
シ安息香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）フ
エニルエステル（Ｄにより得られる）0.34g及びテトラ
メチルシクロテトラシロキサン0.60gをトルエン20ml中
に溶かし、ジシクロペンタジエン白金ジクロリド20mgを
加え、還流下に10分間煮沸した。濃縮後、生成物に例４
に記載したように光重合開始剤、反応希釈剤及び禁止剤
を加え、UV光により架橋させた。試料の状態、最高反射
の半値幅及び混濁は第３表に記載してある。試料は、ド
クター塗布する場合に平滑で透明なフイルムを生じた。
ｂ）４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸コ
レステリンエステル2.25g、４−（プロペ−２−エン−
１−オキシ）安息香酸−（４−メトキシフエニル）エス
テル0.85g、４−メタクリルオキシ安息香酸−４−（プ
ロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル0.68g
及びテトラメチルシクロテトラシロキサン0.60gを比較
例1aより反応させ、架橋させ、特性付けした。ドクター
塗布する場合に、平滑で透明なフイルムを生じた。
レステリンエステル2.25g、４−（プロペ−２−エン−
１−オキシ）安息香酸−（４−メトキシフエニル）エス
テル0.85g、４−メタクリルオキシ安息香酸−４−（プ
ロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル0.68g
及びテトラメチルシクロテトラシロキサン0.60gを比較
例1aより反応させ、架橋させ、特性付けした。ドクター
塗布する場合に、平滑で透明なフイルムを生じた。
ｃ）４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸コ
レステリンエステル2.25g、４−（プロペ−２−エン−
１−オキシ）安息香酸−（４−メトキシフエニル）エス
テル0.57g、４−メタクリルオキシ安息香酸−４−（プ
ロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル1.01g
及びテトラメチルシクロテトラシロキサン0.60gを比較
例ａにより反応させ、架橋させ、特性付けした。ドクタ
ー塗布する場合に、若干粗い僅かに混濁したフイルムを
生じた。
レステリンエステル2.25g、４−（プロペ−２−エン−
１−オキシ）安息香酸−（４−メトキシフエニル）エス
テル0.57g、４−メタクリルオキシ安息香酸−４−（プ
ロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル1.01g
及びテトラメチルシクロテトラシロキサン0.60gを比較
例ａにより反応させ、架橋させ、特性付けした。ドクタ
ー塗布する場合に、若干粗い僅かに混濁したフイルムを
生じた。
ｄ）４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸コ
レステリンエステル2.25g、４−（プロペ−２−エン−
１−オキシ）安息香酸−（４−メトキシフエニル）エス
テル0.28g、４−メタクリルオキシ安息香酸−４−（プ
ロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル1.35g
及びテトラメチルシクロテトラシロキサン0.60gを比較
例1aにより反応させ、架橋させ、特性付けした。ドクタ
ー塗布する場合に、粗い混濁したフイルムを生じる。
レステリンエステル2.25g、４−（プロペ−２−エン−
１−オキシ）安息香酸−（４−メトキシフエニル）エス
テル0.28g、４−メタクリルオキシ安息香酸−４−（プ
ロペ−２−エン−１−オキシ）フエニルエステル1.35g
及びテトラメチルシクロテトラシロキサン0.60gを比較
例1aにより反応させ、架橋させ、特性付けした。ドクタ
ー塗布する場合に、粗い混濁したフイルムを生じる。
ｅ）４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）安息香酸コ
レステリンエステル2.25g、４−メタクリルオキシ安息
香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）フエニル
エステル1.69g及びテトラメチルシクロテトラシロキサ
ン0.60gを比較例1aにより反応させ、架橋させ、特性付
けした。ドクター塗布する場合に、非常に粗い混濁した
フイルムを生じる。
レステリンエステル2.25g、４−メタクリルオキシ安息
香酸−４−（プロペ−２−エン−１−オキシ）フエニル
エステル1.69g及びテトラメチルシクロテトラシロキサ
ン0.60gを比較例1aにより反応させ、架橋させ、特性付
けした。ドクター塗布する場合に、非常に粗い混濁した
フイルムを生じる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｊ 9/00 9051−4Ｃ Ｃ０８Ｇ 77/06 ＮＵＢ Ｃ０９Ｋ 19/40 9279−4Ｈ // Ｂ０１Ｊ 20/26 Ｌ 7202−4Ｇ Ｃ０８Ｌ 83/07 ＬＲＲ Ｇ０１Ｎ 30/48 Ｋ 8310−2Ｊ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ (72)発明者 ハンス‐ヨアヒム・ルーカス ドイツ連邦共和国ミユンヘン21・ブルクク マイルシユトラーセ 19 (72)発明者 ライナー・ヴインクラー ドイツ連邦共和国ミユンヘン83・オスカ ー‐マリア‐グラーフ‐リング 24 (72)発明者 フランツ―ハインリツヒ・クロイツアー ドイツ連邦共和国マルチンスリート・ヨー ゼフ‐ゲルステナー‐シユトラーセ 14デ ー
Claims (3)
- 【請求項１】式（Ｉ）： ［RpHqSiO(4-p-q/2)］ （Ｉ） ［式中Ｒは同一又は異なるもので、置換又は非置換のC1
〜C18−炭化水素基を表わし、ｐは０〜３の整数を表わ
し、平均値1.8〜2.2であり、ｑは１分子当り少なくとも
３個の直接珪素原子と結合した水素原子が存在するよう
に設定された０〜３の整数を表わし、平均値0.1〜1.2で
あり、ｐとｑの合計は最高３である］の単位から構成さ
れているオルガノシロキサンとメソゲン基を有する式
（VII）： CnHm-(X1 a-A1 b-A2 c)d-Ze-(-X2 f-A3 g-A4 h-)i-A5 k（VII） ［式中、ｎは１〜20までの値の整数を表わし、ｍは2n−
１又は2n−３の値を表し、X1及びX2は同一又は異なるも
ので、−Ｏ−、−COO−、−CONH−、−CO−及び−Ｓ−
基からの２価の基を表わし、A1、A2、A3及びA4は同一又
は異なる２価の基、即ち1,4−フェニレン、1,4−シクロ
ヘキシレン基、炭素原子１〜10個を有する置換されたア
リーレン、炭素原子１〜10個を有する置換されたシクロ
アルキレン及び炭素原子１〜10個を有するヘテロアリー
レンを表わし、Ｚは同一又は異なる、２〜４価のベンゾ
ール−、シクロヘキサン−又はシクロペンタン基を表わ
し、A5は各々炭素原子１〜16個を有する同一又は異な
る、飽和又はオレフィン性不飽和のアルキル−、アルコ
キシ−又はシクロアルキル基、コレスタン基、コレステ
リール基、ハロゲン原子、水素原子、ヒドロキシル−、
ニトリル−及びトリアルキルシロキシ基（そのアルキル
基は各々炭素原子１〜８個を有する）を表わし、ａ、
ｂ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ及びｋは各々０〜３の値の
同一又は異なる整数を表わし、その際、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ
＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｋの合計は少なくとも２であ
り、ｄとｉの合計は最高４であり、ｅは０又は１の値の
数を表わす、但し、２価の酸素原子が直接相互に結合し
ている場合を除く］のアルケン又はアルキンとの反応に
よりメタクリルオキシ−及び／又はアクリルオキシ基を
有する液晶ポリオルガノシロキサンを製造する場合に、
前記オルガノシロキサンを第１工程でメタクリルオキシ
−及び／又はアクリルオキシ基の導入のために前記アル
ケン及び／又はアルキンと反応させ、この際、式中のｋ
が１であり、A5が保護基としてのｆ−ブチル、ベンジル
−、トリフェニルメチル−、ホルムアルデヒドアセター
ル−、アセトアルデヒドアセタール、O,N−アセター
ル、O,O−アセタール−、カルボン酸エステル−、オル
トエステル基又は炭素原子数１〜８のアルキル基を有す
るトリアルキルシロキシ基により保護されているヒドロ
キシル基を表わすアルケン及び／又はアルキル少なくと
も１種を用い、第２工程で前記の保護基を除去し、次い
で遊離のヒドロキシル基を（メタ）アクリル酸、そのエ
ステル、無水物及び／又はハロゲニドでエステル化する
ことを特徴とする、メタクリルオキシ−及び／又はアク
リルオキシ基を有する液晶ポリオルガノシロキサンの製
法。 - 【請求項２】オルガノシロキサンに縮合可能な、珪素原
子に直接結合した水素原子を有する式（VI）： RrHsSiY(4-r-s) （VI） ［式中Ｒは同一又は異なるもので、置換又は非置換のC1
〜C18−炭素水素基を表わし、ＹはC1〜C4−アルキル基
又はハロゲン原子を表わし、ｒは０〜３の整数を表わ
し、ｓは０〜３の整数を表わし、その平均値は少なくと
も0.1であり、ｒとｓの合計は最大３である］のオルガ
ノシランとメソゲン基を有する、式（VII）： CnHm-(X1 a-A1 b-A2 c)d-Ze-(-X2 f-A3 g-A4 h-)i-A5 k （VI
I） ［式中、ｎは１〜20までの値の整数を表わし、ｍは2n−
１又は2n−３の値を表し、X1及びX2は同一又は異なるも
ので、−Ｏ−、−COO−、−CONH−、−CO−及び−Ｓ−
基からの２価の基を表わし、A1、A2、A3及びA4は同一又
は異なる２価の基、即ち1,4−フェニレン、1,4−シクロ
ヘキシレン基、炭素原子１〜10個を有する置換されたア
リーレン、炭素原子１〜10個を有する置換されたシクロ
アルキレン及び炭素原子１〜10個を有するヘテロアリー
レンを表わし、Ｚは同一又は異なる、２〜４価のベンゾ
ール−、シクロヘキサン−又はシクロペンタン基を表わ
し、A5は各々炭素原子１〜16個を有する同一又は異な
る、飽和又はオレフィン性不飽和のアルキル−、アルコ
キシ−又はシクロアルキル基、コレスタン基、コレステ
リール基、ハロゲン原子、水素原子、ヒドロキシル−、
ニトリル−及びトリアルキルシロキシ基（そのアルキル
基は各々炭素原子１〜８個を有する）を表わし、ａ、
ｂ、ｃ、ｄ、ｆ、ｇ、ｈ、ｉ及びｋは各々０〜３の値の
同一又は異なる整数を表わし、その際、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ
＋ｅ＋ｆ＋ｇ＋ｈ＋ｉ＋ｋの合計は少なくとも２であ
り、ｄとｉの合計は最高４であり、ｅは０又は１の値の
数を表わす、但し、２価の酸素原子が直接相互に結合し
ている場合を除く］のアルケン又はアルキンとの反応に
よりメタクリルオキシ−及び／又はアクリルオキシ基を
有する液晶ポリオルガノシロキサンを製造する場合に、
前記オルガノシランを第１工程で、メタクリルオキシ−
及び／又はアクリルオキシ基の導入のためにアルケン及
び／又はアルキンと反応させ、この際、式中のｋが１で
あり、A5が保護基としてのｔ−ブチル−、ベンジル−、
トリフェニルメチル−、ホルムアルデヒドアセタール
−、アセトアルデヒドアセタール−、O,N−アセター
ル、O,O−アセタール−、カルボン酸エステル−、オル
トエステル基又はトリアルキルシロキシ基（このアルキ
ル基は各々１〜８個の炭素原子を有する）で保護されて
いるヒドロキシル基を表わすアルケン及び／又はアルキ
ンの少なくとも１種を使用し、第２工程で前記の保護基
を除去し、次いで遊離のヒドロキシル基を（メタ）アク
リル酸、そのエステル、無水物及び／又はハロゲニドで
エステル化し、オルガノシランを縮合させてオルガノシ
ロキサンとすることを特徴とする、メタクリルオキシ−
及び／又はアクリルオキシ基を有する液晶ポリオルガノ
シロキサンの製法。 - 【請求項３】式（XV）： ［式中、Ψはコレステリル基又は式：CH2=CH-CH2-の基
であり、Ωは式−COO−又は−OCO−のカルボキシル基で
あり、Σは水素原子、C1〜C6−トリ−（炭化水素）シリ
ル基又は式CH2=CQ-CO-の基であり及びＱは水素原子又は
メチル基である］の化合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3830592A DE3830592A1 (de) | 1988-09-08 | 1988-09-08 | (meth)acryloxygruppen enthaltende fluessigkristalline polyorganosiloxane |
| DE3830592.5 | 1988-09-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02149544A JPH02149544A (ja) | 1990-06-08 |
| JPH06102726B2 true JPH06102726B2 (ja) | 1994-12-14 |
Family
ID=6362562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1230575A Expired - Fee Related JPH06102726B2 (ja) | 1988-09-08 | 1989-09-07 | メタクリルオキシー及び／又はアクリルオキシ基を有する液晶ポリオルガノシロキサンの製法及び製造用出発化合物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5211877A (ja) |
| EP (1) | EP0358208B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06102726B2 (ja) |
| CA (1) | CA1340225C (ja) |
| DE (2) | DE3830592A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2019380C (en) * | 1989-06-22 | 1995-01-10 | Wolfgang Haas | Silylated benzoic acid derivatives |
| US5463492A (en) * | 1991-11-01 | 1995-10-31 | Research Frontiers Incorporated | Light modulating film of improved clarity for a light valve |
| US5463491A (en) * | 1991-11-01 | 1995-10-31 | Research Frontiers Incorporated | Light valve employing a film comprising an encapsulated liquid suspension, and method of making such film |
| JP3246931B2 (ja) * | 1991-11-14 | 2002-01-15 | 出光興産株式会社 | 新規な高分子化合物及びそれを用いた強誘電性液晶組成物 |
| DE4234845A1 (de) * | 1992-10-15 | 1994-04-21 | Consortium Elektrochem Ind | Flüssigkristalline doristerolhaltige Organosiloxane |
| DE4240743A1 (de) * | 1992-12-03 | 1994-06-09 | Consortium Elektrochem Ind | Pigmente mit vom Betrachtungswinkel abhängiger Farbigkeit, ihre Herstellung und Verwendung |
| DE4317704A1 (de) * | 1993-05-27 | 1994-12-01 | Consortium Elektrochem Ind | Chirale Weinsäureimide enthaltende flüssigkristalline Organosiloxane |
| US5662828A (en) * | 1993-07-13 | 1997-09-02 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Compound having unsaturated side chain, process for preparing the same, liquid crystalline polymer prepared from the same, liquid crystal mixture and display element |
| KR100323262B1 (ko) * | 1993-07-13 | 2002-06-20 | 고사이 아끼오 | 불포화측쇄화합물,그제조방법,그로부터제조한액정중합체,액정혼합물및디스플레이소자 |
| DE4328785A1 (de) * | 1993-08-26 | 1995-03-02 | Consortium Elektrochem Ind | Optische Elemente mit abbildender farb- und polarisationsselektiver Reflexion enthaltend cholesterische Flüssigkristalle sowie Herstellung und Verwendung dieser Elemente |
| DE4344308A1 (de) * | 1993-12-23 | 1995-06-29 | Consortium Elektrochem Ind | Polymerisierbare flüssigkristalline Siloxane |
| KR0165729B1 (ko) * | 1994-02-18 | 1999-03-20 | 로베르트 뢰머 | 스틸벤 기재물질, 그 제조방법 및 그 사용 |
| DE4418075C2 (de) * | 1994-05-24 | 2000-06-29 | Daimler Chrysler Ag | Effektlack bzw. Effektlackierung, insbesondere für Fahrzeugkarosserien, unter Verwendung von flüssigkristallinen Interferenzpigmenten |
| WO1995029961A1 (de) * | 1994-04-30 | 1995-11-09 | Wacker Chemie Gmbh | Überzugsmittel mit vom betrachtungswinkel abhängigem farbeindruck und deren einsatz in basislacken für mehrschichtlackierungen |
| US5824733A (en) * | 1994-04-30 | 1998-10-20 | Wacker-Chemie Gmbh | Aqueous coating product and a process for producing multiple layer paint coatings whose perceived color varies with the angle from which they are viewed |
| DE4416191A1 (de) * | 1994-05-06 | 1995-11-09 | Consortium Elektrochem Ind | Interferenzpigmente aus in cholesterischer Anordnung fixierten Molekülen sowie deren Verwendung |
| DE4419239A1 (de) * | 1994-06-01 | 1995-12-07 | Consortium Elektrochem Ind | Optische Elemente mit farb- und polarisationsselektiver Reflexion enthaltend LC-Pigmente sowie Herstellung dieser Elemente |
| US5512376A (en) * | 1994-06-20 | 1996-04-30 | Hercules Incorporated | Nonpolar polymers comprising antiplasticizers |
| US5495037A (en) * | 1994-09-09 | 1996-02-27 | National Science Council | Liquid crystalline polymer having a polysiloxane backbone |
| KR100348674B1 (ko) * | 1994-09-26 | 2002-11-07 | 스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 광학이방체필름,이의제조방법및액정표시장치 |
| DE4438418A1 (de) * | 1994-10-27 | 1996-05-02 | Consortium Elektrochem Ind | Vernetzbare nematische Polyorganosiloxane |
| DE4440209A1 (de) * | 1994-11-10 | 1996-05-15 | Consortium Elektrochem Ind | Verfahren zur Herstellung (Meth)acryloxygruppen enthaltender flüssigkristalliner Polyorganosiloxane |
| DE4441651A1 (de) † | 1994-11-23 | 1996-04-25 | Basf Ag | Verfahren zur oberflächlichen Beschichtung von Substraten |
| DE4442831A1 (de) * | 1994-12-01 | 1996-06-05 | Consortium Elektrochem Ind | Verfahren zur Herstellung von Benzoesäure(4-hydroxyphenylester)-Derivaten |
| DE19502413B4 (de) * | 1995-01-26 | 2009-06-10 | Sicpa Holding S.A. | Pigment mit vom Betrachtungswinkel abhängiger Farbigkeit, dessen Herstellung sowie Verwendung in einem Lack, insbesondere für Kraftfahrzeuge |
| DE19505161A1 (de) * | 1995-02-16 | 1996-08-22 | Daimler Benz Ag | Effektlack bzw. Effektlackierung, insbesondere für Kraftfahrzeugkarosserien |
| DE19541028C2 (de) * | 1995-11-05 | 1998-01-22 | Daimler Benz Ag | Effektlack mit Pigmenten, die eine Kennzeichnung tragen, sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE19541820A1 (de) * | 1995-11-09 | 1997-05-15 | Consortium Elektrochem Ind | Chirale Dianhydrohexit-Derivate enthaltende flüssigkristalline Organosiloxane |
| DE19619460A1 (de) * | 1996-05-14 | 1997-11-20 | Consortium Elektrochem Ind | Flüssigkristallmischungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
| DE19718293A1 (de) * | 1997-04-30 | 1999-03-18 | Consortium Elektrochem Ind | Verfahren zur Herstellung von dreidimensional vernetzten polymeren Materialien mit breiten cholesterischen Reflexionsbanden und nach diesem Verfahren hergestellte Filter, Reflektoren und Polarisatoren |
| DE19726047A1 (de) * | 1997-06-19 | 1998-12-24 | Consortium Elektrochem Ind | Organosiloxane mit niedriger Glastemperatur |
| DE19726051A1 (de) * | 1997-06-19 | 1998-12-24 | Consortium Elektrochem Ind | Verfahren und Verbreiterung cholesterischer Reflexionsbanden von photopolymerisierbaren cholesterischen Flüssigkristallen und optische Elemente hergestellt nach diesem Verfahren |
| DE19737612A1 (de) * | 1997-08-28 | 1999-03-04 | Consortium Elektrochem Ind | Mit dem Auge nicht erkennbare, maschinendetektierbare Sicherheitsmarkierung, Herstellung der Sicherheitsmarkierung und Sicherheitssystem umfassend diese Sicherheitsmarkierung |
| DE19737618A1 (de) | 1997-08-28 | 1999-03-04 | Consortium Elektrochem Ind | Maschinendetektierbare Sicherheitsmarkierung mit erhöhter Fälschungssicherheit, Herstellung der Sicherheitsmarkierung und Sicherheitssystem umfassend diese Sicherheitsmarkierung |
| EP1009776B1 (de) | 1997-09-02 | 2003-12-10 | Basf Aktiengesellschaft | Mehrschichtige cholesterische pigmente |
| DE59807086D1 (de) | 1997-09-02 | 2003-03-06 | Basf Ag | Cholesterische effektschichten und verfahren zu deren herstellung |
| DE19745647A1 (de) | 1997-10-15 | 1999-04-22 | Basf Ag | Wärmeisolationsbeschichtung |
| DE19833258C1 (de) | 1998-07-23 | 1999-10-28 | Consortium Elektrochem Ind | Zu optisch anisotropen Polymerschichten vernetzbare flüssigkristalline nematische Organosiloxane |
| US6231714B1 (en) | 1998-11-24 | 2001-05-15 | Loctite Corporation | Allylic phenyl ether (meth)acrylate compositions and novel allylic phenyl ether (meth)acrylate monomers |
| DE19857691A1 (de) * | 1998-12-14 | 2000-06-15 | Consortium Elektrochem Ind | Flüssig-kristalline Silicone mit erhöhter UV-Beständigkeit |
| DE19903333A1 (de) * | 1999-01-28 | 2000-08-10 | Consortium Elektrochem Ind | Herstellung von alpha, beta-ungesättigte Carbonsäurereste enthaltenden Organosiliciumverbindungen |
| EP1046692B1 (de) | 1999-04-15 | 2002-08-07 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH | Thermostabile Pigmente, Filme und Effektbeschichtungen sowie Mischungen zu deren Herstellung |
| DE19940682A1 (de) * | 1999-08-27 | 2001-03-01 | Basf Ag | Cholesterisches Schichtmaterial mit verbessertem Farbeindruck und Verfahren zu dessen Herstellung |
| DE19940681A1 (de) | 1999-08-27 | 2001-03-01 | Basf Ag | Cholesterisches Schichtmaterial mit verbesserter Farbbeständigkeit und Verfahren zu dessen Herstellung |
| EP1356345A2 (en) * | 2000-06-23 | 2003-10-29 | The University of Akron | Electrically tunable microlens array containing li quid crystals |
| CN1296732C (zh) * | 2002-04-23 | 2007-01-24 | 日东电工株式会社 | 偏振部件,偏振光源及使用其的图像显示装置 |
| US7046443B2 (en) * | 2002-07-24 | 2006-05-16 | Nitto Denko Corporation | Anisotropic light scattering element, anisotropic light scattering polarizing plate using the same, and image display device using the same |
| US7423078B2 (en) | 2002-09-26 | 2008-09-09 | Fujifilm Corporation | Organic-inorganic hybrid material, organic-inorganic hybrid proton-conductive material and fuel cell |
| US6784270B1 (en) | 2002-09-26 | 2004-08-31 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Polymer containing borate and alkynyl groups |
| JP4316973B2 (ja) * | 2002-09-26 | 2009-08-19 | 富士フイルム株式会社 | 有機−無機ハイブリッド型プロトン伝導材料及び燃料電池 |
| DE10251861A1 (de) | 2002-11-07 | 2004-05-19 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH | Polymerisierbare Mischungen |
| JP3736802B2 (ja) * | 2002-11-25 | 2006-01-18 | Ｔｄｋ株式会社 | 導電性組成物とセラミック電子部品 |
| JP4317005B2 (ja) * | 2003-03-25 | 2009-08-19 | 富士フイルム株式会社 | シリカゲル組成物、プロトン交換膜電極膜複合体、及び燃料電池 |
| DE10325610A1 (de) | 2003-06-05 | 2004-12-30 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH | Polymerfilm mit helikaler Molekularstruktur |
| JP2005022292A (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-27 | Nippon Oil Corp | 対象物の識別構造およびその構造が設けられた対象物 |
| US7410677B2 (en) * | 2003-12-12 | 2008-08-12 | Chisso Corporation | Organosilicon compound-containing polymerizable liquid-crystal composition |
| CA2590016C (en) * | 2004-12-16 | 2013-01-15 | Sicpa Holding S.A. | Cholesteric monolayers and monolayer pigments with particular properties, their production and use |
| EP1876216A1 (en) * | 2006-06-27 | 2008-01-09 | Sicpa Holding S.A. | Cholesteric multi-layers |
| TW200811492A (en) * | 2006-07-12 | 2008-03-01 | Nitto Denko Corp | Polarizing plate with optical compensation layer, method of producing the same, and liquid crystal panel, liquid crystal display, and image display including the same |
| US7642332B2 (en) * | 2006-08-14 | 2010-01-05 | The University Of Akron | Amphiphilic networks, process for producing same, and products made therefrom |
| JP4650408B2 (ja) * | 2006-12-19 | 2011-03-16 | ソニー株式会社 | 液晶材料、液晶表示素子及び液晶光空間変調素子 |
| EP2153422B1 (en) | 2007-04-24 | 2019-01-16 | Sicpa Holding Sa | Method of marking a document or item; method and device for identifying the marked document or item; use of circular polarizing particles |
| JP2010525343A (ja) * | 2007-04-24 | 2010-07-22 | シクパ・ホールディング・ソシエテ・アノニム | 書類またはアイテムにマーキングする方法、マーキングされた書類またはアイテムを識別する方法および装置、円偏光粒子の使用法 |
| US8740088B2 (en) | 2008-04-02 | 2014-06-03 | Sicpa Holding Sa | Identification and authentication using liquid crystal material markings |
| PE20100769A1 (es) | 2009-04-02 | 2010-11-25 | Sicpa Holding Sa | Identificacion y autenticacion usando marcados de material de cristal liquido polimerico |
| CA2769036A1 (en) | 2009-07-28 | 2011-02-03 | Sicpa Holding Sa | Transfer foil comprising optically variable magnetic pigment, method of making, use of transfer foil, and article or document comprising such |
| JP5712546B2 (ja) * | 2009-11-18 | 2015-05-07 | Jnc株式会社 | 重合性オキセタン誘導体 |
| US20120219707A1 (en) | 2009-12-24 | 2012-08-30 | Nitto Denko Corporation | Process for production of broad-band cholesteric liquid crystal film |
| TW201312683A (zh) * | 2011-07-01 | 2013-03-16 | Henkel Ag & Co Kgaa | 處理晶圓之方法 |
| DK2697072T3 (en) | 2012-06-11 | 2015-04-20 | Sicpa Holding Sa | PROCESS FOR THE PRESSURE OF tactile SECURITY FEATURES |
| EP2882597B1 (en) | 2012-08-01 | 2017-02-01 | Sicpa Holding SA | Optically variable security threads and stripes |
| CA2880574A1 (en) | 2012-08-29 | 2014-03-06 | Sicpa Holding Sa | Optically variable security threads and stripes |
| US9724957B2 (en) | 2012-11-09 | 2017-08-08 | Sicpa Holding Sa | Irreversibly magnetically induced images or patterns |
| CA2886487C (en) | 2012-12-07 | 2020-05-12 | Sicpa Holding Sa | Oxidatively drying ink compositions |
| US9376606B2 (en) * | 2012-12-27 | 2016-06-28 | Laird Technologies, Inc. | Polymer matrices functionalized with liquid crystals for enhanced thermal conductivity |
| RU2647243C2 (ru) | 2013-05-01 | 2018-03-14 | Сикпа Холдинг Са | Защитные элементы, демонстрирующие динамическое визуальное движение |
| ES2735637T3 (es) | 2013-06-12 | 2019-12-19 | Sicpa Holding Sa | Marcas termosensibles de indicación de manipulación indebida |
| CN104277540A (zh) * | 2013-07-02 | 2015-01-14 | 江苏凯尚节能科技有限公司 | 一种胆固醇液晶液涂料 |
| CN104277505A (zh) * | 2013-07-02 | 2015-01-14 | 南京凯尚信息科技有限公司 | 一种纳米陶瓷液晶液涂料 |
| PL2965920T3 (pl) | 2014-07-09 | 2018-03-30 | Sicpa Holding Sa | Optycznie zmienne magnetyczne nitki zabezpieczające i paski |
| CA2968297C (en) | 2015-01-30 | 2023-07-25 | Sicpa Holding Sa | Simultaneous authentication of a security article and identification of the security article user |
| CA2968298C (en) | 2015-01-30 | 2023-08-15 | Sicpa Holding Sa | Simultaneous authentication of a security article and identification of the security article user |
| UA123007C2 (uk) | 2015-04-10 | 2021-02-03 | Сікпа Холдінг Са | Мобільний портативний пристрій для аутентифікації захищеного виробу та спосіб роботи портативного пристрою для аутентифікації |
| TW201728699A (zh) | 2016-01-29 | 2017-08-16 | 西克帕控股有限公司 | 凹刻印刷磁電機可讀取的氧化乾燥油墨 |
| CN110869451B (zh) | 2017-06-26 | 2022-06-17 | 锡克拜控股有限公司 | 安全特征的印刷 |
| EP3800176A1 (de) | 2018-05-04 | 2021-04-07 | Align Technology, Inc. | Neue polymerisierbare monomere und deren verwendung als reaktivverdünner in härtbaren zusammensetzungen |
| TWI829917B (zh) | 2019-05-28 | 2024-01-21 | 瑞士商西克帕控股有限公司 | 安全性墨水以及機器可讀式安全性特徵 |
| TW202111022A (zh) | 2019-07-30 | 2021-03-16 | 瑞士商西克帕控股有限公司 | 輻射可固化之凹版墨水 |
| JP2023035529A (ja) | 2021-09-01 | 2023-03-13 | 日東電工株式会社 | 高分子分散型液晶フィルムおよび高分子分散型液晶フィルムの製造方法 |
| WO2024008632A1 (en) | 2022-07-06 | 2024-01-11 | Sicpa Holding Sa | Intaglio printing processes for producing security features made of oxidative drying intaglio inks |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2944591A1 (de) * | 1979-11-05 | 1981-05-14 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Fluessigkristalline phasen aufweisende zusammensetzungen |
| US4316041A (en) * | 1980-02-19 | 1982-02-16 | Union Carbide Corporation | Liquid crystal silanes |
| DE3110048A1 (de) * | 1981-03-16 | 1982-09-30 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH, 8000 München | "fluessigkristalline phasen aufweisende zusammensetzungen auf basis cyclischer organopolysiloxane, ihre herstellung und deren verwendung" |
| DE3119459A1 (de) * | 1981-05-15 | 1982-12-09 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH, 8000 München | Fluessig-kristalline eigenschaften aufweisende, vernetzte organopolysiloxane |
| JPS60252486A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-13 | Toray Silicone Co Ltd | 液晶性有機けい素化合物 |
| JPS61213147A (ja) * | 1985-03-18 | 1986-09-22 | 鐘淵化学工業株式会社 | 芳香族ポリエステル系積層体及び液晶表示部品 |
| DE3517615A1 (de) * | 1985-05-15 | 1986-11-20 | Titmus Eurocon Kontaktlinsen GmbH, 8750 Aschaffenburg | Hydrophiler siliconkautschukkoerper und verfahren zu seiner herstellung |
| EP0266895A3 (en) * | 1986-10-03 | 1990-03-07 | Dow Corning Corporation | Dioxolane, diol and diacrylate silicon compounds and method for their preparation and use |
| US4908228A (en) * | 1986-10-03 | 1990-03-13 | Dow Corning Corporation | Dioxolane, diol and diacrylate silicon compounds and method for their preparation and use |
| JPH01271431A (ja) * | 1988-04-22 | 1989-10-30 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 液晶性オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-09-08 DE DE3830592A patent/DE3830592A1/de not_active Withdrawn
-
1989
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| Publication number | Publication date |
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