JPH0583395B2

JPH0583395B2 -

Info

Publication number: JPH0583395B2
Application number: JP59198299A
Authority: JP
Inventors: Noryoshi Nanba; Shigeru Asami; Toshiki Aoi; Kazuo Takahashi; Akihiko Kuroiwa
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1984-09-21
Filing date: 1984-09-21
Publication date: 1993-11-25
Also published as: JPS6174890A

Description

【発明の詳細な説明】発明の背景技術分野本発明は、光記録媒体および光記録方法、特に
ヒートモードの光記録媒体および光記録方法に関
する。先行技術光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出し
ヘツドが非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化
しないという特徴をもち、このため、種々の光記
録媒体の開発研究が行われている。このような光記録媒体のうち、暗室による現像
処理が不要である等の点で、ヒートモード光記録
媒体の開発が活発になつている。このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱
として利用する光記録媒体であり、その１例とし
て、レーザー等の記録光で媒体の一部を融解、除
去等して、ピツトと称される小穴を形成して書き
込みを行い、このピツトにより情報を記録し、こ
のピツトを読み出し光で検出して読み出しを行う
ピツト形成タイプのものがある。このようなピツト形成タイプの媒体、特にその
うち、装置を小型化できる半導体レーザーを光源
とするものにおいては、これまで、Teを主体と
する材料を記録層とするものが大半をしめてい
る。しかし、近年、Te系材料が有害であること、
そしてより高感度化する必要があること、より製
造コストを安価にする必要があることから、Te
系にかえ、色素を主とした有機材料系の記録層を
用いる媒体についての提案や報告が増加してい
る。例えば、He−Neレーザー用としては、スクラ
リリウム色素〔特開昭56−46221号 V.B.Jipson
and C.R.Jones，J.Vac.Sci.Technol.，18(1)105
（1981）〕や、金属フタロシアニン色素（特開昭57
−82094号、同57−82095号）などを用いるものが
ある。また、金属フタロシアニン色素を半導体レーザ
ー用として使用した例（特開昭56−86795号）も
ある。これらは、いずれも色素を蒸着により記録層薄
膜としたものであり、媒体製造上、Te系と大差
はない。しかし、色素蒸着膜のレーザーに対する反射率
は一般に小さく、反射光量のピツトによる変化
（減少）によつて読み出し信号をうる、現在行わ
れている通常の方式では、大きなＳ／Ｎ比をうる
ことができない。また、記録層を担持した透明基体を、記録層が
対向するようにして一体化した、いわゆるエアー
サンドイツチ構造の媒体とし、基体をとおして書
き込みおよび読み出しを行うと、書き込み感度を
下げずに記録層の保護ができ、かつ記録密度も大
きくなる点で有利であるが、このような記録再生
方式も、色素蒸着膜では不可能である。これは、通常の透明樹脂製基体では、屈折率が
ある程度の値をもち（ポリメチルメタクリレート
1.5）、また、表面反射率がある程度大きく（同４
％）、記録層の基体をとおしての反射率が、例え
ばポリメチルメタクリレートでは60％程度以下に
なるため、低い反射率しか示さない記録層では検
出できないからである。色素蒸着膜からなる記録層の、読み出しのＳ／
Ｎ比を向上させるためには、通常、基体と記録層
との間に、Al等の蒸着反射膜を介在させている。この場合、蒸着反射膜は、反射率を上げてＳ／
Ｎ比を向上させるためのものであり、ピツト形成
により反射膜が露出して反射率が増大したり、あ
るいは場合によつては、反射膜を除去して反射率
を減少させるものであるが、当然のことながら、
基体をとおしての記録再生はできない。同様に、特開昭55−161690号には、IR−132色
素（コダツク社製）とポリ酢酸ビニルとからなる
記録層、また、特開昭57−74845号には、１，
1′−ジエチル−２，2′−トリカルボシアニンイオ
ダイドとニトロセルロースとからなる記録層、さ
らにはK.Y.Law，eT al.，Appl.Phys.Lett.39(9)
718（1981）には、３，3′−ジエチル−12−アセチ
ルチアテトラカルボシアニンとポリ酢酸ビニルと
からなる記録層など、色素と樹脂とからなる記録
層を塗布法によつて設層した媒体が開示されてい
る。しかし、これらの場合にも、基体と記録層との
間に反射膜を必要としており、基体裏面側からの
記録再生ができない点で、色素蒸着膜の場合と同
様の欠点をもつ。このように、基体をとおしての記録再生が可能
であり、Te系材料からなる記録層をもつ媒体と
の互換性を有する、有機材料系の記録層をもつ媒
体を実現するには、有機材料自身が大きな反射率
を示す必要がある。しかし、従来、反射層を積層せずに、有機材料
の単層にて高い反射率を示す例はきわめて少な
い。わずかに、バナジルフタロシアニンの蒸着膜が
高反射率を示す旨が報告〔P.Kivits，etaL.，
AppL.Phys.Part Ａ26(2)101（1981）、特開昭55−
97033号〕されているが、おそらく昇華温度が高
いためであろうと思われるが、書き込み感度が低
い。また、チアゾール系やキノリン系等のシアニン
色素やメロシアニン色素が報告〔山本他、第27回
応用物理学会予稿集 1p−Ｐ−９（1980）〕さ
れており、これにもとづく提案が特開昭58−
112790号になされているが、これら色素は、特に
塗膜として設層したときに、溶剤に対する溶解度
が小さく、また結晶化しやすく、さらには読み出
し光に対してきわめて不安定でただちに脱色して
しまい、実用に供しえない。このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、
溶剤に対する溶解度が高く、結晶化も少なく、か
つ熱的に安定であつて、塗膜の反射率が高いイン
ドレニン系のシアニン色素を単層膜として用いる
旨を提案している（特願昭57−134339号、同57−
134170号）。また、インドレニン系、あるいはチアゾール
系、キノリン系、セレナゾール系等の他のシアニ
ン色素においても、長鎖アルキル基を分子中に導
入して、溶解性の改善と結晶化の防止がはかられ
ることを提案している（特願昭57−182589号、同
57−177776号等）。さらに、光安定性をまし、特に読み出し光によ
る脱色（再生劣化）を防止するために、シアニン
色素に遷移金属化合物クエンチヤーを添加する旨
の提案を行つている（特願昭57−166832号、同57
−168048号等）。さらには、色素とクエンチヤーとのイオン結合
体を形成し、これにより再生劣化をより減少し、
かつ安定性を高める旨の提案も行つている（特願
昭59−14848号、同59−18878号、同59−19715
号）。ところで、色素または色素組成物からなる光記
録膜は光照射と同時にピツトが形成されてしま
い、その後の照射光は最もエネルギーの集中して
いる中央部で吸収されなくなる。従つて、エネル
ギーの利用効率が低く感度がある値以上に向上し
ない原因となつている。そこで、本発明者らは、先に、ケイ素系縮合物
のコロイド粒子分散液塗膜などの光融点の膜を表
面層として設層して、一定時間の照射光に対して
ピツトを形成しないようにし、十分な温度にまで
上昇するのを待つて、一気にピツト形成をおこさ
せ、感度を向上させる旨を提供している（特願昭
59−62386号等）。しかし、このような場合、一気にピツト形成が
おこる結果、感度は向上するが、同時に表面層が
破砕して飛散り、これが他のトラツクに飛散して
Ｓ／Ｎ比を低下させたり、エラーラートを大きく
したりする不都合が生じる場合があることが判明
した。発明の目的本発明の目的は、色素または色素組成物からな
る記録層を有する光記録媒体において、その表面
層を改良して、感度が高く、しかもＳ／Ｎ比が高
く、かつエラーレートの少ないものにすることに
ある。発明の開示このような目的は、下記の本発明によつて達成
される。すなわち第１の発明は、基体上に、直接または
下地層を介して色素または色素組成物からなる記
録層を有し、この記録層上に表面層を有する光記
録媒体において、表面層が、記録層より高融点の
無機膜の第１表面層と、この第１表面層上に積層
した高分子膜とを有することを特徴とする光記録
媒体である。また第２の発明は、基体上に、直接または下地
層を介して色素または色素組成物からなる記録層
を有し、この記録層上に表面層を有する光記録媒
体にレーザ光を照射して光記録を行うに際し、前
記表面層として、記録層より高融点の無機膜の第
１表面層と、この第１表面層上に積層した高分子
膜とを設け、前記第１表面層により十分なエネル
ギーを吸収できるまで記録層への記録が行われな
いようにして感度を向上させるとともに、前記高
分子膜により記録時の破砕片の飛び散りを防止す
る光記録方法である。発明の具体的構成以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。本発明の光記録媒体の記録層中には色素が含有
される。用いる色素には特に制限はなく、シアニン系、
フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、テトラ
デヒドロコリンないしテトラデヒドロコロール
系、アントラキノン系、アゾ系、トリフエニルメ
タン系、ビリリウムないしチアビリリウム塩素系
等の色素はいずれも使用可能である。このような中で、本発明による効果が大きいの
は、第１にシアニン色素である。シアニン色素の中では下記色素〔〕で示され
るものが好ましい。式〔〕 Φ−Ｌ＝Ψ （X^-）ｍ上記式〔〕において、ΨおよびΦは、芳香族
環、例えばベンゼン環、ナフタレン環、フエナン
トレン環等が縮合してもよいインドール環、チア
ゾール環、オキサゾール環、セレナゾール環、イ
ミダゾール環、ピリジン環等をあらわす。これらΦおよびΨは、同一でも異なつていても
よいが、通常は同一のものであり、これらの環に
は、種々の置換基が結合していてもよい。なお、
Φは、環中の窒素原子が＋電荷をもち、Ψは、環
中の窒素原子が中性のものである。これらのΦおよびΨの骨格環としては、下記式
〔Φ〕〜〔Φ〕で示されるものであること
が好ましい。なお、下記においては、構造はΦの形で示され
る。

【化】

【化】このような各種環において、環中の窒素原子
（イミダゾール環では２個の窒素原子）に結合す
る基R₁（R₁，R₁′）は、置換または非置換のアル
キル基またはアリール基である。このような環中の、窒素原子に結合する基R₁，
R₁′の炭素原子数には、特に制限はない。また、
この基がさらに置換基を有するものである場合、
置換基としては、スルホン酸基、アルキルカルボ
ニルオキシ基、アルキルアミド基、アルキルスル
ホンアミド基、アルコキシカルボニル基、アルキ
ルアミノ基、アルキルカルバモイル基、アルキル
スルフアモイル基、水酸基、アルボキシ基、ハロ
ゲン原子等いずれであつてもよい。なお、後述のｍが０である場合、Φ中の窒素原
子に結合する基R₁は、置換アルキルまたはアリ
ール基であり、かつ−電荷をもつ。さらに、ΦおよびΨの環が、縮合ないし非縮合
のインドール環（式〔Φ〕〜〔Φ〕）である
場合、その３位には、２つの置換基R₂，R₃が結
合することが好ましい。この場合、３位に結合す
る２つの置換基R₂，R₃としては、アルキル基ま
たはアリール基であることが好ましい。そして、
これらのうちでは、炭素原子数１または２、特に
１の非置換アルキル基であることが好ましい。一方、ΦおよびΨで表わされる環中の所定の位
置には、さらに他の置換基R₄が結合していても
よい。このような置換基としては、アルキル基、
アリール基、複素環残基、ハロゲン原子、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、アルキルカルボニル基、アリールカ
ルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アリ
ーロキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキ
シ基、アリールカルボニルオキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基、アルキルカルバモイ
ル基、アリールカルバモイル基、アルキルアミノ
基、アリールアミノ基、カルボン酸基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、アルキル
スホンアミド基、アリールスルホンアミド基、ア
ルキルスルフアモイル基、アリールスルフアモイ
ル基、シアノ基、ニトロ基等、種々の置換基であ
つてよい。そして、これらの置換基の数（ｐ，ｑ，ｒ，
ｓ，ｔ）は、通常、０または１〜４程度とされ
る。なお、ｐ，ｑ，ｒ，ｓ，ｔが２以上であると
き、複数のR₄は互いに異なるものであつてよい。なお、これらのうちでは、式式〔Φ〕〜〔Φ
〕の縮合ないし非縮合のインドール環を有する
ものが好ましい。これらは溶剤に対する溶解度、
塗膜性、安定性にすぐれ、きわめて高い反射率を
示し、読み出しのＳ／Ｎ非がきわめて高くなるの
である。他方、Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカル
ボシアニン色素を形成するための連結基を表わす
が、特に式〔Ｌ〕〜〔Ｌ〕のいずれかである
ことが好ましい。

【化】

【式】

【式】ここに、Ｙは、水素原子または１価の基を表わ
す。この場合、１価の基としては、メチル基等の
低級アルキル基、メトキシ基等の低級アルコキシ
基、ジメチルアミノ基、ジフエニルアミノ基、メ
チルフエニルアミノ基、モルホリノ基、イミダゾ
リジン基、エトキシカルボニルピペラジン基など
のジ置換アミノ基、アセトキシ基等のアルキルカ
ルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキルチ
オ基、シアノ基、ニトロ基、Br，Cl等のハロゲ
ン原子などであることが好ましい。なお、これら式〔Ｌ〕〜〔Ｌ〕の中では、
トリカルボシアニン連結基、特に式〔Ｌ〕、〔Ｌ
〕が好ましい。さらに、X^-は陰イオンであり、その好ましい
例としては、 I^-，Br^-，ClO₄ ^-，BF₄ ^-，

【式】

【式】等を挙げることができる。なお、ｍは０または１であるが、ｍが０である
ときには、通常、ΦのR₁が−電荷をもち、分子
内塩となる。次に、本発明のシアニン色素の具体例を挙げる
が、本発明はこれらのみに限定されるものではな
い。

【表】

【表】さらに、本発明による効果が大きいのは、第２
にフタロシアニン色素である。用いるフタロシアニンには、特に制限はなく、
中心原子としては、Cu，Fe，Co，Ｎ，In，Ga，
Al，InCl，InBr，InI，GaCl，GaBr，GaI，
AlCl，AlBr，Ti，Tio，Si，Ge，Ｈ，H₂，Pb，
Vo，Mn，Sn等が可能である。また、フタロシアニンのベンゼン環には、直接
または適当な連結基を介して、−OH、ハロゲン、
−COOH，NH₂，−CoCl，−COOR′，−OCOR′（た
だし、R′は各種アルキルないしアリール等）、−
SO₂Cl，−SO₃Ｈ，−CONH₂，−CN，−NO₂，−
SCN，−SH，−CH₂Cl等の種々の置換基が結合し
たものであつてよい。次に、本発明の光吸収色素の具体例を挙げる
が、本発明はこれらのみに限定されるものではな
い。このような色素は、大有機化学（朝倉書店）含
窒素複素環化合物 432ページ等に記載された
方法に準じて容易に合成することができる。すなわち、まず対応するΦ′−CH₃（Φ′は前記Φ
に対応する環を表わす。）を、過剰のR₁（R₁は
アルキル基またはアリール基）とともに加熱し
て、R₁をΦ′中の窒素原子に導入してΦ−CH₃ ^-
を得る。次いで、これを、不飽和ジアルデヒド、
不飽和ヒドロキシアルデヒド、ペンタジエンジア
ルまたはイソホロンなどと、ピペリジン、トリア
ルキルアミンなどアルカリ触媒または無水酢酸等
を用いて脱水縮合すればよい。このような色素は、単独で記録層を形成するこ
ともできる。あるいは樹脂とともに記録層を形成する。用いる樹脂としては、自己酸化性のもの、ある
いは熱可塑性樹脂が好適である。記録層に含有される自己酸化性の樹脂は、昇温
したとき、酸化的な分解を生じるものであるが、
これらのうち、特にニトロセルロースが好適であ
る。また、熱可塑性樹脂は、記録光を吸収した色素
の昇温により軟化するものであり、熱可塑性樹脂
としては、公知の種々のものを用いることができ
る。これらのうち、特に好適に用いることができる
熱可塑性樹脂には、以下のようなものがある。ポリオレフインポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メチ
ルペンテン−１など。ポリオレフイン共重合体例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−
アクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重
合体、エチレン−プテン−１共重合体、エチレン
−無水マレイン酸共重合体、エチレンプロピレン
ターポリマー（EPT）など。この場合、コモノマーの重合比は任意のものと
することができる。塩化ビニル共重合体例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩
化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
−無水マレイン酸共重合体、アクリル酸エステル
ないしメタアクリル酸エステルと塩化ビニルとの
共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニル共重合
体、塩化ビニルエーテル共重合体、エチレンない
しプロピレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−
酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。この場合、共重合比は任意のものとすることが
できる。塩化ビニリデン共重合体塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビ
ニリデン−塩化ビニル−アクリロニトリル共重合
体、塩化ビニリデン−ブタジエン−ハロゲン化ビ
ニル共重合体など。この場合、共重合比は、任意のものとすること
ができる。ポリスチレンスチレン共重合体例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体
（AS樹脂）、スチレン−アクリロニトリル−ブタ
ジエン共重合体（ABS樹脂）、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体（SMA樹脂）、スチレン−アク
リル酸エステル−アクリルアミド共重合体、スチ
レン−ブタジエン共重合体（SBR）、スチレン−
塩化ビニリデン共重合体、スチレン−メチルメタ
アクリレート共重合体など。この場合、共重合比は任意のものとすることが
できる。スチレン型重合体例えば、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチ
レン、２，５−ジクロルスチレン、α，β−ビニ
ルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセナフテ
ン、ビニルアントラセンなど、あるいはこれらの
共重合体、例えば、α−メチルスチレンとメタク
リル酸エステルとの共重合体。クマロン−インデン樹脂クマロン−インデン−スチレンの共重合体。テルペン樹脂ないしピコライト例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重
合体であるテルペン樹脂や、β−ピネンから得ら
れるピコライト。アクリル樹脂特に下記式で示される原子団を含むものが好ま
しい。

【式】上記式において、R₁₀は、水素原子またはアル
キル基を表わし、R₂₀は、置換または非置換のア
ルキル基を表わす。この場合、上記式において、
R₁₀は、水素原子または炭素原子数１〜４の低級
アルキル基、特に水素原子またはメチル基である
ことが好ましい。また、R₂₀は、置換、非置換い
ずれのアルキル基であつてもよいが、アルキル基
の炭素原子数は１〜８であることが好ましく、ま
た、R₂₀が置換アルキル基であるときには、アル
キル基を置換する置換基は、水酸基、ハロゲン原
子またはアミノ基（特に、ジアルキルアミノ基）
であることが好ましい。このような上記式で示される原子団は、他のく
りかえし原子団とともに、共重合体を形成して各
種アクリル樹脂を構成してもよいが、通常は、上
記気で示される原子団の１種または２種以上をく
りかえし単位とする単独重合体または共重合体を
形成してアクリル樹脂を構成することになる。ポリアクリロニトリルアクリロニトリル共重合体例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合
体、アクリロニトリル−塩化ビニル共重合体、ア
クリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニ
トリル−塩化ビニリデン共重合体、アクリロニト
リル−ビニルピリジン共重合体、アクリロニトリ
ル−メタクリル酸メチル共重合体、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−
アクリル酸ブチル共重合体など。この場合、共重合比は任意のものとすることが
できる。ダイアセトンアクリルアミドポリマーアクリロニトリルにアセトンを作用させたダイ
アセトンアクリルアミドポリマー。ポリ酢酸ビニル酢酸ビニル共重合体例えば、アクリル酸エステル、ビニルエーテ
ル、エチレン、塩化ビニル等との共重合体など。共重合比は任意のものであつてよい。ポリビニルエーテル例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニ
ルエチルエーテル、ポリビニルブチルエーテルな
ど。ポリアミドこの場合、ポリアミドとしては、ナイロン６、
ナイロン６−６、ナイロン６−10、ナイロン６−
12、ナイロン９、ナイロン11、ナイロン12、ナイ
ロン13等の通常のホモナイロンの他、ナイロン
６／６−６／６−10、ナイロン６／６−６／12、
ナイロン６／６−６／11等の重合体や、場合によ
つては変性ナイロンであつてもよい。ポリエステル例えば、シユウ酸、コハク酸、マレイン酸、ア
ジピン酸、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あ
るいはイソフタル酸、テレフタル酸などの芳香族
二塩基酸などの各種二塩基酸と、エチレングリコ
ール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレ
ングリコール等のグリコール類との縮合物や、共
縮合物が好適である。そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩基
酸とグリコール類との縮合物や、グリコール類と
脂肪族二塩基酸との共縮合物は、特に好適であ
る。さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリンと
の縮合物であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天然
樹脂等でエステル化変性した変性グリプタル樹脂
等も好適に使用される。ポリビニルアセタール系樹脂ポリビニルアルコールを、アセタール化して得
られるポリビニルホルマール、ポリビニルアセタ
ール系樹脂はいずれも好適に使用される。この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセ
タール化度は任意のものとすることができる。ポリウレタン樹脂ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹
脂。特に、グリコール類とジイソシアナート類との
縮合によつて得られるポリウレタン樹脂、とりわ
け、アルキレングリコールとアルキレンジイソシ
アナートとの縮合によつて得られるポリウレタン
樹脂が好適である。ポリエーテルスチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開
環重合物、ポリエチレンオキサイドおよびグリコ
ール、ポリプロピレンオキサイドおよひグリコー
ル、プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド
共重合体、ポリフエニレンオキサイドなど。セルロース誘導体例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロー
ス、エチルセルロース、アセチルブチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルセルロース、メチルセルロース、エチルヒ
ドロキシエチルセルロースなど、セルロースの各
種エステル、エーテルないしこれらの混合体。ポリカーボネート例えば、ポリジオキシジフエニルメタンカーボ
ネート、ジオキシジフエニルプロパンカーボネー
ト等の各種ポリカーボネート。アイオノマーメタクリル酸、アクリル酸などのNa，Li，
Zn、Mg塩など。ケトン樹脂例えば、シクロヘキサノンやアセトフエノン等
の環状ケトンとホルムアルデヒドとの縮合物。キシレン樹脂例えば、ｍ−キシレンまたはメシチレンとホル
マリンとの縮合物、あるいはその変性体。石油樹脂 C₅系，C₉系，C₅−C₉共重合系、ジシクロペン
タジエン系、あるいは、これらの共重合体ないし
変性体など。上記〜の２種以上のブレンド
体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド
体。なお、自己酸化性または熱可塑性の樹脂の分子
量等は種々のものであつてよい。このような自己酸化性化合物または熱可塑性樹
脂樹脂と、前記色素とは、通常、重量比で１対
0.1〜100の広範な量比にて設層される。このような記録層中には、さらに、クエンチヤ
ーが含有されることが好ましい。これにより、再生劣化が減少し、耐光性が向上
する。クエンチヤーとしては、種々のものを用いるこ
とができるが、特に色素が励起して一重項酸素が
生じたとき、一重項酸素から電子移動ないしエネ
ルギー移動をうけて励起状態となり、自ら基底状
態にもどるとともに、一重項酸素を三重項状態に
変換する一重項酸素クエンチヤーであることが好
ましい。一重項酸素クエンチヤーとしても、種々のもの
を用いることができるが、特に、酸性劣化が減少
すること、そして色素との相溶性が良好であるこ
となどから、遷移金属キレート化合物であること
が好ましい。この場合、中心金属としては、Ni，
Co，Cu，MN，Pd，Pt等が好ましく、特に下記
の化合物が好適である。１アセチルアセトナートキレート系 Q1−１ Ni（）アセチルアセトナート Q1−２ Cu（）アセチルアセトナート Q1−３ Mn（）アセチルアセトナート Q1−４ Co（）アセチルアセトナート２下記式で示されるビスジチオ−α−ジケトン
系

【式】ここに、R¹〜R⁴は、置換ないし非置換のアル
キル基またはアリール基を表わし、Ｍは、Ni，
Co，Cu，Pd，Pt等の遷移金属原子を表わす。この場合、Ｍは−電荷をもち、４級アンモニウ
ムイオン等のカチオン（Cat）と塩を形成しても
よい。なお、以下の記載において、phはフエニル基、
φは１，４−フエニレン基、φ′は１，２−フエニ
レン基、benzは環上にてとなりあう基が互いに
結合して縮合ベンゼン環を形成することを表わす
ものである。

【表】３下記式で示されるビスフエニルジチオール系

【式】ここに、R⁵ないしR⁸は、水素またはメチル基、
エチル基などのアルキル基、Clなどのハロゲン原
子、あるいはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基などのアミノ基を表わし、Ｍは、Ni，Co，Cu，Pd，Pt等の遷移金属原子
を表わす。また、上記構造のＭは−電荷をもつて、４級ア
ンモニウムイオン等のカチオン（Cat）と塩を形
成してもよく、さらにはＭの上下には、さらに他
の配位子が結合してもよい。このようなものとしては、下記のものがある。

【表】この他、特開昭50−45027号や特願昭58−
163080号に記載したものなど。４下記式で示されるジチオカルバミン酸キレー
ト系

【化】ここに、R⁹およびR¹⁰はアルキル基を表わす。また、ＭはNi，Co，Cu，Pd，Pt等の遷移金属
を表わす。 Q4−１ R⁹，R¹⁰／C₄H₉ Ｍ／Ni ５下記式で示されるもの

【化】ここに、Ｍは、遷移金属原子を表わし、 Q¹は、

【式】または

【式】を表わし、Catは、カチオンを表わす。

【表】この他、特願昭58−125654号に記載したもの。６下記式で示されるもの

【化】ここに、Ｍは遷移金原子を表わし、ＡはＳ，

【式】またはＣ Q²を表わし、 R¹¹およびR¹²は、それぞれCN，COR¹³，
COOR¹⁴，CONR¹⁵，R¹⁶またはSO₂R¹⁷を表わし、 R¹³ないしR¹⁷は、それぞれ水素原子または置
換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリール
基を表わし、 Q²は、５員または６員環を形成するのに必要
な原子群を表わし、 Catは、カチオンを表わし、ｎは１または２である。

【表】＼
CN
この他、特願昭58−127074号に記載したもの。７下記式で示される化合物

【化】ここに、Ｍは遷移金属原子を表わし、 Catは、カチオンを表わし、ｎは１または２である。 Q7−１Ｍ／Ni Cat／２〔（ｎ−C₄H₉）₃Ｎ〕 Q7−２ Ni ２〔ｎ−C₁₆H₃₃（CH₃）₃Ｎ〕この他、特願昭58−127075号に記載したもの。８ビスフエニルチオール系 Q8−１ Ni−ビス（オクチルフエニル）サルフ
アイド９下記式でしめされるチオカテコールキレート
系

【化】ここに、Ｍは、Ni，Co，Cu，Pd，Pt等の遷移
金属原子を表わす。また、Ｍは−電荷をもち、カチオン（Cat）と
塩を形成してもよく、ベンゼン環は置換基を有し
ていてもよい。 Q9−１Ｍ／Ni Cat／N⁺（C₄H₉）₄ 10 下記式で示される化合物

【化】ここに、R¹⁸は、１価の基を表わし、ｌは、０〜６であり、Ｍは、遷移金属原子を表わし、 Catは、カチオンを表わす。

【表】特願昭58−143531号に記載したもの。 11 下記の両式で示される化合物

【式】

【式】ここに、上記式において、 R²⁰，R²¹，R²²およびR²³は、それぞれの水素
原子または１価の基を表わし、 R²⁴，R²⁵，R²⁶およびR²⁷は、水素原子または
１価の基を表わすが、 R²⁴とR²⁵，R²⁵とR²⁶，R²⁶とR²⁷は、互いに結
合して６員環を形成してもよい。また、Ｍは、遷移金属原子を表わす。

【表】この他、特願昭58−145294号に記載したもの。 12 下記式で示される化合物

【化】ここに、Ｍは、Pt，NiまたはPdを表わし、
X₁，X₂，X₃，X₄は、それぞれＯまたはＳを表わ
す。

【表】この他、特願昭58−145295号に記載したもの。 13 下記式で示される化合物

【化】ここに、R³¹は、置換もしくは非置換のアルキ
ル基またはアリール基であり、 R³²，R³³，R³⁴およびR³⁵は、水素原子または
１価の基を表わすが、R³²とR³³，R³³とR³⁴，R³⁴
とR³⁵は、互いに結合して６員環を形成してもよ
い。また、Ｍは、遷移金属原子を表わす。

【表】この他、特願昭58−151928号に記載したもの。 14 下記両式で示される化合物

【化】

【化】 R⁴¹，R⁴¹，R⁴³およびR⁴⁴は、それぞれ水素原
子または１価の基を表わすが、R⁴¹とR⁴²，R⁴²と
R⁴³，R⁴³とR⁴⁴は、互いに結合して６員環を形成
してもよい。また、R⁴⁵およびR⁴⁶は、水素原子または１価
の基を表わす。さらに、Ｍは、遷移金属原子を表わす。

【表】この他、特願昭58−151929号に記載したもの。 15 下記式で示される化合物

【式】ここに、R⁵¹，R⁵²，R⁵³，R⁵⁴，R⁵⁵，R⁵⁶，
R⁵⁷、およびR⁵⁸は、それぞれ、水素原子または
１価の基を表わすが、 R⁵¹とR⁵²，R⁵²とR⁵³，R⁵³とR⁵⁴，R⁵⁵とR⁵⁶，
R⁵⁶とR⁵⁷およびR⁵⁷とR⁵⁸は互いに結合して６員
環を形成してもよい。Ｘは、ハロゲンを表わす。Ｍは、遷移金属原子を表わす。

【表】この他、特願昭58−153392号に記載したもの。 16 下記式で示されるサリチルアルデヒドオキシ
ム系

【式】ここに、R⁶⁰およびR⁶¹は、アルキル基を表わ
し、Ｍは、Ni，Co，Cu，Pd，Pt等の遷移金属原
子を表わす。

【表】

【表】 17 下記式で示されるチオビスフエノレートキレ
ート系

【式】ここに、Ｍは前記と同じであり、R⁶⁵および
R⁶⁶は、アルキル基を表わす。また、Ｍは−電荷
をもち、カチオン（Cat）と塩とを形成していて
もよい。

【表】 18 下記式で示される亜ホスホン酸キレート系

【式】ここに、Ｍは前記と同じであり、R⁷¹および
R⁷²は、アルキル基、水酸基等の置換基を表わ
す。 Q18−１
R⁷¹，R⁷²／３−ｔ−C₄H₉，５−ｔ−C₄H₉，６−OH Ｍ／
Ni 19 下記式で示される化合物

【化】

【化】ここに、R⁸¹，R⁸²，R⁸³およびR⁸⁴は、水素原
子または１価の基を表わすが、 R⁸¹とR⁸²，R⁸²とR⁸³，R⁸³とR⁸⁴は、互いに結
合して、６員環を形成してもよい。 R⁸⁵およびR⁸⁸は、それぞれ、水素原子または
置換もしくは非置換のアルキル基もしくはアリー
ル基を表わす。 R⁸⁶は、水素原子、水酸基または置換もしくは
非置換のアルキル基もしくはアリール基を表わ
す。 R⁸⁷は、置換または非置換のアルキル基または
アリール基を表わす。Ｚは、５員または６員の環を形成するのに必要
な非金属原子群を表わす。Ｍは、遷移金属原子を表わす。

【表】この他、特願昭58−153393号に記載したもの。 20 下記式で示される化合物

【式】ここに、R⁹¹およびR⁹²は、それぞれ、水素原
子、置換または非置換のアルキル基、アリール
基、アシル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ
−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
アモイル基、Ｎ−アリールスルフアモイル基、ア
ルコキシカルボニル基またはアリーロキシカルボ
ニル基を表わし、Ｍは、遷移金属原子を表わす。

〔SANOLIS−770（三共製薬社製）〕

これら各クエンチヤーは、色素１モルあたり
0.01〜12モル、特に0.05〜1.2モル程度含有され
る。なお、クエンチヤーの極大吸収波長は、用いる
色素の極大吸収波長以上であることが好ましい。これにより、再生および劣化はきわめて小さく
なる。この場合、両者の差は０か350nm以下であるこ
とが好ましい。なお、装置を小型化するためには、書き込みお
よび読み出しの光源として、好ましくは750，
780，830nmの半導体レーザーあるいは633nmの
He−NEレーザー等オエ用いることが好ましいの
で、一重項酸素クエンチヤーの吸収極大波長は
680nm以上、特に680〜1500、より一層好ましく
は、800〜1500nmにあることが好ましい。さらに、読み出し光の波長における用いる色素
（２種以上用いるときにはその実効値）および一
重項酸素クエンチヤーの吸収係数をそれぞれεD
およびεQとしたとき、εD／εQは３以上であるこ
とが好ましい。なお、色素を２種以上併用して用いることに
は、色素の吸収極大波長とεDとは、濃度に応じ
た相加平均実効値である。このような値となることにより、読み出し光の
照射時のクエンチヤーの励起がきわめて小さくな
り、一重項酸素による再生劣化はきわて小さくな
る。さらに、クエンチヤーは、色素とイオン結合体
を形成してもよい。クエンチヤー色素イオン結合体としては、特願
昭59−14848号に記載したものを用いてもよい。ただ、より好適に用いることのできるのは、特
願昭59−18878号、同59−19715号に記載したシア
ニン色素カチオンとクエンチヤーアニオンとの結
合体である。用いるシアニン色素カチオンとしては、上記し
たもののカチオン体いずれであつてもよい。また、クエンチヤーアニオンは、上記３，５，
６，７，９，10，17のうちのいずれのアニオン体
であつてもよい。以下にその具体例をあげる。なお、下記において、D⁺は対応するＤのカチ
オン、また、Q^-は対応するクエンチヤーのアニ
オンである。

【表】

【表】このような吸収特性をもつクエンチヤーは、用
いる光源および色素に応じ、適宜選択して使用さ
れる。このような記録層を設層するには、一般に常法
に従い塗設すればよい。そして、記録層の厚さは、通常、0.03〜2μm程
度とされる。あるいは色素とクエンチヤーのみで
記録層を形成するとくには、蒸着、スパツタリン
グ等によつてもよい。記録層の厚みは、0.04〜0.12μm、特に0.05〜
0.08μmであることが好ましい。 0.04μm、特に0.03μm以下では吸収量反射量と
も小さく書き込み感度、再生感度とも大きく取る
ことができない。 0.12μm以上では、プリグループが埋没してし
まい、トラツキング信号を得ることが困難とな
る。また、ピツト形成が容易でなき、書き込み感
度が低下する。なお、このような記録層には、この他、他の色
素や、他のポリマーないしオリゴマー、各種可塑
剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安
定剤、分散剤、酸化防止剤、そして架橋剤等が含
有されていてもよい。このような記録層を設層するには、基体上に、
所定の溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。なお、塗布に用いる溶媒としては、例えばメチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エ
チル、カルビトールアセテート、ブチルカルビト
ールアセテート等のエステル系、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ等のエーテル系、ないしト
ルエン、キシレン等の芳香族系、ジクロロエタン
等のハロゲン化アルキル系、アルコール系などを
用いればよい。このような記録層を設層する基体は樹脂製であ
る。樹脂の材質としては、種々のものが可能であ
る。ただ、このような樹脂中、特に上記したような
各種塗布用の溶媒、とくにケトン系、エステル
系、ハロゲン化アルキル等におかされやすく、本
発明の下地層による効果が特に大きいのは、アク
リル樹脂またはポリカーボネート樹脂である。そして、これらでは、書き込みおよび読み出し
光に対し、実質的に透明であるので、書き込みお
よび読み出しを基体裏面側から行うことができ、
感度、Ｓ／Ｎ比等の点で有利であり、またホコリ
対策等の実装上の点でも有利である。さらに、成形性も良好であるので、トラツキン
グ用の溝の形成も容易である。アクリル樹脂としては、ポリメチルメタクリレ
ート等、炭素原子数１〜８の鎖状ないし環状のア
ルキル基をもつメタクリル酸エステルを主体とす
るコポリマーないしホモポリマーが好ましい。また、ポリカーボネート樹脂としては、ビスフ
エノールＡタイプが好ましい。そして、これらアクリル樹脂またはポリカーボ
ネート樹脂は、射出成形によつて形成されたもの
であるとき、本発明の下地層の効果はより大きな
ものとなる。なお、これらアクリル樹脂またはポリカーボネ
ート樹脂は、射出成形によつて形成されたもので
あるとき、本発明の下地層の効果はより大きなも
のとなる。なお、これらアクリル樹脂またはポリカーボネ
ード樹脂Ｉ，Ｆの数平均重合度は、800〜6000程
度であることが好ましい。記録層上に設層される表面層は、第１表面層
と、この第１表面層上に積層される高分子膜とか
らなる。第１表面層は、記録層より高融点で、さらには
それより硬度の高い無機質膜であればよい。従つて、各種酸化物係、窒化物係、炭化物係等
の無機物質、例えば酸化ケイ素、酸化チタン、酸
化アルミニウム、酸化、マグネシウム、酸化ジル
コン、窒化ケイ素、炭化ケイ素等の気相被着膜で
あつてもよい。あるいは、いわゆる架橋剤として知られるキレ
ート化合物等から形成される酸化ケイ素、酸化チ
タン、、酸ジルコン、酸化アルミニウム等から主
として形成される加水分解塗膜であつてもよい。ただ、これらの中で、もつとも有用なのは、ケ
イ素系縮合物のコロイド粒子分散液の塗膜であ
る。ケイ素系縮合物のコロイド粒子は、ハロゲン化
ケイ素、特に四塩化ケイ素、ないしアルキルケイ
酸、特に四低級アルキル（メチル、エチル）ケイ
酸の加水分解縮合物が好適である。そして、コロイド粒子粒は、30〜100Å、特に
50〜80Å程度とされる。また、分散媒としては、アルコール、特に１個
の脂肪族アルコール、あるいは酢酸アルキル、あ
るいはこれらと芳香族炭化水素との混合溶媒等が
用いられる。また、加水分解のためには、必要に応じ鉱酸が
添加される。そして、必要に応じエチレングリコール等の安
定剤や界面活性剤等が添加される。このようなコロイド粒子分散液の１例として
は、特公昭31−6533号に記載された四塩化ケイ素
（SiCl₄）と１価の脂肪族アルコールとを酢酸アル
キルエステル中に溶解させたものがある。また、特公昭36−4740号に記載された四アルキ
ルケイ酸と１価の脂肪族アルコール、酢酸アルキ
ルおよび鉱酸よりなる溶液に、１〜20wt％のエ
チレングリコールを添加したものでもよい。さらには、特公昭45−35435号に記載された四
低級アルキルケイ酸のアルコール溶液でもよい。このような場合、使用する１価の脂肪族アルコ
ールとしては、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、変性アルコール、イソプロピルアルコー
ル、ブチルアルコールあるいはそれらの混合物、酢酸アルキルとしては、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸アルミ、酢酸ブチルあるいはこれらの混
合物を用い、鉱酸としては、塩酸、硫酸の水溶液等で、普通
工業的に用いられているものを用いればよい。なお、これらの分散液の塗布は、常法に従い、
スピンナーコート等の塗布にすればよい。この場合、希釈溶媒としては、例えば炭化水素
系とアルコール系との混合溶媒がある。そして、乾燥は、40〜80℃にて、20分〜２時間
程度行えばよい。このようにして形成される塗膜は、水酸基を含
む酸化ケイ素無機質塗膜である。以上の第１表面層の厚さは、0.005〜0.05μmで
ある。特に好ましくは、0.008〜0.012μmであるこ
とが好ましい。第１表面層が、0.003μm未満であれば、光記録
媒体としての書き込み読み出しの感度向上の効果
が得られない。第１表面層が0.03μmを超えると、光記録媒体
としての書き込み読み出しの感度は、かえつて、
低下してしまう。色素組成物からなる光記録膜は光照射と同時に
ピツトが形成されてしまい、その後の照射光は最
もエネルギーの集中している中央部で吸収されな
くなる。従つてエネルギーの利用効率が低く、感
度がある値以上向上しない原因となつている。本発明では、第１表面層として高融点の固い膜
を設けることにより、一定時間以下の照射光に対
してピツトを形成しないようにし、十分な温度に
まで上昇するのを待つて、一気にピツト形成が起
こるようにするものである。このような第１表面層上に積層される高分子膜
は、ピツト形成に際して、第１表面層の破砕片の
飛散を防止するためのものである。用いる高分子としては種々のものが適用できる
が、特に第１表面層に対し、第１表面層を侵して
色素を溶解しないこと、密着性のよいこと、均一
性のよいこと、塗布し易いこと、低粘度であるこ
と等の点で、水または水−アルコール混合溶媒に
可溶で、かつ水酸基を含有する高分子化合物の塗
膜からなるものが好ましい。この場合、水または水−アルコール混合溶媒に
可溶であるとは、水あるいは後述のような水−ア
ルコール混合溶媒に１％程度以上溶解するもので
あればよい。このような高分子化合物としては、アラビアゴ
ム、アルギン酸、トラガントガム等の多糖類であ
つてもよいが、特に下記のようなセルロース誘導
体や、ビニルアルコール単位含有樹脂が好適であ
る。１セルロース誘導体ニトロレルロース、アセチルセルロース、エチ
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロポルセ
ルロース、メチルセルロース、エチルヒドロキシ
エチルセルロースなど。この場合、水酸基は、くりかえし単位あたり、
平均１以上含有されることが好ましい。２ビニルアルコール単位含有樹脂ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合
体などの完全ないし部分加水分解物。この場合、ビニルアルコール単位は、70モル％
以上、好ましくは、80モル％以上含有されるもの
が好ましい。なお、このような高分子化合物の数平均分子量
については、特に制限はない。このような高分子化合物は、通常、水−アルコ
ール混合溶媒に溶解されて塗布設層される。この場合、アルコールとしては、メタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノール等の単独
または複合系が好適である。そして、水とアルコ
ールとの混合比は、１：０，５〜３程度とする。なお、塗布溶媒としては、水を単独で用いるこ
ともできるが、樹脂製の基体に対する塗布性の点
では、水−アルコール混合溶媒がすぐれている。このような層の塗設に際しては、塗布液中に架
橋剤を添加して、塗膜中の高分子化合物を架橋す
ることもできる。このとき、耐溶剤性、耐水性、耐熱性が改良さ
れ、記録層の安定性が向上する。この場合、塗布液中には、ピンホールの発生を
防止し、脱泡を完全に行い、しかも粘度を下げる
ために、界面活性剤、消泡剤、帯電防止剤等を添
加してもよい。用いる架橋剤としては、チタン、ジルコニウム
もしくはアルミニウムの有機化合物もしくはキレ
ート化物、あるいは、アルデヒト、オキシカルボ
ン酸またはメチロール含有オリゴマーであること
が好ましい。このような高分子膜は0.002〜0.8μm、より好ま
しくは0.005〜0.5μmの厚さとすることが好まし
い。 0.002μm未満では飛散防止の実働がなく、
0.8μmをこえると逆に感度が減少するからであ
る。さらに本発明の表面層を有する記録層は、基体
上に直接形成されてもよく、あるいは下地層を介
して設層されてもよい。下地層としては、公知の種々のものであつてよ
いが、すでに述べた第１表面層ないし高分子膜と
全く同様にして作製されたものであることが好ま
しい。下地層の厚みは0.005〜0.05μmである。特に
0.008〜0.03μmであることが好ましい。下地層が0.005μm未満となると、基体への耐溶
剤性付与効果および耐熱性付与効果が不充分であ
る。0.05μmを超えると、感度が低下する。以上のような下地層を設層することによつて、
光記録媒体としての感度がさらにあがり、Ｓ／Ｎ
比がさらに向上する。下地層上には、通常直接記録層が設層されるも
のであるが、必要に応じ場合によつては、下地層
と記録層との間に、他の中間層を設層することも
できる。同様に表面層上等に、さらに各種最上層保護
層、ハーフミラー層、反射層などを設けることも
できる。本発明の媒体は、このような基体の一面上に下
地層を介して、上記の記録層を有するものであつ
てもよく、その両面に下地層を介して記録層を有
するものであつてもよい。また基体の一面上に下地層を介して記録層を塗
設したものを２つ用い、それらを記録層が向かい
あうようにして、所定の間隙をもつて対向させ、
それを密閉し、ホコリやキズがつかないようにす
ることもできる。発明の具体的作用本発明の媒体は、走行ないし回転下において、
記録光をパルス状に照射する。このとき、記録層中の色素の発熱により、自己
酸化性の樹脂が分解するか、あるいは熱可塑性樹
脂や色素が融解し、ピツトが形成される。この場合、書き込みは気体裏面側から行うこと
が好ましい。特に、トリないしテトラカルボシアニン色素を
用いるときには、750，780，830nm波長の記録半
導体レーザーダイオードなどを用いたとき、きわ
めて良好な書き込みを行うことができる。また、フタロシアニン色素を用いるときには、
730〜760nm、波長の記録半導体レーザーダイオ
ードなどを用いたときに、非常に良好な書き込み
を行うことができる。このようにして形成されたピツトは、やはり媒
体の走行ないし回転下、上記の波長の読み出し光
の反射光ないし透過光、とくに反射光を検出する
ことにより読み出される。この場合、読み出し光は、やはり基体裏面側か
ら照射して、その反射光を検知するようにするこ
とが好ましい。なお、記録層に熱可塑性樹脂を用いるときに
は、一旦記録層に形成したピツトを光ないし熱で
消去し、再書き込みを行うこともできる。また、記録ないし読み出し光としては、He−
Neレーザー等を用いることもできる。発明の具体的効果本発明は色素または色素組成物からなる記録層
に、第１表面層と高分子膜からなる表面層を有す
るので、光記録媒体としての、書き込みの感度が
向上する。そして、高分子膜により、ピツト形成の際の第
１表面層の飛散が防止されるので、Ｓ／Ｎ比が向
上し、エラーレートが減少する。発明の具体的実施例以下、本発明の実施例を挙げ、本発明をさらに
詳細に説明する。実施例基体直径30cmのPMMA（MFI＝２）射出成形
基板に、四エチル塩酸 4.2部エチルアルコール 43部酢酸エチル 42部濃塩酸 5.4部エチレングリコール 5.4部を混和し、50〜80₄のコロイド分散液とし、ｎ−
プロパノールで希釈して塗布液とした。これをスピンコートしたのち、60℃、30分間処
理した。、膜厚は0.01μmである。次いで、色素Ｄ−10およびクエンチエーQ3−
８（５：２）の色素１％溶液（ジクロロエタン、
ジクロヘキサノン（６：５））からなる記録層を
スピンナーで設層した。さらに、この記録層上に上記コロイド分散液を
ｎ−ヘキサンで希釈した溶液をスピンナー塗布に
よつて第１表面層を設層した。膜厚は約0.006μm
であつた。さらに、この上に、ポリビニルアルコール
PVA（クラレ社製205、加水分解率88％）を、メ
タノール水（１：１）中に１％濃度にて溶解した
ものを塗布、設層して高分子膜とした。膜厚約
0.01μmであつた。以上を試料１とする。試料１と同様な条件で色素にD2を用いクエン
チヤーQ3−８と５：２の組成の記録層を用いた。
表面層、下地層は試料１と同様である。以上を試料２とする。さらに、試料１においてPVAを、エチレン−
酢酸ビニルを重合体の完全加水分解物EVA（クラ
レ社製エバールEP−Ｆエチレン含有率32モル％）
にかえたものを試料３とする。また、色素D⁺１、クエンチヤーQ^-３−８との
結合体SD1からなる記録層としたものを試料４と
する。そして、試料１において、高分子膜および表面
層のないものを試料５，６とする。以上の試料について、830nmでの基板裏面側か
らの反射率を測定した。また、830nm半導体レーザーを用い、集光部出
力10mWで、基板裏面側から書き込み、反射レベ
ル比（消光比）２が得られる最小パルス幅（ns）
の逆数を感度として測定した。さらに、ヒユーレツドパツカード社製のスペク
トラムアナライザーにて、バンド巾30KHzでの
Ｃ／Ｎ比を測定した。さらに、電子顕微鏡により、表面層破砕片の有
無を観察した。エレーレートを測定した。結果を表１に示す。

【表】表１に示される結果から本発明の効果があきら
かである。なお、下記表２に、高分子膜および第１表面層
の有無による感度と破砕片の有無の結果を示す。

【表】表２より本発明の効果は明らかである。

Claims

【特許請求の範囲】１基体上に、直接または下地層を介して色素ま
たは色素組成物からなる記録層を有し、この記録
層上に表面層を有する光記録媒体において、表面
層が、記録層より高融点の無機膜の第１表面層
と、この第１表面層上に積層した高分子膜とを有
することを特徴とする光記録媒体。２基体上に、直接または下地層を介して色素ま
たは色素組成物からなる記録層を有し、この記録
層上に表面層を有する光記録媒体にレーザ光を照
射して光記録を行うに際し、前記表面層として、
記録層より高融点の無機膜の第１表面層と、この
第１表面層上に積層した高分子膜とを設け、前記
第１表面層により十分なエネルギーを吸収できる
まで記録層への記録が行われないようにして感度
を向上させるとともに、前記高分子膜により記録
時の破砕片の飛び散りを防止する光記録方法。