JPH0582450B2 - - Google Patents
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- JPH0582450B2 JPH0582450B2 JP60105743A JP10574385A JPH0582450B2 JP H0582450 B2 JPH0582450 B2 JP H0582450B2 JP 60105743 A JP60105743 A JP 60105743A JP 10574385 A JP10574385 A JP 10574385A JP H0582450 B2 JPH0582450 B2 JP H0582450B2
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- processing chamber
- heating furnace
- heating
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/0075—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for rods of limited length
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/0056—Furnaces through which the charge is moved in a horizontal straight path
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビレツト、ロツド、管等の円筒形の装
入物を加熱する炉に関し、特に特許請求の範囲第
1項前段に記載する型式の加熱炉に関する。
入物を加熱する炉に関し、特に特許請求の範囲第
1項前段に記載する型式の加熱炉に関する。
従来の技術
既知のWO83/02661記載のビレツト、ロツド
管等の円筒形装入物用加熱炉では、装入物は搬送
装置によつて処理室内を送られる。この搬送装置
は所定の高さであり、異なる直径の装入物の長手
軸線は処理室中央に一致しない。この結果、装入
物の面は高温ガス流の不均等な噴射を受け、不均
等加熱となり、装入物の曲り等の歪みを生ずる。
これは装入物の次の処理に悪影響を生ずる。円筒
処理室と処理される物品との間の距離が変れば曲
りによつて更に著しい不均等加熱となる。
管等の円筒形装入物用加熱炉では、装入物は搬送
装置によつて処理室内を送られる。この搬送装置
は所定の高さであり、異なる直径の装入物の長手
軸線は処理室中央に一致しない。この結果、装入
物の面は高温ガス流の不均等な噴射を受け、不均
等加熱となり、装入物の曲り等の歪みを生ずる。
これは装入物の次の処理に悪影響を生ずる。円筒
処理室と処理される物品との間の距離が変れば曲
りによつて更に著しい不均等加熱となる。
循環ガス流を生ずる換気インペラ又はフアンの
配置は、処理される装入物がガス流によつて全長
に亘つて加熱されるようにする。別のデフレクタ
等の高価な圧力減少絞り装置を必要としないこと
が望ましい。この不均等加熱はインペラが一側配
置の時に生ずる。更に、インペラは処理すべき装
入物の長手軸線と直角に高温ガスを吹くため、イ
ンペラハウジング内の圧力が問題を生ずる。
配置は、処理される装入物がガス流によつて全長
に亘つて加熱されるようにする。別のデフレクタ
等の高価な圧力減少絞り装置を必要としないこと
が望ましい。この不均等加熱はインペラが一側配
置の時に生ずる。更に、インペラは処理すべき装
入物の長手軸線と直角に高温ガスを吹くため、イ
ンペラハウジング内の圧力が問題を生ずる。
既知の上述の加熱炉の他の欠点は、対流加熱の
ためにスリツト型ノズルを使用する点にある。こ
のノズルは処理すべき装入物の長さに沿つて配置
し、高温ガスの幅の狭いジエツトを生ずる。ジエ
ツトの出口速度は装入物の周囲について各種の方
向に変化し、不均等な衝突となり、外周について
の不均等加熱となる。
ためにスリツト型ノズルを使用する点にある。こ
のノズルは処理すべき装入物の長さに沿つて配置
し、高温ガスの幅の狭いジエツトを生ずる。ジエ
ツトの出口速度は装入物の周囲について各種の方
向に変化し、不均等な衝突となり、外周について
の不均等加熱となる。
同様な構造はドイツ特許公開DE−OS2929322
号、2712279号、公報DE−AS2637646号、公開
DE−OS2349765号に記される。
号、2712279号、公報DE−AS2637646号、公開
DE−OS2349765号に記される。
軽金属工業では、例えばアルミニウムの円筒形
装入物の場合は加熱の均等性と所要温度の保持に
対する要求が大きい。更に、経済的理由のため、
処理時間をできるだけ短くしたい。このため、温
度勾配をできるだけ大とする。しかし、高い温度
勾配の場合は局部的変動が大きな影響があり、局
部的過熱となることがある。これは例えば米国特
許第3837794号に示す直接焔加熱によつて熱伝達
条件を良くする型式の円筒装入物加熱炉の大きな
欠点となる。
装入物の場合は加熱の均等性と所要温度の保持に
対する要求が大きい。更に、経済的理由のため、
処理時間をできるだけ短くしたい。このため、温
度勾配をできるだけ大とする。しかし、高い温度
勾配の場合は局部的変動が大きな影響があり、局
部的過熱となることがある。これは例えば米国特
許第3837794号に示す直接焔加熱によつて熱伝達
条件を良くする型式の円筒装入物加熱炉の大きな
欠点となる。
既知の加熱炉として、米国特許4410308号に示
す装入物回転方式、ドイツ特許公開DE−
OS2628657号に示す間接加熱がある。この場合は
装置が大型となる。更に誘導加熱は円筒形装入物
を全長につい均等に加熱しない。
す装入物回転方式、ドイツ特許公開DE−
OS2628657号に示す間接加熱がある。この場合は
装置が大型となる。更に誘導加熱は円筒形装入物
を全長につい均等に加熱しない。
ドイツ特許公開DE−OS2919207号は加熱炉用
の搬送装置を示し、円筒装入物の加熱は高温耐火
物ブロツクに直接接触し、対流加熱ではない。
の搬送装置を示し、円筒装入物の加熱は高温耐火
物ブロツクに直接接触し、対流加熱ではない。
前述の型式の加熱炉は米国特許4065219号に示
し、処理室の形状は装入物の断面を考慮に入れ、
搬送装置は装入物を長手軸線の方向に処理室内を
駆動し、加熱装置はガス流を加熱し、ノズル出口
は加熱ガス流を処理室内に吹出す。この炉も上述
の欠点即ち、円筒形装入物の長さ及びまたは外周
方向の不均等加熱の問題があり、処理すべき物品
上の高温ガス流の不均等吹きつけを生ずる。
し、処理室の形状は装入物の断面を考慮に入れ、
搬送装置は装入物を長手軸線の方向に処理室内を
駆動し、加熱装置はガス流を加熱し、ノズル出口
は加熱ガス流を処理室内に吹出す。この炉も上述
の欠点即ち、円筒形装入物の長さ及びまたは外周
方向の不均等加熱の問題があり、処理すべき物品
上の高温ガス流の不均等吹きつけを生ずる。
発明の解決しようとする問題点
本発明は前述の型式の加熱炉において不均等加
熱の問題を生じない加熱炉とするにある。
熱の問題を生じない加熱炉とするにある。
問題点を解決するための手段
本発明による前述の型式の加熱炉には装入物を
水平運動させる搬送素子と、装入物を処理室内で
装入物の断面形の関数として長手軸線を処理室の
中心に一致させるジヤツキ装置とを有する搬送装
置を備え;処理室の壁に取付けられたノズル出口
を装入物の長手軸線に半径方向に装入物の面に向
けて加熱ガスのジエツトを噴射させ、加熱ガスを
ノズルに供給するチヤンネルに対して処理室の両
端から供給し、処理室からガスを吹き出してチヤ
ンネルの入口に循環させる換気装置は処理室の中
央上部に取付ける。
水平運動させる搬送素子と、装入物を処理室内で
装入物の断面形の関数として長手軸線を処理室の
中心に一致させるジヤツキ装置とを有する搬送装
置を備え;処理室の壁に取付けられたノズル出口
を装入物の長手軸線に半径方向に装入物の面に向
けて加熱ガスのジエツトを噴射させ、加熱ガスを
ノズルに供給するチヤンネルに対して処理室の両
端から供給し、処理室からガスを吹き出してチヤ
ンネルの入口に循環させる換気装置は処理室の中
央上部に取付ける。
作 用
本発明によつて循環ガス流による円筒形装入物
への噴射を正確に半径方向とし、装入物が別の直
径であつても対称の熱伝達の分布が装入物面及び
全長について得られる。本発明によつて、円筒形
装入物は所定の炉内軸線に保持される。熱伝達を
行なうノズルからのジエツトは正確に半径方向に
装入物の長手軸線に向けて噴射され、確実に熱伝
達条件となる、正確な半径方向ガス流噴射のため
に本発明による高温ガス流路の所要の設計及びノ
ズル出口までの通路の設定を行う。
への噴射を正確に半径方向とし、装入物が別の直
径であつても対称の熱伝達の分布が装入物面及び
全長について得られる。本発明によつて、円筒形
装入物は所定の炉内軸線に保持される。熱伝達を
行なうノズルからのジエツトは正確に半径方向に
装入物の長手軸線に向けて噴射され、確実に熱伝
達条件となる、正確な半径方向ガス流噴射のため
に本発明による高温ガス流路の所要の設計及びノ
ズル出口までの通路の設定を行う。
実施例
加熱すべき装入物は図示の例では円筒形ビレツ
ト1とし、円筒形処理室2内に位置する。ビレツ
ト1は第6,7図に示す搬送装置によつて処理室
内に導入し、搬送装置内に組込んだジヤツキ装置
によつて水平方向に上昇させ、処理室内の中央位
置とし、所定時間保持した後に下げて処理室2か
ら搬出する。ビレツト1の搬送装置は水平に即ち
ビレツトの中央長手軸線に平行に動かす。
ト1とし、円筒形処理室2内に位置する。ビレツ
ト1は第6,7図に示す搬送装置によつて処理室
内に導入し、搬送装置内に組込んだジヤツキ装置
によつて水平方向に上昇させ、処理室内の中央位
置とし、所定時間保持した後に下げて処理室2か
ら搬出する。ビレツト1の搬送装置は水平に即ち
ビレツトの中央長手軸線に平行に動かす。
第4図に示す通り、搬送装置はビレツト1を処
理室内に搬送し、ビレツトの直径に無関係にすべ
てのビレツトの軸線を処理室2内の同じ高さとす
る。第4図では最小ビレツト直径1aと最大ビレ
ツト直径1bとを示す。何れの場合もビレツト1
a,1bの軸線は同じ位置にある。
理室内に搬送し、ビレツトの直径に無関係にすべ
てのビレツトの軸線を処理室2内の同じ高さとす
る。第4図では最小ビレツト直径1aと最大ビレ
ツト直径1bとを示す。何れの場合もビレツト1
a,1bの軸線は同じ位置にある。
処理室2の外壁は処理ガス例えば空気を供給す
るチヤンネル4の側壁によつて形成し、チヤンネ
ル4の出口は処理室の壁部のノズル出口3とな
る。ノズル出口の配置はノズルから出るジエツト
流が正確に室2内のビレツト1の半径方向に向う
ようにする。これにより、ビレツトの外皮に対す
るジエツト流の衝突点は、ビレツトの周面を開い
て平坦面としたときに、正三角形の頂点に位置す
るようになつており、また、この正三角形の辺の
長さはノズル出口の面と平均直径を有するビレツ
トの周面との間の距離にほぼ等しくなつている。
るチヤンネル4の側壁によつて形成し、チヤンネ
ル4の出口は処理室の壁部のノズル出口3とな
る。ノズル出口の配置はノズルから出るジエツト
流が正確に室2内のビレツト1の半径方向に向う
ようにする。これにより、ビレツトの外皮に対す
るジエツト流の衝突点は、ビレツトの周面を開い
て平坦面としたときに、正三角形の頂点に位置す
るようになつており、また、この正三角形の辺の
長さはノズル出口の面と平均直径を有するビレツ
トの周面との間の距離にほぼ等しくなつている。
円形ノズル出口3の場合はノズル出口の直径は
ビレツト1の面から平均距離の約1/5とする。
ビレツト1の面から平均距離の約1/5とする。
開口5に換気フアン6を上方に取付け、ビレツ
ト1に衝突したガスを搬出する。かくして処理ガ
スは抵抗なくビレツト1から搬出され、ビレツト
のほゞ全長に延長する室7に送られる。
ト1に衝突したガスを搬出する。かくして処理ガ
スは抵抗なくビレツト1から搬出され、ビレツト
のほゞ全長に延長する室7に送られる。
換気フアン6は処理ガスを対称に両側からデイ
フユーザ8に搬送する。デイフユーザ8の端部、
即ちデイフユーザがほゞユニツトの巾に広がる位
置にバーナーを設け、バーナーの焔を換気フアン
6から流れるガス流に向ける。この結果、高温ガ
スは換気フアン6から流れる循環処理ガスと極め
て均一に混合する。各種の一般の燃料用のバーナ
ーを使用できる。間接加熱を使用する時は、鋼
管、加熱格子を使用し、電気加熱の場合はデイフ
ユーザ端でガスチヤンネル内に組込む。チヤンネ
ルが先細であるため、加熱ガスは加速される。こ
のため、ノズル出口3に対する供給チヤンネル4
の入口部9で均等な流れのパターンとなる。
フユーザ8に搬送する。デイフユーザ8の端部、
即ちデイフユーザがほゞユニツトの巾に広がる位
置にバーナーを設け、バーナーの焔を換気フアン
6から流れるガス流に向ける。この結果、高温ガ
スは換気フアン6から流れる循環処理ガスと極め
て均一に混合する。各種の一般の燃料用のバーナ
ーを使用できる。間接加熱を使用する時は、鋼
管、加熱格子を使用し、電気加熱の場合はデイフ
ユーザ端でガスチヤンネル内に組込む。チヤンネ
ルが先細であるため、加熱ガスは加速される。こ
のため、ノズル出口3に対する供給チヤンネル4
の入口部9で均等な流れのパターンとなる。
加熱ガスをノズル出口3に送るチヤンネル4は
入口断面9から中央断面10まで先細とし、これ
によつてノズル出口3の内部で同じ流れ角度が生
ずる。
入口断面9から中央断面10まで先細とし、これ
によつてノズル出口3の内部で同じ流れ角度が生
ずる。
装入物を搬送する装置を第6,7図に示す、搬
送装置12は搬送及びジヤツキ装置である。この
装置には一連の水平の、移動しない搬送ロール1
4を有する。回転ローラ14は固定の垂直方向高
さであり、ビレツト1を処理室2に出入させる水
平運動用である。
送装置12は搬送及びジヤツキ装置である。この
装置には一連の水平の、移動しない搬送ロール1
4を有する。回転ローラ14は固定の垂直方向高
さであり、ビレツト1を処理室2に出入させる水
平運動用である。
ローラ組立体14に組合せたジヤツキ装置はベ
ースフレーム16を有し、フレーム16は図示し
ないねじジヤツキ又は液圧ピストン等のジヤツキ
によつて垂直方向に可動とする。フレーム16に
支持した複数の垂直ジヤツキロツド18は上端に
水平支持ヨーク20を有する。ヨーク20の支持
面は所要の材料、例えばセラミツク又は焼結材料
とし二重V型ローラ22の軸を支承する。
ースフレーム16を有し、フレーム16は図示し
ないねじジヤツキ又は液圧ピストン等のジヤツキ
によつて垂直方向に可動とする。フレーム16に
支持した複数の垂直ジヤツキロツド18は上端に
水平支持ヨーク20を有する。ヨーク20の支持
面は所要の材料、例えばセラミツク又は焼結材料
とし二重V型ローラ22の軸を支承する。
第7図に示す通り、ローラ14へ軸15とジヤ
ツキロツド18とは、処理室2の絶縁材内を通つ
て室内に入り、室2の外で支持される。
ツキロツド18とは、処理室2の絶縁材内を通つ
て室内に入り、室2の外で支持される。
ローラ14上に支持されたビレツト1は水平に
処理室2内に入り、止め部材によつて停止する。
ビレツト1は反対方向に僅かに戻り、処理室2内
の正しい水平位置とする。次にジヤツキを作動さ
せてフレーム16と二重V型ローラ22とを上に
押上げ、ビレツト1の軸線を処理室2の中央軸線
に一致させる。
処理室2内に入り、止め部材によつて停止する。
ビレツト1は反対方向に僅かに戻り、処理室2内
の正しい水平位置とする。次にジヤツキを作動さ
せてフレーム16と二重V型ローラ22とを上に
押上げ、ビレツト1の軸線を処理室2の中央軸線
に一致させる。
二重V型ローラ22は耐火材料とし、ビレツト
1の長さに沿つて均等な間隔とする。中央の二重
V型ローラ22を除き、他のローラ22は回転可
能とする。このため、ビレツト1の加熱による熱
膨脹はビレツト1の中央から両側に向けて均等に
生ずる。
1の長さに沿つて均等な間隔とする。中央の二重
V型ローラ22を除き、他のローラ22は回転可
能とする。このため、ビレツト1の加熱による熱
膨脹はビレツト1の中央から両側に向けて均等に
生ずる。
本発明の炉の他の実施例として、複数の処理室
2を設け、各室2における各ジヤツキ装置は個別
に作動させ、夫々の室2に対する個別の装入を可
能とする。
2を設け、各室2における各ジヤツキ装置は個別
に作動させ、夫々の室2に対する個別の装入を可
能とする。
生産目的のためには、ノズル出口は同じ型式の
ノズル出口を使用し、ポンチ又は鍛造型工具によ
つて所要の変形をさせて所定衝突角度即ち、円筒
ビレツトの軸線にできるだけ直角方向、を得る。
これによつてビレツト外での加熱ガスの全体とし
ての均等流が得られ、ビレツト1の面に均等な熱
伝達を行なう。
ノズル出口を使用し、ポンチ又は鍛造型工具によ
つて所要の変形をさせて所定衝突角度即ち、円筒
ビレツトの軸線にできるだけ直角方向、を得る。
これによつてビレツト外での加熱ガスの全体とし
ての均等流が得られ、ビレツト1の面に均等な熱
伝達を行なう。
発明の効果
本発明による加熱炉は円筒形装入物を全長及び
全周について均等に加熱する。従つて、既知の加
熱炉のように不均等加熱による歪み、曲りは生じ
ない。
全周について均等に加熱する。従つて、既知の加
熱炉のように不均等加熱による歪み、曲りは生じ
ない。
第1図は本発明の実施例による加熱炉の平面
図、第2図は第1図のA−A線に沿う断面図、第
3図は第2図のB−B線に沿う断面図、第4図は
第3図の部分Zの拡大図であり、第2図のD−D
線に沿う断面に対応する図、第5図は第2図のC
−C線に沿う断面図、第6図は搬送装置の斜視
図、第7図は搬送装置の断面図である。 1……ビレツト、2……処理室、3……ノズル
出口、4……チヤンネル、6……換気フアン、8
……デイフユーザ、14……搬送ローラ組立体、
18……垂直ジヤツキロツド、20……ヨーク、
22……支持ローラ。
図、第2図は第1図のA−A線に沿う断面図、第
3図は第2図のB−B線に沿う断面図、第4図は
第3図の部分Zの拡大図であり、第2図のD−D
線に沿う断面に対応する図、第5図は第2図のC
−C線に沿う断面図、第6図は搬送装置の斜視
図、第7図は搬送装置の断面図である。 1……ビレツト、2……処理室、3……ノズル
出口、4……チヤンネル、6……換気フアン、8
……デイフユーザ、14……搬送ローラ組立体、
18……垂直ジヤツキロツド、20……ヨーク、
22……支持ローラ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ビレツト、ロツド、管等の円筒形の装入物用
の加熱炉であつて、前記装入物の断面形に近似し
た形状の、少なくとも1つの処理室と、前記装入
物を前記処理室を通つて停止部材に達するまで長
手方向に延びる軸線に平行に移動させる搬送装置
と、循環ガス流を生じさせる換気装置のフアン
と、前記ガス流を加熱する加熱装置と、加熱され
た前記ガス流を前記処理室内に導入するノズル出
口とを有する、前記加熱炉において、 前記搬送装置は、前記装入物1を水平方向へ運
動させる搬送素子14と、前記装入物1を前記処
理室2内で、前記装入物1の断面形の関数とし
て、かつ前記装入物1の長手方向軸線に垂直な方
向に、前記処理室2の中心に一致させる、ジヤツ
キ装置16,18,20,22を有し、 前記ノズル出口3は、前記処理室2の壁に取り
付けられ、加熱されたガスのジエツトを前記装入
物1の長手方向軸線に関して半径方向に、かつ前
記装入物1の表面に向けて、噴射するように構成
され、 前記ノズル3に加熱されたガスを供給するチヤ
ンネル4は前記処理室2の両端から供給するよう
に構成され、 前記換気装置は、前記処理室2からガスを導出
し両方の入口9から前記チヤンネル4に供給する
ように、前記処理室2の長手方向中央部の上方に
配置されている、 ことを特徴とする、円筒形の装入物用の加熱炉。 2 前記ジエツト流が前記円筒形装入物1の外皮
に衝突する点は、前記装入物1の周面を開いて平
坦面としたときに、正三角形の頂点に位置するよ
うになつている、特許請求の範囲第1項に記載の
加熱炉。 3 前記正三角形の一辺の長さは前記ノズル出口
の面と平均直径を有する前記装入物の周面との間
の距離にほぼ等しい、特許請求の範囲第2項に記
載の加熱炉。 4 前記ノズル出口が円形の場合には前記ノズル
出口3の直径は前記ノズル出口3と前記装入物の
周面との間の平均距離の約5分の1である、特許
請求の範囲第3項に記載の加熱炉。 5 前記処理室2の上方に前記装入物1のほぼ全
長に延在する区画室7を設けてなる、特許請求の
範囲第1項ないし第4項のうちのいずれか1項に
記載の加熱炉。 6 前記区画室7に連結された前記換気装置6が
ガスをデイフユーザ8の両側に対象に搬送する、
特許請求の範囲第5項に記載の加熱炉。 7 前記デイフユーザ8の端部にバーナーを設
け、前記バーナーの炎を前記換気装置6から流れ
る循環ガスに向ける、特許請求の範囲第6項に記
載の加熱炉。 8 前記チヤンネル4はその断面積を入口端9か
ら中央部10に向かつて減少させている、特許請
求の範囲第1項ないし第7項のうちのいずれか1
項に記載の加熱炉。 9 前記装入物を搬送するための装置は水平方向
に配置された複数のローラ14によつて構成され
ている、特許請求の範囲第1項ないし第8項のう
ちのいずれか1項に記載の加熱炉。 10 前記ジヤツキ装置は、ジヤツキによつて垂
直方向に移動可能な支持フレームと、前記装入物
1を支持するための二重V型ローラ22とを有す
る、特許請求の範囲第1項ないし第9項のうちの
いずれか1項に記載の加熱炉。 11 前記装入物1の中央点に位置する前記二重
V型ローラ22は回転しないように構成されて
る、特許請求の範囲第10項に記載の加熱炉。
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