JPH0581702A

JPH0581702A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH0581702A
Application number: JP3243787A
Authority: JP
Inventors: Yukari Hatsutori; 部由香里服; Kazuyuki Miyamoto; 本和幸宮; Masayoshi Kurisu; 栖正吉栗; Tsutomu Saito; 藤勉斉; Noriyuki Murakoshi; 越則行村
Original assignee: KEMITETSUKU KK; Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Current assignee: KEMITETSUKU KK; Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority date: 1991-09-24
Filing date: 1991-09-24
Publication date: 1993-04-02

Abstract

(57)【要約】【構成】透明基板上に、記録および／または再生部を
備えた記録層と、保護層とを有する光記録媒体におい
て、該保護層が、高い表面硬度を有する樹脂層からなる
表面層と、この表面層および／または他の層に密着性を
有する樹脂層からなる内面層の少なくとも２層で構成さ
れる。【効果】耐磨擦特性に優れるとともに層間接着性にも
優れた光記録媒体が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク、光磁気デ
ィスク等ディスク媒体や、光カード等のカード媒体等の
光記録媒体に関し、特に、保護層が少なくとも２層の組
成物で構成されてなる光記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術とその問題点】近年、社会の情報化の進展
に伴い、大容量記録媒体に対するニーズが高まってい
る。その一つとして現在既に実用化されている光記録媒
体（光磁気記録媒体）は、データの書換が可能で大容量
かつ可搬性である上、非接触読みだしが可能であるので
傷や埃に強いという長所を有している。このため光記録
媒体の用途は、計算機用外部メモリにとどまらず、電話
やファクシミリ通信を始めとする各種通信用機器のメモ
リやオーディオ用媒体へと広がりつつある。ところで、
従来の光磁気記録はオーバーライトが行えないという欠
点を有していた。この欠点を克服するため、近年、記録
時に記録信号に従って記録磁界の方向を反転させて記録
を行ういわゆる磁界変調記録が盛んに行われるようにな
ってきた。この記録方法で高周波数の記録を行う場合に
は、磁気ヘッドが高速で回転する媒体の面振れに追従す
るように浮上ヘッドという方式が採られている。

【０００３】浮上型ヘッドの動作では、浮上型ヘッドは
媒体が回転しているあいだはヘッドが浮上するが、静止
中及び回転開始時には媒体と磁気ヘッドは接触状態にあ
る。この現象をＣＳＳ(Contact Start and Stop)と言
う。ＣＳＳ動作を行なうと媒体とヘッドは摩擦状態とな
る。摩擦を繰り返すと媒体の破壊あるいは磁気ヘッドの
破壊（ヘッドクラッシュ）が発生する危険があり機器の
信頼性を著しく損なう。従って、Contact Start and St
op時に耐摩擦性（以下ＣＳＳ耐久性という）に優れた、
磁気ヘッドと媒体が必要となり、特に媒体の表面被覆が
耐摩擦性に優れることが必要となる。光記録媒体の表面
の保護膜としては、基体の記録層側または記録層と反対
側の表面に架橋硬化型樹脂を被覆する方法が多数提案さ
れている。樹脂または樹脂形成成分として具体的には、
シリコーン系モノマーまたはこれらの成分と種々の重合
体との組成物、メチロールメラミンと他の硬化成分とか
らなる樹脂組成物、多官能性アクリル系カルボン酸エス
テル誘導体またはこれと他の重合成分との組成物などが
提案されている。前記被膜形成要素のうちで、多官能性
アクリル系カルボン酸エステル誘導体としては種々のタ
イプの化合物が提案されている。たとえば、アルカンポ
リオールのポリ（メタ）アクリレート、ポリオキシアル
キレングリコールのポリ（メタ）アクリレート、芳香族
（フェノール性）ポリヒドロキシル化合物のポリ（メ
タ）アクリレートなどの種々のタイプの化合物を被膜形
成要素として使用することが提案されている。これらの
多官能性アクリル系カルボン酸エステル誘導体を単独で
被膜形成要素として使用し、基体表面に被膜を形成させ
ても、これらの被膜は硬化の際の空気中における硬化速
度などの硬化特性に劣ったり、表面硬度、耐引掻き性、
耐摩耗性、可撓性、耐熱性、耐水性、耐溶剤性、耐候性
および基板への密着性などの被膜特性のいずれかまたは
これらの多くの物性に劣ることが多く、工業的規模の利
用における要求を充分に満足させることはできなかっ
た。また、これらの被膜形成要素のうちの二種以上の化
合物を組合わせて使用することによりこれらの欠点を改
善しようとする試みもなされているが、いずれもこれら
の欠点をある程度は改良することができても基体表面に
被覆する際には他の新たな難点があった。

【０００４】しかし、高度の耐摩耗性を有する表面被覆
は、一般的には硬く、他の層との密着性に劣ることが多
い。特に、光磁気ディスクはアルミニウムあるいはニッ
ケル合金等の金属からなる反射層またはアルミニウム合
金のような金属層からなる熱良伝導体層を有している
が、これらの金属層と耐摩耗性を有する表面被覆との密
着性が問題となることが多い。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
の従来技術における問題点を解決し、空気中での硬化特
性に優れるとともに、樹脂や金属などの成形体に対する
付着性に優れ、加熱工程を省略しても十分な付着力を示
し、表面硬度、耐引掻き性ならびに特に帯電防止性能に
優れ特にＣＳＳ耐久性に優れた表面層を有し、さらに、
この表面層と他の層との密着性に優れた内面層とを有す
る光記録媒体を提供しようとする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、透明基板上
に、記録および／または再生部を備えた記録層と、保護
層とを有する光記録媒体において、該保護層が、高い表
面硬度を有する樹脂層からなる表面層と、この表面層お
よび／または他の層に密着性を有する樹脂層からなる内
面層の少なくとも２層で構成される光記録媒体を提供す
る。

【０００７】ここで、前記高い表面硬度を有する樹脂層
が、（Ａ）重合可能なアクリル基、またはメタクリル基
またはビニル基を１個以上有する化合物またはこれらの
混合物と、（Ｂ）アルコール系有機溶剤を有機溶剤量の
４０重量％以上含有する有機溶剤と、（Ｃ）重合開始剤
とを含有する組成物よりなる光記録媒体である。

【０００８】また、前記組成物が、さらに、（Ｄ）１分
子内に下記式（１）で表される結合を有する５価のＰ原
子を１個以上含む化合物を含有する光記録媒体である。

【化２】

【０００９】また、密着性の高い樹脂層が、金属および
／または半金属および／またはこれらの合金層に対して
密着性を有する樹脂層である光記録媒体である。

【００１０】ここで、前記光記録媒体が、記録時に記録
信号に従って印加磁界の方向を反転させるものである光
記録媒体である。

【００１１】以下に本発明を詳細に説明する。

【００１２】本発明の光記録媒体を、図面に示す好適例
を用いて説明する。

【００１３】図１は、光ディスク１の構成を示す模式図
の一例である。光ディスク１は、透明基板２上に記録お
よび／または再生部としての記録ピット３を有し、その
上に反射層４を有し、この上にオーバーコート膜として
の保護層７を有する。保護層７は、密着性の高い樹脂層
である内面層５と高い表面硬度を有する樹脂層である表
面層６の少なくとも２層で構成される。反射層は、保護
膜、エンハンス膜としての役目も持ち、多層構造にすれ
ば反射率を高くできる。基板２のもう一方の表面は、ト
ップコート膜８で保護されている。

【００１４】図２は、他の光磁気ディスク１０の構成を
示す模式図の一例である。光磁気ディスク１０は、基板
２上に記録および／または再生部としての記録層９を有
し、その上にオーバーコート膜としての保護層７を有す
る。保護層７は、密着性の高い樹脂層である内面層５と
高い表面硬度を有する樹脂層である表面層６の少なくと
も２層で構成される。基板２のもう一方の表面は、トッ
プコート膜８で保護されている。

【００１５】本発明は、上述したような光記録媒体であ
って、透明基板上に、記録および／または再生部を備え
た記録層と保護層とを有する光記録媒体において、該保
護層が高い表面硬度を有する樹脂層を表面層とし、密着
性の高い樹脂層を内面層とする、少なくとも２層で構成
される。

【００１６】高い表面硬度を有する樹脂層は、例えばそ
の表面が、ＪＩＳＫ５６５１に準じて測定した鉛筆硬
度ＨＢ以上の硬度を有する樹脂層、すなわち鉛筆硬度が
ＨＢ、１Ｈ、２Ｈまたは３Ｈ等を有する樹脂層である。
このような樹脂層を表面層に有する本発明の光記録媒体
は、耐摩耗性が高く、特に浮上型ヘッドにより再生又は
記録を行う際に、優れた耐摩擦力を示す。以上のような
特徴を持つ樹脂層の厚みは０．０１〜２０μｍの厚みで
あることが好ましく、さらに好ましくは０．０２〜２０
μｍであることが望ましい。

【００１７】また、本発明の光記録媒体のＣＳＳ耐久性
を更に高めるためには、ヘッドと媒体表面の接触面積を
減らし、ヘッドが浮上し易くなるようにするため、表面
をやすりなどでテクスチャ処理するか表面層に微粒子を
含有させるなどの処理を行うことが望ましい。

【００１８】一方、本発明の光記録媒体は、記録層を有
し、これはさらにＡｌやＡｌ合金のような金属層等から
なる反射膜を有している。一般に高い表面硬度を有する
樹脂層は、硬度が高いので金属層等の反射膜や記録層に
対する付着力はある程度持っているもののより強い付着
力を有することが望ましい。

【００１９】そのため本発明は、保護層の内面側にある
内面層に密着性の高い樹脂層を設ける。密着性は他の層
との間の密着性が高いことが必要であり、他の樹脂との
密着性および／または他の金属層（例えばＡｌ、Ａｌ合
金、Ｎｉ合金等）との密着性が必要である。本発明では
特にＡｌに対する接着強度を碁盤目テストにより測定し
たとき剥離のない樹脂が好ましい。これら金属に対する
密着性の優れた樹脂としては具体的には例えばアクリレ
ート系の樹脂、メタクリレート系の樹脂、ポリイミド系
の樹脂、エポキシ系の樹脂等が挙げられ、更に具体的に
は例えば市販の紫外線硬化型の樹脂である大日本インキ
化学工業（株）製のダイキュアクリア^RＳＤ−１０１や
ダイキュアクリア^R ＳＤ−３０１を用いることができ
る。この他の樹脂であっても金属に対する密着性に優れ
ていれば使用することができる。このように密着性に優
れた樹脂の塗布厚は０．０１〜３０μｍの範囲であるこ
とが好ましく、さらに好ましくは０．０２〜２０μｍで
あることが望ましい。

【００２０】本発明の保護層は、上述の二層のみから構
成される層に限定されるものではなく、他に帯電防止
層、プライマー層等の他の層を有するものであってもよ
い。例えばプライマー層としては、β−不飽和カルボン
酸、その酸無水物、そのエステルなどのα，β−不飽和
カルボン酸またはその誘導体成分がグラフトされた変性
ポリオレフィンが通常使用される。

【００２１】高い表面硬度を有する樹脂層としては、例
えば以下の樹脂層があげられる。第１には、（Ａ）重合
可能なアクリル基、またはメタクリル基またはビニル基
を１個以上有する化合物またはこれらの混合物と、
（Ｂ）アルコール系有機溶剤を有機溶剤量の４０重量％
以上含有する有機溶剤と、（Ｃ）重合開始剤とを含有す
る硬化型樹脂組成物よりなる層である。第２には、上述
の硬化型樹脂組成物に、さらに（Ｄ）１分子内に５価の
ホスホリル結合を有する５価のＰ原子を１個以上含む化
合物を有するものである。

【００２２】用いられる（Ａ）重合可能なアクリル基、
またはメタクリル基またはビニル基を１個以上有する化
合物またはこれらの混合物は、具体例をあげると、ウレ
タン（メタ）アクリレート類、エポキシ（メタ）アクリ
レート類、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
などのポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート
類、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メ
タ）アクリレートなどのアルキレンオキサイド変性ビス
フェノールＡジ（メタ）アクリレート類、ペンタエリト
リトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシ（メタ）メ
タクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レートなどのアルコールと（メタ）アクリル酸化合物
類、Ｎビニルピロリドン、Ｎビニルカプロラクタム、ト
リアリルイソシアヌレートなどのビニル化合物類、など
を例示することができ、これらの２種以上の混合物を使
用することもできる。

【００２３】用いられる（Ｂ）アルコール系有機溶剤と
はメタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチル
アルコール、イソペンチルアルコール、ヘキサノール、
ジアセトンアルコール、２−メトキシエタノール、２−
エトキシエタノールなどを例示することができ、これら
の２種以上の混合物を使用することもできる。アルコー
ル系有機溶剤には他の有機溶剤を混合してもよい。この
ような混合可能な有機溶剤の例として、アルコール系以
外の有機溶剤は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメ
ン、ヘキサン、エチルベンゼン、ヘプタン、オクタン、
石油エーテル、リグロイン、シクロヘキサン、メチルシ
クロヘキサンなどの炭化水素類、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、プロモホルム、トリクレン、二塩
化エチレン、パークレン、三塩化エタン、四塩化エタ
ン、二塩化プロピレン、クロロベンゼン、プロモベンゼ
ンなどのハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、などのケトン類、
ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸ペンチ
ル、安息香酸メチル、安息香酸エチルなどのエステル類
などを例示することができ、これらの２種以上の混合物
を使用することもできる。

【００２４】有機溶剤中アルコール系有機溶剤が４０重
量％以上含有する事が好ましく、さらに好ましくは６０
重量％以上である。

【００２５】この範囲が好ましいとする理由はアルコー
ル系溶剤を４０重量％以上含有する有機溶剤は、この樹
脂組成物のポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレー
ト、ポリオレフィンなどの被コーティング材に対する侵
食を防止し、表面の白濁現象、表面クラックを防ぎ、良
好な皮膜を形成する。

【００２６】また、この組成物は、成分（Ａ）、（Ｂ）
および（Ｃ）の他に、必要に応じて成分（Ｄ）を加えて
もよい。成分（Ｄ）の１分子内に下記式（１）で表わさ
れる結合（ホスホリル結合）をする５価のＰ原子を１個
以上含む化合物は、

【化３】例ば、下記式（２）で示される。

【化４】ここで、Ｒ、Ｒ¹、Ｒ²はＨまたはＣ₁〜Ｃ₂₄のアルキ
ル基、アリール（Ａｒｙｌ）基、アラルキル基、オキシ
アルキレン基であり、Ｈは最大２個までである。

【００２７】またＲ、Ｒ¹、Ｒ²がＨの場合には、１分
子中に少なくとも１個以上の１級アミノ基、２級アミノ
基、３級アミノ基を含む化合物と塩になっていてもよ
い。

【００２８】式（２）で示される化合物のうち、さらに
１分子中に重合可能な不飽和基を１個以上含むものも挙
げられる。

【００２９】これらアミノ化合物は、Ｃ₁〜Ｃ₂₀までの
アルキル基、アリール（Ａｒｙｌ）基、オキシアルキレ
ン基、（メタ）アクリロイルアルキレン基および（メ
タ）アクリロイルオキシアルキレン基を含むものが好ま
しく、特に２級、３級アミンが好ましい。

【００３０】好ましくは、アシッドホスホオキシエチル
（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシエ
チルアシッドホスフェートモノエタノールアミンハーフ
ソルトが用いられる。

【００３１】成分（Ｄ）の化合物は、上記（Ａ）の化合
物または混合物１００重量部に対し、０．００５〜２５
重量部、好ましくは０．０１〜２０重量部、より好まし
くは０．０２〜１８重量部とする。この範囲であると被
膜の帯電防止性能および透明性などの特性が良いからで
ある。

【００３２】この組成物を架橋硬化させて被膜を形成さ
せるためにはこの組成物に成分（Ｃ）の重合開始剤を配
合することが必要である。硬化方法としては、紫外線に
よる硬化方法、熱線による硬化方法などが通常採用され
る。紫外線硬化の場合には重合開始剤として光増感剤が
配合され、光増感剤として具体的には、ベンゾイン、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチ
ルエーテルなどのベンゾインまたはそのエーテル、ベン
ゾフェノン、ｐ−クロルベンゾフェノン、ｐ−メトキシ
ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物、ベンジ
ル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルエチルケター
ルなどのベンジル系化合物、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノ
ン、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−
プロパノン、１−（４−tert−ブチルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパノンなどのヒドロ
キシアルキルフェニルケトン系化合物などを例示するこ
とができる。熱による硬化の場合にはラジカル開始剤が
配合され、ラジカル開始剤として具体的には、アゾビス
イソブチロニトリルなどのアゾ化合物、ベンゾイルパー
オキシド、ラウリルペルオキシド、ジtert−ブチルペル
オキシド、ジクミルペルオキシド、クメンヒドロペルオ
キシドなどの過酸化物等を例示することができる。さら
に、この組成物に、光増感剤およびラジカル開始剤の両
者を配合し、紫外線硬化と熱硬化とを同時に進行させる
方法を採用することもできるし、紫外線硬化を進行させ
た後に熱硬化を進行させる方法を採用することもできる
し、さらに逆に熱硬化を進行させた後に紫外線硬化を進
行させる方法を採用することも可能である。

【００３３】重合開始剤の配合割合は、上記（Ａ）の化
合物または混合物１００重量部に対して０．０１〜２０
重量部の範囲にあることが好ましく、さらに０．１〜１
０重量部の範囲にあることが好ましい。

【００３４】この範囲であると、硬化時の硬化特性およ
び硬化被膜の表面硬度、耐引掻き性、耐摩耗性、耐溶剤
性、基体への密着性などの特性が良いからである。

【００３５】この組成物は前記必須成分のみからなる組
成物である場合もあるが、さらに必要に応じて重合禁止
剤、透明性の充填剤、溶剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤
などの安定剤、蛍光増白剤、メチル（メタ）アクリレー
ト、ポリウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレ
ートなどの（反応性）オリゴマーおよびポリメチルメタ
クリレートなどのポリマー等の各種添加剤を配合するこ
とができる。これらの添加剤の配合割合は適宜である。

【００３６】この組成物中には、必要に応じて微粉末状
充填剤を配合しても差し支えない。該微粉末状充填剤の
平均粒径は粉末状を形成している限りにおいて任意であ
るが通常は０．２μｍないし１０μｍ、好ましくは０．
３μｍないし１μｍの範囲である。このような微粉末状
充填剤として具体的には、アルミナ、αFe₂O₃、カーボ
ンブラック、ガラス粉末、マイカ、ガラスビーズ、ガラ
スフレーク、ケイソウ土、無水シリカ、水和シリカ、ケ
イ石、ケイ砂、石英、カオリナイト、モンモリロナイ
ト、セリサイト、タルク、縁泥石、陶石、長石などを例
示することができる。また、これらの微粉末状無機充填
剤の表面をアルキルカルボン酸塩またはシランカップラ
ーやチタンカップラー、Ｃｌ₂Ｓｉ（ＣＨ₃）₂、アル
コールなどによって表面処理したものも同様に使用でき
る。また、前記充填剤を水またはアルコール中に懸濁さ
せたコロイダルシリカ、メタノールシリカゾル、エタノ
ールシリカゾル、イソプロパノールシリカゾルなどを使
用することもできる。これらの微粉末状充填剤のうちで
は、微粉末状シリカを配合すると被覆層の表面硬度、耐
引掻き性および耐摩耗性が著しく向上しとくに好まし
い。これらの微粉末状充填剤の配合割合は、上記のメタ
アクリルモノマーまたはオリゴマーまたはこれらの混合
物１００重量部に対し、０．５〜２００重量部、好まし
くは０．５〜１００重量部とする、さらに好ましくは
１．０〜５０重量部とする。これは被覆の表面硬度、耐
引掻き性、耐摩耗性を向上させることができるからであ
る。

【００３７】この組成物には、上記必須成分の有機溶剤
以外にその塗布作業性を向上させるために必要に応じて
溶剤が加えられ、溶液状態または懸濁状態に維持され
る。溶剤は該組成物を液体化または懸濁液化したり、該
組成物の粘度を調節したりあるいは成形物に対する濡れ
を向上させる目的でも使用される。

【００３８】溶剤として具体的には、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クメン、エチルベンゼン、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、石油エーテル、リグロイン、シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素、塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモホルム、
トリクレン、二塩化エチレン、パークレン、三塩化エタ
ン、四塩化エタン、二塩化プロピレン、クロロベンゼ
ン、ブロモベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ペ
ンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチ
レングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサンなどの
ケトン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ブチ
ルエチルエーテルジブチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテルなどのエーテル、アセトニトリル、プロピオニト
リル、カプロニトリルなどのニトリル、ギ酸メチル、ギ
酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、安息香酸メ
チル、安息香酸エチルなどのエステル等を例示すること
ができる。これらの有機溶剤の配合割合は、上記（Ａ）
の化合物または混合物１００重量部に対し、５〜１００
重量部、好ましくは、５〜３００重量部、より好ましく
は、５〜１００重量部とする。この範囲とする理由は、
組成物の塗布適性がよいからである。

【００３９】この組成物において、前記必須成分、必要
に応じて加えられる無機、有機充填剤、溶剤、安定剤な
どの各種添加剤成分を配合した組成物から溶液状組成物
または懸濁液状組成物を調製する方法としては、前述の
原料混合物を調合し、通常、ロール、バンバリーミキサ
ー、ボールミル、アトライタ、ウィッパー、オークスミ
キサー、ディソルバー、ホモジナイザー、コロイドミ
ル、サンドミル、振動ミル、ミキサー混合撹拌槽などに
よる混練混合操作により均一に溶解あるいは分散した組
成物が得られる。該溶液状組成物および懸濁液状組成物
をポリオレフィンからなる成形体の表面上に塗布する方
法としては、刷毛塗り法、スプレー法、浸漬法、バーコ
ート法、ロールコーター法、スピンコーター法、ゲルコ
ーター法などの従来から公知の方法を採用することがで
きる。また、該被膜を乾燥させる方法としては、自然乾
燥法、キャリアガスによる強制乾燥法、赤外線炉、遠赤
外線炉、熱風炉を用いた加熱乾燥法などを例示すること
ができる。また、前述の被膜を硬化させ、被膜を形成さ
せる方法としては、光とくに紫外線により重合架橋硬化
させる方法、熱により重合架橋硬化させる方法などを例
示することができる。これらの重合架橋硬化の方法のう
ちで、光硬化法では通常−１０ないし１５０℃、好まし
くは５ないし１３０℃の温度で光照射が実施され、その
時間は通常１ｓｅｃないし１ｈｒ、好ましくは１ｓｅｃ
ないし１０ｍｉｎである。また、熱硬化法では硬化の際
の温度は通常−１０ないし１５０℃、好ましくは５ない
し１３０℃であり、硬化に要する時間は通常０．０５な
いし１０ｈｒ、好ましくは０．１ないし８ｈｒである。

【００４０】本発明を構成する透明基板２の材料として
は、ガラスやアルミニウム等の無機材料、ポリメチルメ
タアクリレート、ポリメタクリレートのようなアクリル
樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、米国特許第４
６１４７７８号明細書に示されるようなエチレン・環状
オレフィン共重合体例えばエチレンと１，４，５，８−
ジメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オク
タヒドロナフタレン（テトラシクロドデセン）との共重
合体、エチレンと２−メチル−１，４，５，８−ジメタ
ノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒド
ロナフタレン（メチルテトラシクロドデセン）との共重
合体、エチレンと２−エチル−１，４，５，８−ジメタ
ノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒド
ロナフタレンとの共重合体など、ポリ４−メチル−１−
ペンテン、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルフォン、ポ
リサルフォン、ポリエーテルイミドあるいは特開昭６０
−２６０２４号広報に示されるようなテトラシクロドデ
セン類の単独開環重合体やノルボルネン類との開環共重
合体を水添したもの、あるいはこれら各ポリマー同士も
しくは他のポリマーとを混合して得られるポリマーアロ
イ、例えばポリカーボネートとポリスチレンのポリマー
アロイ等の有機材料を使用できる。

【００４１】基板の形状はフィルム状、シート状、カー
ド状、板状、円板状その他いかなる形状の成形体であっ
てもよい。具体的には、３．５インチディスク、５．２
５インチディスク、８インチディスク、直径６４ｍｍの
ディスク等が挙げられるが、ディスク媒体に限らず光カ
ード、フロプティカルディスク(Floptical Disk)であっ
てもよい。

【００４２】本発明の光記録媒体において、基板上に、
少なくとも２層からなる保護層を形成する方法は、記録
層、反射層等の層を介して被覆される面に、直接あるい
は種々の溶剤による洗浄、アルカリ水溶液による洗浄、
界面活性剤による洗浄、超音波による洗浄、電解による
洗浄、ブラスト処理、サンドブラスト処理、酸またはア
ルカリによるエッチング処理、フレーム処理、コロナ放
電処理、アーク放電処理、グロー放電処理、プラズマ放
電処理、化成処理などの種々の表面処理を施し、まず内
面層である密着性の高い樹脂層を塗布硬化した後、次に
表面層を塗布硬化する。

【００４３】本発明を構成する記録および／または再生
部は、例えば、記録ビットを形成するプラスチック部や
ＳｉＯ₂層である。光磁気記録媒体の場合は、以下のよ
うな記録膜が例示される。たとえば記録膜が膜面に対し
て垂直な方向に一軸異方性を有する光磁気記録膜である
場合には、記録膜は、（ｉ）３ｄ遷移金属から選ばれる
少なくとも１種と、(iii) 希土類から選ばれる少なくと
も１種の元素とからなるか、あるいは（ｉ）３ｄ遷移金
属から選ばれる少なくとも１種と、(ii)耐腐食性金属
と、(iii) 希土類から選ばれる少なくとも１種の元素か
らなることが好ましい。（ｉ）３ｄ遷移金属としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｖ、
Ｃｒ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎなどが用いられるが、こ
のうちＦｅまたはＣｏあるいはこの両者であることが好
ましい。 (ii)耐腐食性金属は、記録膜に含ませることによって、
この光磁気記録膜の耐酸化性を高めることができる。こ
のような耐腐食性金属としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｃｒ、Ｒｕなどが用いら
れるが、このうちＰｔ、Ｐｄ、Ｔｉが好ましく、特にＰ
ｔまたはＰｄあるいはこの両者であることが好ましい。 (iii) 希土類元素としては、たとえばＧｄ、Ｔｂ、Ｄ
ｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐ
ｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕなどが用いられる。このう
ちＧｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｐｒが好まし
く用いられる。このような光磁気記録膜では、（ｉ）３
ｄ遷移金属は、３０〜８５原子％好ましく４０〜７０原
子％の量で、(ii)耐腐食性金属は３０原子％まで好まし
くは２〜２５原子％までの量で、(iii) 希土類元素は５
〜５０原子％好ましくは１５〜４５原子％の量で存在し
ていることが望ましい。記録膜がたとえば相変化型記録
膜である場合には、記録膜は、たとえば、Ｔｅを主成分
とした合金薄膜、Ｓｅを主成分とした合金薄膜、Ｔｅ−
Ｇｅ−Ｓｂ合金薄膜、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金薄膜、Ｔｅ
−Ｇｅ−Ｃｒ合金薄膜、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｚｎ合金薄膜等で
構成される。またＴｅ−Ｃ−Ｈ、Ｔｅ−Ｃｒ−Ｃ−Ｈ、
またはＴｅ−Ａｇなどの記録膜をもち、一回限り書込み
可能な追記型記録膜がある。さらに追記型や相変化型の
記録膜としてポリメチン系化合物、シアニン系化合物な
どの有機色素膜を用いることもできる。本発明の光記録
媒体には、基体と、記録および／または再生部以外に
も、必要に応じて記録および／または再生部と保護層と
の間にＡｌ、Ｎｉ合金等の反射膜や、Ｓｉ₃Ｎ₄、Ｓｉ
Ｎx （０＜ｘ＜４／３）、Ａｌ、Ａｕ、ＺｎＳｅ、Ｚｎ
Ｓ、Ｓｉ、ＳｉＯ₂・ＺｒＯ₂、Ｃｒ、ＣｄＳ等の無機
化合物膜からなる保護膜やエンハンス膜、またアクリル
系の紫外線硬化樹脂等の有機化合物膜からなる膜が設け
られる。また、基体と、記録および／または再生部との
間にＳｉ₃Ｎ₄、ＳｉＮx （０＜ｘ＜４／３）、Ａｌ、
Ａｕ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、Ｓｉ、ＳｉＯ₂・ＺｒＯ₂、
Ｃｒ、ＣｄＳ等の無機化合物膜からなるエンハンス膜を
設けてもよい。

【００４４】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００４５】（実施例）１．６μｍピッチでグルーブ
（案内溝）が存在する外径３．５インチの環状ポリオレ
フィン基板上にスパッタリング法を用いて以下の薄膜を
形成した。窒化シリコン０．１３μｍ／TbFeCo0.025 μｍ／窒化シ
リコン０．０３μｍ／Ａｌ合金０．１５μｍ次に、この薄膜上に１．５μｍの塗布厚で紫外線硬化型
樹脂ダイキュアクリア ^R ＳＤ−１０１（大日本インキ
（株）製）をスピンコート法により塗布した後、ＵＶ照
射装置を用いて約28000mJ/cm² の照射エネルギーで硬化
させた。次にこの薄膜上に以下に示す試料１〜９の被覆
用組成物を１μｍの塗布厚でスピンコーターを用いて塗
布した。室温で５分間放置後、ＵＶ照射装置を用いて約
28000mJ/cm ²の照射エネルギーで硬化させた。さらに、
この媒体の記録層側の表面にフジフィルムラッピング
テープ（品名Ａ８０００）を用いて円周方向にテクスチ
ャ処理を行った。このディスク媒体を用いて以下のよう
なＣＳＳ耐久試験を行なった。ＣＳＳ実験条件ヘッド浮上量：０．２μｍ媒体回転数：３６００ｒｐｍ実験位置：ディスク半径２５ｍｍ繰り返し（回転開始、停止）周期：１０秒実験環境：クラス１０００のクリーンルーム内、温度２
３℃、湿度５０％Ｒ．Ｈ．ＣＳＳ耐久性実験の結果、ＣＳＳ１×１０⁶回経過後、
媒体及び磁気ヘッドに変化は発生しなかった。

【００４６】被覆用組成物の調製（試料１）１Ｌの反応容器に、イソホロンジイソシアネ
ート１モル当量、２２３ｇ、ジブチルチンラウレート
０．０５ｇ、トリメチロールプロパントリアクリレート
３００ｇを入れた。滴下ロートより２ヒドロキシエチル
アクリレート２モル当量、２３２ｇを３０分で滴下し、
８５℃の温度でチッソガス雰囲気中で反応させた。１時
間反応後、粘調なウレタンアクリレート化合物（Ａ）を
得た。ウレタンアクリレート化合物（Ａ）３５０ｇ、ベ
ンゾインエチルエーテル１０ｇ、トルエン１５０ｇ、酢
酸エチル１５０ｇ、イソブチルアルコール３５０ｇ、ジ
デシル−ジ（２−ヒドロキシエチル）アミドホスフェー
ト３ｇを撹拌容器中に入れ、均一になるまで撹拌し、試
料１とした。

【００４７】（試料２）１Ｌの反応容器に、イソホロン
ジイソシアネート１モル当量、２２３ｇ、ジブチルチン
ラウレート０．０５ｇ、トリメチロールプロパントリア
クリレート３００ｇ、を入れた。滴下ロートよりペンタ
エリトールトリアクリレート２モル当量６００ｇを３０
分で滴下し、８５℃の温度でチッソガス雰囲気中で反応
せさた。１時間反応後、粘調なウレタンアクリレート化
合物（Ｂ）を得た。ウレタンアクリレート化合物（Ｂ）
３５０ｇと、ジエトキシアセトフェノン１０ｇ、キシレ
ン１５０ｇ、酢酸ブチル１５０ｇ、イソプロピルアルコ
ール３５０ｇ、メタアクリロイルオキシエチルアシッド
ホスフェート１．４ｇを撹拌容器に入れ、均一になるま
で撹拌し、試料２とした。

【００４８】（試料３）ジペンタエリストールヘキサア
クリレート１８０ｇ、ヒドロキシエチルアクリレート２
０ｇ、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン１０ｇ、トルエン１００ｇ、キシレン１
５０ｇ、ジアセトンアルコール１００ｇ、イソプロピル
アルコール４５０ｇ、アシッドホスホオキシエチルアク
リレート１８ｇを撹拌容器に入れ均一に撹拌し、試料３
とした。

【００４９】（試料４）エチレンオキサイド変性ビスフ
ェノールＡジアクリレート（商品名ＢＰ−４ＥＡ共栄
社油脂化学工業（株）製）３３０ｇ、Ｎビニルピロリド
ン２０ｇ、トルエン１００ｇ、酢酸エチル１００ｇ、イ
ソブチルアルコール３５０ｇ、２−メトキシメタノール
１００ｇ、ｔブチルハイドロパーオキサイド２ｇ、１−
ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン３ｇ、アシ
ッドホスホオキシプロピルメタクリレート１５ｇを撹拌
容器に入れ、均一に撹拌し、試料４とした。

【００５０】（試料５）実施例の方法で製造したウレタ
ンアクリレート化合物（Ａ）３５０ｇ、ベンゾインエチ
ルエーテル１０ｇ、トルエン１５０ｇ、酢酸エチル１５
０ｇ、イソブチルアルコール３５０ｇを撹拌容器に入
れ、均一になるまで撹拌し、試料５とした。

【００５１】（試料６〜９）試料１において、ジデシル
−ジ（２−ヒドロキシエチルアミド）ホスフェートの代
わりに表２に示す化合物を使用した他は試料１と同様に
して試料６〜９を調整した。

【００５２】試料１〜９の被覆用組成物の硬化後の物性
を以下のように評価し、表１および表２に記載した。（１）ヘイズＡＳＴＭＤ−１００３の方法に準じて行なった。（２）鉛筆硬度ＪＩＳＫ５６５１に準じて測定した。（３）密着性ＪＩＳＫ５４００−１９７９中のゴバン目テストに準じ
て行った。判定は１００個のゴバン目中、何個が接着し
ていたかで示す。（４）表面抵抗値ＡＳＴＭＤ−２５７−７８に準じて測定した。（５）耐湿テスト６０℃、相対湿度８５％の恒温恒湿槽に試験片を１００
時間保持する。試験片を恒温恒湿槽から取り出した後
に、試験片が室温になるまで放置し、ヘイズ、密着性、
表面抵抗値を測定した。

【００５３】

【表１】

【００５４】

【表２】

【００５５】

【化５】

【００５６】

【化６】

【００５７】

【発明の効果】本発明は、高い表面硬度を有する樹脂層
からなる表面層と、この表面層および／または他の層に
密着性を有する樹脂層からなる内面層の少なくとも２層
で構成される保護膜を有する光記録媒体であり、樹脂、
金属、等の他の層に対する付着性に優れ、表面硬度、耐
引掻き性、耐摩耗性、ならびに特に帯電防止性能に優れ
ている表面層を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】光ディスクの構成を示す模式図である。

【図２】光磁気ディスクの構成を示す模式図である。

【符号の説明】

１光ディスク２基板３記録ピット４反射層５内面層６表面層７保護層８トップコート膜９記録層１０光磁気ディスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者栗栖正吉千葉県袖ケ浦市長浦字拓二号580番32 三井石油化学工業株式会社内 (72)発明者斉藤勉東京都府中市若松町２−８−33 ケミテツク株式会社内 (72)発明者村越則行東京都府中市若松町２−８−33 ケミテツク株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板上に、記録および／または再生部
を備えた記録層と、保護層とを有する光記録媒体におい
て、該保護層が、高い表面硬度を有する樹脂層からなる
表面層と、この表面層および／または他の層に密着性を
有する樹脂層からなる内面層の少なくとも２層で構成さ
れることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】前記高い表面硬度を有する樹脂層が、
（Ａ）重合可能なアクリル基、またはメタクリル基また
はビニル基を１個以上有する化合物またはこれらの混合
物と、（Ｂ）アルコール系有機溶剤を有機溶剤量の４０重量％
以上含有する有機溶剤と、（Ｃ）重合開始剤とを含有する組成物よりなる請求項１
記載の光記録媒体。
【請求項３】前記組成物が、さらに、（Ｄ）１分子内に下記式（１）で表される結合を有する
５価のＰ原子を１個以上含む化合物を含有する請求項２
に記載の光記録媒体。【化１】
【請求項４】前記他の層が、金属および／または半金属
および／またはこれらの合金よりなる層である請求項１
ないし３のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項５】前記光記録媒体が、記録時に記録信号に従
って印加磁界の方向を反転させるものである請求項１な
いし４のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項６】前記（Ａ）重合可能なアクリル基、または
メタクリル基またはビニル基１個以上有する化合物また
はこれらの混合物１００重量部に対し、前記（Ｂ）有機
溶剤５〜１５００重量部、前記（Ｃ）重合開始剤０．０
１〜２０重量部である請求項２ないし５のいずれかに記
載の光記録媒体。
【請求項７】前記（Ａ）重合可能なアクリル基、または
メタクリル基またはビニル基１個以上有する化合物また
はこれらの混合物１００重量部に対し、前記（Ｂ）有機
溶剤５〜１５００重量部、前記（Ｃ）重合開始剤０．０
１〜２０重量部、前記（Ｄ）５価のＰ原子を１個以上含
む化合物０．０１〜２５重量部である請求項３ないし５
のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項８】前記（Ｄ）５価のＰ原子を１個以上含む化
合物が、さらに１分子中にヒドロキシル基を１個以上含
むものである請求項３ないし５のいずれか、または請求
項７に記載の光記録媒体。