JPH0581700U - 蛍光x線膜厚測定装置 - Google Patents
蛍光x線膜厚測定装置Info
- Publication number
- JPH0581700U JPH0581700U JP021183U JP2118392U JPH0581700U JP H0581700 U JPH0581700 U JP H0581700U JP 021183 U JP021183 U JP 021183U JP 2118392 U JP2118392 U JP 2118392U JP H0581700 U JPH0581700 U JP H0581700U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- collimator
- ray
- primary
- film thickness
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/04—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 細長い形状に一次X線を照射するためのコリ
メータを細長い測定部位に一致させることを目的とす
る。 【構成】 一次X線ビームを細長い形に絞るためのコリ
メータと、そのコリメータを一次X線ビーム軸を中心に
回転、停止させる機能をもたせ、そしてコリメータの回
転角から一次X線照射位置を重畳させて、試料表面を観
察する表示装置より構成する。 【効果】 コリメータの開口形状が試料表面を観察する
表示装置に重畳されて表示されるため細長い測定部位に
容易に一次X線照射することができる。
メータを細長い測定部位に一致させることを目的とす
る。 【構成】 一次X線ビームを細長い形に絞るためのコリ
メータと、そのコリメータを一次X線ビーム軸を中心に
回転、停止させる機能をもたせ、そしてコリメータの回
転角から一次X線照射位置を重畳させて、試料表面を観
察する表示装置より構成する。 【効果】 コリメータの開口形状が試料表面を観察する
表示装置に重畳されて表示されるため細長い測定部位に
容易に一次X線照射することができる。
Description
【0001】
この考案は蛍光X線を利用した膜厚測定装置に関する。
【0002】
蛍光X線を利用して、微小部分の膜厚を測定する場合、励起のための一次X線 を測定対象の微小部分に照射する手段としてコリメータが使用されている。コリ メータは対象の大きさによって、何種類かの中から適当なものが選択される。コ リメータは通常、円形か正方形である。しかし、コリメータの開口面積が小さい と充分なX線強度が得られないため、細長い測定部位の場合には、より多くのX 線強度を得る目的で、長方形のコリメータを用いていた。
【0003】 長方形のコリメータを用いる場合、細長い測定部位の長手方向とコリメータの 長手方向を完全に一致させるように試料を置き測定していた。
【0004】
しかし、従来技術によると長方形のコリメータによってより多くのX線強度は 得られるが、実際の測定においては、測定部位の長手方向とコリメータの長手方 向を完全に一致させるように試料を置く必要のあること、一試料中に長手方向の 向きがそれぞれ異なる測定部位がある場合には一回一回試料をその測定部位の長 手方向をコリメータの長手方向に一致させるように回転させる必要があること等 、作業性が非常に悪いという課題があった。
【0005】 そこでこの考案の目的は、従来のこのような作業性の悪さを解決するため、長 手方向がどのような方向を向いている測定部位に対しても簡単に位置決めができ る蛍光X線膜厚測定装置を得ることである。
【0006】
【課題を解決するための手段】 上記課題を解決するために、この考案は長方形の一次X線コリメータをその中 心点のまわりに180°の角度の任意な位置に自由に回転、停止することができ 、その向いている方向が試料観察装置で確認できるようにした、蛍光X線膜厚測 定装置を得ることである。
【0007】
上記のように構成された蛍光X線膜厚測定装置においては、その中心点のまわ りに180°の角度の任意な位置に止めることができるような長方形のコリメー タを設ける。さらにそのコリメータが向いている方向を試料観察装置で確認する ことにより、試料上で任意の方向を向いている細長い測定部位に対して容易に位 置合わせすることが可能となる。
【0008】
以下に、この考案の実施例を図に基づいて説明する。 図1において、X線管1により発生した一次X線aは長方形の開口を持つコリ メータ2によりビーム状に絞られ、試料観察のための鏡3を透過してX−Y自動 試料台4に載せられた試料5に照射される。前記試料から発生した蛍光X線bは X線検出器6で検出され、後に続く図示しない信号処理系で処理され膜厚に変換 される。
【0009】 一方、試料5の形状は鏡3を通しテレビカメラ7とCRT8を用いて前記CR T8上に表示される。このとき同時にレチクル9の像もハーフミラー10を通し て試料像と重畳され前記CRT8上に表示される。前記レチクル9には、前記コ リメータ2の方向を示す十字線と、前記コリメータ2の形状を示す線が刻されて いる。前記コリメータ2はコリメータ駆動モータ11によって長方形の中心を中 心とし、長方形の面に垂直な軸のまわりを回転する。同様に前記レチクル9もレ チクル駆動モータ12によって十字線の交点を中心とし十字線に垂直な軸のまわ りを回転する。
【0010】 前記コリメータ駆動モータ11と前記レチクル駆動モータ12は、モータ制御 器13によって同じ角度だけまわるように制御される。前記X−Y自動試料台4 上での前記一次X線aのビームの中心位置と前記CRT8に表示される前記レチ クル9の十字線の交点が一致するように、前記鏡3、レチクル9、ハーフミラー 10、テレビカメラ7よりなる光学系を調整し、さらに前記コリメータ2によっ て長方形に絞られた前記一次X線aのビームの試料台上での長手方向の向きとそ の時、前記CRT8上に表示される十字線の向きを一致させるように前記レチク ル9の角度と前記コリメータ2の角度を調整する。このように構成、調整された 蛍光X線膜厚測定装置で細長い測定部位の膜厚を測定しようとする場合、前記試 料5を載せた前記X−Y自動試料台4を動かして測定したい部位をまず十字線の 交点に持ってくる。
【0011】 次に前記コリメータ2を回転させ前記CRT8上に表示された前記レチクル9 のコリメータ形状像あるいは十字線と測定部位の方向を一致させた後、膜厚測定 を開始すれば良い。 図2は図1と同様な実施例であるが、図2の場合は十字線とコリメータ形状像 を、前記図1のレチクル9、ハーフミラー10、レチクル駆動モータ12の代わ りに、電子的に発生させる十字線発生器14を用いて前記CRT8上に表示する ようにしたものである。
【0012】
この考案は、以上説明したように長方形のコリメータを一次X線ビームの軸の まわりに回転させ任意の位置に停止できるようにし、さらにその長方形の長手方 向の向きを試料観察装置により確認できるような構成としたため、任意な方向を 向いた細長い測定部位の位置、方向合わせを容易にする効果がある。
【図1】本考案の実施例の斜視図を示す。
【図2】本考案の他の実施例の斜視図を示す。
1 X線管 2 コリメータ 3 鏡 4 X−Y自動試料台 5 試料 6 X線検出器 7 テレビカメラ 8 CRT 9 レチクル 10 ハーフミラー 11 コリメータ駆動モータ 12 レチクル駆動モータ 13 モータ制御器 14 十字線発生器 a 一次X線 b 蛍光X線
Claims (1)
- 【請求項1】 試料観察装置を備えた蛍光X線膜厚測定
装置において、一次X線ビームを長方形に絞るためのコ
リメータと、該コリメータを一次X線ビーム軸のまわり
に回転、停止させる機能と該コリメータの回転角と該一
次X線照射位置を試料観察と重畳させて観察あるいは表
示する機能を有することを特徴とする蛍光X線膜厚測定
装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP021183U JPH0581700U (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 蛍光x線膜厚測定装置 |
US08/044,363 US5299252A (en) | 1992-04-07 | 1993-04-07 | Fluorescent X-ray film thickness measuring apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP021183U JPH0581700U (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 蛍光x線膜厚測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0581700U true JPH0581700U (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=12047832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP021183U Pending JPH0581700U (ja) | 1992-04-07 | 1992-04-07 | 蛍光x線膜厚測定装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5299252A (ja) |
JP (1) | JPH0581700U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4731749B2 (ja) * | 2001-07-13 | 2011-07-27 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3258118B2 (ja) * | 1993-03-19 | 2002-02-18 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 帯状の試料の中心を検出する方法 |
DE19710420C2 (de) * | 1997-03-13 | 2001-07-12 | Helmut Fischer Gmbh & Co | Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Dicken dünner Schichten mittels Röntgenfluoreszenz |
JP3062685B2 (ja) * | 1998-07-23 | 2000-07-12 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 蛍光x線分析計 |
US6787773B1 (en) | 2000-06-07 | 2004-09-07 | Kla-Tencor Corporation | Film thickness measurement using electron-beam induced x-ray microanalysis |
JP2002031522A (ja) * | 2000-07-18 | 2002-01-31 | Seiko Instruments Inc | 蛍光x線膜厚計 |
JP3603122B2 (ja) * | 2001-05-15 | 2004-12-22 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光x線分析装置 |
US6801596B2 (en) | 2001-10-01 | 2004-10-05 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Methods and apparatus for void characterization |
US6664541B2 (en) | 2001-10-01 | 2003-12-16 | Kla Tencor Technologies Corporation | Methods and apparatus for defect localization |
US6810105B2 (en) * | 2002-01-25 | 2004-10-26 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Methods and apparatus for dishing and erosion characterization |
DE10259696B4 (de) * | 2002-12-18 | 2018-07-05 | Immobiliengesellschaft Helmut Fischer Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zum Messen der Dicke dünner Schichten |
US7023955B2 (en) * | 2003-08-12 | 2006-04-04 | X-Ray Optical System, Inc. | X-ray fluorescence system with apertured mask for analyzing patterned surfaces |
US7274774B2 (en) * | 2005-10-11 | 2007-09-25 | General Electric Company | Digital rotation using a square x-ray detector and a rotating collimator |
CN101317764B (zh) * | 2008-01-11 | 2010-06-02 | 华中科技大学 | 一种用于小动物的整体荧光透射成像系统 |
GB2495868B (en) * | 2009-03-18 | 2013-10-23 | Helmut Fischer Gmbh Inst Fur Elektronik Und Messtechnik | Measurement stand and method of its electrical control |
US8569692B1 (en) | 2012-12-13 | 2013-10-29 | Applied Materials, Inc. | Measurement system with thickness calculation and method of operation thereof |
US10721082B2 (en) * | 2016-07-18 | 2020-07-21 | International Business Machines Corporation | Screen printed phosphors for intrinsic chip identifiers |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04179100A (ja) * | 1990-11-13 | 1992-06-25 | Toshiba Corp | X線絞り装置 |
-
1992
- 1992-04-07 JP JP021183U patent/JPH0581700U/ja active Pending
-
1993
- 1993-04-07 US US08/044,363 patent/US5299252A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4731749B2 (ja) * | 2001-07-13 | 2011-07-27 | 株式会社堀場製作所 | X線分析装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5299252A (en) | 1994-03-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0581700U (ja) | 蛍光x線膜厚測定装置 | |
US6459760B1 (en) | Apparatuses and methods for non-destructive inspection | |
US4764944A (en) | Methods for positioning an internal portion of a body relative to an extracorporeal referent | |
JP6283667B2 (ja) | 様々な配向角度からのサンプルの画像スタックの取得を準備および実施する方法 | |
KR970008302A (ko) | 하전입자선장치 | |
JP2010033725A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2000018921A (ja) | 寸法測定方法及び装置 | |
JP4750958B2 (ja) | 電子線装置、電子線装置用データ処理装置、電子線装置のステレオ画像作成方法 | |
US6421118B1 (en) | Method of measuring concentricity of an optical fiber | |
JP4988175B2 (ja) | 荷電粒子装置用試料台 | |
JP4586987B2 (ja) | X線ct装置 | |
JPH08103414A (ja) | 眼科装置 | |
JPH1164188A (ja) | 欠陥観察装置および方法 | |
JPH03209119A (ja) | X線ct装置 | |
JPH01312405A (ja) | 埋設深度測定法 | |
JPH06340299A (ja) | 宇宙機用相対位置検出装置 | |
JP4677109B2 (ja) | 基準テンプレートの製造方法及び当該方法によって製造された基準テンプレート | |
JP2003004666A (ja) | X線透視撮影装置 | |
JPH11194276A (ja) | 赤外顕微鏡 | |
JP3644997B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
JPH05322802A (ja) | X線ct装置 | |
JP3018042B2 (ja) | ケイ光x線膜厚測定装置 | |
JP2000088773A (ja) | X線撮像による画像寸法計測装置 | |
JPH0915095A (ja) | 光学材料の均質性検査装置 | |
JP2000146526A (ja) | アライメント方法とその装置 |