KR970008302A - 하전입자선장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은 광학현미경과 입자선광학계와의 광축간 거리를 정확하게 교정하는 것을 가능하게 하는데 적합한 하전입자선장치를 제공하는데 있다.
주사전자현미경을 예로서 설명한다. X,Y 스테이지(2)상에 광학현미경(5)과 전자광학계와의 상호광축간 거리(L)에 상당하는 거리만큼 간격을 두고 배치된 기준패턴(10,11)을 설치하고, 이들 패턴의 화상신호를 화성처리회로(12)에 도입하고, 기준패턴(10,11)에 대한 광학현미경(5)의 광축, 전자광학계의 광축의 위치어긋남을 각각 연산하여 구하고, 이 어긋남을 주사전자현미경의 실제 측정시 오프셋함으로써 정확한 위치 결정이 이루어진다.

Description

하전입자선장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 하전입자선 장치의 일실시에로서 광학현미경을 가지는 주사전자현미경의 구성도, 제2도는 시료스테이지부분의 또 다른 실시예의 사시도, 제4도는 하전입자선의 또 다른 실시예로서 전자빔묘화장치의 구성도이다.

Claims (13)

  1. 하전입자선을 발생시키는 수단과, 상기 하전입자선을 편향하는 수단을 포함하는 하전입자선광학계와, 시료에 광을 조사하는 광학계를 구비한 하전입자선장치에 있어서, 적어도 제1 및 제2의 기준패턴이 설치된 상기 시료 또는 상기 시료를 얹혀 놓은 스테이지에서 상기 기준 패턴의 각각을 상기 하전입자선광학과 광학계로 독립적으로 검지하는 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2의 기준패턴은 이들의 간격이 상기 광학현미경 및 상기 하전입자선광학계의 광축간 거리와 동일하게 되도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  3. 제1항 또는 2항에 있어서, 상기 제1 및 제2의 기준패턴은 상기 스테이지에 설치된 동일한 부재상에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  4. 제1항 내지 3항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 및 제2의 기준패턴의 관찰 및 위치측정을 행하여 그 결과에 의거하여 상기 광축간 거리를 교정하도록 구성한 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 광학현미경의 광축중심을 기준으로 하여 상기 하전입자선광학계의 광축중심의 위치에 오프셋을 주어 그 위치 변경을 행하도록 구성한 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 하전입자선광학계의 광축중심으로 기준으로 하여 상기 광학현미경의 광축중심의 위치에 오프셋을 주어 그 위치변경을 행하도록 구성한 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  7. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 제1 및 제2의 표시면에 가지는 디스플레이부를 구비하고, 상기 제1표시면에는 상기 광학계를 이용하여 얻어지는 상기 제1기준패턴의 화상을, 상기 제2표시면에는 상기 하전입자선광학계를 이용하여 얻어지는 상기 제2기준패턴의 화상을 각각 동시에 표시하도록 구성한 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 제1 또는 제2의 기준패턴중 한쪽을 복수개의 서로 다른 크기의 패턴으로 형성함과 동시에 상기 제1 또는 2의 기준패턴중 다른 쪽을 상기 복수개의 서로 다른 크기의 패턴으로부터 각각 일정한 간격을 두고 배치한 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 복수개의 서로 다른 크기의 패턴은 각각 하전입자선장치의 측정배율에 적합한 크기를 가지고 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  10. 하전입자선을 발생시키는 하전입자선과 상기 하전입자선을 스테이지에 얹혀진 시료를 향하는 수단을 포함하는 하전입자선광학계를 가짐과 동시에 상기 시료를 관찰하는 광학현미경을 가지는 하전입자선광학계를 가짐과 동시에 상기 시료를 관찰하는 광학현미경을 가지는 하전입자선장치에 있어서, 상기 스테이지에 제1 및 제2의 기준패턴을 설치하고, 상기 제1 및 제2의 기준패턴을 상기 광학현미경 및 상기 하전입자선광학계를 이용하여 각각 독립적으로 관찰하여 위치측정하도록 구성한 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  11. 하전입자선을 발생시키는 수단과, 상기 하전입자선을 편향하는 수단을 포함하는 하전입자선광학계와, 시료에 광을 조사하는 광학계를 구비한 하전입자선장치에 있어서, 상기 시료 또는 상기 시료를 얹어놓는 스테이지에 적어도 제1 및 제2의 기준 패턴을 설치하고, 상기 제1 및 제2의 기준패턴의 각각을 상기 하전입자선광학계와 광학계를 이용하여 관찰하고, 상기 관찰결과를 대비하여 표시하는 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  12. 하전입자선을 발생시키는 하전입자선과, 상기 하전입자선을 스테이지에 얹어놓은 시료를 향하는 수단을 포함하는 제1 및 제2의 하전입자선광학계를 가지는 하전입자선장치에 있어서, 상기 스테이지에 제1 및 제2의 기준패턴을 설치하고, 상기 제1 및 2의 기준팬턴을 각각 상기 제1 및 제2의 하전입자선광학계를 이용하여 각각 독립적으로 관찰하여 위치결정하도록 구성한 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
  13. 하전입자선을 발생시키는 수단과, 상기 하전입자선을 편향하는 수단을 포함하는 하전입자선광학계와, 시료에 광을 조사하는 광학계를 구비한 하전입자선장치에 있어서, 상기 시료 또는 상기 시료를 얹어놓는 스테이지에 상기 하전입자선의 조사위치와 광의 조사위치간의 거리와 개략 같은 간격을 가지는 제1 및 제2의 기준 패턴을 구비한 것을 특징으로 하는 하전입자선장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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