JPH057529A - 低温スチーム式真空調理機 - Google Patents
低温スチーム式真空調理機Info
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- JPH057529A JPH057529A JP3161506A JP16150691A JPH057529A JP H057529 A JPH057529 A JP H057529A JP 3161506 A JP3161506 A JP 3161506A JP 16150691 A JP16150691 A JP 16150691A JP H057529 A JPH057529 A JP H057529A
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- A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
- A47J—KITCHEN EQUIPMENT; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; APPARATUS FOR MAKING BEVERAGES
- A47J27/00—Cooking-vessels
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Commercial Cooking Devices (AREA)
Abstract
低温スチームにより直接加熱するとともに、その温度設
定範囲を40℃〜95℃に設定が可能であり、設定精度
±1℃以下に納めることができて、真空パックを破損す
ることなく、安全、かつ均一に加熱処理可能とする。 【構成】 処理庫にスチーム配管、真空吸引装置および
空気導入配管を接続するとともに、処理庫とスチーム配
管に配設された温度調節弁との間に温度調節機構を介装
して温度調節弁を開閉制御して処理庫内温度を調整可能
に設け、かつ、真空吸引装置を連続運転する過程におい
て真空引き配管に配設した真空度調節弁の開度調節によ
り温度調節弁の開度を安定保持可能に設け、しかも、空
気導入配管には処理庫内の設定温度における飽和圧力よ
り若干高い庫内圧力に設定可能に空気導入部材を配設す
る。
Description
処理して真空パックしたものを低温域で加熱あるいは再
加熱する低温スチーム式調理機に関する。
して真空パックしたものを100℃以下の低温域で加熱
する装置としては、例えば湯煎器及びコンベクションス
チームオーブンがある。
は大量処理には湯量と投入するワークの量によった湯温
が変化し、加熱温度にバラツキを生じて製品の仕上がり
品質を均一に確保することが困難となる問題点があり、
また、コンベクションスチームオーブンは無加圧蒸気を
庫内に送込みフアンにより庫内を循環する構成であるた
め、大量処理の場合には構造的に滞留部をなくすことが
困難であり、投入する蒸気が無加圧蒸気で庫内圧力が大
気圧であることから庫内の空気の排出にも限界があり、
庫内を低温度で均一な温度に維持しにくいという問題点
があった。
パックしたワークを低温スチームにより直接加熱すると
ともに、その温度設定範囲を40℃〜95℃で任意に設
定が可能であり、設定精度±1℃以下に納めることがで
きて、真空パックを破損することなく、安全、かつ均一
に加熱処理することができて対象とする品質を確保する
ことのできる低温スチーム式調理機を提供することを目
的とするものである。
を解決するため、処理庫にスチーム配管、真空吸引装置
および空気導入配管を接続するとともに、前記処理庫と
スチーム配管に配設された温度調節弁との間に温度調節
機構を介装して前記温度調節弁を開閉制御して処理庫内
温度を調整可能に設け、かつ、前記真空吸引装置を連続
運転する過程において真空引き配管に配設した真空度調
節弁の開度調節により前記温度調節弁の開度を安定保持
可能に設け、しかも、前記空気導入配管には前記処理庫
内の設定温度における飽和圧力より若干高い庫内圧力に
設定可能に空気導入部材を配設する構成とした低温スチ
ーム式真空調理機に存する。
度範囲40℃〜95℃において、温度精度を±1℃以下
に制御が可能となって、対象とする設定温度にほぼ近い
温度により真空パックしたワークを加熱・調理すること
ができるとともに、処理庫内の圧力を設定温度における
飽和圧力より若干高い庫内圧力に設定可能に設けて、圧
力の変動に起因する真空パックの破損を防止することが
できる。
説明すると、一方に開口する箱形状の処理庫11に開口
部の四周には連続してシール室12が形成されてシール
13が嵌着され、同開口部には開閉ドア14がエアシリ
ンダ等により開閉可能に取付けられてシール13を介し
て気密に閉蓋可能に設けられている。
却水配管30および真空吸引装置40が接続されるとと
もに、冷却水配管30には空気導入配管70が接続され
ている。
管16とシールスチーム配管17とにより構成され、メ
インスチーム配管16は、その一端がスチーム供給源1
8に接続され、他端は処理庫11の天井側に配設され、
多数のノズル孔を有する噴出パイプ19に接続され、同
メインスチーム配管16にはスチーム供給源18側よ
り、スチーム用元弁20、スチームストレーナ21、ス
チーム減圧弁22、圧力計23、温度調節弁24、連成
計25およびスチーム用自動弁26が順次配設されてい
る。また、シールスチーム配管17の一端はメインスチ
ーム配管16のスチームストレーナ21とスチーム減圧
弁22の間より分岐されて他端は処理庫11の開口部に
周設されてシール室12に接続されるとともに、同配管
17には本体シールスチーム用逆止弁27および本体シ
ールスチーム用電磁弁28が配設され、スチーム用電磁
弁28を励磁開放することで、スチームはシール室12
に送込まれ、処理庫11を閉止した開閉ドア14にシー
ル13を押圧して庫11内を密封する。
に接続され、他端部は処理庫11の天井側に配設され、
多数の散水ノズルを有する散水パイプ32に接続され、
この冷却水配管30には供給源31側より、給水用元弁
33、給水用ストレーナ34、給水用逆止弁35、圧力
計36、チャンバー冷却水元弁37、冷却水自動弁38
およびチャンバー冷却水用ニードル弁39が順次配設さ
れている。
レータタンク42およびクッションタンク43とより構
成され、このクッションタンク43は処理庫11の底部
に対し接続管44,44により接続されるとともに、同
クッションタンク43には連成計45および排水自動弁
46が付設されている。このように設けられたクッショ
ンタンク43と真空ポンプ41との間には真空引き配管
47が接続され、同配管47には真空ポンプ41側より
連成計48、真空度調節弁49、ドレン用逆止弁50、
連成計51および真空主弁52が順次配設されている。
また、クッションタンク43と処理庫11との間には真
空バイパス用自動弁54を配設した真空バイパス配管5
3が配設されて、真空バイパス用自動弁54を介して処
理庫11内とクッションタンク43内の圧力を等圧可能
に設けられている。
と連成計48との間には処理庫11のシール室12に接
続するシール真空引き配管55が分岐配設され、同配管
55には本体シール用電磁弁56が配設されている。ま
た、真空引き配管47の同部分には大気に連通し、エア
シール弁58を配設した空気導入配管57が接続されて
いる。
の間には真空ポンプ用冷却水配管60が配設され、この
冷却水配管60は冷却水配管30の圧力計36とチャン
バー冷却水元弁37との間より分岐されて真空ポンプ封
水弁61、ボール弁62、連成計63および真空ポンプ
用水調節弁64が配設され、また、真空ポンプ水用電磁
弁61およびボール弁62を跨いでバイパス冷却水配管
65が配設され、同バイパス冷却水配管65にはボール
弁66が配設されている。また、セパレータタンク42
は接続管67を介して真空ポンプ用冷却水配管60のボ
ール弁62と連成計63との間に接続されている。
ー冷却水用ニードル弁39の下流側には空気導入用配管
70の一端が接続され、他端は大気に連通され、同空気
導入用配管70には空気導入用電磁弁71および空気導
入用ニードル弁72が配設されている。このように配設
された空気導入用配管70は冷却水配管30の冷却水自
動弁38を閉止し、空気導入用電磁弁71を開放して空
気導入用ニードル弁72を調節することで散水パイプ3
2の散水ノズルより処理庫11内に所定量の空気を導入
するように設けられている。この空気導入用ニードル弁
72の調節は処理庫11内を真空引きして処理庫11内
が到達真空度となった状態での庫内圧より若干高い所定
の内圧となるように空気を処理庫11内に導入する開度
に設定する。
6に配設された温度調節弁24との間には温度制御機構
(TIC1)75が配設されて、処理庫11内の温度を
40℃〜95℃の範囲に設定可能に設けられている。ま
た、セパレータタンク42と真空ポンプ封水弁61との
間には真空ポンプ用封水温度を0℃〜100℃の範囲に
設定および調節可能に温度制御機構76が設けられてい
る。また、処理庫11とスチーム用自動弁26との間に
は圧力安全機構77が配設されて、処理庫11内の圧力
が設定圧以上になると作動してスチーム自動弁26を閉
じ方向へ制御するように設けられている。また、80は
真空解除用配管であって、一端は処理庫11の天井部に
接続され、他端は大気中に連通され、同配管80には空
気元弁81および真空解除自動弁82が配設されてい
る。なお、上記した各自動弁および電磁弁は制御装置の
信号により以下に述べる各工程を達成するため開閉制御
される。
真空パックしたワークを加熱調理する工程を順に説明す
る。
ム配管15および冷却水配管30の元弁20,33を開
にするとともに、クッションタンク43の排水自動弁4
6を閉じ、真空引き配管47の真空度調節弁49を全開
にする。しかる後、図示はしないが複数段の棚を有する
台車に真空パックしたワークをそれぞれ載置するととも
に、処理庫11内に設けられた品温測定センサーを適所
のワークに差込みセットし、庫内温度測定センサーをセ
ットする。なお、この両センサーは制御装置側で記録可
能に継電されている。そして台車を処理庫11内に納め
る。
ポンプ用電磁弁61を開にしてセパレータタンク42の
ドレン口より封水の流出を確認した後、本体シール用電
磁弁56を開にし、真空ポンプ41を数秒作動すること
でシール13全体がシール室12内に引込まれ、開閉ド
ア14を閉止可能な状態となる。この状態で本体シール
電磁弁56を閉止し、真空ポンプ41を停止するととも
に、開閉ドア14の空気シリンダを操作して処理庫11
を閉止し、シールスチーム配管17のスチーム用電磁弁
28を開にすることでスチームはシール室12内に流入
しシール13をドア14へ押圧して処理庫11内は気密
に閉止される。
内を真空引きして脱気するもので、真空ポンプ41を作
動するとともに、真空主弁52を開にして庫内圧力が−
650mmHg〜−680mmHg程度になるまで真空
引きを行う。この場合、スチーム用電磁弁28および真
空ポンプ封水弁61は開で、その他のスチーム用自動弁
26、冷却水自動弁38、空気導入用電磁弁71、排水
自動弁46は閉じられている。
ると、制御装置の温度制御機構75を対象とするワーク
例えば牛肉を調理しようとする設定温度例えば65℃に
設定する。そしてスチーム用自動弁26を開にするとス
チーム供給源18よりスチームストレーナ21、:減圧
弁22、温度調節弁24、スチーム用自動弁26を経て
噴出パイプ19の噴出孔より処理庫11内に噴出され
る。この処理庫11へのスチームの噴出と真空吸引装置
40による真空引きとにより庫11内は飽和蒸気が充満
され、この吸引過程で、真空度調節弁49が調節されて
温度制御機構75の設定温度65℃で温度調節弁24の
開度がオン・オフ動作しない程度に調整する。そしてス
チームを導入した所定の時間経過後、空気導入配管70
の空気導入用電磁弁71を開にすると空気は空気導入用
ニードル弁72、冷却水配管30(チャンバー冷却水用
ニードル弁39以降)を経て散水パイプ32の多数の散
水ノズルより庫11内へ導入される。この空気導入によ
り庫11内は設定温度65℃における飽和圧力−573
mmHgより若干高い庫内圧力Aとなり、この状態が連
続維持されて真空パックされたワークは昇温されてい
く。
により記録されていることから、これを確認することが
でき、所定の時間経過して品温が所定の温度63℃に到
達した時点で温度制御機構75を操作して庫内設定温度
を63℃に設定して約30分保持する。
の保持を完了すると、温度制御機構75の設定温度を下
げて温度調節弁24を閉じの状態にし、次いで、スチー
ム自動弁26を閉じる。そして真空主弁52を閉じ、真
空ポンプ41を停止する。さらに、真空解除用配管80
の真空解除自動弁82を解除して空気を庫11内に導入
し、庫内圧力が大気圧になるとクッションタンク43の
排水自動弁46を開にし、ドレンを排出する。
ンの排出後、同クッションタンク43と処理庫11との
真空バイパス配管53の真空バイパス用自動弁54を開
にし、クッションタンク43と処理庫11とを同圧とす
る。そして冷却水配管30の冷却水自動弁38を開にす
ると冷却水は散水パイプ32の多数の散水ノズルより庫
内にスプレーされ、庫11内は冷却される。なお、庫1
1内の冷却はドレン温度で判断できる。
とクッションタンク43の排水自動弁46からのドレン
の排水を完了したことを確認した上で、シールスチーム
配管17のスチーム用自動弁28を閉じる。しかる後、
真空ポンプ41を作動し、シール真空引き配管55の本
体シール用電磁弁56を開にして10秒程度運転すると
シール13はシール室12内に引込まれる。上記時間の
経過後、本体シール用電磁弁56を閉じ、真空ポンプ4
1を停止する。これにより開閉ドア14の開放が可能と
なり、真空パックしたワークを台車とともに取出すこと
ができ、これでワークの加熱・調理を完了する。この台
車の取出し後、空気導入用電磁弁71、真空解除自動弁
82および真空バイパス用自動弁54を閉じる。以下、
同様の手順により加熱・調理を行うことができる。
庫11にスチーム配管15、真空吸引装置40および空
気導入配管70を接続するとともに、処理庫11とスチ
ーム配管15に配設された温度調節弁24との間に温度
調節機構75を介装して温度調節弁24を開閉制御して
処理庫11内温度を調整可能に設け、かつ、真空吸引装
置40を連続運転する過程において真空引き配管47に
配設した真空度調節弁49の開度調節により温度調節弁
24の開度を安定保持可能に設け、しかも、空気導入配
管70には処理庫11内の設定温度における飽和圧力よ
り若干高い庫内圧力Aに設定可能に空気導入用ニードル
弁72を配設する構成としたものである。したがって、
処理庫11とスチーム配管15に配設された温度調節弁
24との間に温度調節機構75を介装して温度調節弁2
4を開閉制御して処理庫11内温度を調整可能に設け、
かつ、真空吸引装置40を連続運転する過程において真
空引き配管47に配設した真空度調節弁49の開度調節
により温度調節弁24の開度を安定保持可能に設けたも
のであるから、設定温度範囲40℃〜95℃において、
温度精度を±1℃以下に制御が可能となって対象とする
設定温度にほぼ近い温度により真空パックしたワークを
加熱・調理することができるとともに、処理庫11内の
圧力を設定温度における飽和圧力より若干高い庫内圧力
Aに設定可能に設けたものであるから、圧力の変動に起
因するパックの破損を防止することができて対象とする
調理品質を確保することができる。したがって、真空パ
ックの材質を変更等する必要のない副次的効果がある。
したワークを加熱・調理して例示したが、解凍機として
も使用可能である。
手動により行うのは簡単であるが、設定温度の変更の度
に調整するのは面倒であることから、 1)複数の弁を設けて設定温度に応じて段階的に開閉制
御する。あるいは1個の弁で開度制御する。 2)温度調節弁24の開度を一定にして真空度調節弁を
自動制御する。等が考慮される。
に接続して例示したが、これに限定するものではなく、
独立的に配設しても良く、また、空気導入はスチームの
庫11内投入の直前に混合して複数箇所から均一に庫1
1内に投入してもよい。また、空気導入配管70に空気
導入用ニードル弁72を配設して例示したが、これに限
定するものではなく、この空気導入用ニードル弁72の
開度は処理庫11内を真空引きして処理庫11内が到達
真空度となった状態での庫内圧より若干高い所定の内圧
となるように空気を処理庫11内に導入する開度に設定
すると、この初期設定により調節することなく処理庫1
1内の設定温度範囲40℃〜95℃において処理庫11
内の圧力を設定温度における飽和圧力より若干高いほぼ
安定した範囲内での庫内圧力Aを確保することができる
ので、オリフィスの使用が可能である。
ーム配管に配設された温度調節弁との間に温度調節機構
を介装して温度調節弁を開閉制御して処理庫内温度を調
整可能に設け、かつ、真空吸引装置40を連続運転する
過程において真空引き配管に配設した真空度調節弁の開
度調節により温度調節弁の開度を安定保持可能に設けた
ものであるから、設定温度範囲40℃〜95℃におい
て、温度精度を±1℃以下に制御が可能となって対象と
する設定温度にほぼ近い温度により真空パックしたワー
クを加熱・調理することができるとともに、処理庫内の
圧力を設定温度における飽和圧力より若干高い庫内圧力
に設定可能に設けたものであるから、圧力の変動に起因
するパックの破損を防止することができて対象とする調
理品質を確保することができる。したがって、真空パッ
クの材質を変更等する必要のない副次的効果がある。ま
た、解凍機としても使用可能である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 処理庫にスチーム配管、真空吸引装置お
よび空気導入配管を接続するとともに、前記処理庫とス
チーム配管に配設された温度調節弁との間に温度調節機
構を介装して前記温度調節弁を開閉制御して処理庫内温
度を調整可能に設け、かつ、前記真空吸引装置を連続運
転する過程において真空引き配管に配設した真空度調節
弁の開度調節により前記温度調節弁の開度を安定保持可
能に設け、しかも、前記空気導入配管には前記処理庫内
の設定温度における飽和圧力より若干高い庫内圧力に設
定可能に空気導入部材を配設する構成とした低温スチー
ム式真空調理機。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3161506A JPH0761302B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 低温スチーム式真空調理機 |
KR1019920011597A KR100201050B1 (ko) | 1991-07-02 | 1992-06-30 | 저온증기식 진공조리기 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3161506A JPH0761302B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 低温スチーム式真空調理機 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH057529A true JPH057529A (ja) | 1993-01-19 |
JPH0761302B2 JPH0761302B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=15736359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3161506A Expired - Lifetime JPH0761302B2 (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 低温スチーム式真空調理機 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0761302B2 (ja) |
KR (1) | KR100201050B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006333979A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Miura Co Ltd | 蒸煮装置および蒸煮方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1195230A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネルの製造方法および製造装置 |
JP2011239907A (ja) * | 2010-05-18 | 2011-12-01 | Senjo System Kk | 低温蒸し器 |
KR102362013B1 (ko) * | 2015-05-12 | 2022-02-11 | 엘지전자 주식회사 | 조리기기 및 조리기기의 제어방법 |
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JPS55108264A (en) * | 1979-02-14 | 1980-08-20 | Masahiko Izumi | Steaming of grain |
-
1991
- 1991-07-02 JP JP3161506A patent/JPH0761302B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-06-30 KR KR1019920011597A patent/KR100201050B1/ko not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100201050B1 (ko) | 1999-06-15 |
JPH0761302B2 (ja) | 1995-07-05 |
KR940000072A (ko) | 1994-01-03 |
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---|---|---|---|
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