JP5130363B2 - 加熱調理装置 - Google Patents

Description

本発明は、加熱調理装置に係り、更に詳しくは、食材に対し最適な温度で穏和な熱変性を起こさせ、高栄養、高品質な食品を得ることのできる加熱調理装置に関する。

従来、１００℃以上の過熱水蒸気を使って食材を加熱調理する加熱調理器が知られている（例えば、特許文献１参照）。この加熱調理器によれば、過熱水蒸気中に食材を置くことにより、食材の表面に過熱水蒸気が接触して生じた凝縮熱により食材を加熱する過程と、食材の表面から水分を除去する過程とを経て、前記食材が加熱調理される。

また、１００℃以下の飽和蒸気に満たされた空間内に食品を置き、当該食品を加熱する方法が開示されている（特許文献２参照）。
特開２００６−２１２０３７号公報 特開２００５−６９５５０号公報

しかしながら、特許文献１の加熱調理器にあっては、１００℃以上の過熱水蒸気を使っているため、加熱調理前に存在していた食材中の組織や細胞の損壊が発生し、水分や栄養機能成分が分解流出するとともに、食材表面の水分が除去されて乾燥してしまうことから、加熱調理によって、最良となる食品品質が得られないという問題がある。本発明者らが鋭意実験研究を行った結果、食材を加熱する場合、可食化に必要な食材の熱変性が１００℃未満で十分である一方、１００℃以上になると、食材中の組織や細胞の損壊や栄養機能性成分の分解等の不必要な熱変性をもたらすことを知見した。更に詳述すると、１００℃未満では、でんぷんの糊化、繊維組織の軟化、毒素（酵素）の分解や失活、タンパク変性による成形等をもたらす熱変性が起こり、１００℃以上になると、有用成分の分解や失活、組織崩壊による食感の低下、輸送や貯蔵時の安定性の低下等をもたらす熱変性を起こすことが実証された。

ところで、特許文献２に開示された手法では、１００℃以下で食品を加熱するものの、微小水滴が混在しない飽和蒸気での加熱処理であることから、食材表面が乾燥し易くなり、当該表面付近の組織や細胞の損壊や栄養機能成分の分解損失を招来する虞がある。

本発明は、以上の課題と知見に基づいて案出されたものであり、その目的は、加熱調理する食材に対し、可食化に必要な熱変性を起こさせつつも、食品の機能、品質及び輸送貯蔵時の安定性の低下をもたらす熱変性を起こさせずに、高栄養、高品質及び高耐性の食品を得ることができる加熱調理装置を提供することにある。

（１）前記目的を達成するため、本発明は、加熱調理される食材が収容される調理空間が設けられた調理庫と、蒸気を発生させる蒸気発生手段と、当該蒸気発生手段からの蒸気を前記調理庫内に導く蒸気流路と、前記蒸気発生手段から前記調理庫内への蒸気の導入を制御する制御手段とを備えた加熱調理装置において、
前記調理庫は、前記調理空間に通じて外部に開放し、加熱調理中にも前記調理空間と前記外部との間の通気を可能にする開口部と、当該開口部と前記調理空間との間に設けられた邪魔部材とを備え、
前記蒸気流路は、前記蒸気を前記調理空間内に直接噴出する第１の噴出口と、前記蒸気を前記開口部の近傍に噴出する第２の噴出口とを備え、
前記邪魔部材は、前記第２の噴出口からの蒸気を当ててから当該蒸気を前記調理空間に導くように配置され、
前記制御手段は、前記調理空間内の温度及び湿度を検出する温湿度検出部と、当該温湿度検出部で検出された温度及び湿度に応じて、前記第１及び第２の噴出口からの蒸気の噴出流量を調整する流量調整部とを備え、
前記流量調整部では、前記調理空間内の温度を２０℃以上１００℃未満の予め設定された温度に維持しながら、前記調理空間内を飽和湿り空気で満たされた状態に維持するように、前記第１及び第２の噴出口からの蒸気の噴出流量を調整する、という構成を採っている。

（２）また、前記流量調整部では、前記第１の噴出口からの蒸気の噴出流量を調整することで、前記調理空間内の湿度を制御し、前記第２の噴出口からの蒸気の噴出流量を調整することで、前記調理空間内の温度を制御する、という構成を採っている。

（３）ここで、前記第１及び第２の噴出口からの蒸気の噴出流量の調整を時間差で行うとよい。

（５）更に、不活性ガスを前記調理空間に導入する不活性ガス導入部を備える、という構成を併せて採用することが好ましい。

（６）ここで、前記開口部は、前記調理空間の下側に設けられる一方、前記不活性ガス導入部は、前記調理空間の上側に設ける、という構成を採るとよい。

なお、本明細書及び本請求の範囲において、「飽和湿り空気」とは、大気圧下において、湿度９０％〜１００％の範囲内となる微小水滴を含む湿り空気を意味し、換言すると、水蒸気の一部が凝縮し、蒸気と微小水滴が混在した状態の空気であり、且つ、湿度が９０％〜１００％の範囲内になる空気を意味する。

前記（１）の構成によれば、第２の噴出口から噴出された蒸気は、開口部を通じて外気にさらされるため、温度が低下し、蒸気の一部が凝縮され微小水滴を含んだ状態で調理空間内に導入される。調理空間内では、第１及び第２の噴出口からの蒸気の噴出流量を調整することで、比較的簡単な構成で２０℃以上１００℃未満の予め設定された温度での飽和湿り空気の生成が可能になる。このように生成された飽和湿り空気を使って食材を加熱調理すると、食材との接触部での蒸気の凝縮時に順次生じた凝縮熱である多量の熱エネルギーが微小水滴を介して順次食材に伝達されることになる。直火等や蒸気等を使った従来の伝熱加熱では、効率的に熱伝達を行うために伝熱界面の温度差が相当必要であり、食材の内部まで可食化に必要な熱変性をさせるためには１００℃以上の熱源を食材に接する必要がある。ところが、本発明によれば、食材との接触部で順次生成される凝縮熱エネルギーによる加熱調理が行われるため、従来の伝熱加熱に比べ伝熱界面の温度差を低くしても、食材内部まで可食化に必要な熱変性をさせることができ、食材に対し効率的な熱伝達を行うことができる。その結果、１００℃未満の飽和湿り空気でも、食材の内部まで可食化に必要な熱変性をもたらすことができ、しかも、蒸気中に微小水滴が混在しているため、食材表面が乾燥しにくくなり、当該表面付近の組織や細胞の損壊や栄養機能成分の分解損失を防ぎ、高栄養、高品質の食品を提供することができる。加えて、従来に比べ、食材の表面が高温にさらされずに当該表面組織が損壊しないため、経時的な品質劣化を抑制し、食品の品質を長期間保持することができる。また、加熱調理後の食品の凍結時に、細胞破壊が発生しにくくなり、解凍時の離水が生じない等、冷凍耐性の向上も期待できる。

前記（２）のように構成することで、比較的簡単な構成で、１００℃未満の飽和湿り空気の生成が可能になる。

前記（３）の構成によれば、第１の噴出口による湿度制御のタイミングと、第２の噴出口による温度制御のタイミングがずれる無干渉制御が行われるため、湿度制御と温度制御が相互に干渉し合って、調理空間内の湿度や温度をコントロールしにくくなるという問題を回避できる。

前記（４）の構成により、簡単な構成で、第２の噴出口からの蒸気が調理空間に直接噴射されることが阻止され、第２の噴出口から噴出された蒸気と開口部を通じて導入された外気との接触時間を長くすることができ、低温化された空気を確実に調理空間内に導入させることができる。しかも、低温となった湿り空気が、調理空間内に穏やかに導入されて拡散することになり、調理空間内の環境を均質化且つ安定化させることができる。

前記（５）の構成により、調理空間に不活性ガスが導入されるため、調理空間を低酸素状態にすることができ、食材の加熱調理時における化学的酸化、酵素による着色、臭い物質の生成等を防ぎ、加熱調理後の食材の品質劣化を防止することができる。

前記（６）の構成によれば、調理空間の上側から不活性ガスが供給され、低比重の不活性ガスが調理空間の上部から充満することにより、調理空間に存在する比較的比重の高い酸素を含んだ空気を開口部から排出することができ、不活性ガスを調理空間に効率的に充満させることができる。

前記（７）の手法によれば、蒸気を用いた従来の伝熱加熱と異なり、蒸気に微小水滴が混在した飽和湿り空気中の食材が、当該飽和湿り空気の生成に際して生じた凝縮熱で加熱されるため、前述したように、加熱調理する食材に対し、可食化に必要な熱変性を起こさせつつも、食品の機能、品質及び耐性の低下をもたらす熱変性を起こさせずに、高栄養、高品質及び高耐性となる食品を得ることができる。

本実施形態に係る加熱調理装置の概略構成図。 前記加熱調理装置を構成する調理庫の概略正面図。 図１のＡ−Ａ線に沿う概略断面図。 開放部付近の飽和蒸気の流れを説明するための概略部分拡大図。 変形例に係る加熱調理装置の左側ほぼ半分の領域を示す概略断面正面図。 図５のＢ−Ｂ線に沿う概略断面図。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。

図１には、本実施形態に係る加熱調理装置の概略構成図が示されている。この図において、前記加熱調理装置１０は、加熱調理される食材Ｆが収容される調理空間Ｓが設けられた調理庫１２と、調理庫１２内に供給される蒸気を発生させる蒸気発生手段としてのボイラ１４と、ボイラ１４からの蒸気を調理庫１２内に導く蒸気流路１６と、ボイラ１４から調理庫１２への蒸気の導入を制御する制御手段１７とを備えて構成されている。

前記調理庫１２は、図１〜図３に示されるように、底側が開放する中空箱型の本体１９と、この本体１９を下方から支持する脚体２０と、本体１９の底側に配置されるとともに、加熱調理対象の食材Ｓが設置される食材設置体２２と、この食材設置体２２を昇降させる昇降手段２３とを備えている。

前記本体１９は、上端側に位置する頂壁２５と、頂壁２５の左右両端側に連なる側壁２６，２６と、頂壁２５及び側壁２６の前後両端側に連なる前壁２７及び後壁２８とからなり、底側が開放空間３０となっている。

前記食材設置体２２は、食材Ｆが載る平面視ほぼ方形板状のテーブル３３と、テーブル３３の外周に沿って固定された板状の端部材３４と、端部材３４の外周に沿って固定された板状の邪魔部材３６とにより構成されている。この邪魔部材３６は、端部材３４におけるテーブル３３と反対側の面の上下複数箇所に固定されており、それぞれ、水平方向に延びるように配置されている。

このように構成された食材設置体２２は、昇降手段２３の動作により、開放空間３０を通じ、本体１９の内部に位置する食材Ｆの加熱調理位置（図１参照）と、本体１９の下方となる外部に位置する食材Ｆの出し入れ位置（図２参照）との間で昇降するようになっている。また、食材設置体２２は、開放空間３０の平面サイズよりも小さい平面サイズとなっており、図１の加熱調理位置にあるときに、本体１９の内外間で開放する開口部３８が本体１９の底部側の内周に沿って形成されるようになっている。従って、前記加熱調理位置では、本体１９の各壁２５〜２８と食材設置体２２との間に囲まれた空間が前記調理空間Ｓとなり、調理空間Ｓは、開口部３８を通じて外部に開放し、開口部３８により、調理空間Ｓへの外気導入と、調理空間Ｓ内の空気の排出が可能になる。なお、本体１９の内周部分と食材設置体２２の外周縁部分との間には、開口部３８から調理空間Ｓに繋がる開放流路４０が形成されることになり、前記邪魔部材３６は、開放流路４０の途中に配置され、当該開放流路４０を完全に閉塞しないようなサイズとなっている。

前記昇降手段２３は、図示省略したモータ、シリンダ等のアクチュエータを使って食材設置体２２を上下動可能にする公知の装置が用いられており、当該装置構成は、本発明の要旨ではないため、詳細な説明を省略する。なお、昇降手段２３として、アクチュエータを用いた電動タイプの他に、ハンドル、ベルト、歯車等の機構を使った手動タイプのものを採用することも可能である。

前記ボイラ１４は、公知の構造のものが用いられ、飽和水蒸気を発生させるようになっている。なお、蒸気発生手段としては、飽和水蒸気を発生させることができる限りにおいて、ボイラ１４以外の他の機器や装置に代替することも可能である。

前記蒸気流路１６は、図１に示されるように、本体１９の内部における上下両側に配置された第１及び第２の蒸気導入管４１，４２と、ボイラ１４と第１及び第２の蒸気導入管４１，４２の間に接続された第１及び第２の管路４４，４５とを備えている。

前記第１及び第２の蒸気導入管４１，４２は、それぞれ、本体１９の内周に沿って延びる枠状に設けられており、ボイラ１４からの飽和蒸気を本体１９の内部に噴出する第１及び第２の噴出口４７，４８が一定間隔で形成されている。つまり、本体１９の上側に位置する第１の蒸気導入管４１に形成された第１の噴出口４７は、調理空間Ｓの上方から直接飽和蒸気を噴出するように設けられており、本体１９の下側に位置する第２の蒸気導入管４２に形成された第２の噴出口４８は、図４に示されるように、邪魔部材３６に向かって開放流路４０内に飽和蒸気を噴出するように設けられている。

前記制御手段１７は、図１に示されるように、本体１９内に配置されて調理空間Ｓ内の温度及び湿度を検出する温湿度検出部としての温湿度センサ５０と、第１及び第２の管路４４，４５の途中に設けられた第１及び第２の弁５２，５３と、温湿度センサ５０の検出値に基づいて第１及び第２の弁５２，５３の動作制御を行う制御機器５５とを備えて構成されている。ここで、第１及び第２の弁５２，５３と制御機器５５は、温湿度センサ５０で検出された温度及び湿度に応じて、第１及び第２の噴出口４７，４８からの飽和蒸気の噴出流量を調整する流量調整部として機能する。

前記制御機器５５は、ソフトウェア及び／又はハードウェアによって構成され、プロセッサ等、複数のプログラムモジュール及び／又は処理回路より成り立っている。この制御機器５５では、調理空間Ｓ内の温度を２０℃以上１００℃未満の予め設定された温度（以下、「設定温度」と称する。）に維持しながら、調理空間Ｓ内を飽和湿り空気で満たされた状態を維持するように、第１及び第２の弁５２，５３を適宜切り換え、第１及び第２の噴出口４７，４８からの飽和蒸気の噴出流量を調整する。

次に、前記加熱調理装置１０の作用について説明する。

先ず、テーブル３３を図２の食材Ｆの出し入れ位置まで下降した状態とし、加熱調理する食材Ｆをテーブル３３の上に載せる。そして、昇降手段２３を動作させると、テーブル３３が上昇して本体１９内に入り込み、図１の食材Ｆの加熱調理位置に達したところで上昇を停止させる。この状態では、図１及び図３に示されるように、本体１９の底側部分のうち、テーブル３３を含む食材設置体２２の周囲に、外側に開放する開口部３８が形成されることになる。従って、後述するように、食材Ｆを加熱調理している最中も、本体１９内の調理空間Ｓと外部との間で開口部３８を介した通気が可能になる。

以上のように食材Ｆのセットを終了した後、加熱調理中の調理空間内の温度が２０℃以上１００℃未満となる温度設定を行い、図示しないスイッチを投入すると、ボイラ１４からの飽和蒸気が第１及び第２の管路４４，４５を通って、第１及び第２の蒸気導入管４１，４２に導かれ、第１及び第２の噴出口４７，４８から噴出されることになる。このとき、上側に位置する第１の噴出口４７からの飽和蒸気は、調理空間Ｓに直接噴出されるが、下側に位置する第２の噴出口４８からの飽和蒸気は、図４中二点鎖線で示されるように、開放流路４０内の邪魔部材３６に向かって噴出され、邪魔部材３６に当たった上で、本体１９の内周部分と邪魔部材３６との隙間Ａから、調理空間Ｓに噴出される。この過程で、開放流路４０は、開口部３８から外気が導入されることになり、第２の噴出口４８から噴出された飽和蒸気は、開放流路４０内で冷却されて凝縮し、微小水滴を含んだ飽和湿り空気として調理空間Ｓに供給される。この際、第２の噴出口４８から噴出された飽和蒸気は、調理空間Ｓに直接噴出されずに、邪魔部材３６に当たって、低温雰囲気の開放流路４０内である程度の時間滞留する。このため、前述の凝縮が効果的に行われることになり、しかも、飽和湿り空気として穏やかに調理空間Ｓ内に供給され、調理空間Ｓの雰囲気の均質化に寄与することになる。このように調理空間Ｓに導かれた飽和湿り空気は、第１の噴出口４７から噴出された飽和蒸気と適度に混合し、１００℃未満の設定温度の飽和湿り空気が調理空間Ｓ内に生成されることになる。この際、前記制御機器５５では、調理空間Ｓの湿度調整を行う湿度制御と、調理空間Ｓの温度調整を行う温度制御とが行われる。具体的に、前記湿度制御は、温湿度センサ５０で検出された調理空間Ｓの相対湿度に応じ、第１の弁５２を操作して第１の噴出口４７からの飽和蒸気の噴出流量を調整することにより、調理空間Ｓ内の相対湿度を９０％〜１００％の間の規定値に維持する。つまり、調理空間Ｓの飽和湿り空気の微小水滴が過剰になった場合に、第１の噴出口４７から飽和蒸気を噴出させ、調理空間Ｓ内の空気の湿り度合いを低下させて前記規定値に維持する。一方、前記温度制御は、温湿度センサ５０で検出された調理空間Ｓ内の温度に応じ、第２の弁５３を操作して第２の噴出口４８からの飽和蒸気の噴出流量を調整することにより、調理空間Ｓを前記設定温度に維持する。つまり、温湿度センサ５０で検出された温度が前記設定温度よりも上昇した場合には、第２の噴出口４８からの飽和蒸気の噴出流量を減少させ、逆に、温湿度センサ５０で検出された温度が前記設定温度よりも下降した場合には、第２の噴出口４８からの飽和蒸気の噴出流量を増加させるように機能する。なお、これら湿度制御と温度制御は、相互に干渉しないように時間差で行われる他、第２の噴出口４８からの噴出流量が、第１の噴出口４７からの噴出流量よりも相対的に多くなるように行われる。

従って、このような実施形態によれば、第１の噴出口４７よりも相対的に多い第２の噴出口４８から噴出される飽和蒸気は、邪魔部材３６で流れ方向を変えながら、飽和湿り空気として調理空間Ｓに穏和に供給されるため、調理空間Ｓの雰囲気が安定化し、比較的簡単な構成で、２０℃以上１００℃未満の飽和湿り空気を調理空間Ｓ内に生成できるという効果を得る。

また、本発明者らが行った実験研究によれば、前記加熱調理装置１０を使った加熱調理方法、すなわち、２０℃以上１００℃未満の飽和湿り空気中に食材Ｆを置いて加熱調理を行う加熱調理方法は、食材Ｆのデンプン、繊維、タンパク質の可食化が十分なされるとともに、他の調理方法に比べ、組織や細胞の損壊、栄養機能成分の分解損失を防ぐことができ、長期保存性が良好で、高栄養、高品質の食品を作り出せることが実証された。これを以下に詳述する。

（実施例１）
本実施形態と同等の原理の加熱調理装置１０を使い、ほうれん草１８８グラムについて、可食化に必要な時間と温度で加熱調理した後、冷蔵保存し、調理から１日後、５日後、１０日後の質量をそれぞれ測定し、調理前の質量（１８８グラム）に対する質量比（％）を求めた。

（比較例１）
実施例１と同量のほうれん草について、可食化に必要な時間、茹でた後、実施例１と同様に、調理から１日後、５日後、１０日後の質量をそれぞれ測定し、調理前の質量に対する質量比（％）を求めた。

（比較例２）
実施例１と同量のほうれん草について、可食化に必要な時間、蒸した後、実施例１と同様に、調理から１日後、５日後、１０日後の質量をそれぞれ測定し、調理前の質量に対する質量比（％）を求めた。

以上の結果を次表に示す。

以上の結果により、本実施形態の加熱調理装置１０による加熱調理方法で加熱調理された実施例１における食材の質量変化の割合が、他の調理方法で加熱調理された比較例１、２における食材の質量変化の割合よりも少ないことは明らかである。つまり、本発明の加熱調理方法は、他の調理方法よりも、加熱調理によって、組織や細胞の損壊や水分及び栄養機能成分の流出による質量変化が少なくなっており、このことから、食材の水分や栄養機能成分の経時的な損失を抑制することができ、栄養素を損ねない高品質の食品を提供できることが分かる。なお、人参や大根についても、同様の実験を行ったところ同等の結果が得られた。

つまり、本発明に係る加熱調理方法では、１００℃未満で食材が加熱調理され、食材の表面が１００℃以上の高温にさらされることがないため、当該表面側の細胞、組織、栄養機能成分等を壊さずに、食材を調理することができる。また、本発明では、飽和湿り空気を生成する際に発生した凝縮熱が、飽和湿り空気中の微小水滴を介して食材に伝達されることで、食材が加熱調理される。このため、従来の伝熱加熱による調理方法では、食材の内部を可食化するために、表面側をどうしても１００℃以上の高温にしなければならなかったが、従来よりも効率的な熱伝達が可能になり、１００℃未満の温度の飽和湿り空気でも、食材の内部を可食化させるのに十分となる。

なお、前記加熱調理装置１０において、第２の噴出口４８は、前記実施形態の位置や態様に限定されるものではなく、外気に触れ易いように開口部３８の近傍で蒸気を噴出できる限り、本体１９の内外を問わず、種々の位置や態様とすることができる。

また、図５及び図６に示されるように、邪魔部材３６がテーブル３３と別体となるように、邪魔部材３６の配置態様を変更することもできる。この変形例での邪魔部材３６は、端部材３４に取り付けられずに、当該端部材３４に沿ってその外方に配置された枠体からなる支持部材６１に取り付けられている。この支持部材６１は、開口部３８内に配置され、上下数カ所が固定部材６２で側壁２６に固定されている。邪魔部材３６は、支持部材６１から側壁２６方向にほぼ水平に延びており、前記開放流路４０を完全に閉塞しないようになっている。なお、図５中実線で示されたテーブル３３の位置、すなわち、食材Ｆの加熱調理位置では、端部材３４と支持部材６１との間には、僅かな隙間６３が形成され、端部材３４と支持部材６１との干渉によってテーブル３３の昇降が阻害されないようになっている。隙間６３の幅は、調理空間Ｓ内の温度及び湿度の制御に支障をきたさないように最小限にされる。なお、テーブル３３の昇降を阻害しない限りにおいて、図示しないシール材で隙間６３をシールし、隙間６３を通じた調理空間Ｓの空気の流れを阻止してもよい。

この構成によれば、邪魔部材３６は、側壁２６に固定されており、テーブル３３と別体となっているため、テーブル３３の昇降に伴って移動しない。従って、図５中二点鎖線で示されるように、テーブル３３が食材Ｆの出し入れ位置にあるときに、テーブル３３の近傍で邪魔部材３６が表出せず、当該表出による食材Ｆの不意な損傷や邪魔部材３６を含む装置の破損を防止することができ、食材Ｆの出し入れ時における操作上の支障を低減できる。また、テーブル３３の高さ位置を調整可能とした場合、テーブル３３の高さ位置に拘らず、邪魔部材３６と第２の噴出口４８との相対位置関係を常に一定にすることができ、テーブル３３が図５実線の位置よりも上下何れかに多少移動しても、当該移動に関係なく第２の噴出口４８から飽和蒸気を同じ状態で開放流路４０に導くことができる。

その他、前記邪魔部材３６としては、第２の噴出口４８からの飽和蒸気を調理空間Ｓ内に直接噴出させないように、当該飽和蒸気の流れ方向を変えることができる限りにおいて、前記実施形態と異なる形状及び配置とすることができる。又は、第２の噴出口４８からの飽和蒸気を本体１９の内壁に当てる等により、前述と同等の作用効果が得られる場合には、邪魔部材３６を省略することもできる。

また、図５及び図６に示されるように、加温された不活性ガスを調理空間Ｓに導入可能な不活性ガス導入管６４（不活性ガス導入部）を調理空間Ｓの上側に配置することもできる。不活性ガス導入管６４は、図示しないガス供給装置から供給された窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスをガス噴出口６６から調理空間Ｓに向かって噴出するようになっている。また、不活性ガス導入管６４は、調理空間Ｓの上側に配置された第１の蒸気導入管４１の近傍に配置され、第１の蒸気導入管４１との間を熱交換板６７で仕切るようになっている。熱交換板６７は、第１の蒸気導入管４１に接触若しくは近接するように頂壁２５に固定され、第１の蒸気導入管４１で加熱されるようになっており、ガス噴出口６６から噴出した不活性ガスは、熱交換板６７からの放熱により、食材Ｆを加熱する温度まで加温される。このように調理空間Ｓの上部から、加温された不活性ガスが噴出されると、当該不活性ガスよりも高比重となる酸素を含んだ低温の空気が調理空間Ｓの下方の開口部３８から排出され、調理空間Ｓに不活性ガスが充満し、調理空間Ｓが低酸素状態となる。この低酸素状態で食材Ｆの加熱調理を行うと、当該食材Ｆについて、化学的酸化、酵素による着色、臭い物質の生成等を抑制することができる。調理空間Ｓへの不活性ガスの導入は、食材Ｆの加熱調理前に行うことはもとより、加熱調理中も一定量行うこともでき、この場合、加熱調理中における調理空間Ｓの低酸素状態が維持可能になる。なお、図示しない熱交換器等の他の熱交換手段を採用し、食材Ｆの加熱温度まで不活性ガスを加温する構成としても良い。

なお、図５及び図６の加熱調理装置１０では、図１等の前記実施形態に対し、邪魔部材３６の配置を変えた態様と、不活性ガス導入管６４を新設した態様とが適用されているが、これら二態様を併存させる必然性はなく、何れか一方の態様を適用することもできる。

その他、本発明における装置各部の構成は図示構成例に限定されるものではなく、実質的に同様の作用を奏する限りにおいて、種々の変更が可能である。

１０ 加熱調理装置
１２ 調理庫
１４ ボイラ（蒸気発生手段）
１６ 蒸気流路
１７ 制御手段
３６ 邪魔部材
３８ 開口部
４７ 第１の噴出口
４８ 第２の噴出口
５０ 温湿度センサ（温湿度検出部）
５２ 第１の弁（流量調整部）
５３ 第２の弁（流量調整部）
５５ 制御機器（流量調整部）
６４ 不活性ガス導入管（不活性ガス導入部）
Ｓ 調理空間

Claims (5)

1. 加熱調理される食材が収容される調理空間が設けられた調理庫と、蒸気を発生させる蒸気発生手段と、当該蒸気発生手段からの蒸気を前記調理庫内に導く蒸気流路と、前記蒸気発生手段から前記調理庫内への蒸気の導入を制御する制御手段とを備えた加熱調理装置において、
   前記調理庫は、前記調理空間に通じて外部に開放し、加熱調理中にも前記調理空間と前記外部との間の通気を可能にする開口部と、当該開口部と前記調理空間との間に設けられた邪魔部材とを備え、
   前記蒸気流路は、前記蒸気を前記調理空間内に直接噴出する第１の噴出口と、前記蒸気を前記開口部の近傍に噴出する第２の噴出口とを備え、
   前記邪魔部材は、前記第２の噴出口からの蒸気を当ててから当該蒸気を前記調理空間に導くように配置され、
   前記制御手段は、前記調理空間内の温度及び湿度を検出する温湿度検出部と、当該温湿度検出部で検出された温度及び湿度に応じて、前記第１及び第２の噴出口からの蒸気の噴出流量を調整する流量調整部とを備え、
   前記流量調整部では、前記調理空間内の温度を２０℃以上１００℃未満の予め設定された温度に維持しながら、前記調理空間内を飽和湿り空気で満たされた状態に維持するように、前記第１及び第２の噴出口からの蒸気の噴出流量を調整することを特徴とする加熱調理装置。
2. 前記流量調整部では、前記第１の噴出口からの蒸気の噴出流量を調整することで、前記調理空間内の湿度を制御し、前記第２の噴出口からの蒸気の噴出流量を調整することで、前記調理空間内の温度を制御することを特徴とする請求項１記載の加熱調理装置。
3. 前記第１及び第２の噴出口からの蒸気の噴出流量の調整は、時間差で行われることを特徴とする請求項２記載の加熱調理装置。
4. 不活性ガスを前記調理空間に導入する不活性ガス導入部を更に備えたことを特徴とする請求項１記載の加熱調理装置。
5. 前記開口部は、前記調理空間の下側に設けられる一方、前記不活性ガス導入部は、前記調理空間の上側に設けられることを特徴とする請求項４記載の加熱調理装置。

Images