JPH0552662B2 - - Google Patents

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JPH0552662B2
JPH0552662B2 JP59170265A JP17026584A JPH0552662B2 JP H0552662 B2 JPH0552662 B2 JP H0552662B2 JP 59170265 A JP59170265 A JP 59170265A JP 17026584 A JP17026584 A JP 17026584A JP H0552662 B2 JPH0552662 B2 JP H0552662B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist pattern
forming
graft
resist
polymerizable material
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP59170265A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPS6147641A (ja
Inventor
Yoshihide Kato
Toshiaki Shinozaki
Kei Kirita
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP59170265A priority Critical patent/JPS6147641A/ja
Publication of JPS6147641A publication Critical patent/JPS6147641A/ja
Publication of JPH0552662B2 publication Critical patent/JPH0552662B2/ja
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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