JPH05508910A - 液体中に懸濁した粒子を分析するための装置及び方法 - Google Patents

Abstract

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Description

【発明の詳細な説明】 液体中に懸濁した粒子を分析するための装置及び方法この発明は、放射光（ｒａ ｄｉａｔｉｏｎ）に暴露されると粒子特有の放射光を発生する流体媒質あるいは 液体中に懸濁した粒子を分析するための装置及び方法に関するものである。 この発明は特に、流動−血球（ｆｌｏｗ　ｃｙｔｏａ＋ｅｔｒｙ）計算による生 物細胞の分析に関し、より詳細には、蛍光抗体で標識されたあるいは抗−蛍光性 の生物細胞を流動−血球計算的に分析することに関する。 本発明の適用範囲のよりよい理解のために、最初に、細胞群の生物学的に関連す るパラメータの定量の生物学的背景の簡単な記載をする。 循環及び°固定”された細胞のどちらの細胞の中にも、問題となっている細胞に 対し特異的な、いわゆる抗原決定因子と呼ばれる表面上の構造を有するものがあ る。更に、多くの抗原決定因子は異なる細胞に対しては普通であり、このため、 抗原決定因子は一般の分類の基礎として使用されている。 この技術に於いてよく知られており、実験のために動物を免疫化させ、血清中に 存在する抗体を分離し、その後適当な吸収手順を行う方法に従うと、高い特異性 により、上記の特異的な及び普通の決定因子に結合する抗体を得ることができる 。７０年代中ごろから、モノクローナル抗体を得ることが可能である。モノクロ ーナル抗体はその後、一様に分子群を構成すると考えられることが明確になって いる。この種のモノクローナル抗体の開発は非常に迅速であり、今日では、例え ば人間の血液細胞及びその個々のサブグループと反応するモノクローナル抗体と 接触することができる。更に、異なる癌細胞と特異的に反応することができる抗 体のクローンが作成されている。 上記の両方の型の抗体は、適当な蛍光色素と結合させた後、蛍光−微視的分析細 胞に対して使用することができる。とりわけ、緑及び赤色の蛍光、濁えば、それ ぞれ、ＦＩＴＣ（イソチオシアン酸フルオレセイン）、ＴＲＩＴＣ（イソチアン 酸トリメチルロダミン）、を有する型のものはそうである。同時に２つの異なる 抗体（それぞれ、”緑”及び”赤”）の生物細胞への結合を明視化するために蛍 光顕微鏡に適当なフィルタの組み合わせを採用することが知られている。他の蛍 光試験が、細胞成分を明視化し定量するために適用することができる。このよう に、リポ核酸はアクリジンオレンジ、臭化エチジン、あるいは他のＤＮＡ／ＲＮ Ａ−結合発色剤に結合することで検出することができる。細胞内酵素は基質類似 物と反応した後、その基質の開裂により蛍光物質（フルオレセインニ酢酸、メチ ル轍形フロン）が生成することにより、証明される。更に、い（っかの細胞は配 位子が結合できる特異的なレセプタを有する。これらの配位子はしばしば細胞内 認識及び制御作用に含まれる。蛍光−標識配位子（あるいは配位子類似物）はこ の型のレセプタを検出するために使用することができる。最終的に、いくっがの 細菌及び藻類は自己−蛍光特性を有する。 蛍光分光側光学の使用は、抗体により明視化された表面標識によってのみ互いに 識別される型の細胞のサブグループの実験に特に関連している。この分野では、 抹消の血液のリンパ球の実験に多くの注意が注がれてきた。これらのリンパ球は Ｔ及びＢリンパ球に分けることができるが、形態学的な基準を基に互いに区別す ることはできない。しかしながら、機能及び抗体の違いを基に区別することがで きる。これらの抗体は細胞の表面上に現れ、抗−抗体を使用することによる分類 に利用することができる。Ｔ細胞は、免疫器官の制御及び細胞免疫の直接的な実 行の両方において、多くの異なる機能をする。同様に、Ｔ細胞はモノクローナル 抗体により多くのサブグループに分けることができる。その結果、様々なサブグ ループ上の分布の試験は、広範囲の免疫器官の機能を含む全ての例に於いて関連 している。上記のサブグループは一部互いに重なっている。結論として、同時に ２つ以上の表面決定因子の試験を行うこと、すなわち上記の２つ以上の蛍光色素 のそれぞれの刺激と検出、が重要である。 これらの種類の試験が興味深い状況は、とりわけ、免疫不全、自己免疫疾患、白 血病及び他の悪性疾患の状況である。 上記の及び他の対応する細胞群の分析をするために、現在市販されている装置は たいへん複雑で経費がかかり、またそれらは一般に流体媒質が小さな開口、その 中では分析される流体媒質蛍光−標識生物粒子が懸濁し、その開口の周りではキ ャリヤ流体が分析される粒子が懸濁する流体媒質のキャリヤー流体安定化層流を 生成するために通過している、を通過することに従う一般原理に基づくものであ る。層流は、定常的に発光する、アルゴンレーザなどのレーザランプにより流体 媒質の流れの向きに関しである角度を規定する方向の放射光にさらされ、レーザ の単色光により影響された時に発する全ての粒子の蛍光が、例えば９０度の角度 で、採集され、分析される。従来技術の装置により十分な光エネルギーを得るた めには、レーザランプを使用する必要があり、これにより本質的に装置が高価な ものとなっている。更に、上記の層流の使用に基づ（システムは、上記の層流と して運搬するために、生物粒子が懸濁している流体媒質が小さな開口、その開口 は妨害する傾向にある、を有する進入バイブから放出されなければならないので 、理想的ではない。更に、分析は通常、分析される細胞の大きさに対応する大き さであろうとなかろうと、全ての蛍光粒子を含む。上記の型の装置は、例えばＵ ＳＬ’Ｆ第３９４６２３９号、ＵＳ特許第３９８９３８１号、ＳＥ特許第４２９ ４７９号、ＥＰ特許第００３６４０４号、ＥＰ特許第０２７９０００号、などの 特許文献に開示されている。 更に、いわゆるＣｏｕｌｔｅｒ原理に従って液体中に懸濁した粒子の数をめる技 術内で知られている。その原理は、粒子が懸濁している流体媒質が通過する開口 間の一定の電界あるいは一定の電圧の発生に基づくものである。粒子がその開口 を通過するときに、流体の導電率の変化が電流測定により記録され、それにより 粒子が開口を通過したことが示される。この測定はある程度、粒子の大きさを示 すものであるが、この測定は、かなり精度が悪く、とりわけ、それは粒子が開口 の中心を通過するかあるいは開口の周囲に近い部分を通過するかにより決定され る。Ｃｏｕｎｔｅｒ原理に基づいて粒子を分析することに関連する特許文献ほか なり経費がかかる。ここでは例として、Ｗ、Ｈ，Ｃｏｕｌｔｅｒによる基本的な Ｕｓ特許第２６５６５０８号、ＤＥ−Ｏ３２３４４４２７、ＵＳ特許第３７１４ ５６５号、ＤＥ−ＡＳ１６７３２７９について述べる。Ｃｏｕｌｔｅｒ−原理に 基づ（従来の粒子分析は、特にこの流体が小さな開口を通過するようにした場合 この種の層流を実行することは非常に困難なため、上記の層流及びレーザ光に基 づく装！には適していない。上記のＥＰ特許第００６８４０４号は、層流と結合 させた２つの電極を適用した例を開示している。しがしながら、２つの電極間の 電圧の生成により確立される電界は明確ではなく、精度の高い計数及び大量の流 体定量の可能性を提供しない。 キャピラリー通路の型のフロー領域を有するキュベツトはこの分野ではよく知ら れており、キャピラリー通路を妨害する粒子を含まない流体の色吸収を測定する のに使用することができる。この型のキュベツトの例はＥＰ特許第０１５８９４ ８号で開示されている。この特許は、均一な表面を有し、キュベツトが組み立て られる際に互いに近接して置かれ、結合表面の表面溝を有し、中央部に配された 水平チャンバを含む、２つのキュベツト等分体から組み立てられるフローキュベ ツトを開示する。この従来の技術によるキュベツトは、上記特許に明確に記述さ れるように、ナノリットルの大きさの体積に対するものであり、特に一方向の分 析チャンバの小さな次元のため、粒子の存在しない流体の分析をするためにのみ 使用することができる。２つの部分のキュベツトはスプリング装置により固定さ れ、スプリング装置をゆるめることにより２つのキュベツト等分体はランダムに 落ち、キュベツトが再び組み立てられる時には手により置かれなければならない 。ＵＳ特許第４８２３１６８号から、フローセルは接合表面に溝を有する２つの キュベツト等分体の永久接合により提供される小さなフロー通路を含むことが知 られている。この従来のフローセルはフロー通路を妨害する粒子を含まない液体 を測光的に分析するためだけのものであり、２つのフローセル等分体はいったん 組み立てられると分離しないように適合されている。測光的測定は液体の流れの 向きと一致した向きのフロー通路に光を通すことにより行われる。 この発明は液体中に懸濁した細胞の蛍光−標識あるいは自己蛍光粒子を分析する ために適した装！及び方法を提供するものであるが、その装置は上記のような、 高価なレーザランプを用い、流体媒質が小さな開口を有する給送バイブから送ら れ、流体媒質が外部キャリヤ流体により支持される、従来装置の持つ欠点がない 。 従って、この発明は低−エネルギー光源、例えばたった１００Ｗのよう素石英フ ラッドランプ、あるいはキセノンフラッシュランプなどのフラッシュランプを使 用することができる。 本発明にかかる装置及び方法の実施例によれば、分光測光蛍光−分析技術と分析 する粒子の計数及び大きさ決定とを結合することができる。この粒子の計数及び 大きさ決定は改良Ｃｏｕｌｔｅｒ−原理を基本とする。 更に、本発明にかかる装置及び方法の実施例によれば、分析する際に、生物粒子 が懸濁している流体媒質を含む流体媒質をキャピラリー通路の広がりを有する通 路を通すことができ、通路を妨害する危険が大きく低減し、妨害が生じたときに は簡単に洗浄することができる。分析する時には、小さな断面範囲を有する通路 を使用すると、分析する粒子がそれぞれ測定領域に順に到達するという点で特に 利点がある。これは前述のキャリヤ流体を含む層流技術では不可能である。 更に、本発明にかかる装置及び方法の実施例によれば、粒子は一致、すなわちよ り多（の粒子からの測定の一致、することなくできるだけ互いに近寄って、測定 領域に到達し、このため、従来技術に比べ測定速度が増加する。 本発明にかかる装置及び方法の実施例によれば、分析する粒子を含む液体は、キ ャリヤを用いずに、一定速度の層流としてフローシステム中を通過する。 更に、本発明の利点、様相、特徴及び対象は以下の記述により明らかになるだろ う。 以下にこの発明の詳細について説明する。特に照明を当てると特徴的な蛍光放射 を有する生物細胞を分析する流動−血球計算に関して述べる。しかしながら、こ の発明はまた、入射放射光に基づ（、いわゆる光散乱あるいは他の分析方法と結 合させて適用することができる。入射放射光により関係する粒子はこれらの粒子 に特異的な放射光を放射する。 更に、本発明は特に分析する生物細胞が懸濁する流体媒質に関連して説明する。 この流体媒質は細胞の大きさに適合させた断面積範囲を有する通路を通過させら れ、個々の細胞に照明を当てるために光にさらされる。結果的には、キャピラリ ー通路の範囲を有する細長いフロー領域の存在は強制的なものであるが、通路の 妨害に関しては問題を引き起こす。本発明にかかる原理及び技術は、粒子が放射 光に暴露された時に特異的な放射光を発することができるならば、実質上より大 きい、非−生物粒子に対して使用することができると一般に考えられる。 本発明にかかる装置及び方法の好ましい実施例によれば、この実施例は特に生物 細胞の分光測光学的蛍光−分析に関する、独特の技術が提供される。この技術は 前述の、抗体に暴露された表面標識によってのみ互いに区別することのできる細 胞型のサブグループを含む特別な細胞群の分析に適する。 第１の観点では、本発明による装置は：通路の形を有する細長いフロー領域が、 粒子が懸濁している流体媒質を第１の方向に導くために設けられたキュベツトと 、粒子が懸濁している流体媒質を細長いフロー領域に送るための手段と、粒子が 懸濁している流体媒質を細長いフロー領域から放出する手段と、粒子が懸濁して いる流体媒質を、流体媒質が細長いフロー領域を通って導かれる第１の方向に対 しである角度を規定する第２の方向の放射光に暴露するための手段と、 粒子に特有で、放射光に暴露された時に粒子から発生られる放射光の少なくとも 一部を採集する手段とを含み、 上記細長いフロー領域はキュベツト内に備えられた通路の形を有し、該キュベツ トは平坦面を有する第１の部材と平坦面を有する第２の部材とを含み、該第１及 び第２の部材は、平坦面が液密接触様式で互いに近接して置かれる第１の位置及 び平坦面が間隔を空けて置かれる第２の位置間で相対的に移動し、少なくとも第 １の部材の表面は部材が第１の位置にあるとき、第２の部材の平坦面と近接して 共に通路を構成する細長いフロー領域を明確にする細長い溝を有し、 更に、粒子が懸濁する流体媒質を、部材の１つに設けられた入り口を有し、キュ ベツトの外側から通路の入り口の開口まで延びている細長いフロー領域に送り込 む手段と、 上記部材の１つに設けられた出口を有し、通路の出口の開口からキュベツトの外 側まで延びている、粒子が懸濁する流体媒質を放出する手段とを含み、上記部材 の少なくとも１つは流体媒質が暴露される放射光及び粒子により発せられる放射 光に対し透過性があるものである。 本発明によれば、細長いフロー領域は２つの構成部材からキュベツトの組立をす ることにより提供されるものであり、２つの構成部材はそれぞれの平坦面を通し て互いに近接して置かれるように適合されている。そして、細長い溝の少な（と も１つは明確にされ、例えばフライス加工により提供される。細長い溝は表面の １つにのみ備えられるのが好ましい。結論としては、細長いフロー領域は溝及び 第２の部材の近接した表面により明確にされる。しかしながら、両方の部材の平 坦面に、逆の及び協同する溝を設けることはこの発明の範囲内である。しかしな がら、２つの協同溝が設けられた実施例は、両方の部材の溝を相対的に非常に精 度良く位置させるように２つの部材を組み立てるときに起こり易い、その複雑性 のために適していないことが見い出されている。 ２つの部材は液密接触様式で平坦面が互いに隣接して置かれた第１の位置と、平 坦面が離して置かれた第２の位置との間を移動するように適合されている。流体 媒質がキュベツトから漏れないように第１の位置に部材を配置するので、２つの 平坦面が円滑に磨かれることが好ましい。本発明にかかる装置の好ましい実施例 によれば、逆の部材の表面に対し垂直なスプリング力により部材の少なくとも１ つを活性化するスプリング付勢手段が備えられ、該スプリング付勢手段は更に、 スプリング付勢手段により装てんされた部材の角度を傾斜あるいは変化させるこ とができる。 部材の平坦面が互いに隣接して配列された第１の位置では、分析は以下に記述さ れるより詳細な様式で実行される。分析を終了すると、以下に説明されるように 、平坦面は、平坦面及び更に給送、放出手段が磨かれ、水洗され、あるいは洗浄 される第２の位置に対し相対的に移動させられる。部材の平坦面はまた、細長い フロー領域が意図無しに妨害された場合、清掃され、洗浄されあるいは水洗され る。 本発明にかかる装置の好ましい実施例によれば、平行に２つの部材の少なくとも １つを、部材の平坦面に対し垂直方向に置換することにより、第１及び第２の部 材は相対的に移動することができる。 本発明にかかる装置の好ましい実施例によれば、停止手段が備えられ、該停止手 段は、スプリング付勢部材の表面が反対の表面と実質的に平行であるように維持 される明確な位置にスプリング付勢部材を維持するために、部材が第２の位置に 移動されたときにスプリング付勢部材を受け入れる。 粒子が懸濁している流体媒質の給送手段は、キュベツトに対し外部から細長いフ ロー領域の入り口の開口まで延びる給送チャネルあるいは通路により構成される ことが好ましい。粒子が懸濁する流体媒質を放出する手段は、同じあるいは別の 部材に設けられた放出チャネルあるいは通路を含むことが好ましい。この放出通 路は細長いフロー領域の出口の開口からキュベツトに対し外部まで延びる。理解 されるように、給送通路及び放出通路は異なる部材に設けられてもよい。しかし ながら、給送通路及び放出通路は排他的に部材の１つに設けられ、問題の部材の 外表面と細長いフロー領域間に延びたそれぞれのボアにより構成されるのが好ま しい。 ボアは、その表面に細長い溝が設けられた第１の部材に備えられるのが好ましい 。給送通路及び放出通路が細長い溝を有しない第２の部材に設けられた場合、こ れらの通路が、部材が開かれたり再び閉じられたりしたときに正確に細長いフロ ー領域に導かれることが非常に困難であり、以下の記述かられかるような光学的 な問題を引き起こすことｊ二なる。 液体中に懸濁する粒子に放射光を暴露するために、部材の少なくとも１つは粒子 に当てられる放射光に対し透過性を有し、部材の少なくとも１つは粒子から発生 られる放射光に対し透過性を有す。結論として、部材の少なくとも１つは透明で あることが好ましく、石英ガラスから作られていることが好ましい。 本発明にかかる装置の好ましい実施例によれば、第１の部材、すなわちその表面 に細長い溝が設けられた部材及び給送と放出通路を含むことが好ましい部材は透 明である必要はないが、これもまた石英ガラスで作られるのが好ましい。 本発明にかかる装置の好ましい実施例に於いては、キュベツトの２つの部材間で 形成される細長いフロー領域は上記のキャピラリー通路を育し、１ｍｍを越えな い、好ましくは１００μｍを越えない、最も好ましくは５０μｍである曲率半径 の円断面を有し、１ｍｍを越えない、好ましくは１００μｍを越えない、最も好 ましくは３０−３５μｍである深さを有する直円筒の幾何学的なセクションの形 を有することが好ましい。この大きさの通路は、いくつかのリンパ球の通常の大 きさである８−１５μの大きさの直径を有する生物細胞に適している。上記の細 長いフロー領域の大きさは、粒子が可能な場合いつでも個々に測定領域に到達す ることを基本にして定義されたものであり、細長いフロー領域の断面積の大きさ は、分析される粒子の大きさを考慮して、結果的に決定される。粒子が給送通路 を個々に、連続して通過することは必要ない。しかしながら、給送通路の妨害に 関する問題を最小限に抑えるために、給送通路は細長いフロー領域よりずっと大 きな大きさを有することが好ましい。しかしながら、実験により、大きさが大き いと粒子が一様に細長いフロー領域に到達することを確実にすることが困難なた め、給送通路を構成するボアは例えば３ｍｍを越えないことが好ましいことが明 らかにされている。給送通路の直径が３ｍｍ未満である場合、キャピラリー通路 効果が生じ、給送通路の妨害の危険性が存在する。 本発明にかかる装置の代わりのあるいは付加的な実施例に於いては、給送通路の 妨害を減少させる問題が撹拌手段により解決されている。本発明にかかる装置の この実施例によれば、給送経路は３ｍｍを越えない、好ましくは２ｍｍを越えな い、特に１ｍｍの大きさの直径のボアから構成され、部材の１つ、好ましくは第 １の部材、を通って延びている。このボアを通って、その長軸に関し回転できる 可撓性のワイヤが延び、そのワイヤの１つの終端部がワイヤ回転手段と結合され 、ワイヤの逆の終端部が細長いフロー領域内に延びている。ワイヤは細長いフロ ー領域の入り口開口と反対の細長いフロー領域チャネルの表面と接触するのが好 ましい。 可撓性のワイヤは非−円形断面、特に多角形の、特に四角形あるいは三角形の断 面であってよく、好ましくは給送通路を構成するボアが１ｍｍのオーダーの直径 を有する場合０．２−０．５ｍｍのオーダー、特に０．３ｍｍ、の横寸法を有す る角形断面を有するのがよい。 代わりになるべきものとして、可撓性のワイヤは０．２−０．５ｍｍ、特に０３ ｍｍ、の断面の大きさの円形断面を有するものであってよい。このワイヤは好都 合な撹拌を提供することが見い出されており、多角形のワイヤに比べ、機械的あ るいは電気的妨害あるいはノイズを引き起こしにくい、均一な動作を提供するこ とにより区別される。 可撓性のワイヤは一般の条件下で水中に於いてわずかに膨らむだけのプラスチッ ク材料、例えばナイロン、ポリプロピレン、ポリカーボネートあるいはテフロン で作られることが好ましい。 その長袖の回りに回転することができ、上記の大きさのボアにより構成される給 送通路内に配置された、ワイヤを備えるこの型の撹拌手段は、液体中に懸濁する 粒子を撹拌するための撹拌装置を構成する従来技術には開示されていない。驚い たことに、このワイヤは生物細胞の凝集を防止することができ、通路の表面に粒 子が固着するのを防ぐことができ、確実に粒子が細長いフロー領域の入り口開口 に一様に分散することができることが証明されている。この効果はワイヤが非− 円形断面、特に多角形、好ましくは四角形あるいは三角形断面、最も好ましくは 上記の大きさの角形断面を有する場合に、改善される。その長軸の周りに回転す ると、ワイヤは多かれ少なかれ、螺旋形になると仮定される。ワイヤは時計方向 あるいは反時計方向にあるいは両方の方向に代わるかわる回転してよい。 細長いフロー領域で構成されるキャピラリー通路内に突出し、好ましくはキャピ ラリー通路の入り口開口の反対側の表面と接触するワイヤを備えることにより、 キャピラリー通路の妨害を避けることができる。キャピラリー通路内に突出した ワイヤの終端部は通常、キャピラリー通路の大きさより実質的に大きい断面を有 する。可撓性のワイヤに対するワイヤ回転手段は、以下により詳細に記述されて いるようなマグネット撹拌器であり、このマグネット撹拌器からワイヤは重力に より吊り下がっている。 粒子が粒子に特異的な放射光を発するのを引き起こすように、液体に懸濁する粒 子に暴露するために、レーザランプ、例えばアルゴンレーザ、が適用でき、その レーザランプの放射光は細長いフロー領域の予め決められた領域に向けられる。 しかしながら、上記に示されるように、レーザランプの適用は好ましくなく、本 発明の教示による細長いフロー領域（その領域では粒子が個々に通過するのが好 ましい）により構成されるキャピラリー通路を備えることにより、独特の方法で 、かなり低エネルギー消費の放射光源、例えば、白熱電灯、好ましくはメタルハ ライドランプ、例えばたった１００ワツトの定格の例えばよう素石英ランプを用 いることができる。また閃光ランプ、例えばキセノン閃光ランプを使用すること もできる。この種の放射光源を使用することにより、装置は以下に詳細に説明さ れる光学システムを備える。このシステムにより、粒子に当てられる放射光の焦 点を細長いフロー領域の予め決定した細区分（サブセクション）及び特定領域に 合わせることができる。レーザ手段もしくは本質的に低エネルギーの光源手段に より供給されたものであろうと、この種の放射光により、蛍光−標識粒子あるい は自己−蛍光粒子は刺激され、特異的な蛍光放射光を発する。この明細書に於い ては、粒子が放射光により刺激されるサブセクションは、光学的に焦点を合わさ れた光に関しあるいはレーザランプから発せられた平行入射光に関してであろう と、焦点領域と呼ばれる。光学的に焦点を合わされた光に関しては、液体中に懸 濁する粒子Ｃ予め決定されたサブセクションに焦点を合わせるための放射作用の 最終部分は、本発明によれば、平坦面を有する対物レンズにより構成されること が好ましい。この光−伝達関係に於ける対物レンズは部材の１つの表面（この表 面は部材の平坦面と平行である）に固定される。 粒子から発生された放射光の最大の検出を得るために、本発明にかかる装置の好 ましい実施例によれば、流体媒質あるいは液体中に呼濁し、放射光に暴露された 粒子から発せられた放射光を反射するための反射面をキュベツト内に、少なくと も焦点領域の後ろに設ける。本発明によれば、反射面は、キャピラリー通路によ って構成された細長いフロー領域内の、粒子力壜露される放射光の伝達方向で見 られるように焦点領域の後ろに！かれた領域に備えられることが好ましい。反射 面は、キャピラリー通路内に平面取り付けされた金属部あるいは体の研磨表面に より構成されることが好ましい。 基本的に記述された装置は、従前の市販されている、液体中に懸濁した粒子を中 心的に給送し、この粒子が層流により支持され、蛍光−標識粒子はレーザランプ により刺激される従来技術装！に関して、実質的な進歩を提供する。以下に記述 される本発明にかかる装置によれば、キャピラリー通路と結合させた低エネルギ ー源を利用することができ、同時に予期される妨害問題を解決することができる ということを特に指摘するものである。 本発明の別の観点によれば、より精巧に作成された装置が提供される。その装置 では、光学的な測定の他に、改良Ｃｏｕｌｔｅｒ原理に基づく電気測定を行うこ とができる。以下により詳細に記述するこの原理によれば、液体中に懸濁する粒 子が焦点領域に到達する前にその粒子の大きさを定量する事ができ、結果的に、 その大きさに関する特異的な及び予め決定した基準を満たす特異的な粒子に、暴 露し、特異的な粒子の蛍光を記録することができる。例えば、血液サンプルには 、８−１５μｍのオーダーの大きさのリンパ球とはかけ離れた様々な大きさの多 くの粒子が存在し、その他の粒子はリンパ球のサブ群を決定するための分析を考 慮すると無関係である。以下により詳細に記載され、改良Ｃｏｕｌｔｅｒ原理に 基づく、本発明の更に進んだ面によれば、キャピラリー経路を通過する多くの異 なる粒子の中から、例えば８−１５μｍの関連する大きさの１つの粒子の存在を 検出することができる。この型の粒子を決定し、この粒子に放射光を当てると、 特異的な蛍光−標識抗体が粒子の抗原決定因子に結合した場合、粒子は焦点領域 に到着するとすぐに粒子特性の蛍光放射光を発する。しかしながら、関係する大 きさの範囲外の外側の大きさを有する粒子あるいは、関係する大きさの範囲内の 外側の大きさを有する粒子、前述の粒子、は、非−蛍光性であり、検出されない 。 上記のように、せん光を使用するのが、この明細書では特に興味があるものであ る。放射光あるいは光を生成するためにせん光を使用すると、電界により検出さ れ、関係する大きさの範囲内の外側の大きさを有する粒子として評価される粒子 が細長いフロー領域の特異的な領域あるいは焦点領域、その特異的な領域あるい は焦点領域では粒子がせん光により生成された放射光あるいは光に暴露される、 を通過する特異的な時間に、粒子が暴露される放射光あるいは光を発するために せん光を活性化することができる。 本発明にかかるより精巧に作られた装置を構成する、上記のこの発明の更に進ん だ面によれば、流体媒質が細長いフロー領域を通って導かれるときに通る電界を 発生させるための少なくとも２つの電極が備えられる。この電極を適当な様式で 配列することにより、細長いフロー領域の導電率の測定が、いわゆるＣｏｕｌｔ ｅｒ原理に従うそれ自体知られている様式で実行される。しかしながら、この発 明の更に進んだ面によるこの発明の教示によれば、特異的な外側の大きさの粒子 が細長いフロー領域を通過するのを検出することができ、更に流体媒質を暴露す るための手段により発生された放射光に粒子を暴露することにより、蛍光性粒子 の存在が記録あるいは検出される。本発明、及び上記のこの発明の更に進んだ面 による装置の好ましい実施例によれば、電極は細長いフロー領域の暴露電極面を 提供する第１あるいは第２の部材内に固定される。電極は、細長いフロー領域の 一部に実質的に一様に延び、かつ第１の方向と実質的に平行な何本ものフラック スを有する電界を発生させるために、流体媒質が細長いフロー領域を通って導か れる第１の方向に関連して連続的に配列されることが好ましい。 技術自体に於いてはよく知られたＣｏｕｌｔｅｒ原理によれば、電極間の電気イ ンピーダンスが、例えば電極に一定の電圧あるいは一定の電流が供給され、これ により、それぞれ発生する電流あるいは電圧を測定することにより、あるいは、 結合された電圧及び電流信号の発生と結合した電圧と電流の信号の検出を含む結 合技術に従い、検出される。粒子が個々に細長いフロー領域を通過（これは本発 明の教示により実行されることが好ましい）した場合、以下により詳細に開示さ れるが、電気信号が電極間で生じ、この電気信号は電界が供給される媒質の電気 導電率あるいはインピーダンスの測定を構成する。この電気信号は直接、粒子の 体積、結果的には電界が与えられた粒子の外側の大きさあるいは大きさと相関性 がある。結論として、電気信号は問題の粒子の体積あるいは外側の大きさを表す 測定値に蘭単に変換することができる。 電極が第１あるいは第２の部材内に固定され、流体媒質が細長いフロー領域を通 って導かれる第１の方向に関して連続的に配列された場合、及び、更に細長いフ ロー領域がキャピラリー通路を構成する場合、電極間の最適間隔はキャピラリー 経路の大きさに関連して決定され、電界が発生される細長いフロー領域内の一様 な、実質的に平行な電界の提供に必要である。本発明によれば、電極は０．０５ ０．３ｍｍ、例えば０．０８−０．２ｍｍ、好ましくは釣１０８ｍｍのオーダー の最小間隔を規定する細長いフロー領域に離して置かれるのが好ましい。 以上の数値は、細長いフロー領域により構成されるキャピラリー通路が１ｍｍ未 満、好ましくは１００μｍ未満、最も好ましくはおよそ５０μｍの曲率半径の円 形断面を有する円筒形のシリンダーの幾何学的なセクションの形を有する場合、 特に適している。電極がキュベツトの部材の１つに専ら設けられた場合、電極は 第２の部材内に固定されてもよいが、その代わりに細長い溝が備えられた第１の 部材内に固定されるのが好ましい。 以上で議論したように、粒子を放射光に暴露する手段は連続光を発生させる、よ り好ましくは断続的に光を発生させる光源から構成されるのがよい。連続的にあ るいはそのかわりにより好ましくは断続的に光を発生させる光源から発生される 光は、例えば光源の必要な一部を構成するレンズを備えることにより、あるいは その代わりにまたは好ましくは、キュベツトと直接光学的に伝達するように配列 され、対物レンズにより構成される焦点手段を備えることにより、細長いフロー 領域の特異的な領域に焦点が合わせられるのが好ましい。このようにして細長い フロー領域の特異的な領域に焦点が合わされた放射光あるいは光に、細長いフロ ー領域を通過する流体媒質の粒子が暴露される。 本発明の上記の、更に進んだ面によれば、光反射手段は、光源あるいは流体媒質 を放射光に暴露するための手段からの光あるいは放射光に粒子が暴露された時に 、その粒子から発せられる放射光を、その粒子から発生された放射光を採集する ための手段に反射するために設けられることが好ましい。本発明による装置の上 記の好ましい実施例によれば、電極は部材の１つに固定され、細長いフロー領域 の暴露される電極表面を規定し、光反射手段は暴露される電極表面の１つで構成 されると都合が良く、更に、流体媒質が細長いフロー領域を通って導かれる第１ の方向に関して連続して配列された対の電極の下流部の電極を構成する電極の暴 露される電極表面に構成されることが好ましい。 より詳細に以下に記述されるように、本発明による装置は、妨害が生じた際に、 給送手段及び更にキュベツトの細長いフロー領域の妨害を、非常に簡単に迅速な 様式で、除去することができる。更に、上記のように、電界に粒子を渡し、更に 個々に放射光あるいは光に暴露することが最も重要である。個々に、粒子を電界 に独立して存在させ、更に粒子が個々に暴露される光あるいは放射光にさらすた めには、装置には更に、細長いフロー領域に存在する流体媒質に希釈液を添加す ることを可能とする、細長いフロー領域に希釈液を給送する手段を備えるのが好 ましい。以上で示し議論したように、粒子は電界に及び放射光に個々にさらされ るべきであり、結論として間隔の空いた状態で細長いフロー領域を通るように導 かれるべきである。しかしながら、いかなる近接した２つの粒子間の距離も、広 すぎてはいけない。２つの粒子間の距離が大きすぎると、測定速度が減少し、結 果として、近接した粒子間の距離が大きすぎると、その距離が小さい場合に比べ て、電界、さらには光や放射光にさらされる速度が減少するので、測定装置の能 力が減少する。 希釈液を細長いフロー領域に給送する手段を備えることにより、細長いフロー領 域を通過する粒子の流速を制御することができ、また、細長いフロー領域に希釈 液を供給するのを制御する手段を備えることが好ましい。以上で議論したように 、装置は、細長いフロー領域に希釈液を供給するのを制御する手段に更に結合さ れ、制御することが好ましい、制御手段を備えることが好ましい。このように、 制御手段が最大濃度を越える、細長いフロー領域内の濃度を有する粒子の存在を 検出した場合、制御手段は、細長いフロー領域に希釈液を添加し、その結果細長 いフロー領域内の粒子濃度を減少させるために、細長いフロー領域に希釈液を供 給するのを制御する手段にアドレスする。希釈液を細長いフロー領域に給送する ための手段は電極に関して上流に配置されることが好ましい。更に、希釈液を細 長いフロー領域に供給するのを制御するための手段を制御する制御手段は、細長 いフロー領域の予め決定された粒子の流速あるいは細長いフロー領域内の粒子の 予め決定された濃度を提供するために、あるいはその代わりに粒子を個々に、１ 秒につき１００粒子などの予め決定した最大速度未満の速度で、暴露手段にさら すために、制御を実行する。 更に、流体媒質が一定の速度の層流として細長いフロー領域に導かれ、あるいは 通過させられる場合に、最適な分析及び測定が確立されることが確認されている 。結論として、本発明の特異的な特徴及び観点によれば、装置は更に、細長ＬＡ フロー領域を通過する流体媒質の流れを制御するフロー制御手段を備える。フロ ー制御手段は細長いフロー領域から流体媒質を放出するための手段と結合された ポンプにより構成され、実質的に一定の流速の、細長いフロー領域を通る流体媒 質を生成することが好ましい。 以上で示されるように、本発明による装置の特別な特徴及び利点は簡単で迅速に 、流体媒質を細長いフロー領域に給送するための手段あるいは細長Ｌ）フロー領 域の妨害が起きた場合にその妨害を除去することかできることである。このよう に、妨害は、第１及び第２の部材を互いの向きに関連しであるいは第２の位置に 向けて移動させることにより、好ましくは２０ｍ５のオーダーの短い期間で、簡 単に除去することができる。これにより、第１及び第２の部材からなるキュベツ トが開き、キュベツトの細長いフロー領域内に存在する流体媒質及びその中に懸 濁した粒子が細長いフロー領域から放出され、この放出により、妨害も除去され る。 キュベツトの洗浄及びすすぎを簡単に行うために、この洗浄はキュベツトの部材 が上記の第２の位置にあるときに行われる、装置は更に回転すすぎブラシを備え ることが好ましい。このブラシは、部材が第２の位置にあるときに、その部材の 平坦面を機械的に洗浄することができるように、部材の平坦面を通過する部材に 関連して移動することができる。 本発明の上述した観点は、すなわち、特異的な及び関連ある大きさの範囲内の外 側の大きさあるいは体積を有する粒子の存在の検出に応じて、キュベツトの細長 いフロー領域を通って導かれる粒子の暴露を制御する可能性は、独立した、発明 概念を構成すると考えられる。 放射光あるいは光に暴露される粒子に十分な間隔を与え、更に十分な粒子密度と 細長いフロー領域を通るように導かれた粒子の十分な流速を与えるために、粒子 が懸濁する流体媒質が、キュベツトの細長いフロー領域に希釈液を導入すること により、フロー領域を通るように導かれるときに、”オン−ライン”希釈液操作 を行う可能性は、また、独立した、発明概念を構成すると考えられる。 本発明は更に、本発明による装置を用いて液体中に懸濁する粒子を分析する方法 に関し、本発明にかかる装置の上記の面及び実施例による上記の特徴及び利点を 随意に有するものである。このように、本発明の更に進んだ面によれば、液体中 に懸濁した粒子を分析する方法は、本発明による装置を用いることにより提供す ることができ、この方法は： 粒子が懸濁する流体媒質を、流体媒質を細長いフロー領域に給送するための手段 により、細長いフロー領域に給送する工程と、キュベツトの細長いフロー領域を 通って第１の方向に流体媒質を導く工程と、粒子が懸濁する流体媒質を第１の方 向に対しである角度を規定する第２の方向の放射光に暴露する工程と、 放射光が暴露された時に、粒子から発せられる、粒子特有の放射光の少なくとも 一部を、放射光が！露された時に粒子から発せられる粒子特有の放射光の少な（ とも一部を採集する手段により、採集する工程と、流体を細長いフロー領域から 放出する手段により、流体を細長いフロー領域から放出する工程と、 細長いフロー領域あるいは細長いフロー領域に流体を給送する手段の妨害が生じ た場合に、流体媒質を細長いフロー領域から、更に細長いフロー領域に流体媒質 を給送する手段から放出するために、第１及び第２の部材を第２の位Ｉに移動し 、妨害を除去する工程とを含むものである。 本発明による方法は、本発明による装置の特異的な面及び実施例の、上記の面、 利点、特徴を有するものであることが好ましい。 本発明を図面に関連して更に詳細に説明する。 図１は本発明による測定システムの概略図である。 図２は図１に示された測定システムのキュベツトの詳細を図示した等距離図面で ある。 図３はキュベツト及び試料を提供するためのサンプル貯蔵の一部を図示した断面 図である。 図４は試料給送通路の断面図である。 図５は図３に示されたキュベツトの断面図である。 図６はキュベツト及び洗浄プラン及び対物レンズの一部の等距離の及び一部分解 した図面である。 図７は本発明による測定システムのホースポンプの第１の実施例の透視図である 。 図８は測定領域を図示した、キュベツトの測定通路の縦断面図である。 図９は測定通路の縦軸に垂直で、光学軸と同一水準の測定通路の断面図である。 図１０は本発明による測定システムのホースポンプの第２の実施例を図示した透 視図である。 図１１は本発明による測定システムの、ピストン−型のポンプが使用されている 一部を図示した概略図である。 図１２は図１１に示されたピストン−型のポンプの断面図である。　図１３は図 １１．１２に示されたピストン−型のポンプの透視図である。 図１４は好都合な製造技術を図示したキュベツト平面及び対物レンズアセンブリ の概略及び断面図である。 図１５は図８と同様の縦断面図である。しかしながら、この図に於いては図１４ に示されたアセンブリが含まれている。 図１６は本発明による測定システムのパーソナルコンピュータ及び電子装置を含 むテストベンチセットアツプの概略図である。 図１７．１８．１９．２０．２１は本発明による測定システムの電子回路を図示 するダイヤグラムである。 図２２は本発明による測定システムにより実行されるテストルーチンのプリント アウトを図示するダイヤグラムである。 最初に図１について説明する。図１は本発明による測定システムの概略図を示し ている。粒子が懸濁している流体媒質は、図１の中心の右手部分に図示されたサ ンプルカップ２４から、図１の中心の上部に示されたサンプル貯蔵部１４、さら には２つの部分３．４からなる測定キュベツトへ運搬される。試料は、図１の下 側の右手の部分に示される排出ポンプ８０により、２つの一部分からなる測定キ ュベツト３．４から放出される。キュベツトでは、測定ブロック８６に含まれる 電気回路により、試料の電気測定が実行される。キュベツトでは、試料はまた、 図１の下部に示されるランプ９０が、鏡９７及び対物レンズ６５を通るようにキ ュベツトに向けて光を発し、その光の一部はキュベツトから反射されるので、光 学測定にもかけられる。キュベツトから反射あるいは発せられた光は光検出器９ ４゜９６により検出される。光検出器９４．９６及びブロック８６により発生さ れた測定信号はコンピュータ８８に送られる。コンピュータ８８はシステムの運 転を随意に制御し、測定システムの運転の指示を発生する。測定システムを共に 構成する個々の構成成分は以下に更に詳細に記述される。 次に図２について説明する。図２はキュベツトの中心部を図示した透視図である 。このように、図２では、キュベツトの２つの部分あるいは半体の１つを構成す る板３の平坦面１０が開示されている。板３は石英ガラスにより作成することが できる。板３の平坦面では、チャネル−型の溝１が備えられ、これは例えば切削 工具などによる、例えば切りとりあるいはフライス削り操作により作成すること ができる。本発明によるシステムの好ましい実施例においては、溝１は約５０μ ｍの曲率半径の円形断面、平坦面から約４０μｍ未滴の、例えば３０−３５μｍ の深さ、平坦面で約１００μｍの幅を有する直線状の円筒部を構成する。この構 成は約８−１５μｍあるいはそれ未満の全直径を有する粒子を測定するのに適し ていることが見いだされている。 ３つの連続するあるいは通過するボア７、　８．　９及び２つの円筒形の電極部 ５゜６は板３の平坦面１０に対して垂直に延びるように設けられ、溝１に対し調 整される。図２の上部に見られる連続ボア８は希釈液を給送するあるいは供給す るための給送通路を構成し、連続ボア７は分析される試料を給送あるいは供給す るための給送通路を構成し、図２の下部に見られる連続ボアは排出通路を構成す る。 ３つの通路は全て例えば約１ｍｍの断面の大きさを有することができる。電極は 、通過するボア内に圧入あるいは鋳込みした２つの円筒形のロッドを構成する。 電極５及び６は、例えば約０．４ｍｍの直径の白金ロッドにより構成され、ロッ ドの外表面間の間隔は約０．２ｍｍ未満、例えば０．０８ｍｍである。図２から れかるように、溝１は電極５及び６を通って延びている。このように、溝１は、 ロッド５及び６が通過ボア内に圧入された後あるいはロッド５及び６が凝固され た後に、あるいは表面１０が表面研削を受けた後に、切除あるいはフライス削り されることが好ましい。連続ボア７及び８は表面１０の表面研削の前トニ適当に 機械加工することができる。 次に図３について説明する。図３は２つの部分からなるキュベツト３，４を更に 詳細に開示している。板３は、静止したカラー２７に関して移動あるいは置き換 えることのできる、移動カラー２６に受け止められ、固定される。０−リング２ ８は移動カラー２６の周囲を囲むように配置される。石英ガラスなどの透明な材 料からなる平面状の板４は板３の暴露される、表面１０に隣接して配置される。 板４は表面が研摩され、平行な外表面を有することが好ましい。その表面の１つ は参照数字２５で表され、板３の表面１０に面している。板４の他の外表面は対 物レンズ６５の外表面に隣接して、接触して配置される。板４及び対物レンズ６ ５は共に一体化したアセンブリを構成する。板４及び対物レンズ６５により構成 されるアセンブリは、図３にその前の部分が示されたレンズホルダー６１に配置 される。レンズホルダー６１は、環状スリップガスケット３２により、防御カラ ー３１内に受け止められる。この防御カラー３１は静止したカラー２７にしっか りと取り付けられる。 図３では、レンズホルダー６１は、キュベツト部が洗浄される通常の洗浄操作手 順中の場合のように、幾分、板３から引き返した位！に示される。図３では、フ ィッティング３４が示されているが、このフィッティングは、いかに更に詳細に 説明するように液体を給送あるいは放出するための管あるいは管状物を有するボ アに接触させるため、３つのボア７、　８．　９のそれぞれに配置され、板３内 に収納される。図３では、たった１つの管あるいは管状物１３、すなわち、試料 をボア７に供給するための給送通路を構成する管あるいは管状物、が示されてい る。 管あるいは管状物１３の反対側の端は上記のサンプルの貯蔵層１４の出力ソケッ ト２０に結合されている。サンプル貯蔵層１４の下側の右手部分には、入力ソケ ットが備えられている。サンプル貯蔵層１４の中央左手部分及び上部左手部分に は、以下に更に詳しく記述されるようにすすぎ液及び加圧空気をそれぞれサンプ ル貯蔵層１４及び測定システムに供給するために、２つの入力ソケット１８．１ ９がそれぞれ備えられている。 サンプル貯蔵層１４は、一様な懸濁状態で流体媒質流に懸濁する粒子がサンプル 貯蔵層１４から通路１３を通って輸送されるのを確実にするために、更に粒子が 互いにくっつくあるいは通路を妨害することを避けるために、更に撹はんシステ ムを備える。撹はんシステムは、サンプル貯蔵層１４の最も上の部分の上に配置 されたモーター駆動の撹はんマグネットを含み、このマグネット１５は基本的に 水平軸の周りを回転し、撹はんマグネットの下のサンプル貯蔵層１４内に配置さ れた電機子ヘッドに影響する。撹はんワイヤ１１は電機子ヘッド１６に結合され 、電機子ヘッド１６からサンプル貯蔵層１４を通り、出力ソケット２０を通り、 通路１３を通り、板３の通路７を通る。撹はんワイヤの出力端１２は通路７から 突出し、通路２に入り（図８参照）、通路７に対し反対側に位置し、板４の表面 ２５の一部により構成される通路２の表面と接触するのが好ましい。サンプル貯 蔵層１４を通って延びる撹はんワイヤの上部は、サンプル貯蔵層１４中の粒子の 　−どのような沈降も避けるために、同時に貯蔵層１４中の粒子が懸濁する流体 媒質を撹はんする。 図４では、通路１３の断面図が示されており、この図において、撹はんワイヤ１ １が収納され、撹はんワイヤが一般に正方形の断面を有することが示されている 。通路１３が１ｍｍの内部直径を有する場合、撹はんワイヤ１３は約０．２−Ｑ 、５ｍｍの外側の横の大きさ、特に約０．３ｍｍの外側の横の大きさを有するこ とが好ましい。ワイヤ１３はナイロン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、テ フロン、あるいは同様の材料から作ることができ、これらの材料は水中で膨らま ない。これらの材料は、暴露される流体媒質あるいは液体に対し親和性があり、 弾力的で可塑性がある。一方、非常に強いため、撹はん運動あるいはその関連動 作中にねじれることはない。代わりの実施例によれば、ワイヤは多角形の断面の 代わりに円形断面（図示せず）を有し、直径は約０．　２−０．　５ｍｍ、好ま しくは釣１３ｍｍである。円形断面を有するワイヤによれば、より少ない音響及 び電気ノイズを生成することが見いだされており、これは結果的には特に臨床測 定に対しては好ましい。 以上で説明したように、２つの部分からなるキュベツトのレンズホルダー６１は 図３において、キュベツトが洗浄され、洗浄ブラシが以下に詳細に記述される様 式で、回転している時には板３及び４の隣接した表面を横切って下に向かって移 動され、電極５及び６の溝１の外側の暴露表面を洗浄する位置に見られる。図３ においては、バネ受は金により支持されるスプリング３７は更に調節ネジ上で支 持、載置され、以下に更に詳細に記述するように、中心支持球３６及び移動カラ ー２６の中心ピン３０を通して力を働かせる。その中には板３が収納され、移動 カラー２６が、静止したカラー２７の対応するボア内に収納されている多くの位 置決め球２９と接触するように置かれるようにしている。位置決め球２９は、ス プリング付勢により、移動カラー２６が正確ではっきりとした位置に置かれるこ とを確実にする。好ましい実施例では、全部で３つの球２９が、移動カラー２６ の外周囲に、相互に１２０度の角度の間隔で配置され、図３及び５に見られるよ うに静止したカラー２７に固定される。 洗浄操作を完了すると、レンズホルダー６１は前方へ、すなわち図３及び図５に おいて右側に、図５で示されるような位置に移動される。この移動により、左手 側のキュベツト体あるいは部分を構成する板４の表面２５は、右手側のキュベツ ト体あるいは部分を構成する板３の表面１０と隣接し、右手のキュベツト体ある いは板３及び移動カラー２６に、図５に示されるようにスプリング３７のバネ力 に対し幾分右に圧力をかける。この移動により、位置決め球２９は装てんされな い。このように、測定される時に、キュベツト体あるいは板３及び４は、スプリ ングにより発生される力により隣接した配置となるように維持される。この力は 右手のキュベツト部材あるいは板３上では中心に向かって働き、その結果キュベ ツトアセンブリはわずかな変動や正確でない角度の補償をし、共にキュベツトを 構成する２つの板３及び４のそれぞれの表面１０及び２５間の完全で、しっかり と固定された表面接触を得ることができる。撹はんワイヤ１１は、キュベツトが 、例えば１−３ｍｍ、開かれたときに、通路あるいはボア７から突出し、キュベ ツトアセンブリが閉じたときには反対のキュベツトの部材あるいは板４の表面２ ５と接触することにより、通路あるいはボアに向かう方向に外端１２を引き戻す ように適合されることが好ましい。 次に図６について説明する。図６はキュベツトの構造あるいは組立の機械的な詳 細を図示したものである。図６の中心部では、静止した、箱−型のキュベツトブ ラケット３３が示され、この中には静止したカラー２７が配置される。図６の上 左部では、板３が示され、これは移動カラー２６に収納され固定されている。 図６では、置換可能なあるいは移動可能な部品が、２つの位置決め球２９を開示 するために、完全に引き戻された位置で示されている。図６の一番上の左手の部 分に、スプリングブラケット３９が図示されており、これは上記のようにスプリ ング３７と、スプリング３７の張力を調整する、その結果スプリング３７により 発生された力をｖｌｉ節するための調整ネジの固定された接触表面を構成してい る。 その操作位置では、スプリングブラケット３９は、例えばネジあるいは他の適し た手段により、キュベツトブラケット３３に関して固定される。 図６の下部では、板４及び対物レンズ６５（図６では点線で示される）を支持す るレンズホルダーを特に含む光学システムの区画が示されている。レンズホルダ ー６１はブラケット６０内に収納され、固定される。ブラケット６０は案内トラ ック６３上にジャーナルされ、モーター６４により、静止したブラケット６２に 関し光学測定システムの光学軸６７に平行な方向で置換あるいは移動できる。 図３及び図６に関して以上で述べたように、モータ６４により、板４は隣接した 板３に向かって及びそれからの方向で置換あるいは移動することができる。 図６は更に洗浄ブラシを図示している。これはブラシアクチュエータ５２により 回転が引き起こされるようになっており、ブラシーアクチュエータ支持ブラケッ ト５３により支持されている。ブラケット５３は案内トラック５４上にジャーナ ルされ、置換アクチュエータ５５により、それぞれ、板３及び４の表面１０及び ２５と実質的に平行な方向で上下に置換することができる。この配置により、キ ュベツト部材あるいは板３及び４の表面１０及び２５はそれぞれ、キュベツト部 材あるいは＋ｆＬ３及び４が互いに分離された位置（図３参照）で、回転しなが ら、同時に板３及び４の表面間をかなりゆっくり下降し再び上昇する洗浄ブラシ ５１１；より洗浄される。洗浄操作中は、すすぎ液が板３及び４の表面に向けて 注入される。このすすぎ液は以下に議論されるように洗浄操作中に放出される。 次に図７について説明する。図７は本発明による測定システムで使用される型の ホースポンプを示している。ホースポンプ４１は、図７に示されるように、回転 子４４が回転軸４５に関して回転するのを引き起こすモーター４３を含む。回転 子４４は加圧ローラ４６を備え、その軸は回転子から放射状に延びている。ホー スポンプ４１の静止した構成要素は回転子４４の下に示されている。この構成要 素は、放射状に突出した、円形の取付カラー４８を有する、一般に円筒形の部材 ４０を含む。取付カラー４８はその中の穴４７を通って広がるカラー４２を支持 し、円筒形の部材４０の上部表面の周囲に配置された溝の周りに固定される。 カラー４２の移動は取付カラー４８により、回転子軸の長軸の向きでは下方に、 カラー−保持縁５０により回転子軸の長袖の向きでは上方に制限される。カラー ４２は引っ張り応力により全周に沿って引っ張られるように、きつ（載置される 。 管は、適当な大きさ及び弾性の管が使用され、穴４７がこの大きさ及び弾性に適 合された場合、穴４７の摩擦にのみ因る引っ張り張力により保持することができ る。 加圧ローラ４６は、個々のローラの下の部分で完全に管の内部開口を平にするた めに、回転子４４が回転した場合に駆動ポンプ作用を生成するために、軸の方向 に管に影響する。管の引っ張り張力により、管は管−保持縁５０及び全円周に渡 る取付カラー４８間の摩擦力により影響され、完全に安定化される。これらの装 備により、公知の技術のホースポンプにより得られるポンプ作用及びポンプ過程 に比べ、より連続した、明確なポンプ作用及び、より連続したポンプ過程が達成 される。公知技術では、膨張した場合、ポンプ及び管は通常溝に関して移動する 傾向がある。図７に示される実施例に於いては、ホースポンプは全部で４つの加 圧ローラを含み、これらは９０°の角度を離して配置される。 このホースポンプにより、連続した、よく制御できるポンピングが確立されるが 、ローラが放出穴４７の区画を横切って回転する時はいつでも断続性は全体とし ては避けることができず、結果的に管が曲がる。加圧ローラが管の一端を離れて 反対側の端をたたく時、管圧が徐々に変動するのは避けられない。流速が完全に 一定であることが好ましい場合、これは加圧ローラが管の屈曲を横切って通過す る時間間隔中にのみ、すなわち、図７に示されるように回転子４４の１回転につ き４期間で、測定することにより達成することができる。しかしながら、この時 間間隔はかなり短いが、この状態は、図１０に示される特別なポンプホースによ り改善することができる。このポンプホースは全体として参照数字３５で示され ているが、図７に示されたホースポンプとは、６０−９０°離して配置された軸 を有する、たった２つの加圧ローラが備えられているという点で、異なる。これ により、測定に適した時間は、約２４０−２７０”の回転子４４の１回転中、す なわち２７０−３００°マイナス放出穴４７で管の屈曲を横切って加圧ローラが 移動するのに必要な期間、に、完全に連続した液体の流れで達成される。 次に図８について説明する。図８はキュベツトアセンブリの概略及び断面図であ る。図８においては、板が、それぞれ板３及び４の表面１０及び２５に対し垂直 な板４の表面２６と共にキャピラリー通路２を規定する、溝の中心を通って縦に 延びている。図８は基本的には測定帯域を通過する粒子の移動を図示する目的を 果たしている。板３は篤１のキュベツト半部材を構成し、この中では溝１が機械 加工されており、図８の下部に示されている。板４は第２のキュベツト半部材を 構成し、図８の上部に示されている。対物レンズ６５は上記のように板４と接触 されて配置される。図８においては、光学軸６７も示されている。光学測定を実 行する場合、光が対物レンズを通って光学軸に沿って発せられる。この発光によ り、光学軸６７の周りの通路２の区画に光が照射される。光検出器９４及び９６ により検出される光は光学軸６７に沿って反射される反射光である。 図８の下左−手部分には、希釈液を給送するボアあるいは通路８、試料を給送す るためのボアあるいは通路７、第１の電極体５、第２の電極体６、放出通路を構 成するボアあＳいは通路９が示されている。図８の下部には、フィッティング３ ４が、上記の管あるいは管状物がこれらのフィッティング３４に結合することが できるように、個々のボアあるいは通路に収納されている。撹はんワイヤ１１の 一部がボアあるいは通路７内に見られ、この撹はんワイヤの外端は上記のように 板の表面２５まで延び、これと接触している。図８では、多角形の断面を有する ワイヤがどのように、撹はん動作中にねじれるかが示されている。ボア７．８及 び９は１ｍｍのオーダーの直径を有することが好ましく、溝１の深さ及び結果的 にはキャピラリー通路の深さは３０−３５μｍのオーダーであることが好ましい 。こねにより、キャピラリー通路を妨害する危険性が存在することがわかる。 キャピラリー通路の妨害は粒子がキャピラリー通路２中に入り込もうとする区間 で特に起こり易（、従って撹はんワイヤ１１がボア７の通路部分、すなわち、試 料の粒子がキャピラリー通路に導入される部分に影響を及ぼすことが不可欠であ る。 必要であれば、希釈液はボアあるいは通路８を通ってキャピラリー通路２の上流 端で添加され、キャピラリー通路２に沿って試料の下流と混合されることができ る。その１つが参照数字６８で示された多くの矢が、ボア７及び８、キャピラリ ー通路２、ボア９を通る流れの道を示している。参照数字６６は液体中に懸濁す る粒子を示し、この粒子はボア７を通ってキャピラリー通路２に導入される。 液体の流れ及びその中に懸濁する粒子は電界を受ける。この電界は、フラックス ６９の線で示されるように電極５．６間で発生される。このフラックスは電極５ ゜６に隣接した２つの端部分を除（通路に沿って延びている。端の部分では、フ ッラクスの線は電極５，６の表面に向かって曲がっている。電極は、公知の技術 方法により、例えば電極に一定の電圧あるいは電流を供給し、電流を測定するこ とにより、液体の導電率を測定するために使用される。液体は導電性があり、粒 子６６は、実質的には広がることな（、電界により移動することができるので、 電界内に入ると、粒子の体積を示唆し、それに比例する測定結果が得られる。 粒子が個々に通過し、１つの粒子のみが特定の時間に電界内にある場合、及び電 界が明確である場合、直接粒子の体積に変換できる電気信号が得られる。 測定は個々の粒子上に及び粒子の全ての部分上に全く同じ電界を発生させること を含み、このため、完全に一様ではない電界は、キャピラリー通路の上部を通過 する粒子は、通路の下部を通過する粒子に比べて、低い電界強度に暴露され、あ るいは短い期間電界中に存在することになるので、不正確な測定を引き起こすと 考えられる。しかしながら、驚くべきことに、上記の電極の実施例によれば、非 常に信頼性、再現性、精度が高い電気測定結果を達成することができることが見 いだされている。この測定結果は電界の端効果あるいは非均一性に実質的には影 響されていない。 この結果は、フラックスの線が粒子の流れの向きに平行な向きに向いているよう に電極間の部分では実質的に一様であるように電界が延びていることにより説明 することができる。測定システムのこの好ましい実施例では、電極間の最小距離 は０．０８ｍｍであり、一方、キャピラリー通路２の深さは以上で説明したよう に３０−３５μｍである。このため、電気的な測定の結果は、約０．　１２−０ ゜３５ｍｍの長さを有する一様な電界を通過する粒子に対応することは明きらか である。池の重要な点は、液体の流れは送流挙動を示すので、粒子は、液体の流 れの速度が最も早いキャピラリー通路の中心に向かって集中する傾向があること である。結論として、粒子は全く同じ道を追う傾向がある。 粒子の導電率をｌＮ１１定することにより粒子の体積を決定することは、もちろ ん、１度に単一の粒子が電界に暴露される場合にのみ可能である。実際の生物で は、粒子間の距離は統計学的に変動し、従って粒子が一致することは完全には避 けられない。しかしながら、粒子の一致の頻度は、試料を希釈することにより許 容レベル、例えば約２％まで引き下げることができる。二のため、粒子間の平均 距離は例えば２．５ｍｍとなる。１ｍ／ｓのオーダーの液体の流速により、上記 で示された平均距離は１秒につき４００の粒子の通過のオーダーの粒子の流れに 対応する。粒子の導電率の測定により、特異的な区間内の体積を有することが見 いだされた粒子のみが光学測定を受けるようにすれば、測定された粒子の数は実 際の生物における場合よりも少なくなる。例えば、１０番目毎の粒子のみが関連 する区間内の体積を有した場合、５０００粒子の分析は約２分で実行され、この 期間において、５００００の粒子がキャピラリー通路２を通過したことになる。 ２つの粒子が間断な（続いた場合、これは粒子が電界に入るあるいは出る度に徐 々に変化を示す電気信号により検出することができる。結論として、他の全ての 測定信号が抑制されているので、単一の粒子が電界を通過したことに対応する測 定信号を受信することは電子工学的に可能である。 粒子が電界を通過した場合、粒子は矢６８に示されるようにキャピラリー通路２ に沿って更に移動し、図８に示されるように光学軸６７を通過する。ここでは、 その粒子は光線により光が照射され、光学軸６７に沿って反射された光が光検出 器９４及び９６により検出される。光検出器９４．９６により発生された電気信 号は、粒子が蛍光を発生したかを決定するために分析される。蛍光の色はまた、 ２つ以上の特異的なスペクトル帯内の光強度を測定する光学システムにより、決 定される。この配列は粒子を決定するあるいは分類する目的にかなう。結合され た電気的及び光学的測定から、液体の体積に関する情報と結合して、液体中に懸 濁する、関連する蛍光性の粒子の濃度が引き出される。 図８に示される実施例においては、電極６の暴露される外表面が光反射返として 作用し、図９の断面図から明らかなように、光が１点に集中するように、表面設 計により反射板効果が集中するようになっている。この手段により、強度の高い 光が測定領域で達成される。光−反射電極６を囲む板３の表面１０は反射機能を 果たさないが、光を吸収するように適合されることが好ましい。図８及び９に示 される２つの一部分からなるキュベツト３．４の実施例において、通路２は５０ μｍの曲率半径、３０−３５μｍの深さを有することができる。通路の幅は約１ ００μｍであり、これは、以上で説明されるように、８−１５μｍあるいはそれ 未満のオーダーの直径を有する粒子を分析するのに適している。 ２つの部分からなるキュベツト３，４及び対物レンズ６５を含む上記のアセンブ リでは、対物レンズ６５が、第２の電極６の部分的な集光レンズ効果と協同して 、２つの部分からなるキュベント３．４の板４としつかり接触するように配置さ れる。このアセンブリにより、非常に好都合な光の利用が得られる。したがって 、１００Ｗの能力のよう素石英写真用電球により光が発せられる時によい結果を 得ることができる。測定値は、粒子が電界を通過する時間はよくわかっており、 粒子が電界から光学軸まで移動するのに必要な時間もまたよくわかっているため 、個々の粒子と厳密に相関関係がある。 上記のように、よう素石英写真用電球は暴露ある（・は照射のために使用するこ とができる。しかしながら、レーザランプ、例えばアルゴンレーザもまた適用す ることができる。代わりの実施例によれば、照射システムは閃光ランプ、例えば キセノン型のもの、を含む。このランプは適当な大きさの粒子が導電率測定によ り検出された時に、予め決められた遅れの後に点火される。粒子が懸濁する流体 媒質の流速はわかっているので、閃光を、粒子が光学軸６７にちょうど到達した 時にその粒子に照射されるように、遅れを適合することができる。これらの手段 により、非常に強力な粒子の照射が低コスト、制限された電力の消費で実行され る。このように、低−レベルの、光学信号が検出できる。電気回路は図１に示さ れるブロック８６に含まれ、以下に図１６−２１を参照して説明されるように、 １秒に１００回もの同期した閃光を発するように閃光ランプを活性するように適 合される。更に、周期的に点火あるいは活性化される閃光ランプを使用すること により、試料の加熱は、測定帯の一定の照射に比べて減少させることができる。 次に、図１に示される発明による測定システムのこの好ましい実施例の全体概略 図に戻ると、試料は、分析する粒子が懸濁する流体媒質あるいは液体を含むサン プルカップ２４から導き出される。リフティング装置７０及び、サンプルカップ ２４の中に入れられる水中吸い込み管８３を含む吸い込み装置により、水中吸い 込み管８３は直接吸い込みダクト２３に接続され、ここを通って試料は粒子フィ ルタ２２に送られる。フィルタ２２は予め決められた体積あるいは直径より大き い体積を有する粒子、例えば２０μより大きい直径の粒子、を保持する目的を果 たす。その後、試料はサンプル貯蔵層１４の入りロソケット１７に対する入りロ バルブ８９を通過する。 サンプル貯蔵層１４の左−手側には、光源５６、例えば発光ダイオードあるいは ＬＥＤ、が配置され、この光源５６はサンプル貯蔵層１４を通過する光を発する 。サンプル貯蔵層１４は光−透過性材料で作成され、あるいは光２透過性材料で できた壁部分を含み、その壁部に隣接して、光源５６が光検出器５７に向けて配 置される。この光検出器５７により、カップ２４からサンプル貯蔵層１４への流 体媒質あるいは液体の供給の制御が行われ、サンプル貯蔵層１４の液体レベルが 光源５６から光検出器５７までの光学的な光経路により定義される液体レベルを 越えた場合、カップ２４からサンプル貯蔵層１４までの供給が停止される。 サンプル貯蔵層１４のソケット１８は流水ポンプ７４、例えば図７を参照して以 上で記述した型のホースポンプに接続される。流水ポンプ７４の入り口はバルブ −制御通気孔７２及び、加熱液体容器７９を通ってすすぎあるいは洗浄液を含む タンク７３と接続されている。加熱液体容器から、バルブ−制御導管あるいは管 を通って、前もって加熱されたすすぎあるいは洗浄液がサンプル貯蔵層１４のソ ケット１８に供給される。流水ポンプ７４は可逆ポンプであり、カップ２４から 液体を吸収する際に適用される。その操作中には、加熱された液体容器７９とソ ケット１８との連絡を確立するバルブ−制御導管あるいは管が閉じられ、ｌくル ブー制御通気孔７２は開かれる。 光源５６から光検出器５７までの光学的な光経路は、液体レベルがサンプル貯蔵 層１４内で上昇した場合中断されるので、流水ポンプ７４は停止され、入り口の バルブ８９は閉じられ、バルブ−制御通気孔７２もまた閉じられるかあるいは遮 られる。 サンプル貯蔵層１４のソケット１９は圧縮空気の源あるいは圧縮機７１に、及び バルブ−制御通気孔７２′　に接続される。サンプル貯蔵層１４から２つの部分 からなるキュベツト３．４までの試料の輸送は、以下の３段階の手順において完 遂される。第１に、空気圧縮機７１は圧縮空気、例えば大気圧より約１ｂａｒ高 い、を生成するために活性化される。圧縮空気を発生させるために空気圧縮機７ １が活性化されている間は、バルブ−制御通気孔７２°は、この空気圧縮機７１ により生成された圧縮空気をサンプル貯蔵層１４に供給するために、閉じられる 。 第２に、図３．４に関して以上で説明したように、板４を支持するレンズローラ ６１が板３から離されるので、２つの部分からなるキュベツト３．４は２０秒の オーダーの短い期間開かれる。開くことにより、試料は、通路１３内にトラップ された空気を大気中に放出あるいは吐き出すために、給送通路を通過するように 強制される。第３に、２つの部分からなるキュベツト３，４は、通路１３内にト ラップされた空気を吐き出し、通路１３をサンプル貯蔵層１４からの試料で満た すために、キュベツトの上記の開口後に閉じられた後、サンプル貯蔵層内に含ま れる試料は、排出通路２１を通ってボアあるいは通路９と結合された排出ポンプ ８０が活性化されるので、２つの部分からなるキュベツト３．４の図８に示され るキャピラリー通路２に、サンプル貯蔵層１４から、給送通路１３を通って、更 にボアあるいは通路７を通って、排水あるいは吸水される。排出ポンプ８０は図 １０を参照して以上で記述した型のホースポンプとして機能し、はっきりとした 速度で操作される。従って、２つの部分からなるキュベツト３．４の図８に示さ れるキャピラリー通路２を通る液体の流速を制御することができる。排出ポンプ ８０は更に廃液容器８１に接続される。 測定キュベツト３．４のボアあるいは通路８は希釈液を含むタンク７５と連絡し ている。これはポンプ７６により推進され、このポンプは図１０を参照して以上 で記述した型のホースポンプとしても機能する。 測定段階においては、試料は、圧縮空気に推進され、サンプル貯蔵層１４から、 サンプル貯蔵層１４の出口ソケット２０と連結された通路１３を通り、測定キュ ベツト３，４のボアあるいは通路７を通って、測定キュベツト３，４の通路２に 供給される。圧縮空気は圧縮空気源あるいは圧縮機７１からサンプル貯蔵層１４ に供給される。キュベツト３．４の通路を通る液体の流れは排出ポンプ８０によ り制御される。排出ポンプは測定キュベツト３，４の通路２を通る一定の流速を 発生させるために、一定の回転速度で操作される。測定段階中は、測定キュベツ ト３，４の通路２を通って輸送される試料の希釈率を変えるために、ポンプ７６ はタンク７５から測定キュベツト３．４の通路２に希釈液を供給するために活性 化することができる。ポンプ７６は、通路２を通って輸送される試料のかなり一 定の希釈率を生成するために、あるいは少なくとも、通路２内の電極５及び６に より発生される電界を粒子が個々に受け、粒子が個々に閃光に暴露することがで きるように、試料の粒子が個々に、連続して、通路２を通って輸送されることが 確実に行われ、更に通路２を通る一定の流速、この一定の流速は通路２を通って 輸送される粒子が、予め決められ、固定された期間内に電界への暴露から閃光へ の暴露にシフトされるのを保証するために最も重要である、が確実に得られるの に、十分な希釈率を得るために、測定段階中は様々な回転速度で操作することが でき、加速、あるいは減速、あるいは停止することができる。 測定キュベツト３．４の通路２が妨害された場合、あるいは給送通路１３が妨害 された場合、この妨害は、電極５及び６により発生される電界を通過する粒子の 検出の原点となる通路２を通って輸送される粒子がないとして検出されるが、こ の妨害は上記の第２段階の給送手順を実行することにより、すなわち短期間、例 えば２０秒のオーダー、２つの部分からなるキュベツト３．４を開くことにより 、容易に除去することができる。このようにキュベツトを開くことにより、キャ ピラリー通路２あるいは給送通路３を妨害している粒子が、開かれた２つの部分 からなるキュベツトから、あるいは給送通路１３から開かれた２つの部分からな るキュベツト３，４内に、放出されるので、妨害は除去される。このキャピラリ ー通路２あるいは給送通路３の妨害を除去する手順は、従来の技術による測定シ ステムに比べて、測定システムに対し非常に好都合な特徴を構成していると考え られる。従来の測定システムはこの好都合な特徴、あるいは可能性を有しおらず 、あるいは測定システムの通路のどんな妨害も簡単に除去することはできない。 開かれた２つの部分からなるキュベツト３．４から、及び給送通路１３放出され た液体は、廃液容器に収容される。この廃液容器は、以下に更に詳細に記述され る流出通路７７と連絡される。 測定操作が実行されると、排出ポンプ８０は停止され、ポンプ７６及び水中管８ ３を持ち上げるためのリフティング装置７０が活性化される。このリフティング 装置７０は、カム８４と協同し、水中管８３がサンプルカップ２４から引き上げ られた時に回転してその水中管８４が流出コレクタ８２に向く位置にあるように するカムフォロア８５を含む。流出コレクタ８２は流出導管７７と連絡している 。インレットバルブ８９は開かれると、サンプル貯蔵層１４に供給された圧縮空 気は、サンプル貯蔵層１４に含まれる試料の可能な残さがサンプル貯蔵層１４か ら流され、水中管８３から流出コレクタ８２に放出されるように、導管２３と水 中管８３を乾燥噴射する。 その後、加熱容器７９及び流水ポンプ７４に接続された導管のバルブは開かれ、 流水ポンプ７４は加熱容器７９からの前もって加熱されたすすぎ液を吸収するた めに活性化される。加熱容器では、すすぎ液の洗浄効果を増加させるためにすす ぎ液が加熱される。すすぎ液はサンプル貯蔵層１４に輸送され、粒子フィルタ２ ２、導管２３及び水中管８３を通って流出コレクタ８２に放出される。その後、 流水ポンプ７４が停止され、圧縮機７１が吸収導管２３及び水中管８３を空気乾 燥するために短時間活性化される。 インレットバルブ８９が再び閉じられ、板４を支持するレンズホルダー６１が左 に移動されるので測定キュベツト３．４は開かれる。流水ポンプ７４は再び活性 化され、すすぎ液をサンプル貯蔵層１４に輸送し、すすぎ液を給送通路１３を通 って開かれた測定キュベツト３，４に放出する。測定キュベツトから、すすぎ液 が流出通路７７を通って放出される。同時に、排水タンクからボアあるいは通路 ９を通って開かれた測定キュベツト３．４に液体を放出するために、排水ポンプ ８０は排水タンク８１から液体を吸収するために活性化される。洗浄ブラシ５１ はその後活性化され、電極５．６の暴露表面を含む表面１０及び２６、及び溝２ が、供給された液体で洗浄され、その後ブラシ５１で掃除されるように、回転し ながら、それぞれ板３．４の表面１０．２５を横切って移動する。流出流体は流 出経路７７を通って放出され、流出ポンプ７８によりくみ出される。この流出ポ ンプは洗浄あるいはすすぎ操作中は連続して操作される。 洗浄すすぎ液は、上記の洗浄あるいは掃除操作あるいはルーチン中は、排水タン ク８１から添加されることが指摘される。このように、測定する際の、測定キュ ベツト３．４を通って輸送される液体の量は非常に少なく、排水通路２１を満た すことも洗浄すすぎ液と混合されることもないほど少ないことが好ましい。洗浄 すすぎ液は予め排水タンク８１に満たされる。その代わりになるべきものとして 、廃液貯蔵層はボアあるいは通路９と排水ポンプ８０とに接続された導管あるい は管内に設けることができる。洗浄操作を完了すると、タンク８１からの、その 量が測定中に測定キュベツト３．４の通路２を通って輸送される液体の量より多 い、液体の量を輸送するために、排水ポンプ８０は活性化される。排水ポンプ８ ０の操作の総結果は、このように、排水タンク８１から測定キュベツト３，４を 通って輸送する液体の正味の輸送をする事である。 最終的に、流水ポンプ７４及び排水ポンプ８０は停止され、圧縮空気源あるいは 圧縮機７１がサンプル貯蔵層１４と給送通路１３を空気乾燥するためにしばらく 活性化される。この操作の後、続く測定操作の準備をするために、キュベツトは 再び閉じられる。 図１は更に、図６を参照して以上で記述された構成要素の他に、光源９０及び検 出器９４．９６が配置された静止したハウジング構成要素を含む、光学システム を図示している。図１では、光源あるいはキセノン閃光ランプ９０は開口９１、 カラーフィルタ９９を通過し、ダイクロイックミラー９７に向かう光を発する。 ダイクロイックミラー９７は光学軸６７に沿った方向に、ハウジング構成要素８ ９を通って縦に、それ自体この分野において通常の技術を有するものによく知ら れている焦点レンズ及びコリメータを含む適当な光学システムを通って対物レン ズ６５に向かう光を放出する。光学軸６７に沿った方向でキュベツトから反射さ れた光は対物レンズ６５を通過する。予め決定されタスペクトル幅の反射光はダ イクロイックミラー９７を通過し、更に光学軸６７に沿って第２のミラーあるい はいわゆるビームスプリッタ９２に送られる。このミラーにより、反射光の第１ の部分はまっすぐ第２のミラーあるいはビームスプロッタ９２を通過し、この第 ２のミラーあるいはビームスプリッタ９２は反射光の第２の部分を偏向する。反 射光の第１の部分、すなわちビームスプリッタ９２をまっすぐ通過する光、は、 光学軸６７に沿って配置された第１のカラーフィルタ９３及び第１の光検出器９ ４に向かう。反射光の第２の部分、すなわちビームスプリッタ９２により偏向さ れた光は実質的に光学軸に垂直に、第２のカラーフィルタ及び第２の光検出器９ ６に向かう。ダイクロイックミラー９７、ビームスプリッタ９２、カラーフィル タ９３．９５はいわゆる干渉フィルタであり、関係する蛍光色を反射させ、光分 割させ、透過させるために適応される。関係する波長あるいは波長幅とは異なる 波長幅の光は実質的に妨害される。光学システムはこの分野において通常の技術 を有するものにとっては、それ自体よく知られたものであり、そのため、ここで は詳細に説明する必要はない。 光学システムの第１の実施例においては、カラーフィルタ９９とキセノン閃光ラ ンプ９０が、測定キュベツト３．４１＝４７５−４９５ｍｍのスペクトル幅内の 光で照射するように適応される。カラーフィルタ９３及び９５及びビームスプリ ッタ９２は第１の光検出器が５７５−６４０ｍｍのスペクトル幅の光を記録し、 第２の光検出器が５２０−５６０ｍｍのスペクトル幅の光を記録するように適応 される。 他の実施例においては、１．ＯＯＷのよう素石英写真用電球がキセノン閃光ラン プの代わりに使用され、カラーフィルタの配列は同じである。 第３の実施例では、アルゴンレーザが照射用に使用され、このレーザは４８０ｎ ｍの波長の光を発する。 図１に示される測定ブロック８６は第１及び第２の電極５．６にそれぞれ接続さ れ、ＡＣあるいはＤＣ電圧あるいは電流信号あるいはそれらの結合などの電気　 ・信号、例えば９Ｖ、５Ｏ−１００ｋＨｚ、例えば８Ｏ−９０ｋＨｚの周波数の ＡＣ電圧、を電極に供給するように適合される。測定ブロック８６はまた、上記 の電気測定を実行するための、例えば、１０−５もの小さいインピーダンスの変 化を測定するために１０にΩ−５０にΩのオーダーのインピーダンスなどにより 、インピーダンス変化を決定するための、回路を含む。 図１に示されるコマンドブロック８７は、測定システムの様々な電気ユニット、 とりわけ、光学システム、測定ブロック８６、光検出器９４及び９６など、によ り発生される電気信号を受信し、バルブ、ポンプ、アクチュエータなどの、全て 遠隔制御されるように適合された、測定システムの様々な構成要素の操作を制御 するための制御信号を発生する。コマンドブロック８７は更にコンピュータ８８ に対するインターフェースブロックを構成する。 次に、図１１について説明する。図１１は図１に開示された測定システムの流体 −輸送システムの別の実施例の概略図を示したものである。図１では、液体−輸 送システムの別の実施例、及び、流体あるいは液体を輸送するためのポンプの別 の好ましい実施例が採用されており、このポンプはピストン−型のポンプである 。図１１では、第１のピストンポンプ１７６及び第２のピストンポンプ１８０が 、図１に示されるホースポンプ７６及び８０のそれぞれの代わりに採用されてい る。図１に示される容器７５及び８１は、図１１では、それぞれ、加圧容器１７ ５及び１８１で置換されている。容器１７５及び１８１を加圧するために、図１ で示される圧縮空気源あるいは圧縮器７１に連結された圧縮空気導管と貯蔵容器 １４の入り口１９が、加圧容器１７５及び１８１に圧縮空気を供給するために、 Ｔ−型コネクタと共に備えられる。圧縮器１７１から容器１７５及び１８１に圧 縮空気を供給する圧縮空気導管は、圧縮空気を容器１７５及び１８１に供給する のを制御するための制御バルブと共に備えられる。このように、容器１７５に結 合された圧縮空気導管は制御バルブ１７７と共に備えられ、圧縮空気を容器１８ １に供給する圧縮空気導管は制御バルブ１７８と共に備えられる。ピストン−型 のポンプ１７６．１８０及び容器１７５，１８１にそれぞれ連結された導管もま た、それぞれ参照数字１７９，１８２で示される制御バルブと共に備えられる。 加圧容器１７５及び１８１を備えることで、基本的には、それぞれ容器１７５゜ １８１内に含まれる液体をピストンポンプ１７６．１８０にそれぞれ送り込むこ とにより、ピストンポンプ１７６．１８０をそれぞれ排出することを可能とすＳ 目的を満たす。 しかしながら、ピストン−型のポンプ１７６及び１８０は、図１．　７．　１０ を参照して以上で説明したホースポンプに比べ、非常に好都合である。図１．７ ゜１０において、ピストン−型のポンプ１７６．１８０は精度が高く、簡単に制 御できる、液体の投与を可能とし、その結果、非常に精度が高く、簡単に制御で きる液体の輸送が可能となる。 図１２．１３においては、図１１を参照にして以上で議論したように本発明によ る測定システムにおいて使用されることが好ましい、ピストン型ポンプは、それ ぞれ、正面、断面図において、透視図において示されている。ピストン型のポン プは参照数字１４１で、それ自身が示されている。ピストン型のポンプ１４１は ２つの静止したブロック１４２及び１４３を含み、これらは距離ロッド１４４及 び１４５により平行に分離した関係で維持されている。ドライブモータ１４６は スクリュ、スレッドあるいはその代わりの適当な固定手段により静止ブロック１ ４３に固定され、アウトプットシャフト１４７を有している。アウトプットシャ フトはドライブモータ１４６から、静止ブロックの貫通したボアを通って、静止 ブロック１４２及び１４３間で定義される空間に延びている。ピストンハウジン グは基本的に、内部ハウジング部１４８．外部ハウジング部１４９．端板１５０ の３つの構成要素から構成されている。端板１５０は、全部で４つのスクリュー １５１で静止ブロックに固定されている。このスクリュー１５１は端板１５０と 外部ハウジング部１４９を静止ブロック１４２に対し組み立て、固定するために 外部ハウジング部１４９の貫通したボアを通って延びている。内部ハウジング部 １４８は外部ハウジング部１４９内に収納され、静止ブロック１４２の貫通した 、階段状のボアを通って延びている。 シーリング０−リング１５２は外部ハウジング部１４９の円周凹部に収納され、 外部ハウジング部１４９と端板１５０間の液密接触を提供する目的を満たす。外 部ハウジング部１４９内では、フラストコニカル空間が定義される。このフラス トコニカル空間１５３は２つの間１５４及び１５５と連絡しており、管１５４及 び１５５は、それぞれ、外部ハウジング部１４９の貫通したボア及び端板１５０ を通って延びている。管１５４及び１５５はフラストコニカル空間１５３を通し て相互に液体と連絡している。 全部で５つの環状シーリングガスケットが、４つの環状スペイサ−１５７により 互いに離れた関係を維持して、シーリングガスケットアセンブリとして共に、内 部ハウジング部１４８と外部ハウジング部１４８の間に保持される。環状シーリ ングガスケット１５６を通り、更に内部ハウジング部１４８及び静止ブロック１ ４２を通り、円筒形の通路が延びている。この円筒形の通路内では、ピストン部 材１５８が、より少ないあるいはより多い量のフラクトコニカル空間１５３のを 満たすために、端板に向かって及び端板から移動することができる。環状シーリ ングガスケット１５６はピストン部材１５８の液密接触ガイダンスを提供し、フ ラクトコニカル空間１５３からの流体あるいは液体の漏れを阻害する。 端板１５０の内表面に面したピストン部材１５８の端に対し反対側のピストン部 材１５８の端から、ブッシングあるいはソケット１５９が静止ブロック１４２と １４３間で定義される内部空間内に延びており、カラー１６０に固定される。 ブッシングあるいはソケット１５９は内部スレッド１６１と共に備えられる。内 部スレッド１６１はねじ込みシャフト１６３の外部スレッド１６２と共に調整さ れる。ねじ込みシャフト１６３はクラッチ１６４により、駆動モーター１４６の 外部シャフト１４７に固定される。 ねじ込みシャフト１５３の外部スレッド１５２とかみ合う内部スレッド１６１と 共に備えられたブッシングあるいはソケット１５９が回転するねじ込みシャフト １５３に関して移動するようにドライブモーター１４６のアウトプットシャフト １４７を第１の回転方向であるいは反対の回転方向で回転することにより端板１ ５０の隣接した内表面から離しであるいは該内表面に向かってピストン部材１５ ８を移動することにより、非常に精度が高く、簡単に制御できる投与量の液体が 、ピストン型のポンプ１４からあるいはピストン型のポンプまで、管１５４及び １５５の１つを通って、輸送される。 図１３から明らかなように、管１６０は、外側にあるいは上に向かって突き出た ロッドと共に備えられる。そのロッドはそれぞれ第１あるいは第２のマイクロス イッチ１６６．１６７を活性化する目的を満たす。これらのマイクロスイッチは カラー１６０の現在の端の位置を検出する目的を満たし、結果的にはフラストコ ニカル空間１５３内のピストン部材１５８の現在の端の位置を検出し、その結果 、ピストン部材１５８が端板１５０の内表面に接触して移動しようとした場合、 これにより、ピストン−型のポンプは機械的に傷つけられる、あるいは内部シー リングガスケット１７６からずっと離れたところまで引っ込もうとした場合、こ れにより、ピストン型のポンプから流体あるいは液体が漏れ出る、ドライブモー タ１４５を不活性化する。 図１４では、図１．　３．　５．　６．　８を参照して以上で説明した、対物レ ンズ６５と板４を含むレンズアセンブリと同じ目的を果たすレンズアセンブリを 共に構成する対物レンズ及び板部を含むレンズアセンブリを作成する好ましい方 法が示されている。上記のアセンブリは、光〜透過性ののりで接着された同じ構 成要素を含むが、図１４で図示される製造技術は、対物レンズが固定された板と 対物レンズ間の光学界面から発生する光−散乱及び光−発散効果を除去するため に、非−光一透過性ののりで、実質的な程度で、対物レンズと板を組み立てるこ とを含む。図１４に示される板は以上で説明された板４に代わるものであり、参 照数字１０４で示され、参照数字１０５で示される円錐凹部と共に備えられる。 図１４で示されるアセンブリの対物レンズ１０６は以上で議論された対物レンズ とは、対物レンズが外部円周、対物レンズ１０６の凸表面と反対側の外部円錐表 面１０７と共に備えられる点で、異なる。板１０４と対物レンズ１０６は、石英 レンズなどの同じ材料、あるいは実質的には同一の、光学特性を有する材料で作 成されるのが好ましい。対物レンズ１０６はのりにより板１０４に接着され、こ ののりは光−不透過性層１０９を形成し、対物レンズ１０６の外部円錐表面１０ ７を板１０４の円錐凹部と結合させている。のり層は固化され、板１０４の実質 的な断片あるいは部分１１０が研磨過程で除去され、対物レンズ１０６の円錐表 面１０７で定義されるピラミッドの頂部１１１で対物レンズの一部もまた除去さ れる。 その結果、ウィンドウあるいは開口１１２が備えられ、これを通って、図１５に 示されるように、対物レンズ１０６から隣接した通路２まで光が送られる。更に 、これを通って、光が通路から、すなわち、反射光が、対物レンズ１０６を通っ て送られる。 図１５では、図１４を参照して以上で議論したように作成された対物レンズ１０ ６及び板１０４を含むレンズアセンブリは２つの部分からなるキュベツトの提携 した板３に隣接して配置される。図１５に示されるキュベツトアセンブリは更に 、以上で説明した図８で示される２つの部分からなるキュベツトとは、全部で３ つの電極、参照数字１１５，１１６．１１７で示される、が備えられる点で、異 なる。電極１１７は、本来、図８及び９を参照して以上で議論したように電極６ により定義される光−反射表面と、同一の光−反射表面を規定する目的を満たす ものである。３つ以上の電極を備えると、粒子が電極１１７により定義されるミ ラーに隣接した及びウィンドウあるいは開口１１２に隣接した位置にある、まさ にその時に、通路２内に存在する粒子に暴露するために点火される光源を正確に 制御することができる２つ以上の電界により通路２内の粒子の存在を正確に検出 することにより、入りロポア７から出口ボア９までの通路を通って粒子が輸送さ れるのを検出するのを確実にあるいは正確に行うことができる。このように、通 路２内の粒子の存在の検出は電極１１５及び１１６間の電界の発生により確立さ れ、付加的な電界は、ウィンドウあるいは開口１１２を通り過ぎて、及び、電極 １１７の暴露される、ミラ一定義端表面を通り過ぎて、通路２を通って粒子の輸 送を制御あるいは調査するために、電極１１６及び１１７間で発生される。 図１６は、以上で説明した測定システムの電子回路のテストベンチセットアツプ の全体概略図である。このテストベンチセットアツプは上記のコンピュータ８８ とキャビネット８８を含み、この中には、４つの電子装置１８９，１９０，１９ １．１９２が内蔵されている。キャビネット１８８及びその中に内蔵された電子 装置１８８−１９２はコンピュータ８８に、バスケーブル１９３を通して接続さ れている。このバスケーブル１９３はプラグ１９４と共に備えられ、このプラグ はキャビネット１８９のはめあいのあるいは提携したソケット内に収納される。 コンピュータ８８は基本的には３つのセクション、すなわち、キーボード１９５ 、ＣＰＵ　（中央演算処理装置）１９６、ディスプレイあるいはＣＲＴ　（ブラ ウン管）を含む。コンピュータ８８は基本的にはパーソナルコンピュータあるい はＰＣ型のものである。 電子装置１８９は測定システムの電子、アナログ、デジタル回路とＰＣあるいは コンピュータ８８間インターフェースを構成する。テストベンチステップアップ では、ＩＢＭ　ＰＣ／ＸＴ／ＡＴＰＣｓに対するインターフェースは、ＩＢＭＰ Ｃ／ＸＴ／ＡＴ及び、ＰＣ−ＬａｂＣａｒｄ　ＰＣ８１２型のコノバチプルコン ピュータに対する高性能、高速、多機能データ獲得カードにより確立された。こ のカードはＣＰＵＬ９６内に裁置されている。また、このインターフェースはＰ Ｃ−ＬａｂＣａｒｄ　ＰＣＬ−７８０型のねじ込み端子ボードにより確立される 。このカードはハウジング１８９内に裁置される。ハウジング１９０．　１９１ ．１９２内に内蔵される電子装置は、それぞれ、ＡＤコンバータ（アナログ−デ ジタル　コンバータ）、２４／４Ａ電源、レベルディテクタを構成する。ＡＤコ ンバータ及びレベルディテクタ１９０．１９２はそれぞれ、以下に更に詳細に説 明される。２４　Ｖ／４　Ａ電源は市販の電源ユニットである。 図１７では、電子装置の電気回路の好ましい実施例のダイヤグラムが示されてお り、この電子装置は図３．　４．　８に示される電極体５及び６に接続され、連 絡される。図１７のダイヤグラムは基本的には点線の境界線内に入れられた９つ の分岐回路セクションを開示しており、それらはそれぞれ参照数字２００−２０ ８で示されている。 分岐回路２００は、クリスタル２１０により制御される電子−オシレータ回路ブ ロック２０９を含むオシレータセクションを構成する。オシレータ回路ブロック ２０９は出力オシレータ信号を発生する。この信号は全部で４つのＮＡＮＤゲー ト２１１−２１４により、より低いオフレータ周波数のオシレータ信号に分割さ れる。ＮＡＮＤゲート２１１−２１４により構成される周波数−分割回路の出力 は演算増幅器２１５の反転入力と結合され、その非−反転入力が接地される。 演算増幅器２１５の出力は、コンデンサ２１７により分岐されたフィードバック レジスタ２１６を逼って、その反転入力に結合される。 オシレータセクション２００は更に２つのレジスタ２１８及び２１９と、２つの コンデンサ２２０及び２２１を含み、このレジスタ２１８及び２１９とコンデン サ２２０と２２１はクリスタル２１０の周りに従来の配置で接続されている。オ シレータ２００は更に、以下の周辺要素を含む：ＮＰＮ　トランジスタ２２２、 レジスタ２２３．２２４．２２５．２２６、コンデンサ２２７，２２８．２２９ ．２３０゜ 分岐回路セクション２０１は基本的には、上記の電極５．６に定−電流振動信号 を供給するための電流駆動装置を構成する。電極５及び６は、二位置、二端子継 電器２３４の出力端子に接続された端子２３２及び２３３を通して、分岐回路セ クション２０１に接続される。継電器２３４は、端子２３６及び２３７と接続さ れたコイル２３５により電圧が加えられる。継電器２３４が電圧を与えるコイル ２３５により活性化される場合、端子２３２及び２３３、結果的には電極５，６ 、図１５においてはその代わりに電極１１６，１１７、などの電極が平衡トラン スフォーマの出力巻線に接続される。この出力巻線は電極に対称で、平衡のとれ たドライブを供給する。平衡トランスフォーマ２３８の入力巻線はコンデンサ２ ３９により分流され、その非−反転入力が接地される演算増幅器２４０の出力及 び反転入力間に接続される。 演算増幅器２４０の反転入力は、レジスタ２４１及び上記のコンデンサ２３０の 一連の配列を通って、オシレータ上クシ３ン２００の出力、すなわち演算増幅器 ２１５の出力と接続される。結論として、外部電源からの電気ノイズの通常−モ ードの排除を行うために、電極５及び６、その代わりとして図１５では電極１１ ６及び１１７、などの電極間のインピーダンスは、演算増幅器２４０の出力及び 反転入力間の、平衡な、対称的な配置で接続され、その結果フィードバックイン ピーダンスあるいはレジスタを構成する。 正確に理解されるであろうが、演算増幅器２４０の反転入力は、電流信号がレジ スタ２４１を通して供給される重要なアースを構成する。レジスタ２４１はオン レータ２００から供給された電圧を電流信号に変換する。その結果、演算増幅器 ２４０はその出力電圧信号を示し、これにより、演算増幅器は、レジスタ２４１ を通して演算増幅器２４０の反転入力に供給される電流信号を補償するためにそ の出力及び反転入力間に接続されたインピーダンスを通してその反転入力へ掃流 をドライブする。 演算増幅器２４０により発生される出力信号は端子２３２及び２３３に接続され た電極間のインピーダンスを示す。セクション２０１は更に、２つのレジスタ２ ４２．２４３及び３つのコンデンサ２４４，２４５．２４６を含み、このレジス タ２４２．２４３及びコンデンサ２４４．２４５．２４６は、端子２４７を通し て回路２０１に供給される使用可能信号を低域フィルタにかけるために、オシレ ータ２００のＮＰＮＩ−ランジスタに接続された低域フィルタ要素を構成する。 付加端子２４８はオシレータ２００のオシレータ回路ブロック２０９がリセット されるために備えられる。継電器２３４が活性化されない場合、セクション２０ １は更に２つのレジスタ２４９ａ、２４９ｂを含み、これらのレジスタは平衡ト ランスフォーマ２３８の出力巻線間に接続される。 セクション２０２は基本的には、２つの演算増幅器２５０及び２５１．２つの整 流ダイオード２５２及び２５３、全部で５つのレジスタ２５４，２５５゜２５６ ．２５７．２５８、更に２つのコンデンサ２５９及び２６０を含む整流回路ブロ ックを構成する。整流器２０２は従来の回路配置のものであり、詳細に説明はし ない。 セクション２０３は２次、低域ベッセルフィルタを構成する演算増幅器２６０に より実行される低域フィルタを構成する。低域フィルタ２０３は更に、３つのレ ジスタ２６１，２６２．２６３及び４つのコンデンサ２６４．２６５゜２６６． ２７を含む。セクション２０３の二次、低域ベッセルフィルタは従来の回路配Ｉ のものであり、詳細には説明しない。 セクション２０４及び２０７もまた、低域フィルタセクションを構成し、これら はセクション２０３の低域フィルタと同一である。そのため、セクション２０４ 及び２０７については詳細な説明はしない。 セクション２０５は、演算増幅器２７０、更に入力コンデンサ２７１、入力レジ スタ２７２、フィードバックレジスタ２７３、フィードバック−レジスタ分流コ ンデンサ２７４、出力コンデンサ２７５、電圧−供給バイパスコンデンサ２７６ 及び２７７を含む、低ノイズ、２０ｄＢ　ゲイン、反転増幅ステージを構成する 。 セクション２０６は、演算増幅器２８０、入力レジスタ２８１、フィードバック レジスタ２８２、フィードバック−レジスタ分流コンデンサ２８３、接地レジス タ２８４を含む、２０ｄＢ　ゲイン、非−反転増幅ステージを構成する。 セクション２０８は演算増幅器２９０、入力コンデンサ２９１、入力レジスタ、 フィードバックレジスタ２９３、フィードバック−レジスタ分流コンデンサ２９ ４を含む２０ｄＢ　ゲイン、反転−増幅ステージを構成する。 るようにキャピラリー通路の電極５及び６に隣接したセクションの導電率を変化 させる粒子の存在を検出する信号が発生される。このセクションは、図８に示さ れるように、フラックス６９の線により表される電界に暴露される。 更に、実施例１について説明する。実施例１では、セクション２００−２０８の 構成要素が列挙しである。 図７に示される電子回路の低域フィルタセクション２０３，２０４．２０７は、 端子２３２．２３３に接続された電極により発生される測定信号の電子的な遅延 を共することが重要である。この遅延は１５０μｓのオーダーのものであり、そ の遅延は、図８に示される電極５における検出信号の発生の原因となる粒子の存 在に関するセクション２０８の演算増幅器２９０の出力２９５における検出出力 信号の発生の遅延を構成するため、全体的な測定システムセットアップにおいて 考慮されるべきである。この遅延中に、図８に示されるように、粒子は通路２を 通って電極６に向かって輸送されるあるいはシフトされる。 図１８にはレベル検出回路を構成する電子回路が示されている。この回路には、 図１７に示される電子回路の出力端子２９５における出力が入力される。 図１８に示される電子回路は全体として参照数字３００で示され、上記出力信号 を入力端子３０１で受信する。入力端子３０１で電子回路３００に入力された入 力信号は、演算増幅器３０２．２つの入力レジスタ３０３，３０４．２つのコン デンサ３０７．３０８により構成される２次の低域フィルタに入力される。演算 増幅器３０２を含む２次の低域フィルタの出力は、２つの比較器３０７．３０８ の反転入力に入力される。この２つの比較器は、単位−ゲイン演算増幅器３０９ ，３１０、それぞれを含む電圧フォロアからのそれぞれの非−反転入力で参照電 圧を受信する。この参照電圧はそれぞれ、入力端子３０１への入力信号入力の、 上限及び下限を示し、更にそれぞれ、上記のように評価され、閃光に暴露される 粒子の大きさの最大及び最小に対応する。 それぞれ、電圧フォロア３０９，３１０から比較器３０７，３０８に供給される 参照電圧は、抵抗電圧−分割ネットワークにより発生される。ネツトワークはそ れぞれ、固定レジスタ３１１．３１２、可変レジスタ３１３，３１４を含み、こ れらの可変レジスタ３１３．３１４はそれぞれ、コンデンサ３１５゜３１６によ り分流される。 入力端子３０１への信号入力が可変レジスタ３１３及び３１４により決定される 電圧範囲内であれば、低−レベル比較器、すなわち比較器３０８は演算増幅器３ ０２の出力からそれに供給され、電圧フォロア３１０の出力から比較器３０８に 供給された参照電圧を越える入力信号を検出し、高−レベル比較器３０７は、演 算増幅器３０２の出力からの非−反転入力における入力信号、この入力信号は電 圧フォロア３０９の出力から比較器３０７の非−反転入力に供給される参照電圧 より低い、を受信する。その結果、比較器３０７及び３０８の出力はそれぞれ低 い、及び高い。比較器３０７及び３０８の出力は、全部で５つのＮＡＮＤゲート ３１７−３２１．１つのＮＯＲゲート３２２を含む１組の論理ゲートへの入力と なる。この論理ゲートは比較器３０７．３０８により発生される論理レベルを、 関係する範囲内の大きさの粒子の存在の検出を示す制御信号に変化させる。この 制御信号は、更に出力３２３での信号処理のための出力であり、更にＬＥＤ３２ ４により明視化される。このＬＥＤ３２４は演算増幅器３２５及びレジスタ３２ ６を含むＬＥＤドライバを通って正の供給レイルとＮＡＮＤゲート３２１との間 に接続されている。 図１８に示される電子回路の下部は、次のような目的を満たすためのタイマー回 路を構成する。一方では、検出された粒子が図８の電極５に隣接した検出位置か ら図８の電極６に隣接した位置に移動するまで閃光の活性化を遅らせ、他方では 、閃光の前の活性化から閃光が再び活性化されるまでの無駄な期間を最小に抑え る閃光の使用率を確立するという目的を満たす。結論として、図１８に示される 電子回路は、４つのタイマーブロック３３０−３３３を含み、タイマーブロック ３３０．３３１．３３２は遅延を確立する目的を満たし、電子タイマー回路３３ ３は閃光の使用率を決定する。 電子タイマー回路３３０，３３１，３３２は更に、付加的な周辺構成要素、すな わち比較器３３４を備える。この比較器３３４はその非−反転入力で、端子３０ １からの入力信号を受信し、２つのレジスタ３３５及び３３６を含む電圧−分割 ネットワークを通る電圧フォロアにより発生される参照電圧を受信する。電圧フ ォロア３１０の出力は更にコンデンサ３３７を通って接地される。 比較器３３４の非−反転入力、結果的には入力端子３０１はツェナーダイオード ３３８のカソードに接続され、ツェナーダイオードのアノードは接地される。 比較器３３４の反転入力はコンデンサ３３９を通して接地される。 電子−タイマー回路ブロック３３０は、周辺構成要素、すなわちレジスタ３４０ 、可変レジスタ３４１、コンデンサ３４２を備える。一方、電子−タイマー回路 ブロック３３１及び３３２はそれぞれ、レジスタ３４３．’３４４及びコンデン サ３４５．３４６をそれぞれ含む周辺、受動ＲＣネットワークを備える。 使用率決定電子−タイマー回路ブロック３３３はまた、レジスタ３４７及びコン デンサ３４８を含む受動ＲＣネットワークを備え、２つのＮＡＮＤゲート３４９ 及び３５０に接続されている。ＮＡＮＤゲート３４９はまた、ＮＯＲゲート３２ ２からの出力信号、すなわち出力端子３２３で現れる出力信号を受信する。一方 、ＮＡＮＤゲート３５０の出力は出力端子３５１に接続される。この出力端子３ ５１は閃光に供給された制御信号が示される出力端子を構成する。 これにより、以下では実施例２について説明する。実施例２では図１８に示され た構成要素が列挙されている。 図１９及び２０はそれぞれ、フォトダイオード及び乗数管を含む光検出器の代わ りの実行を構成する２つの電子回路ダイヤグラムである。図１９では、全体とし て参照数字３６０で示される電子回路ダイヤグラムが示されている。この電子回 路は、上記のフォトダイオード９２あるいは９４の１つのような、フォトダイオ ードを含む。電子回路３６０は更に、全部で５つの演算増幅器３６１−６５を含 み、その内の演算増幅器３６１は接地ドライバを構成し、これはその出力で接地 電圧レベルを発生する電圧フォロアを構成し、これは電子回路３６０の内部接地 レベルを構成する。 演算増幅器３６２−３６５は、４一段階縦続増幅器を構成する。この段階のそれ ぞれは、反転増幅器として実行される。回路は従来の構成のものであり、以下の 実施例について説明する。実施例３では、図１９において明らかにされる電子構 成要素が列挙されている。図１９に示される電子回路３６０はその出力４０３で 、端子４０１．４０２を通して電子回路３６０に接続されるフォトダイオード９ ２．９４により発生される電流に応じた信号を発生する。この電流は、上記の演 算増幅器３６２−３６５を含む４一段階増幅器により、電圧信号に変換され増幅 される。 図２０では、全体として参照数字４２０で示される電子−回路ダイヤグラムが示 され、この電子−回路ダイヤグラムは光−乗数管を含む光検出器の実行を説明し ている。この光検出器は上記のテストベンチセットアツプにおいて使用される。 図２０に示される電子回路４２０は中心に、光−乗数管４２１を含み、この乗数 管は１０個のレジスタ４２２−４３１及び３つのコンデンサ４３２−４３４を含 む抵抗ドライバネットワークに接続されている。光−乗数管４２１の出力はレジ スタ４３６を通して演算増幅器４３５の反転入力に接続される。 この演算増幅器４３５は反転増幅ステージを構成する。演算増幅器４３５の出力 は、コンデンサ４３８により分流されるフィードバックレジスタ４３７を通って 演算増幅器の反転入力に接続される。演算増幅器４３５により構成される反転増 幅ステージのゲインは、それぞれスイッチ４４１及び４４２により演算増幅器４ ３５の出力と演算増幅器４３５の反転入力とを横切るように１つ以上のレジスタ ４３’９．４４０を接続することにより減少することができる。演算増幅器４３ ５の非−反転入力は接地され、演算増幅器４３５に接続された電力レールはコン デンサ４４３−４４６によりバイパスされる。演算増幅器４３５は、端子４４７ で接続されたその出力で、光乗数管４２１の出力から演算増幅器４３５の反転入 力に対する入力である信号に応じた電圧信号、結果的には上記のようにキュベツ トから伝達された光の検出に応じた電圧信号を発生する。 以下に実施例４の説明をする。実施例４では、電子回路ダイヤグラム４２０の構 成要素が列挙される。 図１９に示される電子回路３６０の出力端子４０３における、あるいは、その代 わりに図２０に示される電子回路の出力端子４４７における出力信号は、ＡＤ（ アナログ／デジタル）コンバータ及び図２１に示されるビーク−検出回路に入力 される。この回路は全体として参照数字４５１で示され、この端子を通して出力 端子４０３あるいは出力端子４４７で示される上記の出力信号が受信される。　 入力端子４５１はレジスタ４５２を通して接地され、入力端子４５１は更に演算 増幅器４５３の非−反転入力に接続される。演算増幅器の出力はフィードバック レジスタ４５４を通して演算増幅器４５３の反転入力に接続され、演算増幅器４ ５３の反転入力はレジスタ４５５を通して接地される。演算増幅器４５３により 実行される増幅ステージは１０進増幅器を構成し、複数の１０道増幅ステージは 、多重１０進ＡＤコンバータ及びピーク−検出回路のセクションを構成する様に 備えられる。演算増幅器４５３の出力はレジスタ４５６を通して多重セクション あるいは多重ビットＡＤコンバータの入力に接続される。ＡＤコンバータ及びピ ーク検出器の個々のステージあるいはセクションは、点線で囲まれたブロック内 に内蔵される。このブロックの１つは詳細に示されており、参照数字４５７で示 されている。参照数字４５８−４６０で示される、３つの付加的なステージは概 略が示しである。 ＡＤコンバータ及びピーク−検出ブロック４５７−４６０に供給される入力信号 は、４つの比較器４６１−４６４の非−反転入力に入力される。この比較器４６ １−４６４は、その反転入力において、５つのレジスタ４６５−４６９を含む抵 抗分割ネットワークにより正の供給電圧から発生される個々の参照電圧を受信す る。比較器４６１−４６４の出力は、それぞれプルアップレジスタ４７０−４７ ３を通して、上記の正の供給レールに接続され、更に、４一段階セット−リセッ トフリップ−フロップ４７４の個々のセット入力に接続される。 フリッピフロップ４７４のリセット入力は、ブロック４５８−４６０の対応する セット−リセットフリップ−フロップのリセット端子とパラレルに、リセット端 子４７５に接続される。 セット−リセットフリップ−フロップ４７４の個々のステージの出力はレジスタ ４７６−４７９を通して総和−演算増幅器４８１の反転入力に接続される。 総和−演算増幅器４８１の出力はフィードバックレジスタ４８２を通して演算増 幅器４８１の反転入力に接続される。演算増幅器４８３、フィードバックレジス タ４８４、入力レジスタ４８５を含む付加的な反転ステージが、備えられる。４ 一段階セット−リセットフリップ−フロップ４８４の個々のステージの出力はま た、デジタル符号化ネットワーク４８６に接続され、ここからアナログ入力信号 のデジタル表示が、更にデジタル信号処理に共せられる。 演算増幅器４８３の出力は、出力端子４８０に接続されるが、これは代わりにな るべきものとして、アナログ信号入力の波形処理された、アナログ表示を、入力 端子４５１を通して、ＡＤコンバータ及びピーク検出回路４６０に入力する。出 力端子４８０は、上記の、ハウジング１８９内に内蔵された電子装置のねじ込み 端子ボードに接続される。この出力信号はＰＣ８８により実行された信号処理と 既に互換性がある。 更に実施例５について説明する。この中では、図２１に示される電子回路４６０ の構成要素が列挙されている。 図２２では、本発明による測定システムにより実行された、あるいは上記のテス トベンチセットアツプ及び上記の電子回路を参照にして以上で議論したように実 行されたテストルーチンからのプリントアウトあるいはダイヤグラムが示されて いる。このプリントアウトあるいはダイヤグラムは特異的な粒子の大きさの範囲 内の粒子の累積数を示したものである。このように、分析される粒子の全ての群 は粒子の大きさの範囲に分けられ、この範囲内で試料中に存在する粒子の数が数 えられる。 実施例１ 図１７に示される電子回路は以下の構成要素から実行された。 −オシレータ回路ブロック２０９は４０６０集積回路により構成され、−クリス タル２１０は３Ｍ５７９型のオシレータクリスタルにより構成され、−ＮＡＮＤ ゲート２１１−２１４は４０１１型の単一の集積、電子回路により構成され、 一レジスタ２２５及び２２６は２１．５にΩレジスタであり、−演算増幅器２１ ５及び２４０は０ＰＡ２１０７型の単一の二重−演算増幅器により構成され、 一レジスタ２１６は９．９にΩレジスタであり、−コンデンサ２１７は８２ｐＦ コンデンサであり、−レジスタ２１８及び２１９はそれぞれＩＭΩ及び２１５に Ωレジスタであり、−コンデンサ２２０及び２２１はそれぞれ２２ｐＦ及び１０ ０ｐＦコンデンサであり、 −ＮＰＮトランジスタ２２２はＢＣ１０９トランジスタであり、−レジスタ２２ ３は１．４７にΩレジスタであり、−コンデンサ２２７．２２８．２２９．２３ ０及び２４５は０．　１μＦコンデンサであり、 −レジスタ２４２は２．］、５にΩレジスタであり、−レジスタ２４３は１にΩ レジスタであり、−コンデンサ２４４及び２４６は１０μＦコンデンサであり、 −レジスタ２４１は５．６２にΩレジスタであり、−コンデンサ２３９は８２０ ｐＦコンデンサであり、−トランスフォーマ２３８は１：１トランスフオーマで あり、−継電器２３４は５Ｄ２−１６型の継電器であり、−レジスタ２４９ａ及 び２４９ｂは１２．１にΩレジスタであり、−演算増幅器２５０及び２５１は０ ＰＡ２１０７型の単一の二重−演算増幅器から構成され、 一ダイオード２５２及び２５３はＢＡＴ４８０型のものであり、−レジスタ２５ ４−２５８は５．６２にΩレジスタであり、−コンデンサ２５９及び２６０は０ ．　１μＦコンデンサであり、−セクション２０３．２０４及び２０７のそれぞ れの演算増幅器２６０は０ＰＡ２１０７型の集積二重−演算増幅器の演算増幅器 により構成され、−レジスタ２６１は２．８７にΩレジスタであり、−レジスタ ２６２は２．１５にΩレジスタであり、−レジスタ２６３は１１．ＯｋΩレジス タであり、−コンデンサ２６４は８．　２ｎＦコンデンサであり、−コンデンサ ２６５は６．８ｎＦコンデンサであり、−コンデンサ２６３及び２６７は０１μ Ｆコンデンサであり、−演算増幅器２７０及び２８０は０ＰＡ２１０７型の単一 の二重−演算増幅器から構成され、 −コンデンサ２７１は４７μＦコンデンサであり、−レジスタ２７２は１．４７ にΩレジスタであり、−レジスタ２７３は１４．７にΩレジスタであり、−コン デンサ２７４は１００ｐＦコンデンサであり、−コンデンサ２７５は直接ワイヤ 接続により短絡されており、−コンデンサ２７６及び２７７は領　１μＦコンデ ンサであり、−レジスタ２８１もまた、直接ワイヤ接続により短絡されており、 −レジスタ２８２は３１６にΩレジスタであり、−レジスタ２８４は３．４８に Ωレジスタであり、−コンデンサ２８３は１００ｐＦコンデンサであり、−演算 増幅器２９０はＴＬＯ７２型の演算増幅器であり、−コンデンサ２９１は１μＦ コンデンサであり、−レジスタ２９２は２１．５にΩレジスタであり、−レジス タ２９３は２１５にΩレジスタであり、−コンデンサ２９４は８２ｐＦコンデン サであった。 実施例２ 図１８に示される電子回路３００は以下の構成要素から実行されたニー演算増幅 器３０２は１４５８型の集積演算増幅器により構成され、−レジスタ３０３は３ ．８３にΩレジスタであり、−レジスタ３０４は４．２２にΩレジスタであり、 −コンデンサ３０５は４．７ｎＦコンデンサであり、−コンデンサ３０６は２． ７ｎＦコンデンサであり、−比較器３０７及び３０８はＴＣＬ３７０４型の集積 比較器回路により構成され、−演算増幅器３０９及び３１０は１４５８集積演算 増幅器により実行され、−レジスタ３１１及び３１２は１９．６にΩレジスタで あり、−レジスタ３１３及び３１４は１０にΩの直線形の電位差計であり、−コ ンデンサ３１５及び３１６は１０μＦコンデンサであり、−ＮＡＮＤゲート３１ ７−３２１は４０１１集積電子回路により実行され、−ＮＯＲゲート３２２は４ ００１集積電子回路により実行され、−ＬＥＤ３２４は発光ダイオードであり、 −レジスタ３２６は５６０Ωレジスタであり、−演算増幅器３２５はＬＭ３３９ 型の演算増幅器であり、−タイマー回路３３０−３３３は４５３８型の集積電子 回路により構成され、−比較器３３４はＴＣＬ３７０４型の集積電子回路により 実行され、−レジスタ３３５及び３３６は５．１１にΩレジスタであり、−コン デンサ３３７及び３３９は１０μＦコンデンサであり、−ツェナーダイオード３ ３８はＢＡＴ８５型のツェナーダイオードであり、−レジスタ３４０は３．３に Ωレジスタであり、−レジスタ３４１は１０にΩの直線形の電位差計であり、− コンデンサ３４２は１００ｎＦコンデンサであり、−レジスタ３４３は１００に Ωレジスタであり、−レジスタ３４４は１．８にΩレジスタであり、−コンデン サ３４５及び３４６は１０ｎＦコンデンサであり、−レジスタ３４７は１００に Ωレジスタであり、−コンデンサ３４８は１００ｎＦコンデンサであり、−ＮＡ ＮＤゲート３４９及び３６０は４０１１型のＮＡＮＤゲートにより構成された。 実施例３ 図１９に示される電子回路３６０は以下の構成要素から実行されたニー演算増幅 器３６１及び３６２は０ＰＡ２１０７型の単一の二重−集積演算増幅器により構 成され、 一演算増幅器３６３及び３６４はＨＡ５２２２型の二重−集積演算増幅器により 構成され、 一演算増幅器３６５はＡＤ８４５型の集積演算増幅器により構成され、−コンデ ンサ３６６ａ及び３６６ｂはそれぞれ、０．２μＦ及び１０μＦコンデンサによ り構成され、 一インダクタ３６７及び３６８は通常−モードのノイズ−除去コイルにより構成 され、 一コンデンサ３６９及び３７０は１０ｎＦコンデンサであり、−コンデンサ３７ ２及び３７３は０．１μＦコンデンサであり、−レジスタ３７４は１０にΩレジ スタであり、−コンデンサ３７５及び３７６はそれぞれ、０．１μＦ及び１０μ Ｆコンデンサであり、 一コンデンサ３７７は１０ｐＦコンデンサであり、−レジスタ３７８は１０にΩ レジスタであり、−レジスタ３７９は１にΩレジスタであり、−レジスタ３８０ は１０にΩレジスタであり、−コンデンサ３８１は１０ｐＦコンデンサであり、 −コンデンサ３８２及び３８３は０．　１μＦコンデンサであり、−レジスタ３ ８４は１にΩレジスタであり、−レジスタ３８５は１０にΩレジスタであり、− コンデンサ３８６は１０ｐＦコンデンサであり、−コンデンサ３８７は０．１μ Ｆコンデンサであり、−レジスタ３８８及び３９０は４６．４レジスタであり、 −レジスタ３８９は１にΩ直線型の電位差計であり、−レジスタ３８５は１０に Ωレジスタであり、−レジスタ３９６は１にΩレジスタであり、−コンデンサ３ ９７は０．　１μＦコンデンサであり、−コンデンサ３９３及び３９４はそれぞ れ、１０μＦ及び０．１μＦコンデンサであり、 一コンデンサ３９１及び３９２はそれぞれ、１０μＦ及び０．１μＦコンデンサ であり、 −レジスタ３９８は１０にΩレジスタであり、−コンデンサ３９９は１０ｐＦコ ンデンサであり、−レジスタ４００は４７０Ωレジスタであった。 実施例４ 図２０に示される電子回路４２０は以下の構成要素から実行されたニー光電子増 倍管４２１はＲ９２８ＨＡ、ＹＭ７９２３型の光電子増倍管により構成され、 一レジスタ４２２−４３１は３３０にΩレジスタであり、−コンデンサ４３２− ４３４は２２ｎＦコンデンサであり、−演算増幅器４３５は０ＰＡ６２７型の集 積演算増幅器により実行され、−レジスタ４３６は１にΩレジスタであり、−レ ジスタ４３７は１ＭΩレジスタであり、−コンデンサ４３８は１５ｐＦコンデン サであり、−レジスタ４３９は１１０にΩレジスタであり、−レジスタ４４０は １０にΩレジスタであり、−コンデンサ４４３及び４４５は１００ｎＦコンデン サであり、−コンデンサ４４４及び４４６は２．２μＦコンデンサであった。 実施例５ 図２１に示される電子回路４６０は以下の構成要素から実行されたニー演算増幅 器４５３はＡＤ８４５型の集積演算増幅器により構成され、−レジスタ４５２は 省略され、 一レジスタ４５４は３．１８にΩレジスタであり、−レジスタ４６５は３４８Ω レジスタであり、−レジスタ４５６及び４６５は短絡接続により構成され、−レ ジスタ４６５は１．ＯＯｋΩレジスタであり、−レジスタ４６７は９０９Ωレジ スタであり、−レジスタ４６８は８２５Ωレジスタであり、−レジスタ４６９は ７５０Ωレジスタであり、−比較器４６１−４６４はＴＣＬ３７０４型の集積電 子比較器回路により構成され、 一レジスタ４７０−４７３は３３にΩレジスタにより構成され、−集積電子回路 ４７４は４０４４型のものであり、−レジスタ４７６−４７９は１００にΩレジ スタであり、−演算増幅器４８１及び４８３はＮＥ５５１２型の単一二重集積演 算増幅器により実行され、 一レジスタ４８２は１２．１にΩレジスタとパラレルに接続された１、ＯＯｋΩ レジスタであり、 一レジスタ４８５は１０．ＯｋΩレジスタにより構成され、−レジスタ４８４は １０．０にΩレジスタにより構成された。 以上で説明された装置においては、新しく、独特な方法で液体中に懸濁する粒子 を分析することができる。この粒子は、放射光に暴露された時に、粒子特有の放 射光を発する様な様式のものとされ、あるいは準備されし、あるいは証明された 。好ましい実施例においては、この装！は特に、蛍光分光学により、小さな生物 細胞、例えば８−１５μｍのオーダーの大きさのリンパ球を分析するのに適して いる。市販されている、対応する適応分野を有する従来の装置はもっと複雑であ る。本発明による装置は全く新しい原理及び技術を基本としているので、発明は 多くの副発明を含み、これを結合させると最も良い結果を得ることができる。し かしながら、多くのこれらの副発明はまた、独立した発明であると考えられ、他 の装置と結合させたり、他の技術分野において使用することができる。このよう に、上記の流路の表面の２つの平面状の電極の連続的な配列は、液体中に懸濁す る粒子を数えたり、その大きさを決定するための一般的な原理として使用するこ とができる。この型の分析は、２つの部分あるいは部材を含む開口キュベツト内 に流路が備えられていることを前提としていない。 更に、上記の撹拌ワイヤは、液体中に懸濁する粒子に対するどんなに狭い給送通 路においても独立して使用することができ、このように適用することにより、給 送通路の表面に粒子が付着するのを防いだり、粒子の凝集を防ぐことができる。 　更に、反射ミラー領域として、流路の表面に連続して配列された第２の電極を 使用する場合、一般に上記の閃光ランプと結合させて使用することができる。導 電率の測定を基本として、閃光ランプを作動させる原理は、カツヘル（Ｋａｃｈ ｅｌ）運により、組織化学及び細胞化学ジャーナル、１９７９年、第２７巻、１ 部、３３５−３４１ページ（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｈｉｓｔｏｃｈｅｍｉｓｔ ｒｙ　ａｎｄＣｙｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、　ｖｏｌ、　２７．　ｎｏ、　１． 　ｐ、　３３５−３４１．１９７９）において記述されているが、この原理は本 質的には異なる適用分野、すなわちフロー顕微鏡に関連するものである。フロー 顕微鏡においては、関連する粒子は照射され、視覚的に記録される、あるいは像 記憶システムとして記録される。像記憶システムでは、以後の、形態学的な像分 析のために、細胞の写真が撮られる。また、粒子の焦点合わせは、粒子が開口を 通過するようにさせることにより使用され、一方、細長い流路の層流が本発明に よって使用される。 更に、本発明による上記ホースポンプはまた、従来技術により可能であったもの より正確な液体投与が望まれる、他の適用分野でも使用できることに注意すべき である。 更に、本発明による上記ピストンポンプはまた、従来技術により可能であったも のより正確な液体投与が望まれる、他の適用分野でも使用できることに注意すべ きである。 本発明は、本発明及びその副発明の好都合な、好ましい実施例を示す図に関して 説明されているが、上記の説明は、本発明及びその副発明の保護範囲を制限する ものであると考えるべきではない。このため、多くの改良及び代替がこの技術範 囲において通常の技術を有する物には容易に認知することができ、これは本発明 及びその副発明の一部であると考えられる。 ｃｏ　ａ）ｐ Ｆｉｇ、　９ Ｆｉｇ、　２０ 要約書 本装置は第１部材と第２部材からなるキュベツトを備え、各部材は平坦面を有し ている。この第１および第２部材は上記平坦面が互いに液密接触する第１ポジシ ヨンと上記平坦面が間隔をあける第２ポジシヨンとの間を相対移動可能である。 この第１ポジシヨンでは、細長いフロー領域が上記平坦面の一方に形成された溝 によって規定される。上記フロー領域に液体を供給する入り口と上記フロー領域 から上記液体を排出する出口が上記部材の一方に設けられる。この部材は粒子が 暴露される光に対し透過性を有するとともに、上記粒子により発せられる放射光 に対しても透過性を有する。２つの電極が上記液体中に懸濁される粒子の選定を 行うために設けられる。 国際調査報告 国際調査報告

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．流体媒質中に懸濁する粒子を分析する装置であり、該粒子は放射光（ｒａｄ ｉａｔｉｏｎ）に暴露されると該粒子特有の放射光を発することができ、その中 に、通路の形を有する細長いフロー領域が、その細長いフロー領域を通る第１の 方向に上記流体媒質を導くために備えられたキュベットと、上記流体媒質を上記 細長いフロー領域に給送するための手段と、上記流体媒質を上記細長いフロー領 域から放出する手段と、上記流体媒質に、上記第１の方向に対してある角度をな す第２の方向で、上記放射光を暴露するための手段と、 放射光に暴露された時に上記粒子から発せられる、該粒子に特有な上記放射光の 少なくとも一部を収集するための手段とを備え、上記キュベットが平坦面を有す る第１の部材と、平坦面を有する第２の部材を含み、 上記第１の及び第２の部材が、上記平坦面が互いに隣接するように置かれた第１ のポジションと、上記平坦面が離して置かれた第２のポジション間で相対的に移 動することができ、 上記第１の部材の少なくとも上記表面が、上記第２の部材の上記隣接した表面と 共に、該部材が上記第１のポジションにある時、上記通路の形を有する上記細長 いフロー領域を規定する細長い溝を備え、上記流体媒質を上記細長いフロー領域 に給送するための手段が、上記部材の１つに設けられた入り口を含み、上記キュ ベットに関して外部から上記細長いフロー領域の入り口開口まで延びており、上 記流体媒質を放出するための手段が上記部材の１つに設けられた出口を含み、上 記細長いフロー領域の出口開口から上記キュベットに関して外部まで延びており 、 上記部材の少なくとも１つは、上記流体媒質に暴露される上記放射光及び上記粒 子により発せされる上記放射光に対して透過性がある、流体媒質中に懸濁する粒 子を分析する装置。 ２．上記細長いフロー領域はキャピラリー通路を構成する請求項１記載の装置。 ３．上記キャピラリー通路は１ｍｍ未満、好ましくは１００μｍ未満、最も好ま しくは約５０μｍの曲率半径の円断面を有する直円筒の幾何学的なセクションの 形を有する請求項２記載の装置。 ４．更に、上記流体媒質が細長いフロー領域を通過するように導かれたときに、 該流体楳質を通過させる電界を発生させるための少なくとも２つの電極を含む請 求項１ないしは３のいずれかに記載の装置。 ５．上記電極は第１あるいは第２の部材に埋め込まれ、上記細長いフロー領域で 暴露される電極表面を備える請求項４記載の装置。 ６．上記電極が、実質的に一様に及び第１の方向に実質的にパラレルに上記細長 いフロー領域の一部で延びているフラックス線を有する電界を発生するために、 上記第１の方向に関して連続して配列される請求項５記載の装置。 ７．上記電極が、０．０８−０．２ｍｍなどの、好ましくは約０．０８ｍｍの、 ０．０５−０．３ｍｍのオーダーの最小空間距離を限定する、上記細長いフロー 領域で離してある請求項４ないし６のいずれかに記載の装置。 ８．上記粒子に放射光を暴露するための上記手段が光源により構成される請求項 １ないし７のいずれかに記載の装置。 ９．上記光源が上記細長いフロー領域の特異的な領域に焦点が合わせられる請求 項８記載の装置。 １０．更に、上記特異的な領域に上記光の焦点を合わせるための、上記キュベッ トと直接光学的に接続されるように配列された対物レンズにより構成される焦点 手段を含む請求項９記載の装置。 １１．上記電極及び上記特異的な領域が上記第１の方向に関して連続して配列さ れ、該電極が該特異的な領域に関し上流に配列される請求項４ないし７あるいは ９あるいは１０記載の装置。 １２．上記光源はフラッシュで構成され、上記装置は更に上記電極及び上記フラ ッシュに接続された制御手段を含み、上記電界を通過する粒子の検出に応答して 、上記フラッシュからの光を上記粒子に暴露するためにそれらの動作を制御する 請求項８−１１のいずれかに記載の装置。 １３．更に、上記光源からの光に暴露された時に、上記粒子から発せられる上記 放射光を、上記放射光を採集する上記手段に反射するための光反射手段を含む請 求項１１あるいは１２に記載の装置。 １４．上記光反射手段は上記暴露される電極表面の１つにより構成される請求項 ５及び１３に記載の装置。 １５．上記光反射手段を構成する上記暴露される電極表面は、上記細長い溝に配 列される請求項１４記載の装置。 １６．更に、ワイヤ及びワイヤ回転手段により構成される撹拌手段を含み、該ワ イヤが上記流体物質を上記細長いフロー領域に給送するための手段を通して及び 少なくとも一部が該細長いフロー領域内に延びるように配置され、該ワイヤが、 上記給送手段及び上記細長いフロー領域を妨害する危険性を除去するために、実 質的な程度で、上記ワイヤ回転手段によりその回転軸に関して回転される請求項 １ない１５のいずれかに記載の装置。 １７．上記ワイヤが、多角形断面などの円形断面あるいはその代わり非円形断面 を有する請求項１６記載の装置。 １８．上記ワイヤが、ナイロン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、あるいは テフロンなどの、上記流体媒質と化学反応を起こさない材料のものであり、水中 で実質的には膨張しないものである請求項１７記載の装置。 １９．更に上記細長いフロー領域に希釈液を給送するための手段を含む請求項１ ないし１８のいずれかに記載の装置。 ２０．更に上記希釈液を上記細長いフロー領域への供給を制御するための手段を 含む請求項１９記載の装置。 ２１．希釈液を上記細長いフロー領域への供給を制御するための上記手段が上記 制御手段に接続され、制御される請求項１２及び１９あるいは２０記載の装置。 ２２．上記希釈液を上記細長いフロー領域に給送するための手段が上記電極に対 し上流に配列され、上記制御手段が、上記細長いフロー領域を通る粒子一流速を 予め決められたものとするために上記希釈液を上記細長いフロー領域への供給を 制御する手段を制御する請求項４ないし２１のいずれかに記載の装置。 ２３．上記希釈液を上記細長いフロー領域に給逸するための上記手段が上記電極 に対し上流に配列され、上記制御手段が、上記粒子が個々に、１００粒子／秒の 速度のような予め定められた最大速度より低い速度で上記暴露手段に送られるよ うに、上記細長いフロー領域への上記希釈液の供給を制御する手段を制御する、 請求項４ないし２１のいずれかに記載の装置。 ２４．更に上記細長いフロー領域を通る上記流体媒質の流れを制御するための流 れ制御手段を含む請求項１ないし２４のいずれかに記載の装置。 ２５．上記流れ制御手段は上記細長いフロー領域から上記流体媒質を放出するた めの上記手段に接続されたポンプにより構成され、実質的に一定の流速の流体媒 質が上記細長いフロー領域を通過するようにする請求項２４記載の装置。 ２６．更に、上記部材の上記表面に対し垂直なバネ力により上記部材の少なくと も１つを作動させるスプリング付勢手段を含む請求項１ないし２５のいずれかに 記載の装置。 ２７．上記第１及び第２の部材は、該部材の平坦面に対し垂直な方向に該２つの 部材の少なくとも１つを平行移動させることにより、相対的に移動することがで きる請求項２６記載の装置。 ２８．更に、明確な規定のポジションに上記スプリング付勢部材を維持するよう に上記部材が上記第２のポジションに移動される時に、上記スプリング付勢部材 を収納する停止手段を含む請求項２６あるいは２７に記載の装置。 ２９．更に、上記部材が上記第２のポジションにあるときに、該部材の平坦面に すすぎ液を導くための手段を含む請求項１ないし２８のいずれかに記載の装置。 ３０．更に、機械的に上記平坦面を洗浄するように、上記部材が上記第２のポジ ションにある時に、該部材に対してその平坦面を横切るように移動することので きる回転すすぎブラシを含む請求項２９記載の装置。 ３１．上記装置が蛍光粒子、とりわけ１−２０μｍのオーダーの大きさの、好ま しくは２−１５μｍの、８−１５μｍなどの粒子、の流動−血球計算分析を実行 するために適合される請求項１ないし３０のいずれかに記載の装置。 ３２．請求項１ないし３１のいずれかに記載の装置により、流体媒質中に懸濁す る粒子を分析する方法であって、 上記粒子が懸濁する流体媒質を、上記細長いフロー領域へ上記流体媒質を給送す るための上記手段により、該細長いフロー領域に給透する工程と、上記流体媒質 を上記キュベットの細長いフロー領域を通って上記第１の方向に導く工程と、 上記粒子が懸濁する上記流体媒質に、上記第１の方向に対しある角度をなす第２ の方向で上記放射光を暴露する工程と、放射光に暴露された時に、上記粒子によ り発せされ、該粒子に特有の上記放射光の少なくとも一部を収集する上記手段に より、放射光に暴露された時に、上記粒子により発せされ、該粒子に特有の上記 放射光の少なくとも一部を収集する工程と、 上記流体媒質を上記細長いフロー領域から放出する上記手段により、上記流体を 上記細長いフロー領域から放出する工程と、上記細長いフロー領域あるいは上記 流体媒質を上記細長いフロー領域に給送するための上記手段の妨害が生じた場合 、上記第１及び第２の部材を第２のポジションに移動させ、上記流体媒質を上記 細長いフロー領域から、更に上記細長いフロー領域に該流体媒質を給送する手段 から排出するようにし、これにより上記妨害を除去する工程とを含む流体媒質中 に懸濁する粒子を分析する方法。