JPH0547888B2 - - Google Patents
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- JPH0547888B2 JPH0547888B2 JP56199282A JP19928281A JPH0547888B2 JP H0547888 B2 JPH0547888 B2 JP H0547888B2 JP 56199282 A JP56199282 A JP 56199282A JP 19928281 A JP19928281 A JP 19928281A JP H0547888 B2 JPH0547888 B2 JP H0547888B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73923—Organic polymer substrates
- G11B5/73927—Polyester substrates, e.g. polyethylene terephthalate
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、とくに回転ヘツド型ビデオテープレ
ーコーダー用の磁気テープに適した強磁性薄膜型
磁気記録媒体に関するものであつて、磁気ヘツド
目づまりを防止して安定した記録再生を得んとす
るものである。
ーコーダー用の磁気テープに適した強磁性薄膜型
磁気記録媒体に関するものであつて、磁気ヘツド
目づまりを防止して安定した記録再生を得んとす
るものである。
鉄、コバルト、ニツケル、またはそれらを主成
分とする合金、あるいは、それらの酸化物薄膜
を、真空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテ
イング等の真空中製膜法でポリエステルフイル
ム、ポリイミドフイルム等の高分子フイルムや、
非磁性金属薄板等より基板上に形成した強磁性薄
膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁気記録媒体
に比べて記録密度を飛躍的に向上せしめることが
可能であるが、この高密度化のためには、磁気ヘ
ツドのギヤツプを小さくし、併せて磁気記録媒体
の表面を平滑化せしめてスペーシングロスを極力
減少せしめる必要がある。しかし、あまり表面を
平坦化しすぎると、ヘツドタツチ、走行性で支障
をきたすため表面の微細形状を制御することによ
りこれを解決する必要がある。強磁性薄膜型磁気
記録媒体の表面性は磁性層厚さが0.1〜0.5μm程度
と非常に小さいため、基板であるプラスチツクフ
イルムの表面形状に依存する度合いが大きい。し
たがつて従来、フイルムの表面性に関して多くの
提案がなされてきた。その例は、特開昭53−
116115号公報、特開昭53−128685号公報、特開昭
54−94547号公報、特開昭56−10455号公報、特開
昭56−16937号公報、等に記載されている。これ
らの例においては、いずれも表面形状を比較的微
細に均一に粗面化せしめる、たとえば、しわ状突
起を形成せしめたり、ミミズ状、あるいは粒状突
起を形成せしめることにより、ヘツドタツチ、走
行性を一挙に改善しようとするものである。前述
の例にみられる表面状態のものは、ヘツドタツ
チ、ヘツド走行性に関しては非常に有効である。
しかし、ヘツド目づまり現象に関しては、改善効
果が充分でないことが明らかとなつた。塗布型磁
気記録媒体においては、磁性塗料中にシリカ、ア
ルミナ等の研磨剤を添加し、これらの微粒子を媒
体表面に突出せしめることにより、ヘツドクリー
ニング効果を出し、目づまり防止を計つている
が、前述の表面状態のものは、微細形状として、
総じて比較的ゆるやかな盛り上がりを有する山の
状態を有しており、塗布型にみられるような研磨
効果を有していないと考えられる。
分とする合金、あるいは、それらの酸化物薄膜
を、真空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテ
イング等の真空中製膜法でポリエステルフイル
ム、ポリイミドフイルム等の高分子フイルムや、
非磁性金属薄板等より基板上に形成した強磁性薄
膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁気記録媒体
に比べて記録密度を飛躍的に向上せしめることが
可能であるが、この高密度化のためには、磁気ヘ
ツドのギヤツプを小さくし、併せて磁気記録媒体
の表面を平滑化せしめてスペーシングロスを極力
減少せしめる必要がある。しかし、あまり表面を
平坦化しすぎると、ヘツドタツチ、走行性で支障
をきたすため表面の微細形状を制御することによ
りこれを解決する必要がある。強磁性薄膜型磁気
記録媒体の表面性は磁性層厚さが0.1〜0.5μm程度
と非常に小さいため、基板であるプラスチツクフ
イルムの表面形状に依存する度合いが大きい。し
たがつて従来、フイルムの表面性に関して多くの
提案がなされてきた。その例は、特開昭53−
116115号公報、特開昭53−128685号公報、特開昭
54−94547号公報、特開昭56−10455号公報、特開
昭56−16937号公報、等に記載されている。これ
らの例においては、いずれも表面形状を比較的微
細に均一に粗面化せしめる、たとえば、しわ状突
起を形成せしめたり、ミミズ状、あるいは粒状突
起を形成せしめることにより、ヘツドタツチ、走
行性を一挙に改善しようとするものである。前述
の例にみられる表面状態のものは、ヘツドタツ
チ、ヘツド走行性に関しては非常に有効である。
しかし、ヘツド目づまり現象に関しては、改善効
果が充分でないことが明らかとなつた。塗布型磁
気記録媒体においては、磁性塗料中にシリカ、ア
ルミナ等の研磨剤を添加し、これらの微粒子を媒
体表面に突出せしめることにより、ヘツドクリー
ニング効果を出し、目づまり防止を計つている
が、前述の表面状態のものは、微細形状として、
総じて比較的ゆるやかな盛り上がりを有する山の
状態を有しており、塗布型にみられるような研磨
効果を有していないと考えられる。
本発明者らは、従来のごときゆるやかな表面の
盛り上がりではヘツド研磨作用が不十分であるこ
とに鑑み、研磨作用表面を種々検討した結果、急
峻な山状突起を表面に多く存在させると、ヘツド
研磨効果が大きく目ずまりが改善されることを見
い出した。
盛り上がりではヘツド研磨作用が不十分であるこ
とに鑑み、研磨作用表面を種々検討した結果、急
峻な山状突起を表面に多く存在させると、ヘツド
研磨効果が大きく目ずまりが改善されることを見
い出した。
本発明の磁気記録媒体は、オリゴマー微結晶又
は超微細粒子が表面に形成された非磁性支持体上
に強磁性薄膜が形成され、微結晶又は粒子とこの
上の強磁性薄膜とで急峻な山状突起をなす構造と
し、この山状突起は高さ150〜500Å、長さと高さ
の比が10：１以下で１mm2当り平均１万〜100万個
とするものである。
は超微細粒子が表面に形成された非磁性支持体上
に強磁性薄膜が形成され、微結晶又は粒子とこの
上の強磁性薄膜とで急峻な山状突起をなす構造と
し、この山状突起は高さ150〜500Å、長さと高さ
の比が10：１以下で１mm2当り平均１万〜100万個
とするものである。
以下図面に従つて説明する。第１図は従来提案
されてきた比較的ゆるやかな盛り上がりの突起を
有する磁気記録媒体の断面図、第２〜４図は本発
明の実施例の磁気記録媒体の断面図である。これ
らの図において１，１ａ，１ｂ，１ｃは非磁性体
の支持体、２，２ａ，２ｂ，２ｃは強磁性薄膜で
ある。３はゆるやかな突起、３ａ，３ｂ，３ｃは
急峻な山状突起、４ａ，４ｂ，４ｃは支持体に形
成させた急峻なオリゴマー微結晶又は超微細粒子
からなる突起で、突起３ａ，３ｂ，３ｃは突起４
ａ，４ｂ，４ｃとこの上の強磁性薄膜で形成され
る。また、第１〜２図においてl1，l2は突起３，
３ａの長さを、h1，h2は突起３，３ａの高さを示
す。公知のしわ状、ミミズ状、あるいは粒状突起
等の４は総じて、第１図のごとき、l1：h1比がヘ
ツド走行方向に対し通常は50〜100：１あるいは
それ以上のものであるが、本発明の磁気記録媒体
の表面は、第２図に代表されるようなl2：h2比が
10：１以下、好ましくは５：１以下の急峻な山状
突起３ａ（突起３ｂ，３ｃも同様）を高密度に有
することを特徴とする。本発明は、強磁性薄膜２
ａ，２ｂ，２ｃは支持体上全面にあり、高密度記
録性は維持され、このような急峻な山状突起３
ａ，３ｂ，３ｃが磁気記録媒体表面１mm2当り平均
１万〜100万個存在するとき、ヘツド目づまり防
止効果が大きいことが明らかになつた。この山状
突起３ａ，３ｂ，３ｃの高さは100Å〜2000Åの
適当で、さらに好ましくは150〜500Åである。
500Å以上では画質低下の原因となる小さなドロ
ツプアウトが生じやすく、また150Å以下では目
づまり防止効果が低下する。上記の突起３ａ，３
ｂ，３ｃの高さは、JISBO601に規定されている
表面粗さ最大値（Rmax）に準じて凹凸の山頂か
ら谷底までの距離を高精度の触針式表面粗さ測定
装置（TALYSTE−１、TAYLORHOBSON社
製）にて実測されるものであり、急峻な山状突起
を５個以上含む50〜100μmの長さの実測領域を複
数個設定しこれらの領域内での連続した５個分の
実測値を平均したものである。なお、この実測領
域内では測定の基準となる線（中心線）の変動が
少なく非常に高い感度の状態での測定が可能とな
る。表面１mm2当りの急峻な山状突起の数は、微分
干渉付光学顕微鏡（OPTIPHOT、XP−NR型、
日本光学工学(株)製）で50〜400倍の間の特定倍率
で少なくとも、10視野またはそれ以上観察しそれ
らの視野内に存在する急峻な突起の数を測定し、
１mm2当りの平均値として求め得るものである。
されてきた比較的ゆるやかな盛り上がりの突起を
有する磁気記録媒体の断面図、第２〜４図は本発
明の実施例の磁気記録媒体の断面図である。これ
らの図において１，１ａ，１ｂ，１ｃは非磁性体
の支持体、２，２ａ，２ｂ，２ｃは強磁性薄膜で
ある。３はゆるやかな突起、３ａ，３ｂ，３ｃは
急峻な山状突起、４ａ，４ｂ，４ｃは支持体に形
成させた急峻なオリゴマー微結晶又は超微細粒子
からなる突起で、突起３ａ，３ｂ，３ｃは突起４
ａ，４ｂ，４ｃとこの上の強磁性薄膜で形成され
る。また、第１〜２図においてl1，l2は突起３，
３ａの長さを、h1，h2は突起３，３ａの高さを示
す。公知のしわ状、ミミズ状、あるいは粒状突起
等の４は総じて、第１図のごとき、l1：h1比がヘ
ツド走行方向に対し通常は50〜100：１あるいは
それ以上のものであるが、本発明の磁気記録媒体
の表面は、第２図に代表されるようなl2：h2比が
10：１以下、好ましくは５：１以下の急峻な山状
突起３ａ（突起３ｂ，３ｃも同様）を高密度に有
することを特徴とする。本発明は、強磁性薄膜２
ａ，２ｂ，２ｃは支持体上全面にあり、高密度記
録性は維持され、このような急峻な山状突起３
ａ，３ｂ，３ｃが磁気記録媒体表面１mm2当り平均
１万〜100万個存在するとき、ヘツド目づまり防
止効果が大きいことが明らかになつた。この山状
突起３ａ，３ｂ，３ｃの高さは100Å〜2000Åの
適当で、さらに好ましくは150〜500Åである。
500Å以上では画質低下の原因となる小さなドロ
ツプアウトが生じやすく、また150Å以下では目
づまり防止効果が低下する。上記の突起３ａ，３
ｂ，３ｃの高さは、JISBO601に規定されている
表面粗さ最大値（Rmax）に準じて凹凸の山頂か
ら谷底までの距離を高精度の触針式表面粗さ測定
装置（TALYSTE−１、TAYLORHOBSON社
製）にて実測されるものであり、急峻な山状突起
を５個以上含む50〜100μmの長さの実測領域を複
数個設定しこれらの領域内での連続した５個分の
実測値を平均したものである。なお、この実測領
域内では測定の基準となる線（中心線）の変動が
少なく非常に高い感度の状態での測定が可能とな
る。表面１mm2当りの急峻な山状突起の数は、微分
干渉付光学顕微鏡（OPTIPHOT、XP−NR型、
日本光学工学(株)製）で50〜400倍の間の特定倍率
で少なくとも、10視野またはそれ以上観察しそれ
らの視野内に存在する急峻な突起の数を測定し、
１mm2当りの平均値として求め得るものである。
本発明の実施形態としては、第２図のごとき、
平坦な表面に急峻な山状突起３ａを有している表
面から成るものでも良いが、さらに好ましいの
は、第３図のごときしわ状、ミミズ状あるいは粒
状の比較的ゆるやかな起伏状突起４を有する表面
のくぼみに急峻な山状突起３ｂが形成されている
ものや、第４図のごとき、しわ状、ミミズ状ある
いは粒状の比較的ゆるやかな起伏状突起４を有す
る表面の一部（くぼみに現定されない）に急峻な
山状突起３ｃが形成されているものである。後の
ふたつの場合には、急峻な山状突起３ｂ，３ｃの
高さは、ゆるやかな起伏状突起４の高さより少な
くとも50Å以上、さらに好ましくは100Å以上大
きいことが必要である。なおゆるやかな起伏状突
起４は、間隔0.1〜10μm毎に存在せしめる場合に
はその効果が大となる。
平坦な表面に急峻な山状突起３ａを有している表
面から成るものでも良いが、さらに好ましいの
は、第３図のごときしわ状、ミミズ状あるいは粒
状の比較的ゆるやかな起伏状突起４を有する表面
のくぼみに急峻な山状突起３ｂが形成されている
ものや、第４図のごとき、しわ状、ミミズ状ある
いは粒状の比較的ゆるやかな起伏状突起４を有す
る表面の一部（くぼみに現定されない）に急峻な
山状突起３ｃが形成されているものである。後の
ふたつの場合には、急峻な山状突起３ｂ，３ｃの
高さは、ゆるやかな起伏状突起４の高さより少な
くとも50Å以上、さらに好ましくは100Å以上大
きいことが必要である。なおゆるやかな起伏状突
起４は、間隔0.1〜10μm毎に存在せしめる場合に
はその効果が大となる。
本発明の磁気記録媒体は、たとえば表面平滑性
良好なポリエステルフイルム支持体１ａ、表面に
しわ状、ミミズ状あるいは粒状突起４を有するポ
リエステルフイルムを支持体とし、それらのポリ
エステルフイルム中に含まれる低重合ポリエステ
ル成分、すなわちオリゴマーの微結晶を支持体表
面に折出せしめて突起４ａ，４ｂ，４ｃを形成し
たのち、あるいは同時に、真空中で強磁性薄膜２
ａ，２ｂ，２ｃを形成させることにより、製造す
ることにより得ることができ、この場合には析出
したオリゴマー微結晶の突起４ａ，４ｂ，４ｃと
この上に形成された薄膜２ａ，２ｂ，２ｃ部分で
急峻な山状突起３ａ，３ｂ，３ｃとなる。また、
平滑性良好なポリエステルフイルム上に、カーボ
ンブラツク、微細シリカ、金属粉等の超微細粒子
を添加したしわ状突起４を有する結晶性高分子薄
膜支持体１ｂ，１ｃを形成させたり、平滑性良好
なポリエステルフイルムの製膜途上で、上記の超
微細粒子を添加した架橋性高分子薄膜を形成せし
めて最終的に超微細粒子よりなる突起４ｂ，４ｃ
が分散突出したミミズ状あるいは粒状突起４を形
成せしめたりして得られらるポリエステルフイル
ム支持体１ｂ，１ｃ上に強磁性薄膜２ｂ，２ｃを
形成せしめることによつても山状突起３ｂ，３ｃ
を得ることができる。なお、支持体の基板として
は、上記の各例にみられるような、ポリエステル
フイルム以外に、ポリイミドフイルム、ポリアミ
ドフイルム等の他の高分子フイルム基板、ステン
レス箔、チタン箔、等の金属箔基板、等を使用す
ることもできる。表面性の調節された支持体フイ
ルム上に強磁性薄膜を形成せしめるには、たとえ
ば、鉄、コバルト、ニツケル、またはその合金の
強磁性薄膜を真空蒸着、イオンプレーテイング、
スパツタリング等により基板上に直接、あるい
は、アルミニウム、チタン、クロム等の下地薄膜
を介して形成させる。また、これらの非磁性薄膜
を磁性薄膜の中間にセパレータとして入れること
もできる。これらの場合、強磁性薄膜および下地
薄膜に酸素を含有させる（金属を部分的に酸化さ
せる）ことにより基板フイルムとの付着強度を一
段と向上させ、スチル寿命を良好ならしめること
が望ましい。強磁性薄膜の表面には、必要に応じ
て各種非磁性材料から成るオーバーコートを施こ
すことも可能であり、このオーバーコート自体に
急峻な山状突起を存在せしめ得ることは前述の通
りである。さらに基板フイルムの裏面に走行性改
善のための各種の公知対策を施すことが望まし
い。
良好なポリエステルフイルム支持体１ａ、表面に
しわ状、ミミズ状あるいは粒状突起４を有するポ
リエステルフイルムを支持体とし、それらのポリ
エステルフイルム中に含まれる低重合ポリエステ
ル成分、すなわちオリゴマーの微結晶を支持体表
面に折出せしめて突起４ａ，４ｂ，４ｃを形成し
たのち、あるいは同時に、真空中で強磁性薄膜２
ａ，２ｂ，２ｃを形成させることにより、製造す
ることにより得ることができ、この場合には析出
したオリゴマー微結晶の突起４ａ，４ｂ，４ｃと
この上に形成された薄膜２ａ，２ｂ，２ｃ部分で
急峻な山状突起３ａ，３ｂ，３ｃとなる。また、
平滑性良好なポリエステルフイルム上に、カーボ
ンブラツク、微細シリカ、金属粉等の超微細粒子
を添加したしわ状突起４を有する結晶性高分子薄
膜支持体１ｂ，１ｃを形成させたり、平滑性良好
なポリエステルフイルムの製膜途上で、上記の超
微細粒子を添加した架橋性高分子薄膜を形成せし
めて最終的に超微細粒子よりなる突起４ｂ，４ｃ
が分散突出したミミズ状あるいは粒状突起４を形
成せしめたりして得られらるポリエステルフイル
ム支持体１ｂ，１ｃ上に強磁性薄膜２ｂ，２ｃを
形成せしめることによつても山状突起３ｂ，３ｃ
を得ることができる。なお、支持体の基板として
は、上記の各例にみられるような、ポリエステル
フイルム以外に、ポリイミドフイルム、ポリアミ
ドフイルム等の他の高分子フイルム基板、ステン
レス箔、チタン箔、等の金属箔基板、等を使用す
ることもできる。表面性の調節された支持体フイ
ルム上に強磁性薄膜を形成せしめるには、たとえ
ば、鉄、コバルト、ニツケル、またはその合金の
強磁性薄膜を真空蒸着、イオンプレーテイング、
スパツタリング等により基板上に直接、あるい
は、アルミニウム、チタン、クロム等の下地薄膜
を介して形成させる。また、これらの非磁性薄膜
を磁性薄膜の中間にセパレータとして入れること
もできる。これらの場合、強磁性薄膜および下地
薄膜に酸素を含有させる（金属を部分的に酸化さ
せる）ことにより基板フイルムとの付着強度を一
段と向上させ、スチル寿命を良好ならしめること
が望ましい。強磁性薄膜の表面には、必要に応じ
て各種非磁性材料から成るオーバーコートを施こ
すことも可能であり、このオーバーコート自体に
急峻な山状突起を存在せしめ得ることは前述の通
りである。さらに基板フイルムの裏面に走行性改
善のための各種の公知対策を施すことが望まし
い。
次に本発明の実施具体例を説明する。
重合触媒残査に起因する微粒子をほとんど含ま
ないポリエステルから成り、その両面に延伸途上
で増粘剤を含む変性シリコーンエマルジヨン液を
塗布硬化させることにより両面に周期約1μm間隔
で表面粗さ200Åの微細な波状凹凸のゆるやかな
突起４を形成させたポリエステルフイルム１ｂ，
１ｃに、温度180〜200℃の熱風を、その温度と時
間を数種類変化調節して連続的に吹付けることに
より、そのフイルム表面にポリエステルオリゴマ
ー微結晶を各種の密度分布となるよう析出させて
急峻な突起４ｂ，４ｃを形成したのち、片面に連
続真空斜め蒸着法によりCoN強磁性薄膜（Ni＝
20wt％、膜厚1000Å）２ｂ，２ｃを微量の酸素
の存在下に形成させて数種の磁気テープを作成し
た。オリゴマー結晶析出部分は、急峻な山状突起
３ｂ，３ｃとなつており、その高さは300〜500Å
であつて、長さと高さの比は前述した10：１以下
１mm2当り１万〜100万個であつた。
ないポリエステルから成り、その両面に延伸途上
で増粘剤を含む変性シリコーンエマルジヨン液を
塗布硬化させることにより両面に周期約1μm間隔
で表面粗さ200Åの微細な波状凹凸のゆるやかな
突起４を形成させたポリエステルフイルム１ｂ，
１ｃに、温度180〜200℃の熱風を、その温度と時
間を数種類変化調節して連続的に吹付けることに
より、そのフイルム表面にポリエステルオリゴマ
ー微結晶を各種の密度分布となるよう析出させて
急峻な突起４ｂ，４ｃを形成したのち、片面に連
続真空斜め蒸着法によりCoN強磁性薄膜（Ni＝
20wt％、膜厚1000Å）２ｂ，２ｃを微量の酸素
の存在下に形成させて数種の磁気テープを作成し
た。オリゴマー結晶析出部分は、急峻な山状突起
３ｂ，３ｃとなつており、その高さは300〜500Å
であつて、長さと高さの比は前述した10：１以下
１mm2当り１万〜100万個であつた。
これらの磁気テープを60℃、90％RHの条件下
で１ケ月放置しその表面に目づまり発生の原因と
なる錆をわずかに発生せしめたのち、20℃60％
RH下でビデオ録画、再生をくり返して行ない、
ヘツド目づまりによる画像のみだれの発生し始め
るまでのくり返し回数を求めたところ、第５図に
示すような結果が得られた。
で１ケ月放置しその表面に目づまり発生の原因と
なる錆をわずかに発生せしめたのち、20℃60％
RH下でビデオ録画、再生をくり返して行ない、
ヘツド目づまりによる画像のみだれの発生し始め
るまでのくり返し回数を求めたところ、第５図に
示すような結果が得られた。
以上から明らかなように、本発明の強磁性薄膜
を用いた高記録密度用磁気記録媒体は、従来とは
異なる急峻な山状突起を所定の高密度に形成し、
磁気ヘツド表面の研磨効果を高め、ヘツド目づま
りを改善したものであり、その実用的価値は非常
に大きいものである。
を用いた高記録密度用磁気記録媒体は、従来とは
異なる急峻な山状突起を所定の高密度に形成し、
磁気ヘツド表面の研磨効果を高め、ヘツド目づま
りを改善したものであり、その実用的価値は非常
に大きいものである。
第１図は従来の磁気記録媒体の断面図、第２
図、第３図、第４図はそれぞれ、本発明の実施例
における磁気記録媒体の断面図、第５図は、磁気
記録媒体表面における急峻な突起の密度とヘツド
目づまりとの関係を示す図である。 １，１ａ，１ｂ，１ｃ…支持体、２，２ａ，２
ｂ，２ｃ…強磁性薄膜、３ａ，３ｂ，３ｃ，４
ａ，４ｂ，，４ｃ…突起。
図、第３図、第４図はそれぞれ、本発明の実施例
における磁気記録媒体の断面図、第５図は、磁気
記録媒体表面における急峻な突起の密度とヘツド
目づまりとの関係を示す図である。 １，１ａ，１ｂ，１ｃ…支持体、２，２ａ，２
ｂ，２ｃ…強磁性薄膜、３ａ，３ｂ，３ｃ，４
ａ，４ｂ，，４ｃ…突起。
Claims (1)
- １ オリゴマー微結晶又は超微細粒子が表面に形
成された非磁性支持体上に強磁性薄膜が形成さ
れ、前記微結晶又は粒子とこの上の前記強磁性薄
膜とで急峻な山状突起をなし、前記山状突起は高
さが150〜500Å、長さと高さの比が10：１以下
で、１mm2当り１万〜100万個に形成されているこ
とを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56199282A JPS58100221A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | 磁気記録媒体 |
| EP82109567A EP0077549B2 (en) | 1981-10-15 | 1982-10-15 | Magnetic recording medium |
| DE8282109567T DE3277996D1 (en) | 1981-10-15 | 1982-10-15 | Magnetic recording medium |
| US06/434,600 US4578729A (en) | 1981-10-15 | 1982-10-15 | Magnetic recording medium |
| DE198282109567T DE77549T1 (de) | 1981-10-15 | 1982-10-15 | Magnetisches aufzeichnungsmedium. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56199282A JPS58100221A (ja) | 1981-12-09 | 1981-12-09 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58100221A JPS58100221A (ja) | 1983-06-14 |
| JPH0547888B2 true JPH0547888B2 (ja) | 1993-07-20 |
Family
ID=16405196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56199282A Granted JPS58100221A (ja) | 1981-10-15 | 1981-12-09 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58100221A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6080134A (ja) * | 1983-10-11 | 1985-05-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6069816A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6142723A (ja) * | 1984-08-02 | 1986-03-01 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録方法 |
| JPH0687300B2 (ja) * | 1984-08-02 | 1994-11-02 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録方法 |
| JPS6142724A (ja) * | 1984-08-03 | 1986-03-01 | Tdk Corp | 磁気記録媒体および磁気記録方法 |
| JPH0766511B2 (ja) * | 1985-10-04 | 1995-07-19 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS62183023A (ja) * | 1986-02-05 | 1987-08-11 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| US4770924A (en) * | 1986-07-02 | 1988-09-13 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| JPH0652567B2 (ja) * | 1987-10-23 | 1994-07-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2777003B2 (ja) * | 1991-06-28 | 1998-07-16 | 帝人株式会社 | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム及びその製造方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53107315A (en) * | 1977-03-01 | 1978-09-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording method |
| JPS53107314A (en) * | 1977-03-01 | 1978-09-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS53109607A (en) * | 1977-03-04 | 1978-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
| JPS54143112A (en) * | 1978-04-27 | 1979-11-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5613517A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5613516A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5613518A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5616937A (en) * | 1979-07-17 | 1981-02-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1981
- 1981-12-09 JP JP56199282A patent/JPS58100221A/ja active Granted
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53107315A (en) * | 1977-03-01 | 1978-09-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording method |
| JPS53107314A (en) * | 1977-03-01 | 1978-09-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS53109607A (en) * | 1977-03-04 | 1978-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
| JPS54143112A (en) * | 1978-04-27 | 1979-11-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5613517A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5613516A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5613518A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5616937A (en) * | 1979-07-17 | 1981-02-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58100221A (ja) | 1983-06-14 |
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