JPH0539623Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は半導体製造装置に係り、特に半導体製
造における現像機に関するものである。

〔従来の技術〕

従来、この種の半導体の現像機は、「デースピ
ン，インストラクシヨン，マニユアル（Ｄ−
SPIN，INSTRUCTION，MANUAL），第54
頁」に開示されるものがあり、これを第６図に従
来装置の断面図、第７図に同装置の平面図を示し
て説明する。

即ち、有底円筒形のカツプ１の底部１ａの中央
に孔１ｂを穿設し、この孔１ｂに、一端がモータ
２に連結すると共に、他端がカツプ１内において
スピンチヤツク３に固着した駆動軸４が上下動自
在に挿通されている。更に、前記スピンチヤツク
３上には、ウエハＡが着脱自在に装着され、前記
カツプ１の側壁上部に現像液を吐出するノズル５
が設けられている。

斯くして、スピンチヤツク３上に真空吸着した
ウエハＡは、モータ２を以て所定回転数で回転駆
動され、ノズル５より吐出する加圧した現像液に
よりウエハＡ上のレジストの現像を行なつてい
た。

〔考案が解決しようとする問題点〕

然し乍ら、上述した従来の半導体の現像機にお
いては、所定時間ウエハＡを回転させ、その間、
現像液を連続して吐出し、余分な現像液は使い捨
てにしていたため、高価な現像液が多量に必要と
なり、コスト高を招来するという問題点があつ
た。

本考案の目的は上述の問題点に鑑み、現像液の
使用量を節約し、低コストの現像ができる半導体
製造装置を提供するものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案は上述した目的を達成するため、ウエハ
Ａがセツトされ、そのウエハＡ上のレジストを現
像する現像液を溜める現像カツプ６と、現像カツ
プ６に溜められる前の現像液を溜め、その溜めた
現像液をその現像カツプ６に流し込む液溜め槽７
であつて、現像カツプ６の、流し込むその現像液
がウエハＡの周縁から浸入する位置に傾動自在に
設けられた液溜め槽７とを備えたものである。

〔作用〕

本考案においては、傾動自在で、予め現像液を
溜める液溜め槽を現像カツプに設け、現像カツプ
内にウエハをセツトするので、前記液溜め槽内の
現像液は、液溜め槽の傾動を以てウエハ上に浸入
すると共に、現像カツプ内に溜り、ウエハは確実
且つ良好に現像される他、現像液は節約される。

〔実施例〕

本考案の半導体製造装置の現像機に係る一実施
例を第１図乃至第５図に基づいて従来例と同一構
成部分には同一符号を付して説明する。尚、第１
図は本考案装置の断面図、第２図は同装置の平面
図、第３図並びに第４図は液溜め槽の動作説明図
である。

即ち、この半導体現像機は、有底円筒形のカツ
プ１の底部１ａ中央に孔１ｂが穿設され、この孔
１ｂには上下に摺動自在な駆動軸４が挿通されて
いる。この駆動軸４の下端はモータ２が連結さ
れ、上端には、円形のスピンチヤツク３が固着さ
れている。更に、現像カツプ６内において、円形
のウエハＡの中央部は、前記スピンチヤツク３上
に着脱自在に装着されると共に、その周縁部は、
現像カツプ６の底部６ａに密接されている。この
現像カツプ６は、開口部に近づくに従つて拡径し
ており、その底部６ａには、スピンチヤツク３よ
り若干大き目の径を有し、同スピンチヤツク３が
通過する貫通口６ｂが穿設されている。更に、前
記現像カツプ６の開口部周縁には、現像液に無反
応の弾性材、例えばシリコンゴム等より成り、開
口部が幅広の液溜め槽７が捩子止めを以て周設さ
れている。又、この液溜め槽７の下方には、第１
のシリンダ８に連結した押し上げアーム９が、液
溜め槽７の一端部を押圧する如く構成されてい
る。更に又、前記モータ２の下部には、該モータ
２を上下動操作する第２のシリンダ１０が連結さ
れている。又、前記カツプ１の側壁１ｂには現像
液を吐出するパイプ１１が設けられており、この
パイプ１１の吐出口１１ａは液溜め槽７の開口部
直上に位置している。そして、同側壁１ｂには、
前記現像カツプ６の上方に配置する純水ノズル１
２が設けられている。

次に、上述の如く構成した半導体現像機の作用
を述べる。

先ず、ウエハＡをスピンチヤツク３上に真空吸
着すると共に、現像カツプ６の底部６ａに密着し
た後、加圧した現像液をパイプ１１より液溜め槽
７に所定量吐出する。その後、第１のシリンダ８
により押し上げアーム９を所定距離上方に移動す
ると共に、この押し上げアーム９の押圧を以て液
溜め槽７を現像カツプ６の開口部側へ傾動し変形
する。斯くして、現像液は現像カツプ６内に流れ
込み、そして溜り、ウエハＡ上のレジストは、現
像される。尚、その際、現像カツプ６の貫通孔６
ｂは、ウエハＡにより塞がれているので現像液の
外部への漏洩はない。又、上記変形によつて現像
液が流出した（本実施例第４図の場合、液溜め槽
７に溜められた現像液のほとんどが流出される。）
液溜め槽７は、押し上げアームの押圧解除に伴い
元の形状に復帰する。而して、現像終了後、ウエ
ハＡ、スピンチヤツク３及びモータ２は、第２の
シリンダ１０により所定距離上方に移動する。し
かる後、ウエハＡが、所定回転数、例えば
3000rpmで回転するモータ２により回転駆動する
と同時に、純水ノズル１２より現像停止のための
純水が所定時間吐出され、ウエハＡの純水リンス
を行なう。該リンス終了後、純水の吐出を止め、
ウエハＡ上の純水を、遠心力により振り切り、所
定時間ウエハＡの乾燥をした後、モータを停止
し、ウエハＡの現像作業が完了する。

上述の如く、本考案の現像機におけるウエハＡ
の現像作業は、現像カツプ６に周設した液溜め槽
７に、予め現像液を溜めた後、該現像液を現像カ
ツプ６内に流し込み行なうので、従来の様な現像
液の使い捨てが防止でき、その節約ができる他、
現像液は、ウエハＡの周縁部より均一に浸入し、
而も泡の発生がないので、良好な現像が可能とな
る。

〔考案の効果〕

以上説明した様に本考案によれば、カツプ内
に、現像カツプを内設し、現像カツプに予め現像
液を溜める液溜め槽を傾動自在に設け、現像カツ
プ内にウエハをセツトするので、液溜め槽内の現
像液は、その傾動を以て前記ウエハ上に均一に浸
入すると共に、現像カツプ内に溜り、ウエハを現
像するため、従来の様な現像液の使い捨てがなく
なり、最少量の現像液により確実な現像ができる
と共に、コスト低減ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第５図は本考案装置に係る実施例を
示すもので、第１図は本考案装置の断面図、第２
図は同装置の平面図、第３図及び第４図は液溜め
槽の動作説明図、第５図はスピンチヤツクの動作
説明図、第６図及び第７図は従来例を示すもの
で、第６図は従来装置の断面図、第７図は同装置
の平面図である。 ６……現像カツプ、７……液溜め槽、Ａ……ウ
エハ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 ウエハがセツトされ、前記ウエハ上のレジスト
   を現像する現像液を溜める現像カツプと、 前記現像カツプに溜められる前の前記現像液を
   溜めると共に、その溜めた現像液を前記現像カツ
   プに流し込む液溜め槽であつて、前記現像カツプ
   の、流し込む前記現像液が前記ウエハの周縁から
   浸入する位置に傾動自在に設けられた液溜め槽と
   を備えることを特徴とした半導体製造装置。