JPH031341A - 現像装置 - Google Patents
現像装置Info
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- JPH031341A JPH031341A JP13671789A JP13671789A JPH031341A JP H031341 A JPH031341 A JP H031341A JP 13671789 A JP13671789 A JP 13671789A JP 13671789 A JP13671789 A JP 13671789A JP H031341 A JPH031341 A JP H031341A
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- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 6
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- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
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- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、現像装置、特に、光デイスク原盤の製造に用
いられる現像装置に関する。
いられる現像装置に関する。
従来の現像装置は、チャックテーブルと、モータと、現
像液タンクと、現像液滴下ノズルとを含んで構成される
。
像液タンクと、現像液滴下ノズルとを含んで構成される
。
次に、第九(a) 、 (b)に示す現像装置について
、現像動作を説明する。
、現像動作を説明する。
現像はブリウェット、現像、水洗の順で行われる。
まず、チャックテーブルlに露光済みフォトレジスト原
盤2が真空吸着され、所定の回転数で回転される。
盤2が真空吸着され、所定の回転数で回転される。
現像液のフォトレジスト膜への浸透性を基板全面にわた
り均一化させたりレジスト表面を活性化させるために現
像前にブリウェットするために、純水または低濃度のア
ルカリ液(例えば1%NaOH水溶液など)がブリウェ
ット用ノズル3よりフォトレジスト原盤2上へ供給され
る。
り均一化させたりレジスト表面を活性化させるために現
像前にブリウェットするために、純水または低濃度のア
ルカリ液(例えば1%NaOH水溶液など)がブリウェ
ット用ノズル3よりフォトレジスト原盤2上へ供給され
る。
現像液タンク6内は加圧パルプ8が開いた状態で窒素ガ
スN2により加圧されている。
スN2により加圧されている。
ブリウェット終了直後、供給パルプ9が開き、現像液7
が現像液用ノズル4からフォトレジスト原盤2上へ滴下
され、一定ピツチで露光されたパターンが徐々に形成さ
れる。
が現像液用ノズル4からフォトレジスト原盤2上へ滴下
され、一定ピツチで露光されたパターンが徐々に形成さ
れる。
現像終了後、水洗用多孔ノズル5から純水がフォトレジ
スト原盤2の全面に吐出され、残留している現像液7が
効率よく、洗浄・除去さり、乾燥された後光ディスク原
盤が得られる。
スト原盤2の全面に吐出され、残留している現像液7が
効率よく、洗浄・除去さり、乾燥された後光ディスク原
盤が得られる。
しかしながら、このような上述した従来の現像装置は現
像液内に気泡が入り易く、気泡を含んだ現像液が露光済
み原盤上に滴下される際、原盤上に気泡が残り、その部
分だけ現像が遅れたり、あるいは全く現像されなかった
りし、このような気泡の存在の結果として数百μmオー
ダーの大きなパターン不良となり、原盤の歩留りを低下
させるという欠点があった。
像液内に気泡が入り易く、気泡を含んだ現像液が露光済
み原盤上に滴下される際、原盤上に気泡が残り、その部
分だけ現像が遅れたり、あるいは全く現像されなかった
りし、このような気泡の存在の結果として数百μmオー
ダーの大きなパターン不良となり、原盤の歩留りを低下
させるという欠点があった。
本発明の現像装置は、露光済みフォトレジスト原盤を真
空吸着するチャックテーブルと、チャックテーブルを回
転させるモータと、フォトレジスト原盤上に現像液を供
給するノズルと、現像液を貯蔵する貯蔵タンクと、現像
液の脱気を行う為の脱気手段とを含んで構成される。
空吸着するチャックテーブルと、チャックテーブルを回
転させるモータと、フォトレジスト原盤上に現像液を供
給するノズルと、現像液を貯蔵する貯蔵タンクと、現像
液の脱気を行う為の脱気手段とを含んで構成される。
さらに、本発明の現像装置は、露光済みフォトレジスト
原盤を真空吸着するチャックテーブルと、チャックテー
ブルを回転させるモータと、フォトレジスト原盤上に現
像液を供給するノズルと、現像液を貯蔵する現像タンク
と、現像液の脱気を行うための減圧ポンプとを含んで構
成される。
原盤を真空吸着するチャックテーブルと、チャックテー
ブルを回転させるモータと、フォトレジスト原盤上に現
像液を供給するノズルと、現像液を貯蔵する現像タンク
と、現像液の脱気を行うための減圧ポンプとを含んで構
成される。
さらに、本発明の現像装置は、露光済みフォトレジスト
原盤を真空吸着するチャックテーブルと、チャックテー
ブルを回転させるモータと、フォトレジスト原盤上に現
像液を供給するノズルと、現像液を貯蔵する貯蔵タンク
と、現像液の脱気を行うための手段とを含んで構成され
る。
原盤を真空吸着するチャックテーブルと、チャックテー
ブルを回転させるモータと、フォトレジスト原盤上に現
像液を供給するノズルと、現像液を貯蔵する貯蔵タンク
と、現像液の脱気を行うための手段とを含んで構成され
る。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
第1図(a) 、 (b)は本発明の一実施例を示す上
面図および断面図である。
面図および断面図である。
第1図(a) 、 (b)に示す現像装置は、現像液7
を貯蔵する現像液 タンク6に調合した現像液7中の気
泡を取り除くために現像液タンク6を減圧する減圧ポン
プ10を含んで構成される。
を貯蔵する現像液 タンク6に調合した現像液7中の気
泡を取り除くために現像液タンク6を減圧する減圧ポン
プ10を含んで構成される。
まず、調合した現像液7が現像液タンク6内に入れられ
る。このとき、供給パルプ9は閉じられている。減圧ポ
ンプ10の作動後、減圧パルプ11が開けられ、現像液
タンク6内が減圧され、圧力ゲージ12に現像液タンク
6内の圧力が示される。
る。このとき、供給パルプ9は閉じられている。減圧ポ
ンプ10の作動後、減圧パルプ11が開けられ、現像液
タンク6内が減圧され、圧力ゲージ12に現像液タンク
6内の圧力が示される。
この減圧により、気泡が液中を上昇し、気中な通じて減
圧ポンプlO側へ引かれる。
圧ポンプlO側へ引かれる。
一定時間、減圧ポンプ10が作動し、十分に現像液7中
の気泡が取り除かれたのち、減圧バルブ11が閉じ、減
圧ポンプlOが停止される。
の気泡が取り除かれたのち、減圧バルブ11が閉じ、減
圧ポンプlOが停止される。
次いで、加圧バルブ8が開き、窒素ガスN2が現像液タ
ンク6に充填される。そうして供給パルプ9が開き窒素
ガスN、の加圧により現像液7が7オトレジスト原盤2
上に供給される。配管内の空気は、フォトレジスト原盤
2上に滴下する前に現像液用ノズル4が原点位置でブリ
ディスペンスにより取り除かれる。
ンク6に充填される。そうして供給パルプ9が開き窒素
ガスN、の加圧により現像液7が7オトレジスト原盤2
上に供給される。配管内の空気は、フォトレジスト原盤
2上に滴下する前に現像液用ノズル4が原点位置でブリ
ディスペンスにより取り除かれる。
このようにして簡単な構成で現像液内の脱気ができ、そ
の結果気泡を含まない現像液が原盤上に滴下さhるので
、パターン不良が防止され、原盤の歩留りを大きく向上
できる。
の結果気泡を含まない現像液が原盤上に滴下さhるので
、パターン不良が防止され、原盤の歩留りを大きく向上
できる。
第2図は本発明の他の実施例を示す断面図である。
第2図に示す現像装置は調合した現像液7中の気泡を取
り除くために現像液7に超音波振動を与える超音波発生
手段として発振器13と振動子14を含んで構成される
。
り除くために現像液7に超音波振動を与える超音波発生
手段として発振器13と振動子14を含んで構成される
。
まず、加圧バルブ8.供給バルブ9が共に閉じた状態で
、調合された現像液7が現像液タンク6内に入れられる
。発振器13と現像液タンク6の下底に取付けられた振
動子14が一定時間作動することにより、現像液7内に
超音波振動が伝わり、気泡が液中を上昇し脱気が行われ
る。
、調合された現像液7が現像液タンク6内に入れられる
。発振器13と現像液タンク6の下底に取付けられた振
動子14が一定時間作動することにより、現像液7内に
超音波振動が伝わり、気泡が液中を上昇し脱気が行われ
る。
十分に、現像液7中の気泡が取り除かれた後、発振器1
3と振動子14の作動が停止される。
3と振動子14の作動が停止される。
次いで、加圧バルブ8が開き、窒素ガスN、が現像液タ
ンク6に充填され、現像時に供給バルブ9が開き、窒素
ガスN2の加圧により現像液7が点位置にある状態で現
像液が一定量吐出される気ができ、その結果気泡を含ま
ない現像液が原盤上に安定に供給されるので、パターン
不良発生が防止され、原盤歩留りを大きく向上できる。
ンク6に充填され、現像時に供給バルブ9が開き、窒素
ガスN2の加圧により現像液7が点位置にある状態で現
像液が一定量吐出される気ができ、その結果気泡を含ま
ない現像液が原盤上に安定に供給されるので、パターン
不良発生が防止され、原盤歩留りを大きく向上できる。
上述した実施例では、脱気手段として、減圧ポンプを用
いる例ならびに、超音波発生手段を用いる例について述
べたが、脱気手段としてはこれに限定されるものではな
く、脱気を行いうるものならどんな手段であっても良い
ことは言をまたない。
いる例ならびに、超音波発生手段を用いる例について述
べたが、脱気手段としてはこれに限定されるものではな
く、脱気を行いうるものならどんな手段であっても良い
ことは言をまたない。
本発明の現像装置は、現像装置の脱気手段を設けること
により、現像液中の気泡が原因で発生するパターン不良
を防止することができるので、原盤の歩留りを大きく向
上できるという効果がある。
により、現像液中の気泡が原因で発生するパターン不良
を防止することができるので、原盤の歩留りを大きく向
上できるという効果がある。
第1図(a) 、 (b)は本発明の一実施例を示す上
面図および断面図、第2図は本発明のほかの実施例を示
す上面図および断面図、第3図(a) 、 (b)は従
来の一例を示す上面図および断面図である。 1・・・・・・チャックテーブル、2・・・・・・フォ
トレジスト原盤、3・・・・・・ブリウェット用ノズル
、4・・・・・・現像液用ノズル、5・・・・・・水洗
用多孔ノズル、6・・・・・・現像液タンク、7・・・
・・・現像液、8・・・・・・加圧バルブ、9・・・・
・・供給バルブ、10・・・・・・減圧ポンプ、11・
・・・・・減圧バルブ、12・・・・・・圧力ゲージ、
13・・・・・・発振器、14・・・・・・振動子、N
2・・・・・・窒素ガス。 代理人 弁理士 内 原 晋 第1固
面図および断面図、第2図は本発明のほかの実施例を示
す上面図および断面図、第3図(a) 、 (b)は従
来の一例を示す上面図および断面図である。 1・・・・・・チャックテーブル、2・・・・・・フォ
トレジスト原盤、3・・・・・・ブリウェット用ノズル
、4・・・・・・現像液用ノズル、5・・・・・・水洗
用多孔ノズル、6・・・・・・現像液タンク、7・・・
・・・現像液、8・・・・・・加圧バルブ、9・・・・
・・供給バルブ、10・・・・・・減圧ポンプ、11・
・・・・・減圧バルブ、12・・・・・・圧力ゲージ、
13・・・・・・発振器、14・・・・・・振動子、N
2・・・・・・窒素ガス。 代理人 弁理士 内 原 晋 第1固
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、露光済みフォトレジスト原盤を吸着するチャックテ
ーブルと、前記チャックテーブルを回転させるためのモ
ータと、現像液を貯蔵するための現像液タンクと、前記
フォトレジスト原盤に前記現像液を供給するための現像
液滴下ノズルと、前記現像液タンクに貯蔵されている現
像液の脱気を行なうための脱気手段とを含むことを特徴
とする現像装置。 2、露光済みフォトレジスト原盤を真空吸着するチャッ
クテーブルと、前記チャックテーブルを回転させるため
のモータと、現像液を貯蔵するための現像液タンクと、
前記フォトレジスト原盤に前記現像液を供給するための
現像液滴下ノズルと、前記現像液タンクに貯蔵されてい
る現像液の脱気を行なうための減圧ポンプとを含むこと
を特徴とする現像装置。 3、露光済みフォトレジスト原盤を吸着するチャックテ
ーブルと、前記チャックテーブルを回転させるためのモ
ータと、現像液を貯蔵するための現像タンクと、前記フ
ォトレジスト原盤に前記現像液を供給するための現像液
滴下ノズルと、前記現像液タンクに貯蔵されている現像
液に超音波振動を与えて脱気を行なうための超音波発生
手段とを含むことを特徴とする現像装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13671789A JP2669054B2 (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | 現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13671789A JP2669054B2 (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | 現像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH031341A true JPH031341A (ja) | 1991-01-08 |
JP2669054B2 JP2669054B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=15181848
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13671789A Expired - Lifetime JP2669054B2 (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | 現像装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2669054B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5284887A (en) * | 1990-12-20 | 1994-02-08 | Aldema Ltd. | Composition for coating concrete |
JPH086260A (ja) * | 1994-06-22 | 1996-01-12 | Nec Corp | レジスト現像方法及びその装置 |
JP2001032081A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-06 | Electroplating Eng Of Japan Co | 添加剤供給装置 |
-
1989
- 1989-05-29 JP JP13671789A patent/JP2669054B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5284887A (en) * | 1990-12-20 | 1994-02-08 | Aldema Ltd. | Composition for coating concrete |
JPH086260A (ja) * | 1994-06-22 | 1996-01-12 | Nec Corp | レジスト現像方法及びその装置 |
JP2001032081A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-06 | Electroplating Eng Of Japan Co | 添加剤供給装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2669054B2 (ja) | 1997-10-27 |
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