JP2001032081A - 添加剤供給装置 - Google Patents
添加剤供給装置Info
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- JP2001032081A JP2001032081A JP11205073A JP20507399A JP2001032081A JP 2001032081 A JP2001032081 A JP 2001032081A JP 11205073 A JP11205073 A JP 11205073A JP 20507399 A JP20507399 A JP 20507399A JP 2001032081 A JP2001032081 A JP 2001032081A
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 17
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 4
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Landscapes
- Pipeline Systems (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 めっき液に加える添加剤を薬液として供
給する場合、気体を巻き込みやすい薬液であっても、精
確な液量の供給ができる添加剤供給装置の提供を目的と
する。 【解決手段】 めっき液１２に加える添加剤を含有した
薬液２を貯留する薬液タンク３と、めっき液１２に該薬
液２を供給する定量ポンプ６とを備える添加剤供給装置
１において、薬液タンク３と定量ポンプ６の間にバッフ
ァタンク５を設け、バッファタンク５内に薬液２を滞留
させ薬液２中に巻き込まれた気体１１を除去した後に、
定量ポンプ６で薬液２をめっき液１２に供給するものと
した。
給する場合、気体を巻き込みやすい薬液であっても、精
確な液量の供給ができる添加剤供給装置の提供を目的と
する。 【解決手段】 めっき液１２に加える添加剤を含有した
薬液２を貯留する薬液タンク３と、めっき液１２に該薬
液２を供給する定量ポンプ６とを備える添加剤供給装置
１において、薬液タンク３と定量ポンプ６の間にバッフ
ァタンク５を設け、バッファタンク５内に薬液２を滞留
させ薬液２中に巻き込まれた気体１１を除去した後に、
定量ポンプ６で薬液２をめっき液１２に供給するものと
した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はめっき液に添加剤を
供給するための添加剤供給装置に関するものである。
供給するための添加剤供給装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、めっき処理においては、例え
ば、光沢剤、平滑化剤、界面活性剤、酸化剤、還元剤等
の様々な添加剤をめっき液に加えることで、めっき性状
のコントロールやめっき液の安定の維持等を行ってい
る。
ば、光沢剤、平滑化剤、界面活性剤、酸化剤、還元剤等
の様々な添加剤をめっき液に加えることで、めっき性状
のコントロールやめっき液の安定の維持等を行ってい
る。
【０００３】このような添加剤は、めっき処理中に消
費、分解等されるため、別途薬液として準備し、消費
量、分解量等を考慮して、適宜めっき液に供給すること
で、めっき液中の適正な添加剤濃度を維持するようにさ
れている。
費、分解等されるため、別途薬液として準備し、消費
量、分解量等を考慮して、適宜めっき液に供給すること
で、めっき液中の適正な添加剤濃度を維持するようにさ
れている。
【０００４】この添加剤を薬液としてめっき液に供給す
る場合、一般に、添加剤を含有した薬液を貯留する薬液
タンクと、その薬液をめっき液に供給する定量ポンプを
備えた添加剤供給装置が用いられる。このような添加剤
供給装置では、めっき液中の適正な添加剤濃度を維持す
るため、必要な液量を精確にめっき液に供給しなければ
ならない。そのため、薬液を供給するための手段とし
て、例えば、プランジャポンプのような小容量を精確に
供給できる定量ポンプが用いられるものである。
る場合、一般に、添加剤を含有した薬液を貯留する薬液
タンクと、その薬液をめっき液に供給する定量ポンプを
備えた添加剤供給装置が用いられる。このような添加剤
供給装置では、めっき液中の適正な添加剤濃度を維持す
るため、必要な液量を精確にめっき液に供給しなければ
ならない。そのため、薬液を供給するための手段とし
て、例えば、プランジャポンプのような小容量を精確に
供給できる定量ポンプが用いられるものである。
【０００５】ところで、薬液として供給する添加剤の中
には、気泡を発生させやすいものや薬液中に気体を巻き
込み易いものがある。このような気体を巻き込んだ状態
の薬液を定量ポンプで送液しようとすると、定量ポンプ
内に気体が混入し、所定容量の薬液を精確に供給できな
い場合が生じる。このために、めっき性状のコントロー
ルやめっき液の安定の維持等が行えないことがある。ま
た、昨今、添加剤の種類も増加し、精確な量の添加剤が
供給されなければ、その効果を安定的に維持できないめ
っき液も多くなってきており、添加剤を薬液として供給
する際に、精確な量を供給できる技術の開発が強く求め
られているのも現状である
には、気泡を発生させやすいものや薬液中に気体を巻き
込み易いものがある。このような気体を巻き込んだ状態
の薬液を定量ポンプで送液しようとすると、定量ポンプ
内に気体が混入し、所定容量の薬液を精確に供給できな
い場合が生じる。このために、めっき性状のコントロー
ルやめっき液の安定の維持等が行えないことがある。ま
た、昨今、添加剤の種類も増加し、精確な量の添加剤が
供給されなければ、その効果を安定的に維持できないめ
っき液も多くなってきており、添加剤を薬液として供給
する際に、精確な量を供給できる技術の開発が強く求め
られているのも現状である
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、め
っき液に加える添加剤を薬液として供給する場合、気体
を巻き込みやすい薬液であっても、精確な液量の供給が
できる添加剤供給装置の提供を目的としている。
っき液に加える添加剤を薬液として供給する場合、気体
を巻き込みやすい薬液であっても、精確な液量の供給が
できる添加剤供給装置の提供を目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、めっき液に加える添加剤を含有した薬液を貯留する
薬液タンクと、めっき液に該薬液を供給する定量ポンプ
とを備える添加剤供給装置において、薬液タンクと定量
ポンプの間にバッファタンクを設け、当該バッファタン
ク内に薬液を滞留させ薬液中に巻き込まれた気体を除去
した後に、定量ポンプで薬液をめっき液に供給するもの
とした。
に、めっき液に加える添加剤を含有した薬液を貯留する
薬液タンクと、めっき液に該薬液を供給する定量ポンプ
とを備える添加剤供給装置において、薬液タンクと定量
ポンプの間にバッファタンクを設け、当該バッファタン
ク内に薬液を滞留させ薬液中に巻き込まれた気体を除去
した後に、定量ポンプで薬液をめっき液に供給するもの
とした。
【０００８】本発明の添加剤供給装置によると、薬液が
バッファタンク内に滞留させられるため、この滞留中に
薬液に巻き込まれた気体が除かれることになる。従っ
て、薬液が気体を巻き込みやすいものであっても、精確
な液量をめっき液に供給できることとなる。
バッファタンク内に滞留させられるため、この滞留中に
薬液に巻き込まれた気体が除かれることになる。従っ
て、薬液が気体を巻き込みやすいものであっても、精確
な液量をめっき液に供給できることとなる。
【０００９】そして、本発明の添加剤供給装置では、バ
ッファタンクに排気手段を設け、バッファタンク内を負
圧にするように強制脱気することが好ましい。このよう
にすると、薬液中に溶存する酸素等の気泡になり易い気
体を、薬液から強制的に除去できるので、薬液に気体が
巻き込まれる現象を効果的に防止することができるから
である。このような排気手段を設けるほか、薬液の種
類、濃度等を考慮して、通常攪拌、超音波攪拌などを行
って、薬液に巻き込まれる気体の強制除去を行っても効
果的なものである。
ッファタンクに排気手段を設け、バッファタンク内を負
圧にするように強制脱気することが好ましい。このよう
にすると、薬液中に溶存する酸素等の気泡になり易い気
体を、薬液から強制的に除去できるので、薬液に気体が
巻き込まれる現象を効果的に防止することができるから
である。このような排気手段を設けるほか、薬液の種
類、濃度等を考慮して、通常攪拌、超音波攪拌などを行
って、薬液に巻き込まれる気体の強制除去を行っても効
果的なものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る添加剤供給装
置の好ましい一実施形態について説明する。図１は本実
施形態による添加剤供給装置の概略図を示したものであ
る。本実施形態による添加剤供給装置１は、添加剤を含
有した薬液２を貯留するための薬液タンク３、送液ポン
プ４、バッファタンク５、プランジャポンプ６とからな
っている。バッファタンク５には、強制脱気用の排気機
構７、脱気用バルブ８、ドレイン９、薬液戻し用配管１
０が設けられている。
置の好ましい一実施形態について説明する。図１は本実
施形態による添加剤供給装置の概略図を示したものであ
る。本実施形態による添加剤供給装置１は、添加剤を含
有した薬液２を貯留するための薬液タンク３、送液ポン
プ４、バッファタンク５、プランジャポンプ６とからな
っている。バッファタンク５には、強制脱気用の排気機
構７、脱気用バルブ８、ドレイン９、薬液戻し用配管１
０が設けられている。
【００１１】薬液タンク３内に貯留してある薬液２は、
送液ポンプ４によりバッファタンク５に送液される。バ
ッファタンク５では排気機構によって内部を負圧にする
ことで、バッファタンク５内の薬液２に巻き込まれてい
る気体１１が強制的に除去される。この場合、バッファ
タンク５内部をある程度負圧状態にした後、脱気用バル
ブ８を急激に開放して薬液中の気体を強制的に気泡化さ
せて除去することもできる。
送液ポンプ４によりバッファタンク５に送液される。バ
ッファタンク５では排気機構によって内部を負圧にする
ことで、バッファタンク５内の薬液２に巻き込まれてい
る気体１１が強制的に除去される。この場合、バッファ
タンク５内部をある程度負圧状態にした後、脱気用バル
ブ８を急激に開放して薬液中の気体を強制的に気泡化さ
せて除去することもできる。
【００１２】バッファタンク５内の薬液２に巻き込まれ
た気体１１を除去した後、プランジャポンプ６を作動さ
せることによって、めっき液１２が貯留されているめっ
き液貯槽１３に、所定量の薬液２が供給される。このめ
っき液貯槽１３への供給は、バッファタンク５での気体
の除去処理と同時並行的に行い、連続的に行うこともで
きる。
た気体１１を除去した後、プランジャポンプ６を作動さ
せることによって、めっき液１２が貯留されているめっ
き液貯槽１３に、所定量の薬液２が供給される。このめ
っき液貯槽１３への供給は、バッファタンク５での気体
の除去処理と同時並行的に行い、連続的に行うこともで
きる。
【００１３】
【発明の効果】本発明の添加剤供給装置によると、添加
剤を薬液としてめっき液に供給する場合に、気体を巻き
込みやすい薬液であっても、精確な液量の供給が可能と
なる。
剤を薬液としてめっき液に供給する場合に、気体を巻き
込みやすい薬液であっても、精確な液量の供給が可能と
なる。
【図１】本実施形態における添加剤供給装置のフローチ
ャート概略図。
ャート概略図。
１ 添加剤供給装置 ２ 薬液 ３ 薬液タンク ４ 送液ポンプ ５ バッファタンク ６ プランジャポンプ ７ 排気機構 ８ 脱気用バルブ ９ ドレイン １０ 薬液戻し用配管 １１ 気体（気泡） １２ めっき液 １３ めっき液貯槽
Claims (2)
- 【請求項１】 めっき液に加える添加剤を含有した薬液
を貯留する薬液タンクと、めっき液に該薬液を供給する
定量ポンプとを備える添加剤供給装置において、 薬液タンクと定量ポンプの間にバッファタンクを設け、
当該バッファタンク内に薬液を滞留させ薬液中に巻き込
まれた気体を除去した後に、定量ポンプで薬液をめっき
液に供給することを特徴とする添加剤供給装置。 - 【請求項２】 バッファタンクは、強制排気手段を備
え、バッファタンク内を脱気するものである請求項１に
記載の添加剤供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11205073A JP2001032081A (ja) | 1999-07-19 | 1999-07-19 | 添加剤供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11205073A JP2001032081A (ja) | 1999-07-19 | 1999-07-19 | 添加剤供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001032081A true JP2001032081A (ja) | 2001-02-06 |
Family
ID=16500984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11205073A Pending JP2001032081A (ja) | 1999-07-19 | 1999-07-19 | 添加剤供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001032081A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005048209A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Hitachi Ltd | 無電解メッキ方法、無電解メッキ装置、半導体装置の製造方法及びその製造装置 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6078871U (ja) * | 1983-11-02 | 1985-06-01 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 表面処理装置 |
| JPS61198723A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-03 | Toshiba Corp | レジスト塗布装置 |
| JPS6237923U (ja) * | 1985-08-26 | 1987-03-06 | ||
| JPH031341A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-08 | Nec Corp | 現像装置 |
| JPH04197434A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-17 | Tokyo Electron Ltd | 液処理方法 |
| JPH07106294A (ja) * | 1993-10-08 | 1995-04-21 | Hitachi Ltd | 液体循環処理装置 |
| JPH08337296A (ja) * | 1995-06-09 | 1996-12-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 薬液供給装置 |
| JPH0994447A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Dainippon Ink & Chem Inc | 薬液供給装置及び薬液の脱気方法 |
| JP2000114153A (ja) * | 1998-10-08 | 2000-04-21 | Tokyo Electron Ltd | 薬液供給システムおよび基板処理システム |
-
1999
- 1999-07-19 JP JP11205073A patent/JP2001032081A/ja active Pending
Patent Citations (9)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005048209A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Hitachi Ltd | 無電解メッキ方法、無電解メッキ装置、半導体装置の製造方法及びその製造装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060427 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20060427 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060914 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080418 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080806 |