JPS6237923U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6237923U JPS6237923U JP12892685U JP12892685U JPS6237923U JP S6237923 U JPS6237923 U JP S6237923U JP 12892685 U JP12892685 U JP 12892685U JP 12892685 U JP12892685 U JP 12892685U JP S6237923 U JPS6237923 U JP S6237923U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- supply device
- control valve
- removing gas
- tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 27
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
第１図は本考案の１実施例装置の構成を示すブ
ロツク図、第２図は本考案の適用対象の従来装置
を示す図、第３図は溶存ガス除去の従来手段の１
例を示す図である。 １…元タンク、２…送気管、３…送液管、４…
レジユーサ、５…電磁バルブ、６…ノズル、７…
スピンプロセツサ、８…被処理ウエハ、９…電磁
バルブ、１１…元タンク、１２…電磁バルブ、１
３…ノズル、１４…大径部、２１…気密性元タン
ク、２２…送気管、２３…送液管、２４…レジユ
ーサ、２５…管、２６…トラツプタンク、２７…
送液管、２８…電磁バルブ、２９…ノズル、３０
…スピンプロセツサ、３１…被処理ウエハ、３２
…フロートスイツチ、３２ａ…浮子、３２ｂ…ロ
ツド、３３ｃ…スイツチ、３３…排気管、３４…
電磁バルブ、３５…タイマー、３６…ニードルバ
ルブ、３７…分岐枝管。
ロツク図、第２図は本考案の適用対象の従来装置
を示す図、第３図は溶存ガス除去の従来手段の１
例を示す図である。 １…元タンク、２…送気管、３…送液管、４…
レジユーサ、５…電磁バルブ、６…ノズル、７…
スピンプロセツサ、８…被処理ウエハ、９…電磁
バルブ、１１…元タンク、１２…電磁バルブ、１
３…ノズル、１４…大径部、２１…気密性元タン
ク、２２…送気管、２３…送液管、２４…レジユ
ーサ、２５…管、２６…トラツプタンク、２７…
送液管、２８…電磁バルブ、２９…ノズル、３０
…スピンプロセツサ、３１…被処理ウエハ、３２
…フロートスイツチ、３２ａ…浮子、３２ｂ…ロ
ツド、３３ｃ…スイツチ、３３…排気管、３４…
電磁バルブ、３５…タイマー、３６…ニードルバ
ルブ、３７…分岐枝管。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 液を貯蔵した気密性元タンクに加圧気体を
送入して液を送り出し、液の供給を制御する制御
用バルブを介してノズルから被処理部へ供給する
液供給装置において、気密性元タンクと閉止用バ
ルブとの間に配置され、液を一旦滞留させる気密
性のトラツプタンクと、前記トラツプタンク内の
液面の低下を検出して信号を発生する液面低下検
知手段と、前記トラツプタンクの上部に接続した
排気管と、前記排気管に付設した排気制御用バル
ブと、前記液面低下検知手段の検出信号により、
前記排気制御用バルブを所要時間開放するタイマ
ー手段とを備えてなる液供給装置における液中の
気体除去装置。 (2) 液面低下検知手段がフロートスイツチであ
る実用新案登録請求の範囲第(1)項に記載の液供
給装置における液中の気体除去装置。 (3) 気密性元タンクとトラツプタンクとの間に
、減圧用レギユレータを配置したことを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第(1)項に記載の液供
給装置における液中の気体除去装置。 (4) 排気管に排気制御用バルブと直列にニード
ルバルブを付設したことを特徴とする実用新案登
録請求の範囲第(1)項に記載の液供給装置におけ
る液中の気体除去装置。 (5) 排気制御用バルブが電磁バルブである実用
新案登録請求の範囲前各項のいずれかに記載の液
供給装置における液中の気体除去装置。 (6) トラツプタンクから液を送り出す送液管が
、複数個の枝管に分岐し、それぞれに液の供給を
制御する制御用バルブ及びノズルを備えることを
特徴とする実用新案登録請求の範囲前各項のいず
れかに記載の薬液供給装置における液中の気体除
去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985128926U JPH0231785Y2 (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985128926U JPH0231785Y2 (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6237923U true JPS6237923U (ja) | 1987-03-06 |
| JPH0231785Y2 JPH0231785Y2 (ja) | 1990-08-28 |
Family
ID=31025039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985128926U Expired JPH0231785Y2 (ja) | 1985-08-26 | 1985-08-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0231785Y2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01205423A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布装置 |
| JPH0277752A (ja) * | 1988-09-13 | 1990-03-16 | Tokyo Electron Ltd | 現像装置 |
| JPH0311617A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-18 | Tokyo Electron Ltd | 処理液の供給装置 |
| JPH0437751A (ja) * | 1990-06-01 | 1992-02-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 自動現像機のガス排出装置 |
| JPH0474414A (ja) * | 1990-07-17 | 1992-03-09 | Nec Corp | 薬液処理装置 |
| JP2001032081A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-06 | Electroplating Eng Of Japan Co | 添加剤供給装置 |
| JP2007305765A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理液供給システム、処理液供給方法、処理液供給プログラム及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| JP2008282907A (ja) * | 2007-05-09 | 2008-11-20 | Nec Electronics Corp | 液体材料供給装置およびこれを用いた液体材料供給方法 |
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| JP2013077640A (ja) * | 2011-09-29 | 2013-04-25 | Sokudo Co Ltd | 処理液供給装置、基板処理装置、気泡の除去方法および基板処理方法 |
| JP2016128156A (ja) * | 2015-01-09 | 2016-07-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液濾過装置、薬液供給装置及び処理液濾過方法並びに記憶媒体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5977225U (ja) * | 1982-11-15 | 1984-05-25 | ソニー株式会社 | 半導体素子製造装置 |
| JPS60117727A (ja) * | 1983-11-30 | 1985-06-25 | Canon Hanbai Kk | フオトレジスト供給装置 |
-
1985
- 1985-08-26 JP JP1985128926U patent/JPH0231785Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2016128156A (ja) * | 2015-01-09 | 2016-07-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液濾過装置、薬液供給装置及び処理液濾過方法並びに記憶媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0231785Y2 (ja) | 1990-08-28 |