JPS60117727A - フオトレジスト供給装置 - Google Patents
フオトレジスト供給装置Info
- Publication number
- JPS60117727A JPS60117727A JP22623583A JP22623583A JPS60117727A JP S60117727 A JPS60117727 A JP S60117727A JP 22623583 A JP22623583 A JP 22623583A JP 22623583 A JP22623583 A JP 22623583A JP S60117727 A JPS60117727 A JP S60117727A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bottle
- photo
- resist
- photoresist
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は液体供給装置に関し、特にコーターのフォトレ
ジスト供給ラインに都合良く使用されるフォトレジスト
供給装置に関する。
ジスト供給ラインに都合良く使用されるフォトレジスト
供給装置に関する。
ＩＣ，ＬＳＩ等の半導体素子を製造するために、ウェハ
を洗浄するためのスクラノクー、洗浄されたウェハにフ
ォトレジストを塗布するためのコーター、フォトレジス
トを塗布されたウエノ・Ｋ回路ノ（ターンを転写Ｊ〜る
ためのアライナ−１回路パターンを転写されたウェハを
現像するためのデベロッパー等の種々の半導体製造装置
が使用されている０このうちコーターにおいては、キャ
リッジ（ウェハ搬送装置）によって運ばれてくるウエノ
・をチャックによって吸着保持し、しかる後ノズルから
ウェハ面上へフォトレジストを滴下させてチャックを回
転させることによって、ウエノ飄面上にフォトレジスト
を均一な厚さに塗布している。
を洗浄するためのスクラノクー、洗浄されたウェハにフ
ォトレジストを塗布するためのコーター、フォトレジス
トを塗布されたウエノ・Ｋ回路ノ（ターンを転写Ｊ〜る
ためのアライナ−１回路パターンを転写されたウェハを
現像するためのデベロッパー等の種々の半導体製造装置
が使用されている０このうちコーターにおいては、キャ
リッジ（ウェハ搬送装置）によって運ばれてくるウエノ
・をチャックによって吸着保持し、しかる後ノズルから
ウェハ面上へフォトレジストを滴下させてチャックを回
転させることによって、ウエノ飄面上にフォトレジスト
を均一な厚さに塗布している。
ところでフォトレジストは添付の図面に示されでいるよ
う表供給ラインを通ってフォトレジストびんからノズル
まで流れるようになっている。
う表供給ラインを通ってフォトレジストびんからノズル
まで流れるようになっている。
従来ウェハへのフォトレジスＦ塗布作業が長時間に亘り
、フォトレジストびん内のフォトレジストが力くなって
しまった場合には、新たにフォトレジストの一杯つまっ
たびんに取り替えなければガらなかった。このとき供給
ラインにおいてフォトレジストびんの次に配置されたフ
ィルターびん内圧は空気がたまってしまうため、作業員
が７オトレジストびんの位置や傾きを変えるなどしてフ
オトレジストをフィルターびん内へ流し込み、フィルタ
ーびん中にたまった空気を追い出す操作が必要となり、
フォトレジストびんの取り替え後コーターの始動まで約
６０分位時間がかかつていた０それ数本発明の目的は、
フォトレジストびんの交換時にフィルターびん中の空気
をす早く排出させることにより、ウェハへのフォトレジ
スト塗布作条の中断時間を極めて短くすることができる
フォトレジスト供給装置を提供することにある０次に添
付の図面を参照して本発明の好ましい実施例について説
明する。添付の図面はコーターのフォトレジスト供給ラ
インを概略的に示したものである。交換可能なフォトレ
ジストびん１内のフォトレジスト２はバイブロを通って
上部に設けられた流入口５からフィルターびん４内へ流
入する。
、フォトレジストびん内のフォトレジストが力くなって
しまった場合には、新たにフォトレジストの一杯つまっ
たびんに取り替えなければガらなかった。このとき供給
ラインにおいてフォトレジストびんの次に配置されたフ
ィルターびん内圧は空気がたまってしまうため、作業員
が７オトレジストびんの位置や傾きを変えるなどしてフ
オトレジストをフィルターびん内へ流し込み、フィルタ
ーびん中にたまった空気を追い出す操作が必要となり、
フォトレジストびんの取り替え後コーターの始動まで約
６０分位時間がかかつていた０それ数本発明の目的は、
フォトレジストびんの交換時にフィルターびん中の空気
をす早く排出させることにより、ウェハへのフォトレジ
スト塗布作条の中断時間を極めて短くすることができる
フォトレジスト供給装置を提供することにある０次に添
付の図面を参照して本発明の好ましい実施例について説
明する。添付の図面はコーターのフォトレジスト供給ラ
インを概略的に示したものである。交換可能なフォトレ
ジストびん１内のフォトレジスト２はバイブロを通って
上部に設けられた流入口５からフィルターびん４内へ流
入する。
本発明においてはフォトレジストびん１を交換した後フ
ィルターびん４内へのフォトレジスト２の吸い込みは、
刊気装置６を作動させてびん４の上部から排気パイプ７
を通して空気を抜くことＶＣよって自動的におこなわれ
る。排気装置６の作動は駆動装置８によっておこなわれ
、同じく駆動装置８は制御装置９ Ｖｃよって作動を制
御される。制御装置￥／９は、びん４中のフォトレジス
ト液面の高さを測定する液面ｉ＋ １０からの信号を受
け、液面が所定の高さＶｒ、達したら駆動装置８の作動
を停止さｔＬ′る。
ィルターびん４内へのフォトレジスト２の吸い込みは、
刊気装置６を作動させてびん４の上部から排気パイプ７
を通して空気を抜くことＶＣよって自動的におこなわれ
る。排気装置６の作動は駆動装置８によっておこなわれ
、同じく駆動装置８は制御装置９ Ｖｃよって作動を制
御される。制御装置￥／９は、びん４中のフォトレジス
ト液面の高さを測定する液面ｉ＋ １０からの信号を受
け、液面が所定の高さＶｒ、達したら駆動装置８の作動
を停止さｔＬ′る。
一方つエバへのフォトレジスト塗布作業が長時間に亘り
びん１内のフォトレジストが使用された結果、液面計１
０によって測定されるびん４内のフォトレジスト液面の
高さが一定の値以下になると、制御装置９は液面計１０
からこの信号を受けブザー１１を鳴らして作業員にフォ
トレジストびん１の交換の必要性を知らせる。
びん１内のフォトレジストが使用された結果、液面計１
０によって測定されるびん４内のフォトレジスト液面の
高さが一定の値以下になると、制御装置９は液面計１０
からこの信号を受けブザー１１を鳴らして作業員にフォ
トレジストびん１の交換の必要性を知らせる。
フィルターびん４内にいったん溜められたフォトレジス
トは、ポンプ１２を作動させることによってびん４の底
部に設けられた流出口１６に接続されたバイブ１４を通
ってポンプ１２内へ吸いとられる。ポンプ１２は、上部
および底部にそれぞれフォトレジスト流出口１５および
流入口１６を設けられた容器１８を有して〜・る。パイ
プ１４け流入口１６に接続されるに先立って逆ＭＥ防止
弁１７を取りつけられている。更に容器１８の底１Ｂに
Ｖよ、ピストン１９を作動させることによってイ１１縮
ｉＪ１ヒな蛇腹形状の内筒２０が密閉式に取りイー１°
られている０ピストン１９の作動は駆動装置８と同様１
１１４律１装置９によって制御される０ ポンプ１２の内筒はピストン１９の作動に従って伸縮で
き、更にフォトレジスト流入＋：＋ １６カ（容器１Ｂ
の底部、流出口１５が上部と異なるイ３γ１置に設けら
れているため、ポンプ１２内でのフォトレジストの流動
は活発となりフォトレジストの一溜は防止されるＯピス
トン１９の押し運動によって流出口１５から流出したフ
ォトレジストは、ＭＥ ｌ：ｔ１口１５に接続された）
笥ブ２１を通りノズル２２に到達する。フォトレジスト
は、ノくイブ２１の途中に設置されたサクストノ＜ルプ
２６をｆ〔動させることによって、チャック２４上に保
持されたウェハ２５ヘノズ／Ｉ／２２から滴下される。
トは、ポンプ１２を作動させることによってびん４の底
部に設けられた流出口１６に接続されたバイブ１４を通
ってポンプ１２内へ吸いとられる。ポンプ１２は、上部
および底部にそれぞれフォトレジスト流出口１５および
流入口１６を設けられた容器１８を有して〜・る。パイ
プ１４け流入口１６に接続されるに先立って逆ＭＥ防止
弁１７を取りつけられている。更に容器１８の底１Ｂに
Ｖよ、ピストン１９を作動させることによってイ１１縮
ｉＪ１ヒな蛇腹形状の内筒２０が密閉式に取りイー１°
られている０ピストン１９の作動は駆動装置８と同様１
１１４律１装置９によって制御される０ ポンプ１２の内筒はピストン１９の作動に従って伸縮で
き、更にフォトレジスト流入＋：＋ １６カ（容器１Ｂ
の底部、流出口１５が上部と異なるイ３γ１置に設けら
れているため、ポンプ１２内でのフォトレジストの流動
は活発となりフォトレジストの一溜は防止されるＯピス
トン１９の押し運動によって流出口１５から流出したフ
ォトレジストは、ＭＥ ｌ：ｔ１口１５に接続された）
笥ブ２１を通りノズル２２に到達する。フォトレジスト
は、ノくイブ２１の途中に設置されたサクストノ＜ルプ
２６をｆ〔動させることによって、チャック２４上に保
持されたウェハ２５ヘノズ／Ｉ／２２から滴下される。
プ°クストノくルブ２６の作動も同じく制御装置９によ
ってｆｌｉｌｌ 御される。
ってｆｌｉｌｌ 御される。
添伺の図面はコーターのフォトレジスト供給う・ｒンを
（既略的に示した図である。 ４・・・フィルターびん ５・・・流入口６・・・排気
装＠ ９・・・制御装置 １０・・・液面側 １６・・・流出口 出に「」人 キャノン販売株式会社 キャノン株式会社
（既略的に示した図である。 ４・・・フィルターびん ５・・・流入口６・・・排気
装＠ ９・・・制御装置 １０・・・液面側 １６・・・流出口 出に「」人 キャノン販売株式会社 キャノン株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 液体流入口および液体流出口を設けられて〜・る容器と
、 前記容器内の空気を排気す乞ための排気装置と、前記容
器内に収容された液体の液面の高さを測定するための測
定装置と、 前記測定装置によって測定された液面の高さに従って排
気装置の作動を制御するための制御装置とから成ること
を特徴とする液体供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22623583A JPS60117727A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | フオトレジスト供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22623583A JPS60117727A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | フオトレジスト供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60117727A true JPS60117727A (ja) | 1985-06-25 |
Family
ID=16842008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22623583A Pending JPS60117727A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | フオトレジスト供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60117727A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6237923U (ja) * | 1985-08-26 | 1987-03-06 | ||
| JPH01205423A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布装置 |
| JPH01220827A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-04 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP22623583A patent/JPS60117727A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6237923U (ja) * | 1985-08-26 | 1987-03-06 | ||
| JPH0231785Y2 (ja) * | 1985-08-26 | 1990-08-28 | ||
| JPH01205423A (ja) * | 1988-02-10 | 1989-08-17 | Tokyo Electron Ltd | レジスト塗布装置 |
| JPH0750673B2 (ja) * | 1988-02-10 | 1995-05-31 | 東京エレクトロン株式会社 | レジスト塗布装置 |
| JPH01220827A (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-04 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置 |
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