JPS62266832A - 半導体用現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、半導体製造工程中のホｌ−ＩＪノグロセス
などにおいて使用される半導体用現像装置に関する。

（従来の技術） 従来、この種の装ｆｆｉ第２図に示すように構成されて
おり、■は外囲器としてのカップ、２はその中心部に位
置するスピンチャック、３はスピンチャック２を回転さ
せるモータ、４はスピンチャック２を昇降させるシリン
ダ、５は視像液吐出ノズル、６は純水吐出ノズル、７は
裏面洗浄用カップでおる。

このように構成された装置においては、まず。

第２図囚に示すようにスピンチャック２がシリンダ４に
よりカップｌの上方に上昇した状態で該スピンチャック
２にウェハ８が置かれる。すると。

ウェハ８はスピンチャック２に真空チャックされる。次
に、シリンダ４により、ウェハ８とスピンチャック２が
第２図（Ｂ）に示すようにカップｌ内の所定の位置まで
下がり、モータ３により回転全始める。回転が始まりウ
ェハ８が所定の回転数になると、ノズル５よプ現像液が
吐出されウェハ８の現像が開始される。そして、この現
像を所定時間行って現像が終了すると、ノズル５よりの
現像液の吐出は止まり、次にノズル６よシ純水が吐出さ
れて現像が所定以上進行しないようにされ且つウェハ８
が洗浄される。また同時に、裏面洗浄用カッグアからも
純水が吐出されウェハ８の裏面側の洗浄が行われる。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、このような従来の装置では、所定の現偉
時間中常にノズル５よシ現偉液が吐出されているため、
高価な現像液の使用量が多いという問題点があった。

この発明は上記の点に鑑みなされたもので、その目的は
、現像液の使用量を削減することができる半導体用現像
装置を提供することにある。

（問題点を解決する之めの手段） この発明は、半導体用現像装置において、外囲器として
のカップ内に、該カップ内に下降した被現像板を収容す
るよりに現像液カップを設け、この現像液カップに現像
液チューブを接続し、さらに、このチューブを通して現
像液カップに吐出される現像液が同カップ内の前記被現
像板の全体に盛られる程度吐出された時に該現像液の吐
出を停止させる制御手段を設は次ことにある。

（作用） このような構成においては、外囲器としてのカップ内に
下降し之被現像板は、現像液カップ内に収容される。す
ると、現像液チューブを通して現像液カップ内に現像液
が吐出されるが、該現像液は、同カップ内の前記被現像
板の全体に盛られる程度吐出されたならば、吐出が停止
される。そして、その吐出停止の状態で、現像液カップ
内で現像液が被現像板の全体に盛られ次状態を所定時間
保つことにより、被現像板に対する現像が行われる。

（実施例） 以下この発明の一実施例を図面を参照して説明する。第
１図はこの発明の一実施例を示し、（４）。

■）は異なる状態における側断面図、Ｃ）は平面図、０
は現像液カップ部の拡大断面図である。

これらの図において、１１は外囲器としてのカップで、
その中心部にはウェハ１２を真空チャックするスピンチ
ャック１３が設けられる。このスピンチャック１３は、
カップ１１下方に設けたモータ■４の回転軸１４ａに保
持されることにより。

このモータ１４で回転駆動できるようになっている。ま
た、このモータ１４がシリンダ１５のロッド１５ａに保
持されることにより、このシリンダ１５でモータ１４と
一体にスピンチャック１３が昇降されるようになってい
る。

前記カップ１１の底部には、裏面洗浄用カップ１６と現
像液カップ１７が設けられる。現像液カップ１７は、％
に第１図０に詳細に示すように、スピンチャック１３に
保持され次ウェハ１２を収容できる大きさを有し、かつ
底面は１周辺部１７ａを除いて大きく開口されている。

また、現像液カップ１７は、カップ１１の底面を貫通し
てカップ１１内に突入したシリンダ１８のロッド１８ａ
に保持されることにより、このシリンダ１８で所定範囲
上下動できるようになっており、上昇した時。

スピンチャック１３と一体にウェハ１２がカップ１１内
に下降していると、底面の残存周辺部１７ａがウェハＬ
２の裏面に当接し、該ウェハ１２を底部に収容する。ま
之、　ｆＡ像液液カップ１フ、上記のようにしてウェハ
１２を収容することにより底面が密閉された容器となシ
、現像液を内部に溜めることができる。なお、現像液カ
ップ１７のウェハ１２に接する部分は、該ウェハ１２に
傷をつけなく、かつ耐現像液性があり、かつ現像液が漏
れないように例えばシリコンゴムでできている。ま之、
現像液カップ１７ｉ上下動する之めのシリンダ１８は、
現像液カップ１７を上昇させた時に該カップ１７とウェ
ハ１２の間にすき間ができなければ本数は問わない。

上記のような現像液カップ１７には現像液チューブ１９
（この実施例では１本であるが、必要によジ数を増すこ
とができる）が接続されており、この現像液チューブ１
９ｔ−通して現像液カップ１７内には現像液が吐出され
る。その現像液の吐出は、図示しない制御回路により制
御されるようになっている。

前記裏面洗浄用カップ１６は、上記現像液カップ１７の
底面開口部に嵌合されるような位置関係でカップ１１の
底部に固定されている。この裏面洗浄用カップ１６には
、該カップ１６に純水を供給するためのチューブ２０が
接続されている。また、外囲器としてのカップｌｌの側
壁上部には純水吐出ノズル２１が取付けられている。

このように構成された装置の動作を説明する。

この装置においては、ます、スピンチャック１３がシリ
ンダ１５によりカップ１１の上方に上昇し、その状態で
ウェハ１２がスピンチャック１３に置かれ、スピンチャ
ック１３に真空チャックされる。

次に、シリンダ１５により、ウェハ１２とスピンチャッ
ク１３が第１図（４）に示すようにカップ１１内の所定
の位置まで下がる。この時、現像液カップ１７は同図に
示すように下かつ次状態にらる。

次に、現像液力ラグ１７がシリンダ１８により第１図（
Ｂ）に示すように所定の位置まで上昇する。

すると、現像液カップ１７の底面残存周辺部１７ａが第
１図（至）に示すようにウェハＬ２の裏面に当接する状
態と々す、該ウェハ１２を現像液カップ１７の底部に収
容することとなる。また、現像液カップ１７は底面が密
閉された容器となる。

しかる後、図示しない制御回路が動作し、現像液ポンダ
が駆動されることにより、現像液チューブ１９全通して
現像液カップ１７に現像液が吐出される。しかるに、こ
の現像液の吐出は、該現像数が現像液カップ１７内のウ
ェハ１２の全体に盛られる程度吐出しｔならば、前記制
御回路の制御の下に停止される。そして、この現像液の
吐出を停止した状態、かつ現像液カップ１７内において
は現像液がウェハ１２の全体に盛られ次状態を所定時間
保つことにより、ウェハ１２に対する現像が行われる。

このよりにして現像が行われ九後は、現１象液カツプ１
７がシリンダ１８により下降する。次いで、モータ１４
が動作し、スピンチャック１３およびウェハ■２が回転
する。さらに、純水吐出ノズル２１と裏面洗浄用カップ
１６から純水が吐出され、ウェハ１２の洗浄が行われる
。

なお、以上のような一実施例において、現像液カップ１
７内のウェハ１２の全体に現像液が盛られる程度現像液
が吐出された時に該現像液の吐出を停止させる具体的方
法としては、例えば現像液を盛るに快する時間を制御回
路に記憶しておいて、その時間吐出が行われ九時に現像
液ポンダ全停止させればよい。

また、上記一実施例では、ウェハ１２をカップ１１内に
下降させ九後現像液カッグ１７を上昇させることにより
ウェハＬ２″ｆｒ：現像液カップ１７の底部に収容し友
が、ウェハ１２の下降のみで現像液カッｆＬ７の底部に
収容することもできる。

また、上記一実施例はウェハ１２の現像について説明し
たが、半導体製造用のマスクの現像も同様にして行うこ
とができる。

（発明の効果） 以上詳述し九ように、この発明の装置では、現像液が被
現像板の全体に盛られると現像液の供給を停止し、現像
終了まで静止状態を保つことで現像を行うようにしたの
で、現像液の使用ｉｔを最小限におさえることができる
。ま念、ノズルから吐出させながらの現像に比較して現
像液の発泡をおさえることができるから、良好な安定し
た現像を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の半導体用現像装置の一実施例を示し
、囚、ａ３）は互いに異なる状態での側断面図、Ｃ）は
平面図、■）は現像液カップ部の拡大断面図、第２図は
従来の半導体用現像装置を示し、　（Ａ）。 （Ｂ）は互いに異なる状態での側断面図である。 １１・・・カップ、１２・・・ウェハ、１３・・・スピ
ンチャック、１４・・・モータ、１５・・・シリンダ、
１６・・・裏面洗浄用カップ、１７・・・現像液カップ
、１８・・・シリンダ、１９・・・現像液チューブ、２
１・・・純水吐出ノズル。 第１ ＋３　　　１２　　　１７ （Ｌ）Ｊ 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 昇降自在なスピンチャックに被現像板を保持した後、該
   被現像板とスピンチャックが外囲器としてのカップ内に
   下降し、その状態で被現像板に対する現像液による現像
   および純水による洗浄を行うようにした半導体用現像装
   置において、 （ａ）前記外囲器としてのカップ内に、該カップ円に下
   降した被現像板を収容するよりに設けられた現像液カッ
   プと、 （ｂ）この現像液カップに接続された現像液チユーブと
   、 （ｃ）この現像液チユーブを通して前記現像液カツプに
   現像液を吐出させ、かつ、同カップ内の前記被現像板の
   全体に盛られる程度現像液が吐出された時に該現像液の
   吐出を停止させる制御手段とを備えることを特徴とする
   半導体用現像装置。