JPH0534926A

JPH0534926A - 露光装置

Info

Publication number: JPH0534926A
Application number: JP3189846A
Authority: JP
Inventors: Eiichi Miyake; 栄一三宅
Original assignee: San Ei Giken Inc
Current assignee: San Ei Giken Inc
Priority date: 1991-07-30
Filing date: 1991-07-30
Publication date: 1993-02-12

Abstract

(57)【要約】【目的】フォトマスクに設けられたパターンを介し
て、紫外線を、感光性材が表面にコーティングされた基
板に照射する、露光装置において、ランプから照射され
る紫外線の強度を均一にするとともに、特に照射方向を
照射面全面にわたり均一にする。【構成】紫外線を与えるランプ２とフォトマスク３と
の間に、紫外線を拡散させる拡散板８を設ける。紫外線
が拡散板８を通過するとき、あらゆる方向に放射され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、プリント回路基板の
製作において、所望の導電パターンを形成する際に光露
光技術が用いられるが、このような光露光工程で用いら
れる露光装置に関するもので、特に、露光のための光を
与える光学系の改良に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】プリント回路基板上の回路すなわち配線
は、近年、ますます細密化する傾向にあり、したがっ
て、原版となるフォトマスクとプリント回路基板となる
べき基板とを位置合わせしてフォトマスク側より露光用
の光を照射して行なう露光工程においても、より高度な
技術が要求されるようになってきた。

【０００３】特に、露光のための光源は、その光の強度
が、必要な照射面の全面にわたり均一であることはもち
ろん、光の照射方向も照射面全面にわたり均一でなけれ
ばならない。

【０００４】現在、光源として、一般的に、円筒状のラ
ンプが使用され、このランプのまわりには、光を乱反射
させるために表面に凹凸のある反射板が備えられてい
る。この乱反射板によって、照射面に対して比較的均一
な光強度を与えようとするものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光の照
射方向に関しては、必ずしも均一にはならず、多くの場
合、不均一なものとなっている。

【０００６】すなわち、ランプのまわりに乱反射板が配
置されても、ランプから直接照射される光の強度は高
く、そのため、照射面の中央においては照射面に垂直方
向の光が強く、照射面の外周に近づくにつれて、光は照
射面に対する傾きを増していく傾向にある。このこと
は、フォトマスクのパターンを基板の全面にわたり忠実
に再生できないことを意味している。光がフォトマスク
に垂直に照射された部分と、斜め方向から照射された部
分とでは、パターンによって与えられる像の寸法が同一
ではなくなるためである。そのため、高精度の導電パタ
ーンの形成が必要なプリント回路基板製作のための露光
工程には、不適当である。

【０００７】さらに、プリント回路基板に設けられる導
通穴内のめっき層を保護するレジストを露光する場合に
は、不均一な方向に照射される光によって完全な露光を
行なうことは不可能である。

【０００８】それゆえに、この発明の目的は、上述した
問題を解決するため、光源から照射される光の強度をさ
らに均一にするとともに、特に照射方向を照射面全面に
わたり均一にした、露光装置を提供しようとすることで
ある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この発明は、フォトマス
クに設けられたパターンを介して、紫外線を、感光性材
が表面にコーティングされた基板に照射する、露光装置
に向けられるものであって、上述した技術的課題を解決
するため、前記紫外線を与える光源と前記フォトマスク
との間に、紫外線を拡散させる拡散板を設けたことを特
徴としている。

【００１０】

【作用】この発明において、光源から与えられた紫外線
は、拡散板を通ることにより、あらゆる方向に放射され
た後、照射面としてのフォトマスクおよび基板に達す
る。

【００１１】

【発明の効果】したがって、この発明によれば、照射面
の全面にわたり均一な光強度を得ることができるととも
に、照射方向も均一にすることができる。そのため、フ
ォトマスクのパターンを、基板上に忠実に再生すること
ができる。また、基板に設けられた穴内の露光にも有効
である。

【００１２】拡散板とフォトマスクとの間であって、拡
散板の全周を取囲むように、反射板が設けられる場合に
は、拡散板の外周近くから放射された光が、この反射板
によって反射し、照射面に達する。このことは、照射面
に与えられる光の強度および方向の均一化を、拡散板の
全面にわたってより完全なものとする。したがって、こ
のような反射板は、基板が拡散板に匹敵する大きさを有
している場合に有効である。

【００１３】拡散板として、その一方面に細かな凹凸が
形成された、紫外線の透過しやすいガラス板を用いるこ
とができる。このようなガラス板は、入手が容易であ
る。また、片面に細かい凹凸加工が砥粒による研磨また
は化学エッチング等によって均一になされているガラス
板を用いると、特に、紫外線に対して好ましい拡散状態
を与えることができる。

【００１４】また、拡散板および光源を含むアセンブリ
を、フォトマスクに対して、近接・離隔可能にされる
と、離隔状態とすることにより、フォトマスクと基板と
の位置合わせに際して、それぞれに設けられたマークを
読取るため、カメラがフォトマスクに沿って移動するこ
とが妨げられない。

【００１５】

【実施例】図１は、この発明の一実施例による露光装置
１を示す一部断面正面図である。

【００１６】露光装置１は、紫外線を与える光源として
のランプ２を備え、このランプ２に対向して、互いに位
置合せされたフォトマスク３および基板４が配置され
る。フォトマスク３には、露光すべきパターンに応じた
パターンが設けられており、フォトマスクホルダ５によ
って保持される。基板４の、フォトマスク３に向かう面
には、感光性材がコーティングされている。基板４は、
たとえば真空吸引に基づき、基板ホルダ６によって保持
される。

【００１７】ランプ２のまわりには、乱反射板７が配置
される。これによって、ランプ２から出た紫外線すなわ
ち光に基づき、フォトマスク３方向に直接向かう成分と
乱反射板７で反射された後フォトマスク３方向に向かう
成分とが生み出される。このとき、乱反射板７は、ラン
プ２から出た光をできるだけフォトマスク３方向に集め
る役割と、フォトマスク３に向かう光の強度を均一にす
る役割とを果たす。

【００１８】しかし、ここまで述べた構成のみでは、前
述したように、ランプ２から照射される光が必ずしも全
方向に均一とならず、そのため、フォトマスク３および
基板４における照射面の全面にわたって乱反射光を均一
に受けることができない。すなわち、ランプ２から直接
照射する光の強度が強く、ランプ２から放射状に光が広
がり、そのため、照射面の中央部では、垂直方向に照射
される成分が強く、他方、周辺部では、斜めから照射さ
れる成分が強くなる。このように、光の照射方向が不均
一であると、フォトマスク３のパターンが、基板４上に
不均一に再生されるとともに、基板４に導通穴が設けら
れる場合には、導通穴内のレジスト露光を完全に行なう
ことは不可能となる。

【００１９】このような問題を解決するため、この実施
例では、拡散板８が設けられ、さらに好ましくは、反射
板９が設けられている。

【００２０】拡散板８は、ランプ２とフォトマスク３と
の間に配置され、紫外線の透過しやすいガラス板から構
成される。このガラス板からなる拡散板８は、図２に示
すように、その一方面が平滑で、他方面に研磨等によっ
て細かい凹凸１０が付されている。凹凸１０は、拡散板
８の一方面全面にわたって均一に付与され、その加工
は、砥粒による研磨または化学エッチング等によって行
なうことができる。拡散板８に達したランプ２からの紫
外線は、その平滑な面側から入射し、拡散板８内を通過
した後、凹凸１０によって、図２に矢印で示すように、
あらゆる方向に放射される。なお、好ましくは、拡散板
８の平滑な面側に、赤外線（熱線）を反射するためのコ
ーティング１７が付与される。フォトマスク３および基
板４に悪影響を及ぼす熱線をカットするためである。

【００２１】反射板９は、拡散板８とフォトマスク３と
の間であって、拡散板８の全周を取囲むように配置され
る。この反射板９は、拡散板８の外周近くから放射され
た光を反射し、フォトマスク３および基板４方向に向け
る。

【００２２】このように、この実施例によれば、拡散板
８および反射板９の存在により、照射面に均一な光を与
えることができ、それゆえに、フォトマスク３のパター
ンを忠実に基板４上に再現することができる。また、基
板４に穴が設けられる場合には、このような穴内の露光
も完全に行なうことができる。

【００２３】なお、反射板９は、必ずしも必要な要素で
はなく、たとえば基板４の大きさに対して拡散板８が十
分な大きさを有している場合には、不要である。

【００２４】図１には、フォトマスク３と基板４との位
置合わせに際して、それぞれに設けられたマークを読取
るためのカメラ１１が図示されている。このカメラ１１
は、複数箇所に設けられたマークを読取る際、矢印１２
で示すように、フォトマスク３の延びる方向に沿って移
動する。したがって、このようなカメラ１１の移動を妨
げないように、この実施例では、ランプ２、乱反射板
７、拡散板８および反射板９を含むアセンブリ１３が、
台車１４によって保持され、この台車１４が、レール１
５上を移動するように構成されている。この移動は、た
とえばエアシリンダ１６によって駆動され、カメラ１１
が移動するときには、アセンブリ１３がフォトマスク３
に対して離隔した状態とされる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例による露光装置１を示す一
部断面正面図である。

【図２】図１に示した拡散板８の一部を拡大して示す断
面図である。

【符号の説明】

１露光装置２ランプ３フォトマスク４基板８拡散板９反射板１０凹凸１３アセンブリ１４台車１５レール１７コーティング

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】フォトマスクに設けられたパターンを介
して、紫外線を、感光性材が表面にコーティングされた
基板に照射する、露光装置において、前記紫外線を与える光源と前記フォトマスクとの間に、
紫外線を拡散させる拡散板を設けたことを特徴とする、
露光装置。
【請求項２】前記拡散板と前記フォトマスクとの間で
あって、前記拡散板の全周を取囲むように、反射板を設
けたことを特徴とする、請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】前記拡散板の前記光源に向く面には、赤
外線を反射するコーティングがなされたことを特徴とす
る、請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】前記拡散板は、紫外線の透過しやすいガ
ラス板であり、その片面に細かい凹凸加工が均一になさ
れていることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれ
かに記載の露光装置。
【請求項５】前記拡散板および前記光源を含むアセン
ブリを、前記フォトマスクに対して、近接・離隔可能と
するための機構をさらに備える、請求項１ないし４のい
ずれかに記載の露光装置。