JPS6340157A - 露光機 - Google Patents

露光機

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Publication number
JPS6340157A
JPS6340157A JP18574886A JP18574886A JPS6340157A JP S6340157 A JPS6340157 A JP S6340157A JP 18574886 A JP18574886 A JP 18574886A JP 18574886 A JP18574886 A JP 18574886A JP S6340157 A JPS6340157 A JP S6340157A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hole
exposure
light
light beam
light source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18574886A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Hoshino
星野 昌弘
Isao Kobayashi
功 小林
Kiyoyuki Itou
伊藤 喜代之
Hitoshi Arai
等 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP18574886A priority Critical patent/JPS6340157A/ja
Publication of JPS6340157A publication Critical patent/JPS6340157A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はスルーホール等の貫通穴の表面に感光性レジ
スト膜を形成させたプリント配線板の一部または全部を
露光させる露光機に関するものである。
〔従来の技術〕
スルーホール等の貫通穴を有するプリント配線板に感光
性レジスト膜を形成し露光するには従来は例えば以下に
示す反射型両面露光機または走査型両面閃光機により露
光されていた。第3図はこの従来の反射型両面露光機の
一部を示す断面図であり、図において、(1)は感光性
ドライフィルムレジストをラミネートしたプリント配線
板、(2)はこのプリント配線板に所定の回路パターン
を露光すルタめのマスクフィルムでプリント配線板の上
下面に配置されている。(3)はプリント配線板(1)
およびマスクフィルム(2)を押えるガラス等の押え板
、(4)はこのプリント配線板(1)を露光するための
光源、(5)はこの光源の反射板で、プリント配線板(
1)に対して上下の位置に対向して設けられている。第
4図は走査型両面露光機の一部を示す断面図であり、図
において(1)〜(5)は第3図で示すものと同じであ
る。(6)は光源(4)からの散乱光を部分的にカット
するために反射板(5)の下部に設けられたスリットで
ある。
次に従来の露光機の動作について第2図、第3図を用い
て説明する。
まず第3図に示す反射型両面露光機では、スルーホール
等の貫通穴の無いプリント配線板あるいけ貫通穴を有し
金属メツキを施したプリント配線板に感光性ドライフィ
ルムをラミネートしたプリント配線板(1)を用意する
。(第1ステツプ)次にこのプリント配線板(1)にプ
リント配線板の所定電気回路パターン形成に必要な部分
のみを感光させる念めの部分が印刷されたマスクフィル
ム(2)を置く。(第2ステツプ)次にこのマスクフィ
ルム(2)とプリント配線板(1)に施された感光性ド
ライフィルムの密着をよくするため押え板(3)を両側
に置き、更に密着を良くするためこの中を真空引きする
(第3ステツプ)次に光源(4)を用いて紫外光等の光
を照射し感光性ドライフィルムの必要な部分のみを感光
して硬化させる。(第4ステツプ)尚、反射板(5)は
プリント配線板(1)のワーク全体をほぼ均一な露光量
にさせるために置かれ、更に絶縁板にFtは垂直方向の
平行光となるように設計されている。
次に第4図に示す走査型両面露光機について説明すると
、けじめは反射型両面露光機を使用した場合と同じよう
に第1〜第3のステップでプリント配線板(1)、マス
クフィル(2)、押え板(3)が装着される。次に光源
からの光は反射板の下部に設けられたスリット(6)を
経由してプリント配線板(1)にほぼ垂直方向からの平
行光を光源から取り出して照射するが、プリント配線板
(1)のワーク全体をほぼ均一な露光量とするためにプ
リント配線板(1)、マスクフィルム(2)、押え板(
3)で構成される部分を固定し、光源(4)を左右に移
動してプリント配線板(1)に形成された感光性ドライ
フィルム全体を露光させている。あるいは光源(4)を
固定し、プリント配線板(1)、マスクフィルム(2)
および押え板(3)で構成される部分を移動してプリン
ト配線板(1)全体を露光させている。いずれの露光機
においても配線板(1)全体を均一し露光かつ常にプリ
ント配線板(1)に垂直な平行光を与える構造をとって
いる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の露光機は以上のように構成されているのでプリン
ト配線板、特にスルーホール等の貫通穴の表面に感光性
レジスト膜を形成させたプリント配線板では高精度化の
ためプリント配線板と垂直な方向の光のみ使用して露光
しているため貫通穴の一部又は全部に露光量をほぼ均一
に与え露光する事はできないという問題があつ之。また
、一般に使用されているレジスト膜の厚さけ2!5μm
〜50μmであり、貫通穴の表面全体まで露光できるよ
うな散乱光を用いると斜め方向からの光により位置ずれ
を生じてプリント配線板の表面に露光されるためパター
ンが高精度化、高密度化した時対応できないという問題
点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、プリント配線板においてスルーホール等の貫
通穴の表面に形成させた感光性レジスト膜を露光し、硬
化させることができるとともに、プリント配線板の表面
も穴壁と同時に露光することができ、プリント配線板の
表面や穴内等全体をほぼ均一な露光量で露光する事がで
き、更に高密度、高精度なパターンを形成できる露光機
を得る事を目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る露光機は銅張積層板および貫通穴の表面
に感光性レジスト膜を形成したプリント配線板の貫通穴
の表面に形成したレジスト膜の表面で露光波を反射させ
ながら内部に露光光を到達させ露光する露光手段を用い
た露光機である。
〔作用〕
この発明における露光機は光源に取付けられた反射板に
よりプリント配線板の表面に対して0〜180度の方向
へほぼ均一な露光光を感光性レジスト膜に与え、貫通穴
の表面とプリント配線板の表面に形成させた感光性レジ
スト膜を同時にまた同程度に硬化する。
〔実施例〕
以下この発明の一実施による露光機を第1図。
第2図により説明する。第1図はこの発明の一実施例に
よる露光機を示す概略断面図、第2図は第1図の部分詳
細図である。図において(1)〜(5)は従来例におい
て説明したものと同じである。(7)はプリント配線板
(1)のスルーホール(貫通穴) (S)の表面を含ん
で全表面に形成された感光性レジスト膜で、従来より博
い膜厚ユ〜ユOμm で形成されている。
次にこの露光機による露光工程を以下に説明する◇スル
ーホール(8)等の表面に感光性レジスト膜を形成させ
たプリント配線板(1)にネガタイプのマスクフィルム
(2)を付し、その後マスクフィルム(2)と感光性レ
ジスト膜を密着させるために押え板(3)をのせ密閉し
た後その中を真空にする。次に、光源(4)から直接到
達する光と光源(4)から出た光が一度反射板(5)に
よって反射され到達された光を用いて、マスクされてい
ないスルーホール等の穴の表面や、配線板の表面に露光
する。同時に光源(4)及び反射板(5)を矢印のよう
に横に移動させ、プリント配線板(1]のワーク全体を
露光させる。ただし、光源及び反射板は光を一定方向だ
け強くさせないようにし、配線板の表面に対して0から
180度の方向までほぼ均一な露光量となるように散乱
させる。散乱させた光が0から180度の方向でスルー
ホールに達するためスルーホール〜(8)内にはさまざ
まな角度で光が入射し、反射しながら穴全体に達して露
光される。
また、感光性レジスト膜の厚さを1μmから10μmの
薄膜とすることによりプリント配線板の面に対して低角
度(例えば0度付近及び180度付近)から入射する光
に対してもパターン精度を悪化させず、高密度なファイ
ンパターンが形成できる。
また光源小形のものを移動して用いることができるので
露光機が小形化される。
なお、本方式では光源や配線板を移動させて露光する方
式だが、経外にある固定された光源からグラスファイバ
ーや反射鏡を用い、これを走査して露光してもよい。
また光源を上下、斜め1回転運動させたり、プリント配
線板を上下、斜め1回転運動させても同様な効果が得ら
れる。
〔発明の効果〕 以上のようにこの発明によれば種々の角度の散乱光を用
いて露光するので、スルーホール等の貫通穴の表面全体
に反射をくり返しながら光が到達し形成させた感光性レ
ジスト膜全体を露光し、硬化させることができる効果が
ある。tな感光性レジスト膜を薄くすることにより散乱
光によるパターン精度の悪化を防ぐ効果がある。さらに
装置を小型化することができるので安価で工場スペース
の有効利用も可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による露光機を示す部分断
面図、第2図は第1閣の部分拡大図、第3図は従来の反
射型露光機の断面図、第4図は従来の走査型露光機の断
面図である。 各図において、(1)は感光性レジスト膜を塗布したプ
リント配線板、(2)はマスクフィルム、(3)は押え
板、(4)は光源、(5)は反射板、(6)は平行光を
取り出すスリット板、(7)は感光性レジスト膜、(8
)IIiスルーホール等の貫通穴である。 なお、図中の同一符号は同一、又は相当部分を示す。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)スルーホール等の貫通穴を有し、銅張積層板およ
    び貫通穴の表面に感光性レジスト膜を形成するプリント
    配線板の露光機において、上記貫通穴に形成したレジス
    ト膜の表面で露光光を反射させながら内部に露光光を到
    達させ露光する露光手段を用いたことを特徴とする露光
    機。
  2. (2)露光手段として上下、左右、斜めあるいは回転移
    動する露光源を用いることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の露光機。
  3. (3)露光手段として露光源に対して感光性レジスト膜
    を形成するプリント配線板を上下、左右、斜めあるいは
    回転移動させる移動機構を設けたことを特徴とする、特
    許請求の範囲第1項ないし第2項記載の露光機。
JP18574886A 1986-08-06 1986-08-06 露光機 Pending JPS6340157A (ja)

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JP18574886A JPS6340157A (ja) 1986-08-06 1986-08-06 露光機

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JP18574886A JPS6340157A (ja) 1986-08-06 1986-08-06 露光機

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JPS6340157A true JPS6340157A (ja) 1988-02-20

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ID=16176170

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JP18574886A Pending JPS6340157A (ja) 1986-08-06 1986-08-06 露光機

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0235457A (ja) * 1988-07-26 1990-02-06 Sony Corp 露光方法及び露光装置
JPH02254456A (ja) * 1989-03-29 1990-10-15 Orc Mfg Co Ltd フォトレジスト露光方法およびその装置
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JPH05265220A (ja) * 1992-03-19 1993-10-15 Orc Mfg Co Ltd 基板傾斜式露光装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5671993A (en) * 1979-11-16 1981-06-15 Fujitsu Ltd Method of manufacturing printed board

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