JPH0235457A - 露光方法及び露光装置 - Google Patents

露光方法及び露光装置

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JPH0235457A
JPH0235457A JP63186298A JP18629888A JPH0235457A JP H0235457 A JPH0235457 A JP H0235457A JP 63186298 A JP63186298 A JP 63186298A JP 18629888 A JP18629888 A JP 18629888A JP H0235457 A JPH0235457 A JP H0235457A
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JP
Japan
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exposure
light
printed wiring
wiring board
hole
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Application number
JP63186298A
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English (en)
Inventor
Masayuki Yasuda
安田 誠之
Masanobu Yagi
正展 八木
Hirobumi Makino
博文 牧野
Yoshio Watanabe
渡邊 喜夫
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、スルーホール等の貫通孔を有したブ〔発明の
概要〕 本発明は、スルーホール等の貫通孔を有した基板に形成
する光硬化性の保護膜を硬化させるに際して、露光源か
ら基板に対して照射された露光光の垂直成分を除去もし
くは減少させることにより、基板表面とスルーホール等
の貫通孔内部に対する露光光の照度バランスを良好とし
、高密度なファインパターンを信頼性高く形成すること
が可能な露光方法を提供するものである。
また本発明は、スルーホール等の貫通孔を有した基板に
光硬化性の保護膜を形成する際に用いられる露光装置に
おいて、露光源とこの露光源から基板に対して照射され
た露光光の少なくとも垂直成分を除去もしくは減少させ
る手段とを備えてなることにより、基板表面とスルーホ
ール等の貫通孔内部に対する露光光の照度バランスを良
好とし、高密度なファインパターンを信銀性の高く形成
することが可能な露光装置を提供するものである。
〔従来の技術〕
プリント配線板のパターンやスルーホール等の貫通孔の
耐エツチング保護膜として光硬化性のレジスト膜が従来
より使用されている。
例えば、一般に上述のスルーホール等の貫通孔を保護す
る方法としては、ドライフィルムを該スルーホール上に
位置精度良くテンティングする方法と液状レジストを基
板表面及びスルーホール内部全体に亘って塗布する方法
とがある。これらはいずれも、その後、露光してドライ
フィルムもしくは液状レジストを硬化させている。
ところが、前記ドライフィルムによるテンティングによ
る保護膜の形成方法では、高密度なファインパターンや
小径化したスルーホールへの位置合わせが非常に難しく
、スルーホール内を良好に保護することができなくなる
これに対して、液状レジストでは上記ドライフィルムに
見られるような位置合わせの困難さ等の問題はなく、高
密度なファインパターンや小径化したスルーホールにも
充分対応することができるため非常に好ましい方法とい
える。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、液状のレジストを用いて保護膜を形成する場
合にも、例えば非常に小径化したスルーホールの内部ま
で露光光が充分に到達せず、スルーホール内壁が露光不
足となり液状レジストの硬化が充分に行われないことが
ある。そのためスルーホール内壁に充分露光光を到達さ
せる目的で露光量を増やした場合には、スルーホール内
壁は良好に硬化するものの基板表面の露光量が増加しす
ぎプリント配線板上に設けたパターン幅の精度の劣化を
招いてしまうという問題がある。
そこで、本発明は基板表面とスルーホール等の貫通孔内
部に対する露光光の照度バランスを良好とし、高密度な
ファインパターンを信頼性高く形成することが可能な露
光方法及び露光装置を提供することを目的とするもので
ある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は上述の目的を達成するために提案されたもので
あって、スルーホール等の貫通孔を有した基板に光硬化
性の保護膜を形成する際の露光方法において、露光源か
ら基板に対して照射された露光光の垂直成分を除去もし
くは減少させることを特徴とするものである。
また本発明は、スルーホール等の貫通孔を有した基板に
光硬化性の保護膜を形成する際に用いられる露光装置に
おいて、露光源とこの露光源から基板に対して照射され
た露光光の少なくとも垂直成分を除去もしくは減少させ
る手段とを備えてなることを特徴とするものである。
なお、本発明にかかる露光方法を検討するにあたっては
、基板上を水平面として規定し、スルーホール内壁面を
垂直面として規定した。
ここで、任意のアスペクト比を有するスルーホールを設
けたプリント配線板における水平面が受ける照度と垂直
面が受ける照度を入射角をパラメータとして第1図に示
す、第1図より明らかなように、水平面の照度は入射角
が90度付近でピークとなっているのに対して、垂直面
ではそれより低い入射角でピークとなっている。
したがって、両者の照度差を少なくするような入射角を
もってスルーホールを有したプリント配線板を露光する
ことにより照度バランスに優れた露光状態が得られるこ
とになる。
ところで、入射角θは第2図に示すように、プリント配
線板表面への入射角にあってはプリント配線板と入射光
のなす角をθとして規定し、スルーホール内の壁面への
入射角にあっては該壁面からの法線と入射光のなす角を
θとして規定する。
この場合、水平面及び垂直面における実照度を求めるに
は、その入射角を考慮する必要があり、例えば、第3図
a、第3図すに示すように、光軸に垂直な照度をW上と
すると水平面における照度はW上・sinθとして表さ
れ、垂直面における照度はW土・COSθとして表され
る。
ここで、スルーホール内に最も良好に露光光が入射する
場合とは、第2図中実線irで示すように、スルーホー
ルの一方の開口部端から他方の開口部端まで対角に露光
光が入射したときである。このときの露光光の入射角θ
はスルーホールのアスペクト比例えばスルーホールの径
をφ、スルーホールの深さをもとした場合、L/φによ
って決定される角度θSに等しい。この角度θSは、ア
スペクト比L/φ= tan θS  ・・・(1)な
る関係を有することから、 θs =tan−’(t /φ) より容易に求めることができる。
ここで、露光光の入射角θがアスペクト比によって求め
られる角度θSより大きい角度θ1の場合には、入射光
はスルーホールの他端の開口部を突き抜けて照射される
のでスルーホール内の照度が低下するとともに、プリン
ト配線板表面上の照度が高くなってしまう。また、露光
光の入射角θがアスペクト比によって求められる角度θ
Sより小さい角度θ2の場合には、入射光はスルーホー
ルの他端9開口部まで到達せず影を作ることとなりスル
ーホール内に未露光部ができてしまう。
したがって、垂直面照度と水平面照度との差が最も小さ
くなる入射角とは、プリント配線板に設けられたスルー
ホールのアスペクト比む/φにより決定される角度、す
なわちjan θSと等しいこととなるが、θS±0.
10sの範囲の入射角であることがより好ましい、すな
わち、例えば、スルーホールのアスペクト比が1の場合
には入射角は45度±4.5度であることが好ましく、
アスペクト比が2の場合には63度±6.3度、アスペ
クト比が5の場合には78度±7.8度であることが好
ましい。
このように、任意のアスペクト比を有するスルーホール
を設けたプリント配線板においては、そのアスペクト比
によって求められる角度より大きな入射角を有する露光
光を除去もしくは減少させるように露光すれば水平面照
度と垂直面照度との差を少なくすることができる。
なお、実際にはスルーホール内は円筒型の閉じられた系
であり、露光源はプリント配線板の表裏両面にあること
から、実際のスルーホール内部での光の照射は、スルー
ホールの開口部付近とスルーホール内中央部付近で異な
る。例えば、スルーホールが形成された基板の表面側開
口部付近では、表面側にある露光源からの露光光は0度
より大きく90度より小さい入射角であればほぼ照射さ
れることになる。これに対して基板の表面側開口部付近
では基板裏面側にある露光源からの露光光はスルーホー
ル自体が障害となるためアスペクト比により決められる
角度(jan−’(t/φ)〕と等しい入射角より大き
な角度を有した入射光のみが到達する。一方、スルーホ
ール内中央部付近には、スルーホールのアスペクト比の
1/2から求められる角度(jan−’ (t /2φ
)〕と等しい入射角より大きな角度を有した入射光が到
達する。実際のスルーホール内での照度を考える場合に
は、上述のことを考慮することが好ましい。
ここで、スルーホールのアスペクト比によって求められ
る角度より大きな入射角を有する露光光を除去もしくは
減少させるには、露光源から照射された露光光を反射も
しくは遮蔽するような障害物を設ける方法、露光源から
照射された露光光を偏向させるような光学系を設ける方
法、露光源から照射された露光光を反射物を介してプリ
ント配線板に入射させる方法等が挙げられる。
一方、上述のような露光方法を適用する露光装置として
は、直管状もしくは球形状の露光源を備え、該露光源が
プリント配線板上を左右、上下等に移動させることがで
きるようなタイプのものや、露光源が固定されプリント
配線板側が左右、上下等に移動させることができるよう
なタイプのもの、または露光源及びプリント配線板側の
両者が移動可能とされたタイプのもの等が挙げられる。
また、露光装置の露光源は、プリント配線板の一方の面
倒にのみ配置したタイプであってもよく、両面から露光
することができるようにプリント配線板の表裏両面に配
置したタイプのものであってもよい。
〔作用] 少なくとも垂直成分の露光光を除去もしくは低減させる
こととしているため、プリント配線板表面とスルーホー
ル内部の照度の差を小さくすることが可能になる。
このようにプリント配線板表面とスルーホール内部の照
度比のバランスをとることにより、両者に形成した感光
性レジストを同程度に硬化させることが可能となる。
したがって、基板表面上のパターン幅の精度を劣化させ
ることなく、スルーホール内部の保護が良好に行える。
また、露光装置においては、露光源と基板の間に障害物
やフィルター等を用いる簡単な構成で効果的に光の垂直
成分が除去もしくは低減される。
〔実施例〕
以下、本発明を適用した実施例について図面を参考にし
て説明するが、本発明はこの実施例に限定されるもので
はなく、要旨を逸脱しない限りにおいて各種の変更が可
能である。
露光源からプリント配線板へ照射された露光光の垂直成
分を除去もしくは減少させる方法としては、露光源から
照射された露光光を反射もしくは遮蔽するような障害物
を設ける方法と、露光源から照射された露光光を偏向さ
せるような光学系を設ける方法と、露光源から照射され
た露光光を反射物を介してプリント配線板に入射させる
方法等が挙げられる。
上記露光源から照射された露光光を反射もしくは遮蔽す
るような障害物を設ける方法とは、第4図に示すように
、露光源1の直下であってプリント配線板2との間に露
光光を反射もしくは遮蔽するような障害物3を設けるも
のである。
このように、障害物3を設けることによって、露光源1
からプリント配線Fi2へ到達する露光光のうち少なく
とも垂直成分は除去されることになる。
この方法の場合、使用される露光装置は、第5図に示す
ように、露光源21と露光′a21からの照射光を有効
にプリント配線板22へ到達させるために設けらた反射
板24と露光源21からプリント配線板22へ到達する
露光光のうち少なくとも垂直成分を除去するために設け
られた障害物23とが一体として形成された照射部25
と、プリント配線板22を設置する部分とからなるもの
である。上記プリント配線板22を設置する部分には、
液状の感光性樹脂26を表面に塗布し、所定のパターン
が印刷されたネガマスク27により表面が覆われ、スル
ーホール28が形成されたプリント配線板22が設置さ
れている。なお、上記照射部25は上記プリント配線板
22を挟んで上下の位置に対向して一対設けられている
。また、この照射部25は、プリント配線板22上を第
5図中矢印Xに示すように、左右に移動することができ
るようになっており、該照射部25がプリント配線板2
2上を移動することによりプリント配線板22全体に亘
って良好に露光がなされるようになっている。
このような構成の露光装置において、露光源21から照
射された露光光は、第5図中の矢印aで示されるように
任意の入射角θを有してプリント配線板22の表面及び
プリント配線板22のスルーホール28内に入射する。
また、露光源21の直下であってプリント配線板22と
の間には障害物23が設けられているため、露光源21
からプリント配線板22に対して入射する光の少なくと
も垂直成分は遮蔽されプリント配線板22上には到達し
ない、なお、プリント配線板22への露光光の入射角θ
は反射板24の曲率や露光源21と反射板24の位置等
を変化させることによって所望する入射角度を有する露
光光とすることができる。また、この障害物23を反射
率の高い材料として任意の曲率を有した形状とすること
により露光源21から照射された露光光の垂直成分を露
光源21を挟んで対面に設けられている反射板24に反
射させプリント配線板22上に照射させることができる
また、露光源21から照射された露光光を遮蔽する部材
どしては、上述の障害物23の他、例えば、第6図aに
示すような遮蔽フィルター31を用いてもよい、この遮
蔽フィルター31は、板状部材の一部が開口されて全体
として基盤の目状に、開口部と閉口部とが交互にパター
ン形成されてなるものである。この遮蔽フィルター31
を用いて露光光を遮蔽する場合には、同様のパターン形
状の遮蔽フィルター31を2枚上下に所定の間隔Wをも
って重ね合わせればよい。なお、遮蔽フィルター31を
重ね合わせる場合には、上方に位置する遮蔽フィルター
31aのパターンと下方に位置する遮蔽フィルター31
bのパターンとが第6図すに示すように互い違いになる
ようにしなければならない。このように遮蔽フィルター
31a、31bを重ね合わせることにより、第6図す中
矢印すで示すように露光源21から照射された露光光の
うち少なくとも垂直成分を除去することができる。なお
、この遮蔽フィルター31を通過した露光光の入射角θ
は、遮蔽フィルター31のパターンの大きさ等を変えた
り、2枚の遮蔽フィルター31の間隔を変えたり、遮蔽
フィルター31と露光源21との距離を変えること等に
より調整することができる。また、この遮蔽フィルター
31を使用する場合、露光装置としては、露光源21が
プリント配線板22と閉口に左右に移動するタイプの露
光装置であってもよく、また露光a21が固定されてい
るタイプの露光装置であってもよい。
一方、露光源から照射された露光光を偏向させるような
光学系を設ける方法とは、第7図に示すように、露光源
41の直下であってプリント配線板42との間に露光光
を偏向させるような光学系障害物43を設けるものであ
る。
このように、光学系障害物43を設けることによって、
露光源41からプリント配線板42へ到達する露光光の
うち少なくとも垂直成分は除去もしくは低減されること
になる。
この方法の場合、使用される露光装置は、第8図に示す
ように、露光源51と露光′R51からの照射光を有効
にプリント配線板52へ到達させるために設けらた反射
板54と露光[51からプリント配線板52へ到達する
露光光のうち少なくとも垂直成分を除去するために設け
られた偏向材53とが一体として形成された照射部55
と、プリント配線板52を設置する部分とからなるもの
である。上記プリント配線板52を設置する部分には、
液状の感光性樹脂56を表面に塗布し、所定のパターン
が印刷されたネガマスク57により表面が覆われ、スル
ーホール5日が形成されたプリント配線板52が設置さ
れている。なお、上記照射部55は上記プリント配線板
52を挟んで上下の位置に対向して一対設けられている
。また、この照射部55は、プリント配線板5.2上を
第8図中矢印yに示すように、左右に移動することがで
きるようになっており、該照射部55がプリント配線板
52上を移動することによりプリント配線板52全体に
亘って良好に露光がなされるようになっている。
このような構成の露光装置において、露光源51から照
射された露光光は、第8図中の矢印Cで示されるように
反射板54で反射されて任意の入射角θを有してプリン
ト配線板52の表面及びプリント配線板52のスルーホ
ール58内に入射する。また、露光源51の直下であっ
てプリント配線板52との間には偏向材53が設けられ
ているため、露光R51からプリント配線板52に対し
て入射する光の少なくとも垂直成分は偏向されプリント
配線板52上には到達しないか、もしくは到達したとし
ても極僅かな照度となる。なお、プリント配線板52へ
の露光光の入射角θは反射板54の曲率や偏向材53の
曲率や偏向材53の材料自体を変化させることによって
所望する入射角度を有する露光光とすることができる。
ここで、上記偏向材53としては、凹レンズやプリズム
等が使用可能である。
また、露光源51から照射された露光光を偏向させる部
材としては、上述の偏向材53の他、例えば、第9図に
示すような散乱フィルター61を用いてもよい、この散
乱フィルター61は、板状部材の一方の面61aを任意
の挟角δを有した面を連接したいわゆる波型形状とし、
他方の面61bは平面として形成されてなるものである
。この散乱フィルター61を用いて露光光を偏向する場
合には、プリント配線板52上に積層されている所定の
パターンが印刷されたネガマスク57上に直接重ね合わ
せることにより、第9図中矢印dで示すように露光源5
1から照射された露光光のうち少なくとも垂直成分は偏
向されて除去される。
なお、この散乱フィルター61を通過した露光光の入射
角θは、散乱フィルター61の一方の面61aに形成さ
れた波型形状を構成する面の挟角δを変えること、また
は散乱フィルター61の材料自体を変えることにより調
整することができる。
また、この散乱フィルター61を使用する場合、露光装
置としては、露光源51がプリント配線板52と平行に
左右に移動するタイプの露光装置であってもよく、また
露光源51が固定されているタイプの露光装置であって
もよい。
さらに、露光源から照射された露光光を反射物を介して
プリント配線板に入射させる方法とは、第10図に示す
ように、露光源71を放物曲面を有する第1の反射物7
3の焦点に設置して露光源71からの露光光を第10図
中eで示す平行光に変換し、この光を第2の反射物74
で反射させ第10中fで示す散乱光としてプリント配線
板72に照射するものである。
このように放物曲面を有する第1の反射物73を介して
露光光を平行光に変換し、これを所定の曲率の第2の反
射物74で反射させて作り出した散乱光rは、プリント
配線板72に対する第1の反射物74の角度を調整する
ことにより所望する入射角度を有する露光光とすること
ができる。なお、この第2の反射物74は平板であって
もよく、また所定の曲率を有した曲面を有したものであ
ってもよい、この方法を用いた露光装置としては、露光
源71、第1の反射物73及び第2の反射物74からな
る照射部をプリント配線板72と平行に第1O図中矢印
2で示すように、左右に移動させるタイプのものとする
ことが好ましい。
〔発明の効果〕
以上の説明より明らかなように、本発明にかかる露光方
法によれば、露光源から照射される露光光のうち垂直成
分が良好に除去もしくは低減することができるため、基
板の水平面と基板に形成したスルーホール等の貫通孔内
部の垂直面との照度バランスを良好とすることができる
また、この露光方法を用いた露光装置は、露光源と基板
の間に垂直成分光を除去するための障害物やフィルター
等を用いる簡単な構成だけでよく、効果的に光の垂直成
分が除去もしくは低減することができ高密度なファイン
パターンを信頼性の高く形成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は露光光の入射角による水平面照度と垂直面照度
を示す特性図である。 第2図は基板に入射する露光光の入射角θを示す概略模
式図である。 第3図a乃至第3図すは入射光の光軸上の照度に対する
水平面と垂直面の実照度を示す概略模式第4図は本発明
にかかる露光方法の一例を示す概略模式図である。 第5図は本発明にかかる露光装置の一例を示す概略模式
図である。 第6図a乃至第6図すは本発明にかかる露光方法におい
て使笥される遮蔽フィルターの一例を示す概略模式図で
ある。 第7図は本発明にかかる露光方法の他の例を示す概略模
式図である。 第8図は本発明にかかる露光装置の他の例を示す概略模
式図である。 第9図は本発明にかかる露光方法において使用される散
乱フィルターの一例を示す概略模式図である。 第10図は本発明にかかる露光方法のさらに他の例を示
す概略模式図である。 1.21,41.51・・・露光源 2.22,42.52・・・プリント配線板26.56
・・・感光性樹脂(保護膜)28.58・・・スルーホ
ール(貫通孔)(基板) 第3図a 第4図 第6図 第6図す 第3図b 第5図 第9 手続ネ市正書(自発) 平成1年8月29日 特許庁長官 吉 1)文 毅 殴 1、事件の表示 昭和63年特許願第186298号 2、発明の名称 露光方法及び露光装置 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 東京部品用区北品用6丁目7番35号名称 (2
18)ソニー株式会社 代表者 大賀典雄 4、代理人

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)貫通孔を有した基板に光硬化性の保護膜を形成す
    る際の露光方法において、 露光源から基板に対して照射された露光光の少なくとも
    垂直成分を除去もしくは減少させることを特徴とする露
    光方法。
  2. (2)貫通孔を有した基板に光硬化性の保護膜を形成す
    る際に用いられる露光装置において、 露光源とこの露光源から基板に対して照射された露光光
    の少なくとも垂直成分を除去もしくは減少させる手段と
    を備えてなることを特徴とする露光装置。
JP63186298A 1988-07-26 1988-07-26 露光方法及び露光装置 Pending JPH0235457A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2009041439A1 (ja) * 2007-09-26 2009-04-02 Hitachi Chemical Company, Ltd. 光導波路及びその製造方法

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