JPH06338453A - 基板周辺部露光装置 - Google Patents
基板周辺部露光装置Info
- Publication number
- JPH06338453A JPH06338453A JP5148586A JP14858693A JPH06338453A JP H06338453 A JPH06338453 A JP H06338453A JP 5148586 A JP5148586 A JP 5148586A JP 14858693 A JP14858693 A JP 14858693A JP H06338453 A JPH06338453 A JP H06338453A
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- Japan
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶パネル用ガラス基板の周辺部及び側面の
不要のポジ型フォトレジストを完全に露光できるように
して、不要のフォトレジストが基板上に残されることに
よる発塵を防止する。 【構成】 基板中央の回路部分の露光の終了した液晶パ
ネル用ガラス基板４をステージ３上に載置する。ステー
ジ３の両側に配置された固定アーム５に固定された周辺
露光用光源１により紫外線を垂直に放射させる。ステー
ジ３を矢印方向に移動させて、ガラス基板表面周辺部を
光源１の直接光により露光し、ガラス基板側面を反射ミ
ラー２ａの反射光により露光する。同様にして、ガラス
基板４の他の側の周辺部も露光してから現像し、露光部
分のフォトレジストを除去する。
不要のポジ型フォトレジストを完全に露光できるように
して、不要のフォトレジストが基板上に残されることに
よる発塵を防止する。 【構成】 基板中央の回路部分の露光の終了した液晶パ
ネル用ガラス基板４をステージ３上に載置する。ステー
ジ３の両側に配置された固定アーム５に固定された周辺
露光用光源１により紫外線を垂直に放射させる。ステー
ジ３を矢印方向に移動させて、ガラス基板表面周辺部を
光源１の直接光により露光し、ガラス基板側面を反射ミ
ラー２ａの反射光により露光する。同様にして、ガラス
基板４の他の側の周辺部も露光してから現像し、露光部
分のフォトレジストを除去する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶パネル用ガラス基
板のような概略四辺形の基板の周辺部から未露光のポジ
型フォトレジストを露光し除去するのに用いられる基板
周辺部露光装置に関する。
板のような概略四辺形の基板の周辺部から未露光のポジ
型フォトレジストを露光し除去するのに用いられる基板
周辺部露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネル用のガラス基板に対しては複
数回のフォトリソグラフィ工程が施される。フォトリソ
グラフィ工程には、スピナによるフォトレジスト塗付工
程、ステップ・アンド・リピート方式等による露光工
程、現像工程等が含まれる。而して、現在の製造プロセ
スにおいてはフォトレジストとしてはポジ型のものが多
用されている。したがって、上記のフォトリソグラフィ
工程を経ただけでは、基板周辺部に未露光のフォトレジ
ストが残り、後に剥離して塵芥となったりあるいは基板
周辺部に未エッチング物が残存したりする不都合がある
ので、正規の露光を行った後に（あるいは行う前に）基
板周辺部露光を別途行って基板周辺部から不要のフォト
レジストを除去する必要がある。
数回のフォトリソグラフィ工程が施される。フォトリソ
グラフィ工程には、スピナによるフォトレジスト塗付工
程、ステップ・アンド・リピート方式等による露光工
程、現像工程等が含まれる。而して、現在の製造プロセ
スにおいてはフォトレジストとしてはポジ型のものが多
用されている。したがって、上記のフォトリソグラフィ
工程を経ただけでは、基板周辺部に未露光のフォトレジ
ストが残り、後に剥離して塵芥となったりあるいは基板
周辺部に未エッチング物が残存したりする不都合がある
ので、正規の露光を行った後に（あるいは行う前に）基
板周辺部露光を別途行って基板周辺部から不要のフォト
レジストを除去する必要がある。
【０００３】図６は、この種従来の基板周辺部の露光工
程の状態を示す断面図である。すなわち、従来は、液晶
パネル用ガラス基板５上のフォトレジスト６を、基板周
辺部のみに紫外線ＵＶを照射する周辺露光用光源１にて
露光していた。
程の状態を示す断面図である。すなわち、従来は、液晶
パネル用ガラス基板５上のフォトレジスト６を、基板周
辺部のみに紫外線ＵＶを照射する周辺露光用光源１にて
露光していた。
【０００４】なお、半導体ウェハについての周辺部露光
装置としては、ウェハ裏面からウェハ面より１〜３°
程度傾けて紫外線を照射し、フォトレジスト膜に入射す
る際の屈折を利用して基板の内側に回り込む紫外光によ
りウェハ外周部のフォトレジストを露光するもの（特開
平３−１４１６３３号公報）、同一露光装置内に、回
路パターンをウェハ上に投影するための第１の光学系
と、周辺部を露光するための第２の光学系とをもつよう
にしたもの（特開平１−２６１８２１号公報、特開平２
−２６３４２６号公報）、ウェハの周辺部を、光源か
ら直接、または光ファイバやミラーを用いて光源光をガ
イドして露光するもの（特開平１−２７０２２８号公
報）等が公知となっている。また、上記特開平３−１４
１６３３号公報には、スピナによるフォトレジストの塗
付後にウェハ裏面の周辺部にメチル・エチル・ケトンの
ような溶剤を吹き付けてウェハ側面部分のフォトレジス
トを除去することも記載されている。
装置としては、ウェハ裏面からウェハ面より１〜３°
程度傾けて紫外線を照射し、フォトレジスト膜に入射す
る際の屈折を利用して基板の内側に回り込む紫外光によ
りウェハ外周部のフォトレジストを露光するもの（特開
平３−１４１６３３号公報）、同一露光装置内に、回
路パターンをウェハ上に投影するための第１の光学系
と、周辺部を露光するための第２の光学系とをもつよう
にしたもの（特開平１−２６１８２１号公報、特開平２
−２６３４２６号公報）、ウェハの周辺部を、光源か
ら直接、または光ファイバやミラーを用いて光源光をガ
イドして露光するもの（特開平１−２７０２２８号公
報）等が公知となっている。また、上記特開平３−１４
１６３３号公報には、スピナによるフォトレジストの塗
付後にウェハ裏面の周辺部にメチル・エチル・ケトンの
ような溶剤を吹き付けてウェハ側面部分のフォトレジス
トを除去することも記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】図６に示される従来例
では（ガラス基板に対するものではないが上記、の
従来例についても同様である）、光源より垂直方向の光
のみでガラス基板上のフォトレジストを露光していたた
め、膜厚が厚くなる基板周辺部表面のフォトレジストや
基板端面に形成されたフォトレジストに対しては露光量
が不足することとなり現像工程において完全に除去する
ことができなかった。これは、フォトレジストの膜厚
が、ガラス基板の中央部を１としたとき、周辺部表面で
約２、端面で５００〜１０００（垂直に見て）となるか
らである。さらに、従来例では基板裏面に回り込んだフ
ォトレジストには露光がなされなかった。また、上記
の従来例では、基板（ウェハ）の側面の照射光が基板表
面に回り込むことを予定しているが、その量は多くはな
いので大面積のガラス基板を取り扱う場合はやはり露光
量不足が起こる。また、ウェハをスピナに装着した状態
で溶剤を吹き付ける除去方法では、溶剤を噴射した際の
ウェハからの溶剤のはね返りやミストの発生により内部
パターンへ悪影響が及ぼされる可能性が高くさらに表面
外周部のフォトレジストは除去されないという問題点も
あった。したがって、この発明の目的とするところは、
基板側面のフォトレジストを含めて不要のフォトレジス
トを光量の不足を伴わずに露光することのできる露光装
置を提供して、フォトリソグラフィ工程において不要の
フォトレジストを完全に除去できるようにし、もって、
歩留りの向上を図ろうとするものである。
では（ガラス基板に対するものではないが上記、の
従来例についても同様である）、光源より垂直方向の光
のみでガラス基板上のフォトレジストを露光していたた
め、膜厚が厚くなる基板周辺部表面のフォトレジストや
基板端面に形成されたフォトレジストに対しては露光量
が不足することとなり現像工程において完全に除去する
ことができなかった。これは、フォトレジストの膜厚
が、ガラス基板の中央部を１としたとき、周辺部表面で
約２、端面で５００〜１０００（垂直に見て）となるか
らである。さらに、従来例では基板裏面に回り込んだフ
ォトレジストには露光がなされなかった。また、上記
の従来例では、基板（ウェハ）の側面の照射光が基板表
面に回り込むことを予定しているが、その量は多くはな
いので大面積のガラス基板を取り扱う場合はやはり露光
量不足が起こる。また、ウェハをスピナに装着した状態
で溶剤を吹き付ける除去方法では、溶剤を噴射した際の
ウェハからの溶剤のはね返りやミストの発生により内部
パターンへ悪影響が及ぼされる可能性が高くさらに表面
外周部のフォトレジストは除去されないという問題点も
あった。したがって、この発明の目的とするところは、
基板側面のフォトレジストを含めて不要のフォトレジス
トを光量の不足を伴わずに露光することのできる露光装
置を提供して、フォトリソグラフィ工程において不要の
フォトレジストを完全に除去できるようにし、もって、
歩留りの向上を図ろうとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、概略四辺形の基板を保持するステ
ージと、前記基板の周辺部上に位置し該基板の周辺部お
よびその外側を基板面に垂直な光にて照射する光源と、
基板の周辺部に位置し前記光源の光を前記基板の側面に
向けて反射するミラーと、を備える基板周辺部露光装置
が提供される。そして、好ましくは、前記光源および前
記ミラーまたは前記ステージのいずれかが他方に対し前
記基板の露光される側面に平行の方向に移動が可能であ
るようになされる。
め、本発明によれば、概略四辺形の基板を保持するステ
ージと、前記基板の周辺部上に位置し該基板の周辺部お
よびその外側を基板面に垂直な光にて照射する光源と、
基板の周辺部に位置し前記光源の光を前記基板の側面に
向けて反射するミラーと、を備える基板周辺部露光装置
が提供される。そして、好ましくは、前記光源および前
記ミラーまたは前記ステージのいずれかが他方に対し前
記基板の露光される側面に平行の方向に移動が可能であ
るようになされる。
【０００７】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は、本発明の第１の実施例の全体の構
成を示す斜視図である。同図において、１は、垂直に紫
外線を放射する周辺露光用光源、２ａは、周辺露光用光
源の垂直光を反射してガラス基板の側面を照射する反射
ミラー、３は、液晶パネル用ガラス基板４を保持して、
矢印方向に移動が可能でかつ回転が可能なステージ、５
は、周辺露光用光源１および反射ミラー２ａを保持し
て、左右に（矢印と直角の方向）移動が可能なアームで
ある。
て説明する。図１は、本発明の第１の実施例の全体の構
成を示す斜視図である。同図において、１は、垂直に紫
外線を放射する周辺露光用光源、２ａは、周辺露光用光
源の垂直光を反射してガラス基板の側面を照射する反射
ミラー、３は、液晶パネル用ガラス基板４を保持して、
矢印方向に移動が可能でかつ回転が可能なステージ、５
は、周辺露光用光源１および反射ミラー２ａを保持し
て、左右に（矢印と直角の方向）移動が可能なアームで
ある。
【０００８】図２は、本発明の第１の実施例の要部断面
図であり、図３は、第１の実施例の作動状態を示す平面
図である。図２に示されるように、反射ミラー２ａは、
光源１の放出する紫外光ＵＶに対し、θ1 （０＜θ1 ＜
４５°）の角度をなして固定アーム５に装着されてお
り、ガラス基板４の側面を９０°−２θ1 の角度で照射
する。
図であり、図３は、第１の実施例の作動状態を示す平面
図である。図２に示されるように、反射ミラー２ａは、
光源１の放出する紫外光ＵＶに対し、θ1 （０＜θ1 ＜
４５°）の角度をなして固定アーム５に装着されてお
り、ガラス基板４の側面を９０°−２θ1 の角度で照射
する。
【０００９】周辺露光用光源１の特定の点Ｐ1 から出る
紫外光はガラス基板４のエッジＰ2を照射するように設
定されており、そして紫外光ＵＶの照射幅（Ｌ1 ＋Ｌ
2 ）は、光源のブラインドにより可変になされている。
而して、領域Ｌ1 の紫外光がガラス基板４の表面を照射
し、領域Ｌ2 の紫外光の一部がガラス基板の側面に照射
される。ここで、領域Ｌ2 側のブラインドを調整するこ
とにより、領域Ｌ2 の紫外光の一部をガラス基板の表面
に照射することができる。しかし、その場合に、領域Ｌ
2 の紫外光による照射領域が、領域Ｌ1 の紫外光の照射
領域Ｐ2 Ｐ3 内に入るように領域Ｌ2 を設定して、ガラ
ス基板上の内部回路への光照射を回避することが必要で
ある。
紫外光はガラス基板４のエッジＰ2を照射するように設
定されており、そして紫外光ＵＶの照射幅（Ｌ1 ＋Ｌ
2 ）は、光源のブラインドにより可変になされている。
而して、領域Ｌ1 の紫外光がガラス基板４の表面を照射
し、領域Ｌ2 の紫外光の一部がガラス基板の側面に照射
される。ここで、領域Ｌ2 側のブラインドを調整するこ
とにより、領域Ｌ2 の紫外光の一部をガラス基板の表面
に照射することができる。しかし、その場合に、領域Ｌ
2 の紫外光による照射領域が、領域Ｌ1 の紫外光の照射
領域Ｐ2 Ｐ3 内に入るように領域Ｌ2 を設定して、ガラ
ス基板上の内部回路への光照射を回避することが必要で
ある。
【００１０】図３は、第１の実施例の露光途中の状態を
示す平面図であって、予め、基板中央の回路部分の露光
の完了した液晶パネル用ガラス基板４が、図の上方でス
テージ（図示なし）上に装着される。次いで、ステージ
は、図の矢印方向に移動して基板の端部を露光させる。
ガラス基板を破線で示される位置まで搬送した後ステー
ジは９０°回転し、同時に左右の固定アーム５、５が基
板の未露光側の幅ｘ1に応じてそれぞれ左、右に移動す
る。次いで、ステージは図の上方に移動して未露光側の
エッジの露光を実施する。四辺の端部に対する露光の終
了したガラス基板については、次いで、現像工程が施さ
れ、露光部分のフォトレジストが除去される。
示す平面図であって、予め、基板中央の回路部分の露光
の完了した液晶パネル用ガラス基板４が、図の上方でス
テージ（図示なし）上に装着される。次いで、ステージ
は、図の矢印方向に移動して基板の端部を露光させる。
ガラス基板を破線で示される位置まで搬送した後ステー
ジは９０°回転し、同時に左右の固定アーム５、５が基
板の未露光側の幅ｘ1に応じてそれぞれ左、右に移動す
る。次いで、ステージは図の上方に移動して未露光側の
エッジの露光を実施する。四辺の端部に対する露光の終
了したガラス基板については、次いで、現像工程が施さ
れ、露光部分のフォトレジストが除去される。
【００１１】図４は、本発明の第２の実施例の構成を示
す要部断面図である。同図において、図２における先の
実施例の部分に相当する部分には同一の参照番号が付さ
れている。本実施例は、第１の実施例に対して反射ミラ
ー２ｂを追加した構成となっている。反射ミラー２ｂ
は、反射ミラー２ａとガラス基板４との間に、周辺露光
用光源１からの照射光の進行方向に対し角度θ2 （４５
°＜θ2 ＜９０°）で装着されている。先の実施例の場
合と同様に、周辺露光用光源１の領域Ｌ1 の紫外光は、
ガラス基板４の表面に照射され、領域Ｌ2 の紫外光の一
部は、反射ミラー２ａにより反射されてガラス基板４の
側面に角度９０°−２θ1 で照射される。また、領域Ｌ
2 の紫外光の一部は、反射ミラー２ｂにより反射されそ
の一部はガラス基板４の裏面に角度１８０°−２θ2 で
照射され、反射ミラー２ｂによる反射光の他の一部は基
板側面に角度２θ2 −９０°で照射される。
す要部断面図である。同図において、図２における先の
実施例の部分に相当する部分には同一の参照番号が付さ
れている。本実施例は、第１の実施例に対して反射ミラ
ー２ｂを追加した構成となっている。反射ミラー２ｂ
は、反射ミラー２ａとガラス基板４との間に、周辺露光
用光源１からの照射光の進行方向に対し角度θ2 （４５
°＜θ2 ＜９０°）で装着されている。先の実施例の場
合と同様に、周辺露光用光源１の領域Ｌ1 の紫外光は、
ガラス基板４の表面に照射され、領域Ｌ2 の紫外光の一
部は、反射ミラー２ａにより反射されてガラス基板４の
側面に角度９０°−２θ1 で照射される。また、領域Ｌ
2 の紫外光の一部は、反射ミラー２ｂにより反射されそ
の一部はガラス基板４の裏面に角度１８０°−２θ2 で
照射され、反射ミラー２ｂによる反射光の他の一部は基
板側面に角度２θ2 −９０°で照射される。
【００１２】図５は、本発明の第３の実施例の要部断面
図である。同図において、図２における第１の実施例の
部分に相当する部分には同一の参照番号が付されてい
る。本実施例では、反射ミラー２ｃが、周辺露光用光源
１より放出される紫外光の進行方向に対し角度θ3 （４
５°＜θ3 ＜９０°）傾けて装着されている。光源１よ
り放出された紫外光の内領域Ｌ2 の光は、反射ミラー２
ｃにより反射され、その一部はガラス基板４の裏面に角
度１８０°−２θ3 で照射され、他の一部は基板側面に
角度２θ3 −９０°で照射される。
図である。同図において、図２における第１の実施例の
部分に相当する部分には同一の参照番号が付されてい
る。本実施例では、反射ミラー２ｃが、周辺露光用光源
１より放出される紫外光の進行方向に対し角度θ3 （４
５°＜θ3 ＜９０°）傾けて装着されている。光源１よ
り放出された紫外光の内領域Ｌ2 の光は、反射ミラー２
ｃにより反射され、その一部はガラス基板４の裏面に角
度１８０°−２θ3 で照射され、他の一部は基板側面に
角度２θ3 −９０°で照射される。
【００１３】以上好ましい実施例について説明したが、
本願発明はこれら実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲に記載された本願発明の範囲内において各
種の変更が可能である。例えば、実施例では、ガラス基
板の端部の露光を縦方向および横方向について同一の露
光装置により行っていたがこれを別々の露光装置により
行うようにすることができる。また、実施例では、光源
に対してステージが移動するものであったが、これを光
源が基板端部に沿って移動するように変更することがで
きる。
本願発明はこれら実施例に限定されるものではなく、特
許請求の範囲に記載された本願発明の範囲内において各
種の変更が可能である。例えば、実施例では、ガラス基
板の端部の露光を縦方向および横方向について同一の露
光装置により行っていたがこれを別々の露光装置により
行うようにすることができる。また、実施例では、光源
に対してステージが移動するものであったが、これを光
源が基板端部に沿って移動するように変更することがで
きる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の基板周辺
部露光装置は、光源の一部の光を基板表面に照射し、他
の一部を反射ミラーを介して基板側面に照射するもので
あるので、本発明によれば、回路部分を形成するための
露光工程では露光されることがなく、かつ不要な、基板
端部および側面のフォトレジストを十分な光量をもって
露光することができ、現像工程においてこれを完全に除
去することができる。よって、本発明によれば、フォト
レジストの剥がれによる発塵を防止することができ、塵
芥が回路パターン上に付着することによって誘発される
不良を削減することができる。実際、基板側面から剥が
れたフォトレジスト片による不良率が従来は７％であっ
たが、本発明によりこれを１％以下とすることができ
た。
部露光装置は、光源の一部の光を基板表面に照射し、他
の一部を反射ミラーを介して基板側面に照射するもので
あるので、本発明によれば、回路部分を形成するための
露光工程では露光されることがなく、かつ不要な、基板
端部および側面のフォトレジストを十分な光量をもって
露光することができ、現像工程においてこれを完全に除
去することができる。よって、本発明によれば、フォト
レジストの剥がれによる発塵を防止することができ、塵
芥が回路パターン上に付着することによって誘発される
不良を削減することができる。実際、基板側面から剥が
れたフォトレジスト片による不良率が従来は７％であっ
たが、本発明によりこれを１％以下とすることができ
た。
【００１５】また、上記の従来技術（特開平３−１４
１６３３号公報）を採用した場合、基板表面周辺部の不
要フォトレジストに対して十分な露光が行われず、後の
エッチング工程において基板周辺部の不要な成膜物を完
全に除去することができないため、基板周辺部に成膜物
が累積して凹凸を激化させたりあるいは不完全に残され
た成膜上に形成された他の成膜物が剥離して、歩留りを
低下させることとなるが、本発明によれば、基板周辺部
の不要な成膜物をその都度除去することができるため、
上記不都合を回避することができる。
１６３３号公報）を採用した場合、基板表面周辺部の不
要フォトレジストに対して十分な露光が行われず、後の
エッチング工程において基板周辺部の不要な成膜物を完
全に除去することができないため、基板周辺部に成膜物
が累積して凹凸を激化させたりあるいは不完全に残され
た成膜上に形成された他の成膜物が剥離して、歩留りを
低下させることとなるが、本発明によれば、基板周辺部
の不要な成膜物をその都度除去することができるため、
上記不都合を回避することができる。
【図１】本発明の第１の実施例の全体の構成を示す斜視
図。
図。
【図２】本発明の第１の実施例の要部断面図。
【図３】本発明の第１の実施例の露光状態を示す平面
図。
図。
【図４】本発明の第２の実施例の要部断面図。
【図５】本発明の第３の実施例の要部断面図。
【図６】従来例の断面図。
１ 周辺露光用光源 ２ａ、２ｂ、２ｃ 反射ミラー ３ ステージ ４ 液晶パネル用ガラス基板 ５ 固定アーム ６ フォトレジスト
Claims (9)
- 【請求項１】 概略四辺形の基板を保持するステージ
と、前記基板の周辺部上に位置し該基板の周辺部および
その外側を基板面に垂直な光にて照射する光源と、基板
の周辺部に位置し前記光源の光を前記基板の側面に向け
て反射するミラーと、を備える基板周辺部露光装置。 - 【請求項２】 前記光源および前記ミラーが前記基板の
両側に設けられていることを特徴とする請求項１記載の
基板周辺部露光装置。 - 【請求項３】 前記光源および前記ミラーまたは前記ス
テージのいずれかが他方に対し前記基板の露光される側
面に平行の方向に移動が可能であることを特徴とする請
求項１記載の基板周辺部露光装置。 - 【請求項４】 前記ステージが回転可能であることを特
徴とする請求項１記載の基板周辺部露光装置。 - 【請求項５】 前記光源および前記ミラーが前記基板の
露光される側面に垂直な方向に移動が可能であることを
特徴とする請求項１記載の基板周辺部露光装置。 - 【請求項６】 前記光源が、前記基板の露光される側面
に垂直な方向にその照射光の幅を増減する絞り機能を備
えていることを特徴とする請求項１記載の基板周辺部露
光装置。 - 【請求項７】 前記ミラーが前記基板の表面周辺部をも
その反射光で照射することを特徴とする請求項１記載の
基板周辺部露光装置。 - 【請求項８】 前記ミラーが前記基板の裏面周辺部をも
その反射光で照射することを特徴とする請求項１記載の
基板周辺部露光装置。 - 【請求項９】 前記ミラーと前記基板との間の前記基板
の下方に第２のミラーが配置され該第２のミラーにより
前記基板の裏面を照射することを特徴とする請求項１記
載の基板周辺部露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5148586A JPH06338453A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 基板周辺部露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5148586A JPH06338453A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 基板周辺部露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06338453A true JPH06338453A (ja) | 1994-12-06 |
Family
ID=15456064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5148586A Pending JPH06338453A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 基板周辺部露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06338453A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109976102A (zh) * | 2017-12-28 | 2019-07-05 | 豪雅冠得股份有限公司 | 光照射装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59138335A (ja) * | 1983-01-28 | 1984-08-08 | Toshiba Corp | ウエハ端部のレジスト露光装置 |
-
1993
- 1993-05-27 JP JP5148586A patent/JPH06338453A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59138335A (ja) * | 1983-01-28 | 1984-08-08 | Toshiba Corp | ウエハ端部のレジスト露光装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109976102A (zh) * | 2017-12-28 | 2019-07-05 | 豪雅冠得股份有限公司 | 光照射装置 |
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