JPH05342668A

JPH05342668A - 光磁気ディスクの製造方法および光磁気ディスク

Info

Publication number: JPH05342668A
Application number: JP17493392A
Authority: JP
Inventors: Hideki Hirata; 秀樹平田; Isamu Kuribayashi; 勇栗林; Hiroyuki Endo; 広行遠藤; Takeshi Komaki; 壮小巻
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1992-06-09
Filing date: 1992-06-09
Publication date: 1993-12-24
Anticipated expiration: 2014-11-29
Also published as: JP2983108B2

Abstract

(57)【要約】【目的】磁気ヘッドが常時摺動する方式に用いられる
光磁気ディスクを製造するに際し、磁気ヘッドとの間の
摩擦低減効果が大きく、しかもその持続性が良好であ
り、かつ信頼性の高い表面コート層を実現する。【構成】基板２上に、記録層５、樹脂製の下部保護コ
ート８、樹脂製の上部保護コート９を有し、磁界変調方
式の光磁気記録に用いられ、上部保護コート９表面で磁
気ヘッドが摺動するように使用される光磁気ディスクを
製造するに際し、下部保護コート８をスピンコート法に
より形成し、上部保護コート９をスクリーン印刷法によ
り形成する。上部保護コート表面の中心線平均粗さ（Ｒ
a ）は、０．０５〜１．０μm 。上部保護コート形成に
用いるスクリーンは、１インチあたり３５０メッシュ以
上。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁界変調方式の光磁気
ディスクおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】大容量情報担持媒体として光ディスクが
注目されている。このなかには、磁界変調方式の光磁気
ディスクがあり、データファイル等への応用が期待され
ている。磁界変調方式では、光ヘッドからレーザー光を
ディスクの記録層にＤＣ的に照射してその温度を上昇さ
せておき、これと同時に、変調された磁界を光ヘッドの
反対側に配置した磁気ヘッドから記録層に印加し、記録
を行なう。従って、この方式ではオーバーライト記録が
可能である。

【０００３】従来の光磁気ディスク装置では、主として
ＣＳＳ方式が採用されている。ＣＳＳ方式では浮上型の
磁気ヘッドが用いられ、ディスク回転の開始および終了
時にディスク表面に磁気ヘッドが接触する。このため、
ディスクの磁気ヘッド側表面には、磁気ヘッドの吸着や
クラッシュを防止するための保護コートが設けられてい
る。

【０００４】ＣＳＳ方式に用いられる光磁気ディスクの
保護コートには、例えば、含フッ素ポリウレタン系樹脂
を主成分とする樹脂組成物（特開平２−３０１０４０
号、同２−３０１０４１号）や、有機溶媒に可溶性のフ
ッ素樹脂を主成分とする樹脂組成物（特開平３−３７８
４４号）を用いることが提案されており、これらにおい
て、記録膜を構成する遷移金属元素よりもイオン化傾向
の大きい金属元素や滑材を含有させる旨も提案されてい
る。また、特開平２−４０１４９号には、紫外線硬化樹
脂に潤滑剤を混入させたものを用いる旨が、特開平３−
１７８４４号には潤滑層を用いる旨が、それぞれ提案さ
れている。また、特開平３−６２３３８号には、塗布に
より形成されるオーバーコート層にシリコン樹脂やＮｉ
などの微粒子を分散させて、その表面に０．１μm 以上
０．５μm 以下の凹凸を均一に存在させる旨が提案され
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】最近、コンパクトディ
スク（ＣＤ）と同じ線速度で記録・再生が可能な光磁気
ディスクが、光学系を追加ないし変更するだけでＣＤと
駆動装置を共用できるために注目されている。ＣＤの線
速度は１．２〜１．４m/s と低速であるため、磁気ヘッ
ドを浮上させることができず、上記したようなＣＳＳ方
式を使うことができない。このため、ディスク表面から
一定距離に保たれる固定型磁気ヘッドを用いることが考
えられる。

【０００６】しかし、固定型磁気ヘッドを用いた場合、
ディスクの面振れや駆動装置の振動により磁気ヘッドが
ディスクに衝突する恐れがある。また、ディスクの面振
れに磁気ヘッドを追随させるためにはサーボ手段を設け
る必要があり、駆動装置の構成が複雑となってしまう。

【０００７】このような事情から、本発明者らは磁気ヘ
ッドがディスク表面を常時摺動する構成とすることを考
え、この構成に対応する光磁気ディスクの研究を行なっ
た。

【０００８】その結果、磁気ヘッドがディスク表面にお
いて摺動する場合には、上記したＣＳＳ方式において提
案されている各種保護コートでは効果が不十分であるこ
とがわかった。

【０００９】すなわち、磁気ヘッドが保護コート表面に
おいて常時摺動しているため、潤滑剤を混入させた保護
コートでは潤滑効果の持続性が不十分となる。また、塗
膜中に微粒子を分散させて保護コートの表面粗さを大き
くする方法を用いる場合、特開平３−６２３３８号に開
示されているような０．１μm 以上０．５μm 以下の凹
凸が形成されるような微細な粒子では保護コート表面の
粗さが不足し、摩擦低減効果が不十分である。これらの
ため、磁気ヘッドとの間の摩擦を常に低く保つことが困
難である。また、金属やセラミックスの微粒子は硬度が
高いため、磁気ヘッドを損傷する恐れがある。

【００１０】また、上記各公報に示される保護コートは
単層構成であり、保護コートにはスルーホールなどの欠
陥が存在するため、信頼性に問題がある。特に、微粒子
を分散させた保護コートでは、高温高湿環境におかれる
と保護コートにクラックが発生することがあり、十分な
信頼性が得られない。

【００１１】本発明はこのような事情からなされたもの
であり、磁気ヘッドが常時摺動する方式に用いられる光
磁気ディスクを製造するに際し、磁気ヘッドとの間の摩
擦低減効果が大きく、しかもその持続性が良好であり、
かつ信頼性の高い表面コート層を実現することを目的と
する。

【００１２】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（８）の構成によって逹成される。

【００１３】（１）基板上に記録層を有し、記録層上に
樹脂製の下部保護コートを有し、前記下部保護コート上
に前記下部保護コートと密着して樹脂製の上部保護コー
トを有し、磁界変調方式の光磁気記録に用いられ、前記
上部保護コート表面で磁気ヘッドが摺動するように使用
される光磁気ディスクを製造する方法であって、前記下
部保護コートをスピンコート法により形成し、前記上部
保護コートをスクリーン印刷法により中心線平均粗さ
（Ｒa ）が０．０５〜１．０μm となるように形成する
ことを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。

【００１４】（２）基板上に記録層を有し、記録層上に
樹脂製の下部保護コートを有し、前記下部保護コート上
に前記下部保護コートと密着して樹脂製の上部保護コー
トを有し、磁界変調方式の光磁気記録に用いられ、前記
上部保護コート表面で磁気ヘッドが摺動するように使用
される光磁気ディスクを製造する方法であって、前記下
部保護コートをスピンコート法により形成し、前記上部
保護コートを１インチあたり３５０メッシュ以上のスク
リーンを用いてスクリーン印刷法により形成することを
特徴とする光磁気ディスクの製造方法。

【００１５】（３）前記上部保護コート中に粒子を分散
させる上記（１）または（２）に記載の光磁気ディスク
の製造方法。

【００１６】（４）前記上部保護コートを形成するため
に用いる印刷用塗料の粘度が１００〜１００，０００cp
s である上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の光
磁気ディスクの製造方法。

【００１７】（５）前記上部保護コートの厚さが５〜１
５μm である上記（１）ないし（４）のいずれかに記載
の光磁気ディスクの製造方法。

【００１８】（６）前記下部保護コートおよび前記上部
保護コートに放射線硬化樹脂を用いる上記（１）ないし
（５）のいずれかに記載の光磁気ディスクの製造方法。

【００１９】（７）前記上部保護コート中における前記
粒子の含有量が５〜５０重量％である上記（１）ないし
（６）のいずれかに記載の光磁気ディスクの製造方法。

【００２０】（８）上記（１）ないし（７）のいずれか
に記載の方法により製造されたことを特徴とする光磁気
ディスク。

【００２１】

【作用および効果】本発明では、光磁気ディスクの記録
層上に、無機材質の保護層や反射層を形成し、その上に
スピンコート法により下部保護コートを形成し、さら
に、スクリーン印刷法により上部保護コートを形成す
る。

【００２２】スピンコート法では無機材質の最上層を傷
つけずに下部保護コートを形成でき、そして、スクリー
ン印刷法により形成される緻密な上部保護コートによ
り、下部保護コートの欠陥をカバーできる。

【００２３】そして、スクリーンのメッシュ密度を変更
することにより上部保護コートの表面粗さを調整できる
ので、常時接触する磁気ヘッドとの間の摩擦を極めて低
くできる程度の表面粗さを有する上部保護コートが実現
する。

【００２４】また、上部保護コート中にカーボン粒子等
の無機材粒子を分散させることにより、さらに優れた摩
擦低減効果が得られる。

【００２５】なお、特開平１−２１１２５７号公報に
は、反射膜の上の媒体最上部にレーベル印刷層を有する
光情報記録媒体が記載されている。同公報では、前記レ
ーベル印刷層の印刷工程において、１色目のユニットで
反射膜を保護するための保護膜を形成し、２色目以降の
ユニットでレーベル印刷を行なっている。すなわち、反
射膜と接する保護膜は印刷法により形成されるのであ
り、反射膜を損傷する恐れがある。しかも、同公報にお
けるレーベル印刷層は文字パターンや図形パターンを表
示するためのものであり、これにより記録領域の媒体表
面に凹凸を生じるので、磁気ヘッドが常時接触する光磁
気ディスクに適用することはできない。また、同公報で
は紫外線硬化型インキを用いており、１色目はベタ印刷
で顔料を含むが、顔料を含ませた場合には樹脂の硬化性
が低下してしまう。１色目は金属反射膜に接しているた
め、金属反射膜の保護効果が不十分となり、高い信頼性
が得られない。

【００２６】また、同１−２４３２５１号公報には、透
明樹脂層の一方の表面にピットが形成され、該ピットに
金属反射膜が設けられ、さらに保護層、レーベル印刷が
順に施された光学式ディスクが記載されている。同公報
における保護層は、ホワイトチタンを含有する紫外線硬
化型のアクリル系樹脂からなるものであり、スピンコー
トまたは印刷により形成される。この場合も上記特開平
１−２１１２５７号公報と同様に、ディスク最上層がレ
ーベル印刷層であるため常時接触型の磁気ヘッドは使え
ない。また、この光学式ディスクの保護層は本発明にお
ける下部保護コートに相当するが、保護層にホワイトチ
タンなどの顔料を入れた場合、上記したように高い信頼
性が得られない。

【００２７】また、同２−７２４９号公報および同２−
１４９９５１号公報には、同一装置内にて、記録膜また
は反射膜の設けられたディスク基板上に、スクリーン印
刷法にて紫外線硬化型樹脂製の保護膜を形成したのち、
上記保護膜の設けられたディスク基板上に、スクリーン
印刷法にて紫外線硬化型樹脂製の印刷膜を形成して光デ
ィスクを製造する方法が記載されている。このように記
録膜や反射膜の上に直接スクリーン印刷を施すと、記録
膜や反射膜を損傷する恐れがある。しかも、保護膜の上
の印刷膜はレーベル印刷膜であるため、上記各公報と同
様に常時接触型磁気ヘッドを用いることはできない。

【００２８】また、上記各公報には、常時摺動型の磁気
ヘッドを用いる場合の好ましい媒体表面粗さや、用いる
印刷用スクリーンの好ましいメッシュ密度についての記
載はない。

【００２９】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００３０】本発明により製造される光磁気ディスク
は、基板上に記録層を有し、記録層上に樹脂製の下部保
護コートを有し、前記下部保護コート上に前記下部保護
コートと密着して樹脂製の上部保護コートを有する。こ
の光磁気ディスクは、磁界変調方式の光磁気記録に用い
られ、前記上部保護コート表面で磁気ヘッドが摺動する
ように使用される。

【００３１】本発明により製造される光磁気ディスクの
一構成例を図１に示す。同図において、光磁気ディスク
１は、基板２表面上に、保護層４、記録層５、保護層
６、反射層７、下部保護コート８および上部保護コート
９を有する。ディスク駆動時には、上部保護コート９表
面で磁気ヘッドが摺動する。なお、磁気ヘッドは、通
常、サスペンションで支持する構成としてディスクの面
振れに追従可能とするので、ディスク表面から離れるこ
とはない。

【００３２】本発明では、下部保護コート８をスピンコ
ート法により形成し、上部保護コート９をスクリーン印
刷法により形成する。

【００３３】常時接触している磁気ヘッドとの間の摩擦
を小さく保つために、上部保護コート表面は、JIS B 06
01において規定されている中心線平均粗さ（Ｒa ）が
０．０５〜１．０μm 、特に０．１〜０．５μm （測定
長０．５mm）であることが好ましい。Ｒa が前記範囲未
満であると磁気ヘッドの摺動の際の摩擦が大きくなり過
ぎ、磁気ヘッドおよび駆動装置に対する負荷が問題とな
る。Ｒa が前記範囲を超えている場合も摩擦が大きくな
りすぎる。このようなＲa とするためには、スクリーン
印刷の際に各種条件を適宜設定すればよいが、印刷条件
のうちＲa に最も関係が深いのはスクリーンのメッシュ
密度である。本発明では、１インチあたり３５０メッシ
ュ以上、特に３５５〜４２０メッシュのスクリーンを用
いることが好ましい。１インチあたりのメッシュが前記
範囲未満であるとＲa が小さくなりすぎ、また、上部保
護コートの厚さが厚くなりすぎる。１インチあたりのメ
ッシュが前記範囲を超えていると、印刷用塗料がスクリ
ーンを通過しづらくなり、印刷が困難となる傾向にあ
る。

【００３４】また、上部保護コートのＲa は、印刷用塗
料の粘度にも関係する。印刷用塗料は、樹脂と、必要に
応じて添加される各種顔料や固体潤滑材などを含む。上
記したようなスクリーンを用いる場合、印刷が容易とな
ること、および適当なＲa が得られることから、印刷用
塗料の粘度を１００〜１００，０００cps 、特に５，０
００〜５０，０００cps とすることが好ましい。粘度が
前記範囲未満となるとスクリーンのはなれが悪くなって
印刷が困難となる傾向にあり、粘度が前記範囲を超える
と上部保護コートの厚さが厚くなってしまい、ディスク
に反りが発生する傾向にある。

【００３５】上部保護コート９中には、粒子が分散され
ていることが好ましい。粒子としては、粒子自体が摩擦
低減作用を示す各種無機材粒子や有機材粒子が好まし
い。適当な径の粒子を含有させることにより表面のＲa
を制御することができる。粒子の形状に特に制限はな
く、球状、薄片状、塊状、繊維状等のいずれであっても
よいが、好ましくは球状のものを用いる。

【００３６】本発明で用いる粒子としては、特にカーボ
ン粒子が好ましい。カーボン粒子はそれ自体が潤滑作用
を示し、また、硬度が低いため磁気ヘッドを損傷するこ
とがない。なお、カーボン粒子は市販のものを用いても
よく、樹脂粒子などを焼成して製造してもよい。上部保
護コート９全体に対するカーボン粒子の含有量は適宜選
択すればよいが、通常、５〜５０重量％、特に１０〜３
０重量％とすることが好ましい。含有量が前記範囲未満
であると摩擦低減効果が不十分となる傾向にあり、含有
量が前記範囲を超えている場合、分散状態が不良とな
り、また、塗料の粘性が大きくなって塗工が困難となる
傾向にある。

【００３７】用いる粒子の平均径は特に限定されない
が、通常、０．０１〜１０μm の範囲から適宜選択すれ
ばよい。

【００３８】また、本発明ではカーボン粒子の他、フッ
素系樹脂粒子や、アルミナ粒子、酸化チタン粒子などを
用いてもよく、これらの粒子を併用してもよい。

【００３９】これらの粒子は、通常、上部保護コート９
中に均一に分散させることが好ましいが、必要に応じて
表層に偏在させてもよい。

【００４０】上部保護コート９を構成する樹脂は、放射
線硬化樹脂であることが好ましい。具体的には、放射線
硬化型化合物やその重合用組成物を放射線硬化させた物
質から構成されることが好ましい。このようなものとし
ては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性を
示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結
合等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分子
中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポ
リマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に
３官能以上であることが好ましく、１種のみ用いても２
種以上併用してもよい。

【００４１】放射線硬化性モノマーとしては、分子量２
０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０
００〜１００００のものが好適である。これらはスチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
メタクリレート、1,6-ヘキサングリコールジアクリレー
ト、1,6-ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げ
られるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート（メタクリレート) 、ペンタ
エリスリトールアクリレート（メタクリレート) 、トリ
メチロールプロパントリアクリレート（メタクリレー
ト) 、トリメチロールプロパンジアクリレート（メタク
リレート)、ウレタンエラストマーのアクリル変性体、
あるいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入され
たもの、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレ
ート（メタクリレート) 、特願昭６２−０７２８８８号
に示されるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基
（メタクリル基）またはε−カプロラクトン−アクリル
基のついた化合物、および特願昭６２−０７２８８８号
に示される特殊アクリレート類等のアクリル基含有モノ
マーおよび／またはオリゴマーが挙げられる。この他、
放射線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアク
リレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体、あ
るいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入された
もの等が挙げられる。

【００４２】また、上記の化合物に加えて、あるいはこ
れにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによ
って得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。この
ような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重
合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタク
リル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアク
リル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系
二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結
合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱
可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂であ
る。放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例と
しては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂
としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエス
テル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（Ｐ
ＶＰオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸
基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステ
ルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等
も有効である。

【００４３】重合用塗布組成物は放射線照射、特に紫外
線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重
合開始剤ないし増感剤が含有されることが好ましい。用
いる光重合開始剤ないし増感剤に特に制限はなく、例え
ば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン
系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すれ
ばよい。なお、光重合開始剤ないし増感剤として、複数
の化合物を併用してもよい。重合用組成物中における光
重合開始剤の含有量は、通常０．５〜５重量％程度とす
ればよい。このような重合用組成物は、常法に従い合成
してもよく、市販の化合物を用いて調製してもよい。

【００４４】上部保護コート９を形成するための放射線
硬化型化合物を含有する組成物としては、エポキシ樹脂
および光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使
用される。

【００４５】エポキシ樹脂としては、脂環式エポキシ樹
脂が好ましく、特に、分子内に２個以上のエポキシ基を
有するものが好ましい。脂環式エポキシ樹脂としては、
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）アジペート、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−
３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサ
ン、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテ
ル、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の１種以上が好
ましい。脂環式エポキシ樹脂のエポキシ当量に特に制限
はないが、良好な硬化性が得られることから、６０〜３
００、特に１００〜２００であることが好ましい。

【００４６】光カチオン重合触媒は、公知のいずれのも
のを用いてもよく、特に制限はない。例えば、１種以上
の金属フルオロホウ酸塩および三フッ化ホウ素の錯体、
ビス（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属
塩、アリールジアゾニウム化合物、６Ａ族元素の芳香族
オニウム塩、５Ａ族元素の芳香族オニウム塩、３Ａ族〜
５Ａ族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム
塩、ＭＦ₆ アニオン（ただしＭは、Ｐ、ＡｓまたはＳ
ｂ）を有する６Ａ族元素、トリアリールスルホニウム錯
塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩
等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウ
ム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩
またはイオドニウム塩、３Ａ族元素、５Ａ族元素および
６Ａ族元素の芳香族オニウム塩の１種以上を用いること
が好ましい。

【００４７】また、有機金属化合物と光分解性を有する
有機けい素化合物とを含有する光カチオン重合触媒も用
いることができる。このような光カチオン重合触媒は非
強酸系であるため、光磁気記録ディスクの腐食性の高い
記録層に対する悪影響を避けることができる。有機金属
化合物としては、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ａl 、Ｚｒ等の金属原子に、アルコ
キシ基、フェノキシ基、β−ジケトナト基等が結合した
錯体化合物が好ましい。これらのうち特に有機アルミニ
ウム化合物が好ましく、具体的には、トリスメトキシア
ルミニウム、トリスプロピオナトアルミニウム、トリス
トリフルオロアセチルアルミニウム、トリスエチルアセ
トアセトナトアルミニウムが好ましい。

【００４８】光分解性を有する有機けい素化合物は、紫
外線等の光照射によりシラノールを生じるものであり、
ペルオキシシラノ基、ｏ−ニトロベンジル基、α−ケト
シリル基等を有するけい素化合物が好ましい。

【００４９】組成物中の光カチオン重合触媒の含有量
は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、０．０５〜０．
７重量部、特に０．１〜０．５重量部であることが好ま
しい。

【００５０】このようななかでも、放射線硬化型化合物
としてアクリル基を有するものを用い、光重合増感剤な
いし開始剤を含有する塗膜を放射線、特に紫外線硬化し
たものであることが好ましい。

【００５１】上部保護コート９の厚さは、５〜１５μm
、好ましくは７〜１２μm とするのがよい。膜厚が薄
すぎるとスクリーン印刷法により一様な膜を形成するこ
とが困難となり、耐久性が不十分となってくる。また、
厚すぎると、硬化の際の収縮によりクラックが生じた
り、ディスクに反りが発生し易くなってくる。

【００５２】上部保護コート９を形成するには、例えば
以下のようにする。まず、前記のような樹脂、好ましく
は放射線硬化樹脂用組成物に、必要に応じてカーボン粒
子等の粒子を所定量添加し、このものの塗膜をスクリー
ン印刷法により下部保護コート８上に形成する。下部保
護コート８に硬化が必要な材質を用いる場合には、塗膜
形成前に下部保護コート８を硬化しておく。なお、上部
保護コート９はスクリーン印刷法により形成するので、
スピンコート法と異なり記録領域上だけに選択的に塗布
することができる。このため、樹脂使用量が少なくてす
む。

【００５３】次いで、紫外線を照射して塗膜を硬化す
る。なお、場合によっては、加熱後に紫外線を照射して
もよく、紫外線のかわりに電子線等を照射してもよい。
塗膜に照射する紫外線強度は、通常、５０mW/cm²程度以
上、照射量は、通常、５００〜２０００mJ/cm²程度とす
ればよい。また、紫外線源としては、水銀灯などの通常
のものを用いればよい。紫外線の照射により、上記各化
合物はラジカル重合する。

【００５４】下部保護コート８は、反射層７までのスパ
ッタ積層膜の保護のために設けられる。下部保護コート
８はスピンコートにより形成する。スピンコートの条件
は特に限定されず、通常の条件から適宜選択すればよ
い。下部保護コート８に用いる樹脂は特に限定されない
が、好ましくは上記した放射線硬化樹脂を用いる。下部
保護コート８の厚さは０．１〜１０μm 、特に１〜７μ
m とすることが好ましい。

【００５５】下部保護コート８と上部保護コート９との
合計厚さは特に限定されず、記録層５において必要とさ
れる磁界強度、磁気ヘッドの能力、駆動装置の規格等に
応じて適宜決定すればよいが、通常、８〜２０μm 程度
とする。

【００５６】本発明の光磁気ディスクに対し記録および
再生を行なう際には、光学ヘッドは基板２の裏面側（図
中下側）に位置し、基板を通してレーザー光が照射され
るので、基板には、ガラスや、ポリカーボネート、アク
リル樹脂、非晶質ポリオレフィン、スチレン系樹脂等の
透明樹脂が用いられる。基板２の記録層５側表面には、
通常、トラッキング用やアドレス用等のグルーブやピッ
トが形成されている。

【００５７】保護層４および保護層６は、Ｃ／Ｎの向上
および記録層の腐食防止作用を有し、層厚は３０〜３０
０nm程度とされる。これら保護層は少なくとも一方、好
ましくは両方設けられることが望ましい。これらの保護
層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物あるいはこ
れらの混合物からなる誘電体物質から構成されることが
好ましく、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等の
各種気相成膜法により形成されることが好ましい。

【００５８】記録層５は、変調された熱ビームあるいは
変調された磁界により、情報が磁気的に記録されるもの
であり、記録情報は磁気−光変換して再生されるもので
ある。記録層５は、光磁気記録が行なえるものであれば
その材質に特に制限はないが、例えば、希土類金属元素
を含有する合金、特に希土類金属と遷移金属との合金
を、スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等、特にス
パッタにより、非晶質膜として形成したものであること
が好ましい。具体的組成としては、ＴｂＦｅＣｏ、Ｄｙ
ＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ、ＮｄＧｄＦｅＣｏ等
が挙げられる。記録層５の層厚は、通常、１０〜１００
０nm程度である。

【００５９】反射層７は必要に応じて設けられる。反射
層７を構成する材質は、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｏ等の比較的高反射率の金属、ある
いはこれらの合金、あるいはこれらの化合物であってよ
い。反射層７は、記録層５と同様にして設層すればよ
い。反射層７の層厚は３０〜２００nm程度とすることが
好ましい。

【００６０】なお、基板２の裏面側には、図示されるよ
うに透明なハードコート３を形成してもよい。ハードコ
ートの材質および厚さは、下部保護コート８と同様とす
ればよい。ハードコートには、例えば界面活性剤の添加
などにより帯電防止性を付与することが好ましい。ハー
ドコートは、ディスク主面だけに限らず、ディスクの外
周側面や内周側面に設けてもよい。

【００６１】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００６２】下記表１に示される光磁気ディスクサンプ
ルを作製した。

【００６３】まず、外径６４mm、内径１１mm、記録部厚
さ１．２mmのポリカーボネート樹脂基板の一方の主面お
よび周側面に、ハードコート用組成物の塗膜を形成し、
この塗膜を紫外線硬化して、厚さ約５μm のハードコー
トを形成した。

【００６４】次いで、ハードコート形成面の反対側主面
に、ＳｉＮ_x 保護層を高周波マグネトロンスパッタによ
り層厚８０nmに設層した。次に、この保護層上に、Ｔｂ
₂₃Ｆｅ₇₂Ｃｏ₅ の組成を有する記録層を、スパッタによ
り層厚２０nmに設層した。さらに、この記録層上に、前
記保護層と同組成の２０nmの保護層を高周波マグネトロ
ンスパッタにより設層し、この保護層上に、８０nmのＡ
ｌ合金反射層、下部保護コートおよび上部保護コートを
順に設層した。

【００６５】下部保護コートは、下記の重合用組成物の
塗膜をスピンコート法によって形成し、この塗膜に紫外
線を照射して硬化したものであり、硬化後の平均厚さは
約５μm とした。紫外線照射量は１０００mJ/cm²とし
た。

【００６６】重合用組成物オリゴエステルアクリレート（分子量５，０００）５０重量部トリメチロールプロパントリアクリレート５０重量部アセトフェノン系光重合開始剤３重量部上部保護コートは以下のようにして形成した。カーボン
粒子を含む紫外線硬化樹脂組成物｛大日本インキ製SSD-
582(BLACK)｝またはカーボン粒子を含まない紫外線硬化
樹脂組成物（大日本インキ製SSD M BASE）を、硬化後の
下部保護コート上にスクリーン印刷法により塗設し、こ
れを下部保護コートと同様にして硬化した。硬化後の平
均厚さは約１０μm であった。印刷に用いたスクリーン
の１インチあたりのメッシュ数を表１に示す。

【００６７】また、上部保護コートをスピンコート法に
より形成した他は上記と同様にして比較サンプル（サン
プルNo. ４）を作製した。また、上部保護コートを設け
ない比較サンプル（サンプルNo. ５）も作製した。この
比較サンプルでは、上記した大日本インキ製SSD-582(BL
ACK)をスピンコート法により反射層上に塗工して下部保
護コートとした。

【００６８】各サンプルの記録層側表面のＲa を表１に
示す。なお、Ｒa はタリステップにより測定した。

【００６９】これらのサンプルについて、下記の評価を
行なった。結果を表１に示す。（１）動摩擦係数プラス社製３．５”磁気ディスクドライブを用い、１rp
m でディスクを回転し、ヘッドにかかる応力を測定し、
これから動摩擦係数μを算出した。荷重は１５g とし
た。

【００７０】（２）信頼性試験ＶＲＦ−２０００（ナカミチ製）を用い、初期のバイト
エラーレート（ＢＥＲ）および８０℃・８０％ＲＨにて
１０００時間保存後のＢＥＲを測定した。

【００７１】

【表１】

【００７２】表１に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。

【００７３】なお、サンプルNo. ５では、８０℃・８０
％ＲＨにて１０００時間保存後に、下部保護コートにク
ラックが発生していた。また、下部保護コートをスクリ
ーン印刷法により形成したサンプルも作製したが、この
サンプルでは印刷時に記録層に傷がはいり、ＶＲＦ−２
０００にサンプルをかけることができなかった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光磁気ディスクの１例を示す部分断面
図である。

【符号の説明】

１光磁気ディスク２基板３ハードコート４保護層５記録層６保護層７反射層８下部保護コート９上部保護コート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小巻壮東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティーディーケイ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に記録層を有し、記録層上に樹脂
製の下部保護コートを有し、前記下部保護コート上に前
記下部保護コートと密着して樹脂製の上部保護コートを
有し、磁界変調方式の光磁気記録に用いられ、前記上部
保護コート表面で磁気ヘッドが摺動するように使用され
る光磁気ディスクを製造する方法であって、前記下部保護コートをスピンコート法により形成し、前
記上部保護コートをスクリーン印刷法により中心線平均
粗さ（Ｒa ）が０．０５〜１．０μm となるように形成
することを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。
【請求項２】基板上に記録層を有し、記録層上に樹脂
製の下部保護コートを有し、前記下部保護コート上に前
記下部保護コートと密着して樹脂製の上部保護コートを
有し、磁界変調方式の光磁気記録に用いられ、前記上部
保護コート表面で磁気ヘッドが摺動するように使用され
る光磁気ディスクを製造する方法であって、前記下部保護コートをスピンコート法により形成し、前
記上部保護コートを１インチあたり３５０メッシュ以上
のスクリーンを用いてスクリーン印刷法により形成する
ことを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。
【請求項３】前記上部保護コート中に粒子を分散させ
る請求項１または２に記載の光磁気ディスクの製造方
法。
【請求項４】前記上部保護コートを形成するために用
いる印刷用塗料の粘度が１００〜１００，０００cps で
ある請求項１ないし３のいずれかに記載の光磁気ディス
クの製造方法。
【請求項５】前記上部保護コートの厚さが５〜１５μ
m である請求項１ないし４のいずれかに記載の光磁気デ
ィスクの製造方法。
【請求項６】前記下部保護コートおよび前記上部保護
コートに放射線硬化樹脂を用いる請求項１ないし５のい
ずれかに記載の光磁気ディスクの製造方法。
【請求項７】前記上部保護コート中における前記粒子
の含有量が５〜５０重量％である請求項１ないし６のい
ずれかに記載の光磁気ディスクの製造方法。
【請求項８】請求項１ないし７のいずれかに記載の方
法により製造されたことを特徴とする光磁気ディスク。