JPH05339181A - 安定化された溶剤組成物 - Google Patents
安定化された溶剤組成物Info
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- JPH05339181A JPH05339181A JP17618092A JP17618092A JPH05339181A JP H05339181 A JPH05339181 A JP H05339181A JP 17618092 A JP17618092 A JP 17618092A JP 17618092 A JP17618092 A JP 17618092A JP H05339181 A JPH05339181 A JP H05339181A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】カルボン酸の第１級アミン塩および含水素塩素
化弗素化プロパンからなる溶剤組成物を、金属が共存す
る水切り洗浄などに際しても安定せしめる。 【構成】溶剤組成物中に、ニトロ化合物類、フェノール
類、アミン類、エーテル類、アミレン類、エステル類、
有機ホスファイト類、エポキサイド類、ピロール類、ア
ルコール類、ケトン類、アミド類およびトリアゾール類
の少なくとも１種の安定剤を含有させる。
化弗素化プロパンからなる溶剤組成物を、金属が共存す
る水切り洗浄などに際しても安定せしめる。 【構成】溶剤組成物中に、ニトロ化合物類、フェノール
類、アミン類、エーテル類、アミレン類、エステル類、
有機ホスファイト類、エポキサイド類、ピロール類、ア
ルコール類、ケトン類、アミド類およびトリアゾール類
の少なくとも１種の安定剤を含有させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、安定化された含水素塩
素化弗素化プロパン溶剤組成物に関する。
素化弗素化プロパン溶剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】先に、本出願人は、カルボン酸の第１級
アミン塩および含水素塩素化弗素化プロパンを含有する
水切り用溶剤組成物を提案している。
アミン塩および含水素塩素化弗素化プロパンを含有する
水切り用溶剤組成物を提案している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記溶剤組成物は、レ
ンズ、液晶表示装置部品、電子部品、精密機械部品等の
固体表面の水分除去に適しているが、金属が共存した場
合の安定性の面で必ずしも充分ではない。
ンズ、液晶表示装置部品、電子部品、精密機械部品等の
固体表面の水分除去に適しているが、金属が共存した場
合の安定性の面で必ずしも充分ではない。
【０００４】本発明は、金属が共存した場合にも充分な
安定性を示す前記溶剤組成物を提供することを目的とす
る。
安定性を示す前記溶剤組成物を提供することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の目的を
達成すべくなされたものであり、カルボン酸の第１級ア
ミン塩および含水素塩素化弗素化プロパンを含有する溶
剤組成物に、ニトロ化合物類、フェノール類、アミン
類、エーテル類、アミレン類、エステル類、有機ホスフ
ァイト類、エポキサイド類、ピロール類、アルコール
類、ケトン類、アミド類およびトリアゾール類の群から
選ばれる少なくとも１種の安定剤が添加されてなること
を特徴とする安定化された溶剤組成物を提供するもので
ある。
達成すべくなされたものであり、カルボン酸の第１級ア
ミン塩および含水素塩素化弗素化プロパンを含有する溶
剤組成物に、ニトロ化合物類、フェノール類、アミン
類、エーテル類、アミレン類、エステル類、有機ホスフ
ァイト類、エポキサイド類、ピロール類、アルコール
類、ケトン類、アミド類およびトリアゾール類の群から
選ばれる少なくとも１種の安定剤が添加されてなること
を特徴とする安定化された溶剤組成物を提供するもので
ある。
【０００６】本発明において、含水素塩素化弗素化プロ
パンとしては、１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３
−ペンタフルオロプロパン（Ｒ２２５ｃａ）、１，３−
ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパ
ン（Ｒ２２５ｃｂ）、１−クロロ−１，２，２，３，３
−ペンタフルオロプロパン（Ｒ２３５ｃａ）、１，３−
ジクロロ−２，２，３，３−テトラフルオロプロパン
（Ｒ２３４ｃｃ）、１−クロロ−２，２，３，３−テト
ラフルオロプロパン（Ｒ２４４ｃａ）、１，１−ジクロ
ロ−１，２，２−トリフルオロプロパン（Ｒ２４３ｃ
ｃ）、１，１，３−トリクロロ−２，２，３，３−テト
ラフルオロプロパン（Ｒ２２４ｃａ）、１，３−ジクロ
ロ−２，２−ジフルオロプロパン（Ｒ２５２ｃａ）、
１，３，３−トリクロロ−１，２，２，３−テトラフル
オロプロパン（Ｒ２４４ｃｂ）、１，１−ジクロロ−
２，２−ジフルオロプロパン（Ｒ２５２ｃｂ）、１−ク
ロロ−２，２−ジフルオロプロパン（Ｒ２６２ｃａ）等
から選ばれる１種または２種以上の混合物が好ましい
が、製造上の不純物が少量含まれていてもよく、また、
他の塩素化弗素化炭化水素を併用してもよい。
パンとしては、１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３
−ペンタフルオロプロパン（Ｒ２２５ｃａ）、１，３−
ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパ
ン（Ｒ２２５ｃｂ）、１−クロロ−１，２，２，３，３
−ペンタフルオロプロパン（Ｒ２３５ｃａ）、１，３−
ジクロロ−２，２，３，３−テトラフルオロプロパン
（Ｒ２３４ｃｃ）、１−クロロ−２，２，３，３−テト
ラフルオロプロパン（Ｒ２４４ｃａ）、１，１−ジクロ
ロ−１，２，２−トリフルオロプロパン（Ｒ２４３ｃ
ｃ）、１，１，３−トリクロロ−２，２，３，３−テト
ラフルオロプロパン（Ｒ２２４ｃａ）、１，３−ジクロ
ロ−２，２−ジフルオロプロパン（Ｒ２５２ｃａ）、
１，３，３−トリクロロ−１，２，２，３−テトラフル
オロプロパン（Ｒ２４４ｃｂ）、１，１−ジクロロ−
２，２−ジフルオロプロパン（Ｒ２５２ｃｂ）、１−ク
ロロ−２，２−ジフルオロプロパン（Ｒ２６２ｃａ）等
から選ばれる１種または２種以上の混合物が好ましい
が、製造上の不純物が少量含まれていてもよく、また、
他の塩素化弗素化炭化水素を併用してもよい。
【０００７】カルボン酸の第１級アミン塩を構成するカ
ルボン酸としては、例えばカプロン酸、カプリル酸、カ
プリン酸、ラウリン酸等の炭素数６〜１２の直鎖もしく
は分岐状脂肪族カルボン酸が好ましい。
ルボン酸としては、例えばカプロン酸、カプリル酸、カ
プリン酸、ラウリン酸等の炭素数６〜１２の直鎖もしく
は分岐状脂肪族カルボン酸が好ましい。
【０００８】カルボン酸の第１級アミン塩を構成する第
１級アミンとしては、ヘキシルアミン、カプリルアミ
ン、デシルアミン、ドデシルアミン等の炭素数６〜１２
の直鎖もしくは分岐状脂肪族第１級アミンが好ましい。
１級アミンとしては、ヘキシルアミン、カプリルアミ
ン、デシルアミン、ドデシルアミン等の炭素数６〜１２
の直鎖もしくは分岐状脂肪族第１級アミンが好ましい。
【０００９】カルボン酸の第１級アミン塩の溶剤組成物
中の濃度としては、０．１〜２０重量％の範囲が望まし
い。
中の濃度としては、０．１〜２０重量％の範囲が望まし
い。
【００１０】溶剤組成物中には、カルボン酸と第１級ア
ミンとが１：１のモル比で形成された塩の他に、遊離し
たカルボン酸や第１級アミンが存在していてもよい。カ
ルボン酸：第１級アミンの存在モル比は、塩を形成して
いるものと遊離しているものを合計して、０．５：１〜
２：１の範囲から選定され、好ましくは０．８：１〜
１．４：１程度であり、この範囲を外れると水切り性能
などが低下する傾向が認められる。
ミンとが１：１のモル比で形成された塩の他に、遊離し
たカルボン酸や第１級アミンが存在していてもよい。カ
ルボン酸：第１級アミンの存在モル比は、塩を形成して
いるものと遊離しているものを合計して、０．５：１〜
２：１の範囲から選定され、好ましくは０．８：１〜
１．４：１程度であり、この範囲を外れると水切り性能
などが低下する傾向が認められる。
【００１１】本発明の溶剤組成物を水切り用溶剤として
用いる付着水除去方法は、特に限定されないが、スプレ
ーやシャワーによる方法、あるいは冷浴、温浴、蒸気浴
または超音波浴による浸漬法、さらにはこれらの浴を組
み合わせる浸漬法などがあげられ得る。
用いる付着水除去方法は、特に限定されないが、スプレ
ーやシャワーによる方法、あるいは冷浴、温浴、蒸気浴
または超音波浴による浸漬法、さらにはこれらの浴を組
み合わせる浸漬法などがあげられ得る。
【００１２】本発明の溶剤組成物は、水切り用溶剤とし
て広範囲に使用できるが、特に沸点に近い比較的高温
で、水切り対象物や洗浄装置材質が金属である場合に、
好適である。特に接触する金属が銅もしくは銅合金であ
る場合には、さらに安定化効果が発揮され得る。
て広範囲に使用できるが、特に沸点に近い比較的高温
で、水切り対象物や洗浄装置材質が金属である場合に、
好適である。特に接触する金属が銅もしくは銅合金であ
る場合には、さらに安定化効果が発揮され得る。
【００１３】本発明においては、ニトロ化合物類、フェ
ノール類、アミン類、エーテル類、アミレン類、エステ
ル類、有機ホスファイト類、エポキサイド類、ピロール
類、アルコール類、ケトン類、アミド類およびトリアゾ
ール類の群から選ばれる少なくとも一種の安定剤を添加
することが重要である。
ノール類、アミン類、エーテル類、アミレン類、エステ
ル類、有機ホスファイト類、エポキサイド類、ピロール
類、アルコール類、ケトン類、アミド類およびトリアゾ
ール類の群から選ばれる少なくとも一種の安定剤を添加
することが重要である。
【００１４】これらの安定剤は、一種類単独であるいは
二種類以上の混合物として用いることができ、溶剤組成
物の使用条件が苛酷で、高い安定化効果を必要とする場
合には、二種類以上の安定剤の混合使用が有効である。
通常は、ニトロ化合物類、トリアゾール類、フェノール
類およびエポキサイド類の群から選ばれる少なくとも二
種を組み合わせて混合使用するのが望ましい。
二種類以上の混合物として用いることができ、溶剤組成
物の使用条件が苛酷で、高い安定化効果を必要とする場
合には、二種類以上の安定剤の混合使用が有効である。
通常は、ニトロ化合物類、トリアゾール類、フェノール
類およびエポキサイド類の群から選ばれる少なくとも二
種を組み合わせて混合使用するのが望ましい。
【００１５】安定剤の添加量は、特に限定されるもので
はないが、溶剤組成物に対して重量部基準で、１ｐｐｍ
〜１０％、好ましくは１０ｐｐｍ〜５％、さらに好まし
くは１００ｐｐｍ〜３％である。
はないが、溶剤組成物に対して重量部基準で、１ｐｐｍ
〜１０％、好ましくは１０ｐｐｍ〜５％、さらに好まし
くは１００ｐｐｍ〜３％である。
【００１６】ニトロ化合物類としては、ニトロメタン
（NM）、ニトロエタン、１−ニトロプロパン、２−ニト
ロプロパン、ニトロベンゼン等から選ばれるものであ
る。好ましくはニトロメタン、ニトロエタンが例示され
得る。
（NM）、ニトロエタン、１−ニトロプロパン、２−ニト
ロプロパン、ニトロベンゼン等から選ばれるものであ
る。好ましくはニトロメタン、ニトロエタンが例示され
得る。
【００１７】フェノール類としては、フェノール（P
H）、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、チ
モール、p-t-ブチルフェノール、t-ブチルカテコール、
カテコール、イソオイゲノール、o-メトキシフェノー
ル、 4,4′- ジヒドロキシフェニル-2,2- プロパン、サ
リチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸
メチル、2,6-ジ-t- ブチル-p- クレゾール（tBpC）等か
ら選ばれるものである。好ましくは、フェノール、 4,
4′- ジヒドロキシフェニル-2,2- プロパン、2,6-ジ-t-
ブチル-p- クレゾールが例示され得る。
H）、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、チ
モール、p-t-ブチルフェノール、t-ブチルカテコール、
カテコール、イソオイゲノール、o-メトキシフェノー
ル、 4,4′- ジヒドロキシフェニル-2,2- プロパン、サ
リチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸
メチル、2,6-ジ-t- ブチル-p- クレゾール（tBpC）等か
ら選ばれるものである。好ましくは、フェノール、 4,
4′- ジヒドロキシフェニル-2,2- プロパン、2,6-ジ-t-
ブチル-p- クレゾールが例示され得る。
【００１８】アミン類としては、ヘキシルアミン、ジイ
ソプロピルアミン（DIPAM ）、ペンチルアミン、ヘキシ
ルアミン、ジイソブチルアミン、ジ-n- プロピルアミ
ン、ジアリルアミン、トリエチルアミン、N-メチルアニ
リン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、N-メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、α- メチル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、s-ブチルアミン、t-ブ
チルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ジペ
ンチルアミン、トリペンチルアミン、2-エチルヘキシル
アミン、アニリン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチ
ルアニリン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、
ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン、ベ
ンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフェニルアミン、
ジエチルヒドロキシルアミン等から選ばれるものであ
る。好ましくは、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミ
ンが例示され得る。
ソプロピルアミン（DIPAM ）、ペンチルアミン、ヘキシ
ルアミン、ジイソブチルアミン、ジ-n- プロピルアミ
ン、ジアリルアミン、トリエチルアミン、N-メチルアニ
リン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、N-メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、α- メチル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、s-ブチルアミン、t-ブ
チルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ジペ
ンチルアミン、トリペンチルアミン、2-エチルヘキシル
アミン、アニリン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチ
ルアニリン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、
ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン、ベ
ンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフェニルアミン、
ジエチルヒドロキシルアミン等から選ばれるものであ
る。好ましくは、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミ
ンが例示され得る。
【００１９】エーテル類としては、1,4-ジオキサン（DO
X ）、イソプロピルエーテル、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールメチルエーテル、エチルイソブチル
エーテル、エチルイソプロピルエーテル、エチルイソペ
ンチルエーテル、エチルナフチルエーテル、エチルビニ
ルエーテル、エチルフェニルエーテル、アニソール、ア
ネトール、エチルプロパギルエーテル、エチルプロピル
エーテル、エチルメチルエーテル、メチルグリシジルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレ
ングリコールジフェニルエーテル、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエ
ーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチ
レングリコールモノベンジルエーテル、ジペンチルエー
テル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチルエーテ
ル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ア
リルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、エチル
グリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、ジメ
チルエーテル、ジエチルエーテル、ジ-n- プロピルエー
テル、ジブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン（DMT
E）、1,2-ジブトキシエタン、トリメトキシエタン、ト
リエトキシエタン、テトラヒドロフラン等から選ばれる
ものである。好ましくは、1,4-ジオキサン、ブチルグリ
シジルエーテル、1,2-ジメトキシエタンが例示され得
る。
X ）、イソプロピルエーテル、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールメチルエーテル、エチルイソブチル
エーテル、エチルイソプロピルエーテル、エチルイソペ
ンチルエーテル、エチルナフチルエーテル、エチルビニ
ルエーテル、エチルフェニルエーテル、アニソール、ア
ネトール、エチルプロパギルエーテル、エチルプロピル
エーテル、エチルメチルエーテル、メチルグリシジルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレ
ングリコールジフェニルエーテル、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエ
ーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチ
レングリコールモノベンジルエーテル、ジペンチルエー
テル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチルエーテ
ル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ア
リルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、エチル
グリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、ジメ
チルエーテル、ジエチルエーテル、ジ-n- プロピルエー
テル、ジブチルエーテル、1,2-ジメトキシエタン（DMT
E）、1,2-ジブトキシエタン、トリメトキシエタン、ト
リエトキシエタン、テトラヒドロフラン等から選ばれる
ものである。好ましくは、1,4-ジオキサン、ブチルグリ
シジルエーテル、1,2-ジメトキシエタンが例示され得
る。
【００２０】アミレン類としては、α- アミレン、β-
アミレン（β-AML）、γ- アミレン、α- イソアミレ
ン、β- イソアミレン等から選ばれるものである。好ま
しくはβ- アミレンが例示され得る。
アミレン（β-AML）、γ- アミレン、α- イソアミレ
ン、β- イソアミレン等から選ばれるものである。好ま
しくはβ- アミレンが例示され得る。
【００２１】エステル類としては、酢酸メチル（MAC
）、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸n-ブチル、酢酸
イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル酸エチル、メ
タクリル酸-2- ヒドロキシエチル、アクリル酸メチル、
アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ア
リル、カプロラクタム、カルバミン酸エチル、カルバミ
ン酸メチル、サリチル酸メチル等から選ばれるものであ
る。好ましくは、酢酸メチル、酢酸エチル、サリチル酸
メチルが例示され得る。
）、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸n-ブチル、酢酸
イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル酸エチル、メ
タクリル酸-2- ヒドロキシエチル、アクリル酸メチル、
アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ア
リル、カプロラクタム、カルバミン酸エチル、カルバミ
ン酸メチル、サリチル酸メチル等から選ばれるものであ
る。好ましくは、酢酸メチル、酢酸エチル、サリチル酸
メチルが例示され得る。
【００２２】有機ホスファイト類としては、トリフェニ
ルホスファイト（TPHPT ）、トリス-(ノニルフェニル)-
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス-(2-エ
チルヘキシル)-ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリブチルホスファイト、ジフェニル- モノ-(2-エ
チルヘキシル)-ホスファイト、ジフェニルモノデシルホ
スファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト、
ジラウリルハイドロジェンホスファイト、ジフェニルハ
イドロジェンホスファイト、テトラフェニルジプロピレ
ングリコールペンタエリスリトールテトラホスファイ
ト、トリラウリルトリチオホスファイト、ビス-(トリデ
シル)-ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス-(ノ
リルフェニル)-ペンタエリスリトールジホスファイト、
トリステアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリ
スリトールジホスファイト、トリス-(2,4-ジ-t- ブチル
フェニル)-ホスファイト等から選ばれるものである。好
ましくはトリフェニルホスファイト、トリブチルホスフ
ァイトが例示され得る。
ルホスファイト（TPHPT ）、トリス-(ノニルフェニル)-
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス-(2-エ
チルヘキシル)-ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリブチルホスファイト、ジフェニル- モノ-(2-エ
チルヘキシル)-ホスファイト、ジフェニルモノデシルホ
スファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト、
ジラウリルハイドロジェンホスファイト、ジフェニルハ
イドロジェンホスファイト、テトラフェニルジプロピレ
ングリコールペンタエリスリトールテトラホスファイ
ト、トリラウリルトリチオホスファイト、ビス-(トリデ
シル)-ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス-(ノ
リルフェニル)-ペンタエリスリトールジホスファイト、
トリステアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリ
スリトールジホスファイト、トリス-(2,4-ジ-t- ブチル
フェニル)-ホスファイト等から選ばれるものである。好
ましくはトリフェニルホスファイト、トリブチルホスフ
ァイトが例示され得る。
【００２３】エポキサイド類としては、1,2-ブチレンオ
キサイド（BO）、エピクロルヒドリン、プロピレンオキ
サイド、2,3-ブチレンオキサイド、スチレンオキサイド
等から選ばれるものである。好ましくは、1,2-ブチレン
オキサイド、エピクロルヒドリンが例示され得る。
キサイド（BO）、エピクロルヒドリン、プロピレンオキ
サイド、2,3-ブチレンオキサイド、スチレンオキサイド
等から選ばれるものである。好ましくは、1,2-ブチレン
オキサイド、エピクロルヒドリンが例示され得る。
【００２４】ピロール類としては、N-メチルピロール
（NMP ）、2-メチルピロール、3-メチルピロール等から
選ばれるものである。好ましくは、N-メチルピロールが
例示され得る。
（NMP ）、2-メチルピロール、3-メチルピロール等から
選ばれるものである。好ましくは、N-メチルピロールが
例示され得る。
【００２５】アルコール類としては、s-ブタノール（sB
TA）、t-ブタノール、アリルアルコール、ベンジルアル
コール、t-アミルアルコール、1-アミノ-2- プロパノー
ル、プロパギルアルコール、3-メチル- ペンチン-3- オ
ール、1-メトキシ-2- プロパノール、3-メチル-1- ブチ
ン-3- オール、2-メチル-3- ブチン-3- オール、1,2-ブ
タンジオール、エチレングリコール等から選ばれるもの
である。好ましくは、s-ブタノール、プロパギルアルコ
ールが例示され得る。
TA）、t-ブタノール、アリルアルコール、ベンジルアル
コール、t-アミルアルコール、1-アミノ-2- プロパノー
ル、プロパギルアルコール、3-メチル- ペンチン-3- オ
ール、1-メトキシ-2- プロパノール、3-メチル-1- ブチ
ン-3- オール、2-メチル-3- ブチン-3- オール、1,2-ブ
タンジオール、エチレングリコール等から選ばれるもの
である。好ましくは、s-ブタノール、プロパギルアルコ
ールが例示され得る。
【００２６】ケトン類としては、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン（MIBK）、アセトン等から選ば
れものである。好ましくはアセトン、メチルイソブチル
ケトンが例示され得る。
メチルイソブチルケトン（MIBK）、アセトン等から選ば
れものである。好ましくはアセトン、メチルイソブチル
ケトンが例示され得る。
【００２７】アミド類としては、アゾジカルボン酸アミ
ド、マレイン酸ヒドラジド、ホルムアミド、N-メチルホ
ルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチル
ホルムアミド、N-メチルプロピオンアミド、2-ピロリド
ン、 N,N,N′,N′- テトラメチル尿素、N-メチルピロリ
ドン等から選ばれるものである。好ましくは、2-ピロリ
ドンが例示され得る。
ド、マレイン酸ヒドラジド、ホルムアミド、N-メチルホ
ルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチル
ホルムアミド、N-メチルプロピオンアミド、2-ピロリド
ン、 N,N,N′,N′- テトラメチル尿素、N-メチルピロリ
ドン等から選ばれるものである。好ましくは、2-ピロリ
ドンが例示され得る。
【００２８】トリアゾール類としては、2-(2′- ヒドロ
キシ-5′- メチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、2-
(2′- ヒドロキシ-3′-t- ブチル-5′- メチルフェニ
ル)-5-クロロベンゾトリアゾール、1,2,3-ベンゾトリア
ゾール（BZTAZ ）、1-[(N,N-ビス-2- エチルヘキシル)-
アミノメチル]-ベンゾトリアゾール等から選ばれるもの
である。好ましくは、1,2,3-ベンゾトリアゾールが例示
され得る。
キシ-5′- メチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、2-
(2′- ヒドロキシ-3′-t- ブチル-5′- メチルフェニ
ル)-5-クロロベンゾトリアゾール、1,2,3-ベンゾトリア
ゾール（BZTAZ ）、1-[(N,N-ビス-2- エチルヘキシル)-
アミノメチル]-ベンゾトリアゾール等から選ばれるもの
である。好ましくは、1,2,3-ベンゾトリアゾールが例示
され得る。
【００２９】
【実施例】本発明の溶剤組成物の安定化の効果を確認す
るために、表１に示すような種々の含水素塩素化弗素化
プロパンに、モル比が１：１のカプロン酸とカプリルア
ミンとの塩(CACAM) を１．０重量％加えた溶剤組成物
（略号 A〜L で示す）を調合し、これらに対して次の試
験を行った。
るために、表１に示すような種々の含水素塩素化弗素化
プロパンに、モル比が１：１のカプロン酸とカプリルア
ミンとの塩(CACAM) を１．０重量％加えた溶剤組成物
（略号 A〜L で示す）を調合し、これらに対して次の試
験を行った。
【００３０】例１〜２０４（このうち例１９３〜２０４
は比較例） ＪＩＳ−Ｋ１６００に従い、表１に示す組成物の液相部
および気相部の各々に銅片を配置し、４８時間後の銅片
の腐食状況を観察した。結果を表２〜表１４に示す。表
２〜表１４において、◎は腐食なし、○はほぼ腐食な
し、△は若干腐食あり、×は腐食ありを示す。
は比較例） ＪＩＳ−Ｋ１６００に従い、表１に示す組成物の液相部
および気相部の各々に銅片を配置し、４８時間後の銅片
の腐食状況を観察した。結果を表２〜表１４に示す。表
２〜表１４において、◎は腐食なし、○はほぼ腐食な
し、△は若干腐食あり、×は腐食ありを示す。
【００３１】下記の表２〜表１４において、NMはニトロ
メタン、PHはフェノール、tBpCは2,6-ジ-t- ブチル-p-
クレゾール、DIPAM はジイソプロピルアミン、DOX は1,
4-ジオキサン、β-AMLはβ- アミレン、MAC は酢酸メチ
ル、TPHPT はトリフェニルホスファイト、BOは1,2-ブチ
レンオキサイド、DMTEは1,2-ジメトキシエタン、NMPはN
-メチルピロール、sBTAはs-ブタノール、BZTAZ は1,2,3
-ベンゾトリアゾール、MIBKはメチルイソブチルケトン
を、それぞれ示している。
メタン、PHはフェノール、tBpCは2,6-ジ-t- ブチル-p-
クレゾール、DIPAM はジイソプロピルアミン、DOX は1,
4-ジオキサン、β-AMLはβ- アミレン、MAC は酢酸メチ
ル、TPHPT はトリフェニルホスファイト、BOは1,2-ブチ
レンオキサイド、DMTEは1,2-ジメトキシエタン、NMPはN
-メチルピロール、sBTAはs-ブタノール、BZTAZ は1,2,3
-ベンゾトリアゾール、MIBKはメチルイソブチルケトン
を、それぞれ示している。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【表２】
【００３４】
【表３】
【００３５】
【表４】
【００３６】
【表５】
【００３７】
【表６】
【００３８】
【表７】
【００３９】
【表８】
【００４０】
【表９】
【００４１】
【表１０】
【００４２】
【表１１】
【００４３】
【表１２】
【００４４】
【表１３】
【００４５】
【表１４】
【００４６】
【発明の効果】本発明の安定化された溶剤組成物は、実
施例から明らかなように金属腐食抑制の効果に優れ、高
い安定化効果が得られた。そのため、本発明の溶剤組成
物を電子部品、電気部品、精密機械部品の水切り用とし
て使用する際などに、腐食が発生しないし、また接点不
良や錆の発生の問題が生じることもない。
施例から明らかなように金属腐食抑制の効果に優れ、高
い安定化効果が得られた。そのため、本発明の溶剤組成
物を電子部品、電気部品、精密機械部品の水切り用とし
て使用する際などに、腐食が発生しないし、また接点不
良や錆の発生の問題が生じることもない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北村 健郎 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】カルボン酸の第１級アミン塩および含水素
塩素化弗素化プロパンを含有する溶剤組成物に、ニトロ
化合物類、フェノール類、アミン類、エーテル類、アミ
レン類、エステル類、有機ホスファイト類、エポキサイ
ド類、ピロール類、アルコール類、ケトン類、アミド類
およびトリアゾール類の群から選ばれる少なくとも１種
の安定剤が添加されてなることを特徴とする安定化され
た溶剤組成物。 - 【請求項２】安定剤が、ニトロ化合物類、フェノール
類、エポキサイド類およびトリアゾール類の群から選ば
れる少なくとも２種の併用である請求項１の溶剤組成
物。 - 【請求項３】安定剤の添加量が、溶剤組成物に対して重
量部基準で１ｐｐｍ〜１０％である請求項１または２の
溶剤組成物。 - 【請求項４】溶剤組成物が、水切り用溶剤である請求項
１、２または３の溶剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17618092A JPH05339181A (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | 安定化された溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17618092A JPH05339181A (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | 安定化された溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05339181A true JPH05339181A (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=16009058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17618092A Pending JPH05339181A (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | 安定化された溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05339181A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017018011A1 (ja) * | 2015-07-27 | 2017-02-02 | 旭硝子株式会社 | 溶剤組成物、洗浄方法、塗膜の形成方法、熱移動媒体および熱サイクルシステム |
-
1992
- 1992-06-10 JP JP17618092A patent/JPH05339181A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017018011A1 (ja) * | 2015-07-27 | 2017-02-02 | 旭硝子株式会社 | 溶剤組成物、洗浄方法、塗膜の形成方法、熱移動媒体および熱サイクルシステム |
| JPWO2017018011A1 (ja) * | 2015-07-27 | 2018-02-01 | 旭硝子株式会社 | 溶剤組成物、洗浄方法、塗膜の形成方法、熱移動媒体および熱サイクルシステム |
| JP2018100407A (ja) * | 2015-07-27 | 2018-06-28 | 旭硝子株式会社 | 溶剤組成物、洗浄方法、塗膜の形成方法、熱移動媒体および熱サイクルシステム |
| US10487030B2 (en) | 2015-07-27 | 2019-11-26 | AGC Inc. | Solvent composition, cleaning method, method of forming a coating film, heat transfer fluid, and heat cycle system |
| JP2020172657A (ja) * | 2015-07-27 | 2020-10-22 | Ａｇｃ株式会社 | 溶剤組成物、洗浄方法、塗膜の形成方法、熱移動媒体および熱サイクルシステム |
| US10975008B2 (en) | 2015-07-27 | 2021-04-13 | AGC Inc. | Solvent composition, cleaning method, method of forming a coating film, heat transfer fluid, and heat cycle system |
| JP2022008606A (ja) * | 2015-07-27 | 2022-01-13 | Ａｇｃ株式会社 | 溶剤組成物、洗浄方法、塗膜の形成方法、熱移動媒体および熱サイクルシステム |
| US11427521B2 (en) | 2015-07-27 | 2022-08-30 | AGC Inc. | Solvent composition, cleaning method, method of forming a coating film, heat transfer fluid, and heat cycle system |
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