JPH05315375A - ダイボンディング用プリフォームの製造方法 - Google Patents
ダイボンディング用プリフォームの製造方法Info
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- JPH05315375A JPH05315375A JP3140937A JP14093791A JPH05315375A JP H05315375 A JPH05315375 A JP H05315375A JP 3140937 A JP3140937 A JP 3140937A JP 14093791 A JP14093791 A JP 14093791A JP H05315375 A JPH05315375 A JP H05315375A
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- Japan
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- preform
- die bonding
- thin film
- thickness
- semiconductor chip
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
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- H01L24/741—Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
- H01L24/743—Apparatus for manufacturing layer connectors
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/831—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
- H01L2224/83101—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a layer connector, e.g. provided in an insulating plate member
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、所望厚さ、即ち所望の体積で、且つ
正確な形状のプリフォームが成形され得る、ダイボンデ
ィング用プリフォームの製造方法を目的とする。 【構成】ベースとなるフィルム11上に、所望の形状及
び寸法の開口部を備えたマスク12を載置した状態で、
該フィルム11上に、所望の厚さのプリフォーム材料の
薄膜層13を形成した後、該薄膜層13を該フィルム1
1上から取り外すことにより、所望の形状,寸法及び厚
さのプリフォームを形成するように、ダイボンディング
用プリフォームの製造方法を構成する。
正確な形状のプリフォームが成形され得る、ダイボンデ
ィング用プリフォームの製造方法を目的とする。 【構成】ベースとなるフィルム11上に、所望の形状及
び寸法の開口部を備えたマスク12を載置した状態で、
該フィルム11上に、所望の厚さのプリフォーム材料の
薄膜層13を形成した後、該薄膜層13を該フィルム1
1上から取り外すことにより、所望の形状,寸法及び厚
さのプリフォームを形成するように、ダイボンディング
用プリフォームの製造方法を構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体レーザー
チップ等の半導体チップを、ステム等の取付面にダイボ
ンディングする際に使用される、ハンダのプリフォーム
の製造方法に関するものである。
チップ等の半導体チップを、ステム等の取付面にダイボ
ンディングする際に使用される、ハンダのプリフォーム
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば半導体レーザーチップ等の
微少な半導体チップを、ステム等の取付面にダイボンデ
ィングする場合、図3に示すように、該ステム1等の取
付面1aにハンダのプリフォーム2を載置し、さらに該
プリフォーム2の上に半導体チップ3を載置して、該プ
リフォーム2を溶融させることにより、該半導体チップ
3を該ステム1等にダイボンディングするようにしてい
た。
微少な半導体チップを、ステム等の取付面にダイボンデ
ィングする場合、図3に示すように、該ステム1等の取
付面1aにハンダのプリフォーム2を載置し、さらに該
プリフォーム2の上に半導体チップ3を載置して、該プ
リフォーム2を溶融させることにより、該半導体チップ
3を該ステム1等にダイボンディングするようにしてい
た。
【0003】上記プリフォーム2は、一般に、図4に示
すように、前以てバルク状に形成されたAu−5Sn,
Au−12Ge,Au−50In等のAu系ハンダ4
を、圧延ローラ5により圧延することにより、リボン状
またはシート状とした後、カッター6により、所定の大
きさに切断するようにしている。
すように、前以てバルク状に形成されたAu−5Sn,
Au−12Ge,Au−50In等のAu系ハンダ4
を、圧延ローラ5により圧延することにより、リボン状
またはシート状とした後、カッター6により、所定の大
きさに切断するようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな圧延によるプリフォームの製造方法においては、材
料自体の伸延性の限界から、加工上の限界があり、例え
ばAu−50Inの場合には、図5に示すように、1ミ
リ平方で、厚さ100μm程度が限界となってしまう。
うな圧延によるプリフォームの製造方法においては、材
料自体の伸延性の限界から、加工上の限界があり、例え
ばAu−50Inの場合には、図5に示すように、1ミ
リ平方で、厚さ100μm程度が限界となってしまう。
【0005】従って、半導体チップが比較的小型である
場合には、該半導体チップの取付面の面積に比較して、
プリフォームの体積すなわちダイボンディングに使用さ
れるハンダの量が、過多になってしまい、ダイボンディ
ングした際に、余分のハンダがはみ出して、該半導体チ
ップの側面に付着するようなことがあり、特に半導体チ
ップが半導体レーザーチップである場合には、その発光
面が、はみ出した余分のハンダによって閉塞されてしま
うことがあり、製品の歩留まりが低下してしまうという
問題があった。
場合には、該半導体チップの取付面の面積に比較して、
プリフォームの体積すなわちダイボンディングに使用さ
れるハンダの量が、過多になってしまい、ダイボンディ
ングした際に、余分のハンダがはみ出して、該半導体チ
ップの側面に付着するようなことがあり、特に半導体チ
ップが半導体レーザーチップである場合には、その発光
面が、はみ出した余分のハンダによって閉塞されてしま
うことがあり、製品の歩留まりが低下してしまうという
問題があった。
【0006】また、圧延により形成されたプリフォーム
は、その圧延加工や切断加工の際に、歪みが生ずること
により、うねりやそりが生じたり、その一部分が欠けて
しまうことがあり、半導体チップのダイボンディングの
際に、該半導体チップが、正確に位置決めできなくなっ
てしまうことがあった。
は、その圧延加工や切断加工の際に、歪みが生ずること
により、うねりやそりが生じたり、その一部分が欠けて
しまうことがあり、半導体チップのダイボンディングの
際に、該半導体チップが、正確に位置決めできなくなっ
てしまうことがあった。
【0007】本発明は、以上の点に鑑み、所望厚さ、即
ち所望の体積で、且つ正確な形状のプリフォームが成形
され得るようにした、ダイボンディング用プリフォーム
の製造方法を提供することを目的としている。
ち所望の体積で、且つ正確な形状のプリフォームが成形
され得るようにした、ダイボンディング用プリフォーム
の製造方法を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によ
れば、ベース上に、所望の厚さのプリフォーム材料の薄
膜層を形成した後、該薄膜層を該ベース上から取り外す
ことにより、所望の形状,寸法及び厚さのプリフォーム
を形成するようにしたことを特徴とする、ダイボンディ
ング用プリフォームの製造方法により、達成される。
れば、ベース上に、所望の厚さのプリフォーム材料の薄
膜層を形成した後、該薄膜層を該ベース上から取り外す
ことにより、所望の形状,寸法及び厚さのプリフォーム
を形成するようにしたことを特徴とする、ダイボンディ
ング用プリフォームの製造方法により、達成される。
【0009】
【作用】上記構成によれば、プリフォームは、ベース上
への蒸着,スパッタリング,メッキ等の薄膜形成によ
り、形成されることになるので、その厚さは、適宜にオ
ングストローム単位で制御され得ることから、所望の厚
さが得られることとなり、またその形状は、マスクによ
って決定されるので、μm単位で所望の形状,寸法が得
られることとなり、かくして、所望の形状,寸法及び厚
さのプリフォームが、形成され得ることになる。
への蒸着,スパッタリング,メッキ等の薄膜形成によ
り、形成されることになるので、その厚さは、適宜にオ
ングストローム単位で制御され得ることから、所望の厚
さが得られることとなり、またその形状は、マスクによ
って決定されるので、μm単位で所望の形状,寸法が得
られることとなり、かくして、所望の形状,寸法及び厚
さのプリフォームが、形成され得ることになる。
【0010】
【実施例】以下、図面に示した実施例に基づいて、本発
明を詳細に説明する。第1図は、本発明によるダイボン
ディング用プリフォームの製造装置の一実施例を示して
いる。
明を詳細に説明する。第1図は、本発明によるダイボン
ディング用プリフォームの製造装置の一実施例を示して
いる。
【0011】プリフォーム製造装置10は、例えばポリ
エステル等を基材とするベースとなるべきフィルム11
上に、製造すべきプリフォームの所望の形状及び寸法の
開口部12aを備えたマスク12を載置した状態で、該
フィルム11上に、所望の厚さのプリフォーム材料の薄
膜層13を、蒸着,スパッタリング,メッキ等の方法に
よって(図示の場合、溶融したプリフォーム材料を受容
したルツボ14を用意することにより、蒸着によって)
形成した後、該薄膜層13を該フィルム11上から取り
外すことにより、該薄膜層13から成るプリフォーム1
5を製造するようになっている。
エステル等を基材とするベースとなるべきフィルム11
上に、製造すべきプリフォームの所望の形状及び寸法の
開口部12aを備えたマスク12を載置した状態で、該
フィルム11上に、所望の厚さのプリフォーム材料の薄
膜層13を、蒸着,スパッタリング,メッキ等の方法に
よって(図示の場合、溶融したプリフォーム材料を受容
したルツボ14を用意することにより、蒸着によって)
形成した後、該薄膜層13を該フィルム11上から取り
外すことにより、該薄膜層13から成るプリフォーム1
5を製造するようになっている。
【0012】本発明によるプリフォーム15は、以上の
方法によって製造され、その形状,寸法は、マスク12
の開口12aによって、μm単位で調整され得ると共
に、その厚さは、薄膜形成の際の適宜の制御によって、
オングストローム単位で調整され得ることとなり、ダイ
ボンディングすべき半導体チップ等のダイボンディング
面の大きさ等に対応した、適正な体積を有するプリフォ
ーム15が、製造され得ることとなり、例えば図2に示
すように、1ミリ平方で、厚さ2μmのプリフォームが
製造され得る。
方法によって製造され、その形状,寸法は、マスク12
の開口12aによって、μm単位で調整され得ると共
に、その厚さは、薄膜形成の際の適宜の制御によって、
オングストローム単位で調整され得ることとなり、ダイ
ボンディングすべき半導体チップ等のダイボンディング
面の大きさ等に対応した、適正な体積を有するプリフォ
ーム15が、製造され得ることとなり、例えば図2に示
すように、1ミリ平方で、厚さ2μmのプリフォームが
製造され得る。
【0013】さらに、該プリフォーム15は、圧延,切
断加工が行なわれないことから、うねりやそり、また欠
けが生じないことから、ダイボンディングの際に、該プ
リフォーム15の上に半導体チップを載置したとき、該
半導体チップが正確に位置決めされ得ることとなる。
断加工が行なわれないことから、うねりやそり、また欠
けが生じないことから、ダイボンディングの際に、該プ
リフォーム15の上に半導体チップを載置したとき、該
半導体チップが正確に位置決めされ得ることとなる。
【0014】尚、上述した実施例においては、フィルム
として、ポリエステルフィルム等のフィルムを使用して
いるが、これに限らず、例えばSiO2等の薄膜を使用
することも可能である。
として、ポリエステルフィルム等のフィルムを使用して
いるが、これに限らず、例えばSiO2等の薄膜を使用
することも可能である。
【0015】また、マスクは図1の12の様な独立した
板状のマスク以外にも、半導体工業で用いられるフォト
リソグラフ技術を用いたフィルム上に形成されたマスク
でも良い。この場合には、プリフォームの成膜後に適当
な方法(エッチング等)で不要部分を除去すれば良い。
板状のマスク以外にも、半導体工業で用いられるフォト
リソグラフ技術を用いたフィルム上に形成されたマスク
でも良い。この場合には、プリフォームの成膜後に適当
な方法(エッチング等)で不要部分を除去すれば良い。
【0016】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、所
望厚さ、即ち所望の体積で、且つ正確な形状のプリフォ
ームが成形され得る、極めて優れたダイボンディング用
プリフォームの製造方法が提供され得ることになる。
望厚さ、即ち所望の体積で、且つ正確な形状のプリフォ
ームが成形され得る、極めて優れたダイボンディング用
プリフォームの製造方法が提供され得ることになる。
【図1】本発明に基づいて製造されるプリフォームの一
実施例を示す図である。
実施例を示す図である。
【図2】図1のプリフォームの完成した状態を示す斜視
図である。
図である。
【図3】従来の半導体チップのダイボンディングを示す
斜視図である。
斜視図である。
【図4】図3のダイボンディングで使用されるプリフォ
ームの製造方法の一例を示す図である。
ームの製造方法の一例を示す図である。
【図5】図4の方法により製造されたプリフォームの一
例を示す斜視である。
例を示す斜視である。
10 プリフォーム製造装置 11 フィルム 12 マスク 12a 開口 13 薄膜層 14 ルツボ 15 プリフォーム
Claims (1)
- 【請求項1】 ベース上に、所望の厚さのプリフォーム
材料の薄膜層を形成した後、該薄膜層を該ベース上から
取り外すことにより、所望の形状,寸法及び厚さのプリ
フォームを形成するようにしたことを特徴とする、ダイ
ボンディング用プリフォームの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14093791A JP2946837B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | ダイボンディング用プリフォームの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14093791A JP2946837B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | ダイボンディング用プリフォームの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05315375A true JPH05315375A (ja) | 1993-11-26 |
JP2946837B2 JP2946837B2 (ja) | 1999-09-06 |
Family
ID=15280285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14093791A Expired - Lifetime JP2946837B2 (ja) | 1991-05-16 | 1991-05-16 | ダイボンディング用プリフォームの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2946837B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014150643A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Materion Corporation | Gold containing die bond sheet preform spot-welded to a semiconductor bond site on a semiconductor package and corresponding manufacturing method |
JP2016117638A (ja) * | 2010-03-02 | 2016-06-30 | サン−ゴバン グラス フランス | 電気接続素子を備えた窓ガラス |
DE102019132332B3 (de) * | 2019-11-28 | 2021-01-28 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Herstellen eines Moduls, Lötkörper mit einem erhöhten Rand zum Herstellen eines Moduls und Verwenden des Lötkörpers zum Herstellen eines Leistungsmoduls |
US11406919B2 (en) | 2017-02-24 | 2022-08-09 | Organo Corporation | Flocculation and sedimentation apparatus |
-
1991
- 1991-05-16 JP JP14093791A patent/JP2946837B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016117638A (ja) * | 2010-03-02 | 2016-06-30 | サン−ゴバン グラス フランス | 電気接続素子を備えた窓ガラス |
WO2014150643A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | Materion Corporation | Gold containing die bond sheet preform spot-welded to a semiconductor bond site on a semiconductor package and corresponding manufacturing method |
US8975176B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-03-10 | Materion Corporation | Gold die bond sheet preform |
CN105122436A (zh) * | 2013-03-15 | 2015-12-02 | 美题隆公司 | 点焊至在半导体封装件上的半导体接合区的含金的晶片接合片状预制体和相应的制造方法 |
US11406919B2 (en) | 2017-02-24 | 2022-08-09 | Organo Corporation | Flocculation and sedimentation apparatus |
DE102019132332B3 (de) * | 2019-11-28 | 2021-01-28 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Herstellen eines Moduls, Lötkörper mit einem erhöhten Rand zum Herstellen eines Moduls und Verwenden des Lötkörpers zum Herstellen eines Leistungsmoduls |
US11538694B2 (en) | 2019-11-28 | 2022-12-27 | Infineon Technologies Ag | Manufacturing a module with solder body having elevated edge |
US11942335B2 (en) | 2019-11-28 | 2024-03-26 | Infineon Technologies Ag | Manufacturing a module with solder body having elevated edge |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2946837B2 (ja) | 1999-09-06 |
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