JPS60100440A - 半導体薄片のろう付け方法 - Google Patents

半導体薄片のろう付け方法

Info

Publication number
JPS60100440A
JPS60100440A JP20866084A JP20866084A JPS60100440A JP S60100440 A JPS60100440 A JP S60100440A JP 20866084 A JP20866084 A JP 20866084A JP 20866084 A JP20866084 A JP 20866084A JP S60100440 A JPS60100440 A JP S60100440A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
stem
semiconductor film
solder
semiconductor thin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20866084A
Other languages
English (en)
Inventor
Ikuo Fujisawa
藤沢 郁夫
Hiroshi Kondo
洋 近藤
Takeo Kikuchi
武夫 菊地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Fuji Electric Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd, Fuji Electric Manufacturing Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP20866084A priority Critical patent/JPS60100440A/ja
Publication of JPS60100440A publication Critical patent/JPS60100440A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/291Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83192Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/07802Adhesive characteristics other than chemical not being an ohmic electrical conductor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の八する技術分野〕 本発明は、例えば半導体片を、全屈基板に鉛・すず・は
んだのようなろうにより固着するろう付は方法に関する
〔従来技術とその問題点〕
このような固急においては、半導体薄片と金属基板との
間に生ずる中間ろう層の厚さを制御できることが望まし
い。例えば半導体薄片なステム上に軟ろう付する、いわ
ゆるチップマウント工程においては、ろう層すなわちは
んだの厚さをできるだけ薄くしかも一様にすることが、
でき上った半導体素子の特性の均一性の点からも、はん
だ付の信頼性の点からも望ましい。従来、チッフマウン
ト工程において、はんだ層の厚さを制御するには、半導
体薄片上に所定の7Icfltの重錘な載せる方法、半
導体薄片とステムの間にそう人するはんだ材の大きさあ
るいは厚さを規定する方法あるいはステムのマウント面
を加工して溝のようなはんだ材のにげ部を設ける方法な
どが採られていた。
しかし重錘を載せる方法には次の欠点がある。
fi+はんだ付後重錘を取り外す手数を要する。
(21M錘により半導体片の表面を傷つけるおそれがあ
る。
(3)重錘がずれることがある。
またはんだ材の糞を規定する方法には次の欠点がある。
(1)計量したはんだ板あるいははんだ球を予め載せる
工数がかかる。
(2)はんだ付温度、雰囲気あるいははんだの制置によ
って変化するはんだの広がりにはんだ4層の厚さが影響
される。
さらにはんだのにげを設ける方法にも次の欠点がある。
11)マウントの加工のため高価になる。
(2)はんだの広がりにはんだ層の厚さが影響される。
〔発明の目的〕
本発明は、これらの欠点を解消し、ろう層の厚さを任意
にしかも精度よく制御できる半導体薄片のろう付方法を
提供することを目的とする。
〔発明の要点〕
金属基板上で加熱によりろうが融かされ、半導体薄片が
載置された後ノズルより半導体薄片に向って気体を所定
の圧力で吹き付けると同時に金属基板の半導体薄片とは
反対側からも別のノズルにより金属基板に向って該基板
を冷却するために吹き付けることを特徴とする半導体薄
片のろう付は方法。
〔発明の実施例〕
以下図を引用して本発明を説明する。
第1図は本発明の半導体薄片のろう付は方法において行
われるろう付けすなわちはんだ付けの各工程を示す正面
図で、キャリア1は半導体薄片がはんだ付されるステム
を載せて矢印方向に移動するものである。ステム21に
おいては、その上面に載せられたはんだ板が図示しない
加熱装置によって融かされ、はんだ層3が形成されてい
る。はんだ層3は、予め行われるはんだ被覆工程により
、ステム21の上面全体を覆っていてもよい。次の位置
にあるステムnにおいては、融けたはんだ層3の上に、
はんだ付固着される半導体薄片4が載せられている。半
導体薄片4が小さいときには顕微鏡下で片の載置作業が
行われ、所定の位置に正確に置かれる。次の位置にある
ステム乙においては、半導体薄片4の上面が、その面に
ほぼ垂直なノズル5と対向している。ノズル5からは、
例えば窒素のような不活性ガスの気流が半導体薄片4に
吹付けられる。その状態を拡大して示したのが第2図で
、ノズル5から吹出した気流6が半導体薄片4の上面に
当り、そのノ虱圧により半導体薄片4はステムるに対し
て押付けられる。この結果、融解はんだ層3が図示のよ
うに側方に押出され、薄片4の下面におけるはんだ層の
厚さが薄くなる。この場合、層の厚さはノズル5から吹
出されるガスの量あるいはノズル5の半導体薄片4から
の高さによって調整できる。このノズル5から常温のガ
スが吹出される場合には、冷却のためにも役立ち、調整
された厚さのはんだ層3をその状態で急速に凝固させる
ことができる。ろう層3の温度が高いときあるいはステ
ム、キャリアなどの熱容量が大きいときには、1本のノ
ズルからの気流だけでは凝固のために必要な冷却に不十
分なことがある。
その場合は、ノズルを複数本紀して、最終的に層厚さ′
?副調整て凝固させるノズルの下に半導体薄片が達する
前に予冷しておくことが望ましい。特に、第1図に示す
ようにノズル5と反対側からステム裏面に冷却ガスを吹
付ける冷却だけのためのノズル7を設けることが半導体
薄片の大電流答化に伴なうステムの熱容量の増大に対し
て有効である。さらにノズル1本だけの風圧でははんだ
層3の厚さを十分に薄くできないときには、温度の高い
ガスを吹付けるノズルを設けて凝固時間を引きのばし、
はんだを十分に側方に押出すようにすることもできる。
さらに、ノズルから吹付けるガスとして清浄なガスを用
いれば、はんだ付は部付近に付着している塵埃などを吹
きとばす作用も行って、はんだ付は部の清浄化に役立た
せることもできる。また溶剤ガスの吹付けによって、付
着不純物を溶解除去することも可能である。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明による半導体薄片のろう付
は方法は、単に半導体薄片に気流を吹付けるノズルを備
えるのみで、ろう層の厚さを制御可能にしたものであり
これを半導体薄片のろう付に適用するときは、重錘、ろ
う片の計量あるいはマウント部の加工などを必要とせず
、/待にチ、グマウントの自動化の際には極めて有効で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例におけるろう何工程を示す正
面図、第2図は鄭1図の工程の一部を拡大図示する断面
図である。 21.22,23:ステム、3:ろう層、4:半導体薄
片、5:ノズル。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 金属基板上に半導体薄片を加熱により解けたろうの上に
    載置し、その後冷却することにより半導体薄片を金属基
    板に固着させる方法において、金属基板上で加熱により
    ろうが解かされ反動体薄片が載置された後、ノズルによ
    り半導体薄片に向って気体を所定の圧力で吹きつけると
    同時に金属基板を半導体薄片が固着される側の金属基板
    面とは反対側の面からも別のノズルにより金属基板に向
    って該基板を冷却するように吹き付けることを特徴とす
    る半導体薄片のろう付け方法。
JP20866084A 1984-10-04 1984-10-04 半導体薄片のろう付け方法 Pending JPS60100440A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20866084A JPS60100440A (ja) 1984-10-04 1984-10-04 半導体薄片のろう付け方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20866084A JPS60100440A (ja) 1984-10-04 1984-10-04 半導体薄片のろう付け方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60100440A true JPS60100440A (ja) 1985-06-04

Family

ID=16559933

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20866084A Pending JPS60100440A (ja) 1984-10-04 1984-10-04 半導体薄片のろう付け方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60100440A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62242939A (ja) * 1986-04-16 1987-10-23 Konika Corp 色素画像の形成方法
JPS63118233U (ja) * 1987-01-23 1988-07-30

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5516441A (en) * 1978-07-24 1980-02-05 Hitachi Ltd Soldering method of semiconductor pellet

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5516441A (en) * 1978-07-24 1980-02-05 Hitachi Ltd Soldering method of semiconductor pellet

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62242939A (ja) * 1986-04-16 1987-10-23 Konika Corp 色素画像の形成方法
JPH0673009B2 (ja) * 1986-04-16 1994-09-14 コニカ株式会社 色素画像の形成方法
JPS63118233U (ja) * 1987-01-23 1988-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4142662A (en) Method of bonding microelectronic chips
US3566207A (en) Silicon-to-gold bonded structure and method of making the same
JPH0322437A (ja) 半導体装置の製造方法
JPS60100440A (ja) 半導体薄片のろう付け方法
US6347732B1 (en) Circuit board component retention
US4390120A (en) Soldering methods and apparatus
US3653572A (en) Hot gas solder removal
US7326305B2 (en) System and method for decapsulating an encapsulated object
JPH06333930A (ja) Icウエハのハンダバンプ形成方法
JPH0648840Y2 (ja) 半導体製造装置
JPH08288630A (ja) バンプの形成方法およびバンプ付きチップの実装方法
JPH1154656A (ja) 半田バンプ電極の製造方法及び半田バンプ電極
US3066053A (en) Method for producing semiconductor devices
JPS5817626A (ja) 低温度ダイ取り付け方法
JP3089199B2 (ja) ポリマーを基質にコーティングする方法及び装置
JPS60160623A (ja) 半導体装置の製造方法および製造装置
JPH09270428A (ja) はんだバンプ形成方法
JPS5843183B2 (ja) 二部材の半田付方法
JPH0737909A (ja) 半導体装置の製造方法
JP3431321B2 (ja) バンプ形成方法
US6202423B1 (en) Non-damage transport system by ice condensation
JPS5811098B2 (ja) ハンドウタイソウチノウエハハンダヅケソウチ
JP3062122B2 (ja) プリント配線板の半田レベリング装置
JPH10284820A (ja) Bgaパッケージ実装用プリント基板
TWI283903B (en) A method of manufacturing solder balls